JPH02293736A - ハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents
ハロゲン化銀写真感光材料Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は感光材料、特に写真製版の工程において実質的
に明室とよび得る環境下でとりあっがうことができ、か
つ抜き文字、貼り込み跡等の返し特性が改良されたハロ
ゲン化銀写真感光材料に関するものである。
に明室とよび得る環境下でとりあっがうことができ、か
つ抜き文字、貼り込み跡等の返し特性が改良されたハロ
ゲン化銀写真感光材料に関するものである。
(従来の技術)
印刷複製の分野においては、印刷物の多様性、複雑性に
対処するために、写真製版工程の作業能率向上が要望さ
れている。
対処するために、写真製版工程の作業能率向上が要望さ
れている。
特に集版、かえし工程の作業においては、より明るい環
境下で作業を行なうことで作業能率の向上がはかられて
きており、このために実質的に明室と呼びうる環境下で
取りあつかうことのできる製版用感光材料の開発および
露光プリンターの開発がすすめられてきた。
境下で作業を行なうことで作業能率の向上がはかられて
きており、このために実質的に明室と呼びうる環境下で
取りあつかうことのできる製版用感光材料の開発および
露光プリンターの開発がすすめられてきた。
本特許で述べる明室用感光材料とは、紫外光成分を含ま
ない実質的に4 0 0 nm以上の波長をもつ光をセ
ーフライト光として長時間安全に用いることのできる感
光材料のことである。
ない実質的に4 0 0 nm以上の波長をもつ光をセ
ーフライト光として長時間安全に用いることのできる感
光材料のことである。
集版、かえし工程に用いられる明室用感光材料は、文字
あるいは網点画像の形成された現像処理ずみフイルムを
原稿として、これらの原稿とかえし用感光材料とを密着
露光して、ネガ像/ポジ像変換あるいはポジ像/ボジ像
変換を行なうのに利用される感光材料であるが、 ■ 網点画像および線画、文字画像が、おのおのその網
点面積および線巾、文字画像巾に従ってネガ像/ボジ像
変換される性能を有すること■ 網点画像のトーン調節
性、文字線画像の線中調節性が可能である性能を有する
こと が要望され、それに答える明室かえし用感光材料が提供
されてきた。
あるいは網点画像の形成された現像処理ずみフイルムを
原稿として、これらの原稿とかえし用感光材料とを密着
露光して、ネガ像/ポジ像変換あるいはポジ像/ボジ像
変換を行なうのに利用される感光材料であるが、 ■ 網点画像および線画、文字画像が、おのおのその網
点面積および線巾、文字画像巾に従ってネガ像/ボジ像
変換される性能を有すること■ 網点画像のトーン調節
性、文字線画像の線中調節性が可能である性能を有する
こと が要望され、それに答える明室かえし用感光材料が提供
されてきた。
しかるに、重ね返しによる抜文字画像形成という高度な
画像変換作業においては、明室用感光材料を用いた明室
かえし工程による従来の方法では、従来の暗室用かえし
感光材料を用いた暗室かえし工程による方法にくらべて
、抜文字画像の品質が劣化してしまうという欠点をもっ
ていた。
画像変換作業においては、明室用感光材料を用いた明室
かえし工程による従来の方法では、従来の暗室用かえし
感光材料を用いた暗室かえし工程による方法にくらべて
、抜文字画像の品質が劣化してしまうという欠点をもっ
ていた。
重ね返しによる抜文字画像形成の方法について、もうす
こし詳しく述べるならば、第1図に示すごとく、透明も
しくは半透明の貼りこみベース(イ)および(ハ)(通
常100μm程度の厚みを有するポリエチレンテレフタ
レートフィルムが使用される)のそれぞれに、文字ある
いは線画像の形成されたフイルム(線画原稿)(口)お
よび網点画像の形成されたフィルム(網点原稿)(二)
を貼り込んだものと重ね合せて原稿とし、(二)の網点
原稿に返し用感光祠料(ボ)の乳剤面を密着させて露光
を行なう。
こし詳しく述べるならば、第1図に示すごとく、透明も
しくは半透明の貼りこみベース(イ)および(ハ)(通
常100μm程度の厚みを有するポリエチレンテレフタ
レートフィルムが使用される)のそれぞれに、文字ある
いは線画像の形成されたフイルム(線画原稿)(口)お
よび網点画像の形成されたフィルム(網点原稿)(二)
を貼り込んだものと重ね合せて原稿とし、(二)の網点
原稿に返し用感光祠料(ボ)の乳剤面を密着させて露光
を行なう。
露光後現像処理をほどこし、網点画像中に線画の白ヌケ
部分を形成させる。
部分を形成させる。
このような抜文字画像の形成方法において重要な点は、
網点原稿および線画原稿おのおのの網点面積および画線
中に従ってネガ像/ボジ像変換が行なわれることが理想
である。しがし、第一図にてあきらかなどとく、網点原
稿は返し用感光材料の乳剤面に直接密着させて露光され
るのに対して、線画原稿は貼りこみベース(ハ)および
網点原稿(二)を中間に介して返し用感光材料に露光さ
れることになる。
網点原稿および線画原稿おのおのの網点面積および画線
中に従ってネガ像/ボジ像変換が行なわれることが理想
である。しがし、第一図にてあきらかなどとく、網点原
稿は返し用感光材料の乳剤面に直接密着させて露光され
るのに対して、線画原稿は貼りこみベース(ハ)および
網点原稿(二)を中間に介して返し用感光材料に露光さ
れることになる。
このため網点原稿を忠実にネガ像/ポジ像変換をする露
光量を与えると、線画原稿は貼りこみベース(ハ)およ
び網点原稿(二)によるペーサーを介してピンボケ露光
となるため、線画の白ヌヶ部分の画線巾が狭くなってし
まう。これが抜文字画像の品質が劣化してしまう原因で
ある。
光量を与えると、線画原稿は貼りこみベース(ハ)およ
び網点原稿(二)によるペーサーを介してピンボケ露光
となるため、線画の白ヌヶ部分の画線巾が狭くなってし
まう。これが抜文字画像の品質が劣化してしまう原因で
ある。
上記問題点を解決するためにヒドラジンを用いたシステ
ムが、特開昭62−80640号、同62−23593
8号、同62−235939号、同63−104046
号、同63−103235号、同63−296031号
、同63−314541号、同64−13545号、に
開示されているが、充分とはいえずさらに線画原稿ある
いは網原稿を貼り込みベース上に製版用透明テープで固
定したときこのテープの跡が残り、この点においても改
良が望まれている。
ムが、特開昭62−80640号、同62−23593
8号、同62−235939号、同63−104046
号、同63−103235号、同63−296031号
、同63−314541号、同64−13545号、に
開示されているが、充分とはいえずさらに線画原稿ある
いは網原稿を貼り込みベース上に製版用透明テープで固
定したときこのテープの跡が残り、この点においても改
良が望まれている。
ヒドラジンを用いた明室返し用ハロゲン化銀写真感光材
料において酸化された後、現像抑制剤を放出するヒドラ
ジド化合物を含有する例は、特開昭64−72139に
開示されており、抜き文字画質は良化するものの、Dm
axが低く、実用的に問題がある。ヒドラジンを用いた
高塩化銀超微粒子乳剤については、特開昭63−296
031号、同63−296034号に開示されている。
料において酸化された後、現像抑制剤を放出するヒドラ
ジド化合物を含有する例は、特開昭64−72139に
開示されており、抜き文字画質は良化するものの、Dm
axが低く、実用的に問題がある。ヒドラジンを用いた
高塩化銀超微粒子乳剤については、特開昭63−296
031号、同63−296034号に開示されている。
(本発明が解決しようとする問題点)
本発明の第1の目的は明室セーフライト下での取扱いが
可能な明室用返し感材において、重ね返しによる抜文字
画質および貼り込み跡等の返し特性のすくれた写真感光
材料を提供することである。
可能な明室用返し感材において、重ね返しによる抜文字
画質および貼り込み跡等の返し特性のすくれた写真感光
材料を提供することである。
本発明の第2の目的は最大濃度の高い明室用ハロゲン化
銀写真感光材料を提供することである。
銀写真感光材料を提供することである。
(問題を解決するための手段)
本発明の上記目的は、支持体上に少なくとも1層の感光
性ハロゲン化銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光材
料において、前記乳剤層が銀1モルあたり少なくともI
X 1 0−6モルのロジウム塩を含み、塩化銀含有
率が少なくとも90モル%および粒子サイズが0,12
μ以下のハロゲン化銀粒子からなり、該乳剤層又は、そ
の他の親水性コロイド層にヒドラジン誘導体および酸化
されることにより、現像抑制剤を放出するレドックス化
合物を含有することを特徴とするハロゲン化銀写真感光
材料によって達成された。
性ハロゲン化銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光材
料において、前記乳剤層が銀1モルあたり少なくともI
X 1 0−6モルのロジウム塩を含み、塩化銀含有
率が少なくとも90モル%および粒子サイズが0,12
μ以下のハロゲン化銀粒子からなり、該乳剤層又は、そ
の他の親水性コロイド層にヒドラジン誘導体および酸化
されることにより、現像抑制剤を放出するレドックス化
合物を含有することを特徴とするハロゲン化銀写真感光
材料によって達成された。
本発明に用いる酸化されることにより、現像抑制剤を放
出しうるレドックス化合物のレドックス基の例としては
ハイドロキノン類、カテコール類、ナフトハイドロキノ
ン類、アミノフェノール類、ピラゾリドン類、ヒドラジ
ン類、ヒドロキシルアミン類、レダクトン類などが挙げ
られる。レドックス基としてはヒドラジン頚が好ましく
、レドックス基としては下記一般式(II)で表わされ
る化合物が特に好ましい。
出しうるレドックス化合物のレドックス基の例としては
ハイドロキノン類、カテコール類、ナフトハイドロキノ
ン類、アミノフェノール類、ピラゾリドン類、ヒドラジ
ン類、ヒドロキシルアミン類、レダクトン類などが挙げ
られる。レドックス基としてはヒドラジン頚が好ましく
、レドックス基としては下記一般式(II)で表わされ
る化合物が特に好ましい。
一般式(II)
R−N−N−V+Time→τ−PUGA,A.
(式中、A, 、A.はともに水素原子又は一方が水素
原子で他方はスルフィン酸残基もしくは{ C +r
Ro (式中、R.はアルキル基、アルケニル基、アリ
ール基、アルコキシ基またはアリールオキシ基を表わし
、lは1または2を表わす。)を表わす。Timeは二
価の連結基を表わし、tはOまたは1を表わす。PUG
は現像抑制剤を表わす。
原子で他方はスルフィン酸残基もしくは{ C +r
Ro (式中、R.はアルキル基、アルケニル基、アリ
ール基、アルコキシ基またはアリールオキシ基を表わし
、lは1または2を表わす。)を表わす。Timeは二
価の連結基を表わし、tはOまたは1を表わす。PUG
は現像抑制剤を表わす。
■はカルボニル基、−C−C−、スルホニル基、スルホ
キシ基、一p ( R+ はアルコキシ基またはアR1 リールオキシ基を表わす。)イミノメチレン基、または
チオカルボニル基を表わす。Rは脂肪族基、芳香族基ま
たはへテロ環基を表わす。)以下一般式(II)につい
て説明する。
キシ基、一p ( R+ はアルコキシ基またはアR1 リールオキシ基を表わす。)イミノメチレン基、または
チオカルボニル基を表わす。Rは脂肪族基、芳香族基ま
たはへテロ環基を表わす。)以下一般式(II)につい
て説明する。
l 〇一
一般式(II)においてA1、A2は水素原子、炭素数
20以下のアルキルスルホニル基およびアリールスルホ
ニル基(好ましくはフエニルスルホニル基又はハメット
の置換基定数の和が−0. 5以上となるように置換
されたフエニルスルホニル基 、六〇+TRo (R0
として好ましくは炭素数30以下の直鎖、分岐状または
環状のアルキル基、アルケニル基、アリール基(好まし
くはフエニル基、又はハメットの置換基定数の和が−0
.5以上となるように置換されたフエニル基)、アルコ
キシ基(例えばエトキシ基など)、アリールオキシ基(
好ましくは単環のもの)などであり、これらの基は置換
基を有していてもよく置換基としては、例えば以下のも
のがあげられる。これらの基は更に置換されていてもよ
い。
20以下のアルキルスルホニル基およびアリールスルホ
ニル基(好ましくはフエニルスルホニル基又はハメット
の置換基定数の和が−0. 5以上となるように置換
されたフエニルスルホニル基 、六〇+TRo (R0
として好ましくは炭素数30以下の直鎖、分岐状または
環状のアルキル基、アルケニル基、アリール基(好まし
くはフエニル基、又はハメットの置換基定数の和が−0
.5以上となるように置換されたフエニル基)、アルコ
キシ基(例えばエトキシ基など)、アリールオキシ基(
好ましくは単環のもの)などであり、これらの基は置換
基を有していてもよく置換基としては、例えば以下のも
のがあげられる。これらの基は更に置換されていてもよ
い。
例えばアルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アル
キニル基、アルコキシ基、アリール基、置換アミノ基、
アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、ウレイド基、ウ
レタン基、アリールオキシ基、スルファモイル基、カル
バモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホ
ニル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子
、シアノ基、スルホ基やカルボキシル基、アリールオキ
キカルボニル基、アシル基、アルコキシ力ルボニル基、
アシルオキシ基、カルボンアミド基、スルホンアミド基
、二トロ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、などで
ある。)であり、A, 、Atで表わされるスルフイン
酸残基は具体的には米国特許第4,478,928号に
記載されているものを表わす。
キニル基、アルコキシ基、アリール基、置換アミノ基、
アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、ウレイド基、ウ
レタン基、アリールオキシ基、スルファモイル基、カル
バモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホ
ニル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子
、シアノ基、スルホ基やカルボキシル基、アリールオキ
キカルボニル基、アシル基、アルコキシ力ルボニル基、
アシルオキシ基、カルボンアミド基、スルホンアミド基
、二トロ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、などで
ある。)であり、A, 、Atで表わされるスルフイン
酸残基は具体的には米国特許第4,478,928号に
記載されているものを表わす。
又、A,&ま後述の+Time h−と連結して環を形
成してもよい。
成してもよい。
A+ 、Amとしては水素原子が最も好ましい。
Timeは二価の連結基を表わし、タイミング調節機能
を有していてもいよい。tはOまた1を表わし、L=O
の場合はPUGが直接■に結合していることを意味する
。
を有していてもいよい。tはOまた1を表わし、L=O
の場合はPUGが直接■に結合していることを意味する
。
Timeで表わされる二価の連結基は酸化還元母核の酸
化体から放出されるTime −PUGから一段階ある
いは、それ以上の段階の反応を経てPUGを放出せしめ
る基を表わす。
化体から放出されるTime −PUGから一段階ある
いは、それ以上の段階の反応を経てPUGを放出せしめ
る基を表わす。
Timeで表わされる二価の連結基としては、例えば米
国特許第4,248.962号(特開昭54−145,
135号)等に記載のP−にとろフエノキシ誘導体の分
子内閉環反応によって写真的有用基(PUG)を放出す
るもの;米国特許第4310.612号(特開昭55−
53,330号)および同4,’358,252号等に
記載の環開裂後の分子内閉環反応によってPUGを放出
するもの;米国特許第4.330,617号、同4.4
46,216号、同4,483.919号、特開昭51
−121.328号等に記載のコハク酸モノエステルま
たはその類縁体のカルボキシル基の分子内閉環反応によ
る酸無水物の生成を伴って、PUGを放出するもの;米
国特許第4,409,323号、同4,421,845
号、リサーチ・ディスクロージャー誌No.21,22
8 (1981年12月)、米国特許第4,416,9
77号(特開昭57−135,944号)、特開昭58
209,736号、同58−209,738号等に記載
のアリールオキシ基またはへテロ環オキシ基が共役した
二重結合を介した電子移動によりキノモノメタン、また
はその類縁体を生成してPUGを放出するもの;米国特
許第4,420,554号(特開昭57−136,64
0号)、特開昭57−135,945号、同57−18
8,035号、同5B−98,728号および同582
09.131号等に記載の含窒素へテロ環のエナミン構
造を有する部分の電子移動によりエナミンのγ位よりP
UGを放出するもの;特開昭57−56,837号に記
載の含窒素へテロ環の窒素原子と共役したカルボニル基
への電子移動により生成したオキシ基の分子内閉環反応
によりPUGを放出するもの;米国特許第4,146,
396号(特開昭52−90932号)、特開昭599
3.442号、特開昭5 9−7 5 4 7 5号等
に記載のアルデヒド類の生成を伴ってPUGを放出する
もの;特開昭51−146,828号、同57−179
,842号、同59−104.641号に記載のカルボ
キシル基の脱炭素を伴ってPUGを放出するもの;−(
1−COOCR2Rb− P U Gの構造を有し、脱
炭酸と引き続くアルデヒド類の生成を伴ってPUGを放
出するもの;特開昭607,429号に記載のイソシア
ナートの生成を伴ってPUGを放出するもの;米国特許
第4.438,193号等に記載のカラー現像薬の酸化
体とのカップリング反応によりPUGを放出するものな
どを挙げることができる。
国特許第4,248.962号(特開昭54−145,
135号)等に記載のP−にとろフエノキシ誘導体の分
子内閉環反応によって写真的有用基(PUG)を放出す
るもの;米国特許第4310.612号(特開昭55−
53,330号)および同4,’358,252号等に
記載の環開裂後の分子内閉環反応によってPUGを放出
するもの;米国特許第4.330,617号、同4.4
46,216号、同4,483.919号、特開昭51
−121.328号等に記載のコハク酸モノエステルま
たはその類縁体のカルボキシル基の分子内閉環反応によ
る酸無水物の生成を伴って、PUGを放出するもの;米
国特許第4,409,323号、同4,421,845
号、リサーチ・ディスクロージャー誌No.21,22
8 (1981年12月)、米国特許第4,416,9
77号(特開昭57−135,944号)、特開昭58
209,736号、同58−209,738号等に記載
のアリールオキシ基またはへテロ環オキシ基が共役した
二重結合を介した電子移動によりキノモノメタン、また
はその類縁体を生成してPUGを放出するもの;米国特
許第4,420,554号(特開昭57−136,64
0号)、特開昭57−135,945号、同57−18
8,035号、同5B−98,728号および同582
09.131号等に記載の含窒素へテロ環のエナミン構
造を有する部分の電子移動によりエナミンのγ位よりP
UGを放出するもの;特開昭57−56,837号に記
載の含窒素へテロ環の窒素原子と共役したカルボニル基
への電子移動により生成したオキシ基の分子内閉環反応
によりPUGを放出するもの;米国特許第4,146,
396号(特開昭52−90932号)、特開昭599
3.442号、特開昭5 9−7 5 4 7 5号等
に記載のアルデヒド類の生成を伴ってPUGを放出する
もの;特開昭51−146,828号、同57−179
,842号、同59−104.641号に記載のカルボ
キシル基の脱炭素を伴ってPUGを放出するもの;−(
1−COOCR2Rb− P U Gの構造を有し、脱
炭酸と引き続くアルデヒド類の生成を伴ってPUGを放
出するもの;特開昭607,429号に記載のイソシア
ナートの生成を伴ってPUGを放出するもの;米国特許
第4.438,193号等に記載のカラー現像薬の酸化
体とのカップリング反応によりPUGを放出するものな
どを挙げることができる。
これら、Timeで表わされる二価の連結基の具体例に
ついては特開昭61−236,549号、特願昭63−
98,803号等にも詳細に記載されているが、好まし
い具体例は以下に示すものである。
ついては特開昭61−236,549号、特願昭63−
98,803号等にも詳細に記載されているが、好まし
い具体例は以下に示すものである。
ここで(*)は一般式(1)において
{− T ime −h−P U GがVに結合する部
位を表わし、(*) (*)にPUGが結合する部位を
表わす。
位を表わし、(*) (*)にPUGが結合する部位を
表わす。
1 5一
T − (5)
(ネ)
CH3
C2HS
1マ
C2H5
COUCth
/1)
CI. 0
T
(*)
C1)3
T
(*)
?ll■
C1)3
C
C1)3
2l
C2H,
T
C■2
(*ノ (*ノ
T
T
T
C1)3
T
1l
(*)−0−C
CI+3 0
C−(*) (*)
0−{−CH2ナrN
T
(*)
C■2
(*) (*)
T
(*)
CB
(*) (*)
COOC2HS
T
0 CH3
(*)−0 −C−N + CH2÷rN−C−(*)
(*)CH3 T SOレ T C21)5 PUGは( T ime}−r P U GまたはPU
Gとして現像抑制効果を有する基を表わす。
(*)CH3 T SOレ T C21)5 PUGは( T ime}−r P U GまたはPU
Gとして現像抑制効果を有する基を表わす。
PUGまたは( T ime}y P U Gで表わさ
れる現像抑制剤はへテロ原子を有し、ヘテロ原子を介し
て結合している公知の現像抑制剤であり、これらはたと
えばシー・イー・ケー・ミース(C.E.K.Mees
)及びテー・エッチ・ジェームズ(T.t{.Jame
s)著「ザ・セオリー・オブ・ザ・フォトグラフィック
・プロセス(The Theory of Photo
graphicProcesses) J第3版、19
66マクミラン(Macmi1 1an)社刊、344
頁〜346頁などに記載されている。具体的にはメルカ
プトテトラゾール類、メルカプトトリアゾール類、メル
カプトイミダゾール類、メルカプトピリミジン類、メル
カプトヘンズイミダゾール類、メルカプトベンズチアヅ
ール類、メルカプトヘンズオキサゾール類、メルカブト
チアジアゾール類、ペンズトリアゾール類、ペンズイミ
ダゾール類、インダゾール類、アデニン類、グアニン類
、テトラゾール類、テトラアザインデン類、トリアザイ
ンデン類、メルカプトアリール類等を挙げることができ
る。
れる現像抑制剤はへテロ原子を有し、ヘテロ原子を介し
て結合している公知の現像抑制剤であり、これらはたと
えばシー・イー・ケー・ミース(C.E.K.Mees
)及びテー・エッチ・ジェームズ(T.t{.Jame
s)著「ザ・セオリー・オブ・ザ・フォトグラフィック
・プロセス(The Theory of Photo
graphicProcesses) J第3版、19
66マクミラン(Macmi1 1an)社刊、344
頁〜346頁などに記載されている。具体的にはメルカ
プトテトラゾール類、メルカプトトリアゾール類、メル
カプトイミダゾール類、メルカプトピリミジン類、メル
カプトヘンズイミダゾール類、メルカプトベンズチアヅ
ール類、メルカプトヘンズオキサゾール類、メルカブト
チアジアゾール類、ペンズトリアゾール類、ペンズイミ
ダゾール類、インダゾール類、アデニン類、グアニン類
、テトラゾール類、テトラアザインデン類、トリアザイ
ンデン類、メルカプトアリール類等を挙げることができ
る。
PUGで表わされる現像抑制剤は置換されていてもよい
。置換基としては、例えば以下のものが挙げられるが、
これらの基はさらに置換されていてもよい。
。置換基としては、例えば以下のものが挙げられるが、
これらの基はさらに置換されていてもよい。
例えばアルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アル
キニル基、アルコキシ基、アリール基、置換アミノ基、
アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、ウレイド基、ウ
レタン基、アリールオキシ基、スルファモイル基、カル
バモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホ
ニル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子
、シアノ基、スルホ基、アルキルオキシ力ルバニル基、
アリールオキシカルボニル基、アシル基、アルコキシ力
ルボニル基、アシルオキシ基、カルボシアミド基、スル
ホンアミド基やカルボキシル基、スルホオキシ基、ホス
ホノ基、ボスフィニコ基、リン酸アミド基などである。
キニル基、アルコキシ基、アリール基、置換アミノ基、
アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、ウレイド基、ウ
レタン基、アリールオキシ基、スルファモイル基、カル
バモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホ
ニル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子
、シアノ基、スルホ基、アルキルオキシ力ルバニル基、
アリールオキシカルボニル基、アシル基、アルコキシ力
ルボニル基、アシルオキシ基、カルボシアミド基、スル
ホンアミド基やカルボキシル基、スルホオキシ基、ホス
ホノ基、ボスフィニコ基、リン酸アミド基などである。
好ましい置換基としては二トロ基、スルホ基、カルボキ
シル基、スルファモイル基、ホスホノ基、ホスフィニコ
基、スルホンアミド基である。
シル基、スルファモイル基、ホスホノ基、ホスフィニコ
基、スルホンアミド基である。
主な現像抑制剤を以下に示す。
ノレ
(2)1−(4−ヒドロキシフエニル)−5−メルカプ
ト (3)1−(4−アミノフエニル)−5−メルカプトテ
トラゾール (4)1−(4−カルポキシフエニル)−5−メルカプ
トテトラゾール (5)1−(4−クロロフエニル)−5−メルカプトテ
トラゾール (6)1−(4−メチルフエニル)−5−メルカプトテ
トラゾール (7)1−(2.4−ジヒドロキシフエニル)5−メル
カプトテトラゾール (8)1−(4−スルファモイルフエニル)−5メルカ
プトテトラゾール (9)1−(3−カルボキシフエニル)−5一メルカブ
トテトラゾール (to) 1− (3.5−ジカルボキシフエニル)
5−メルカプトテトラゾール (II1)−(4−メトキシフエニル)−5−メルカプ
トテトラソール 02)1−(2−メトキシフエニル)−5−メルカブト
テトラゾール 03) 1−(4−(2−ヒドロキシエトキシ)フエ
ニル〕−5−メルカプトテトラゾール圓 1−(2.4
−ジクロ口フエニル)−5メルカプトテトラゾール 05)1−(4−ジメチルアミノフエニル)−5メルカ
プトテトラゾール 0ω 1−(4−ニトロフエニル)−5−メルカプトテ
トラゾール 07)1.4−ビス(5−メルカプト−1−テトラゾリ
ル)ベンゼン 08)1−(α−ナフチル)−5−メルカプトテトラゾ
ール Q9)1−(4−スルホフエニル)−5一メルカプトテ
トラゾール QΦ 1−(3−スルホフエニル)−5−メルカプトテ
トラゾール (21)1−(β−ナフチル)−5一メルカプトテゾー
ル (22) 1−メチル−5−メルカプトテトラゾール
(23) 1−エチル−5−メルカプトテトラゾール
(24) 1−プロビル−5−メルカプトテトラゾー
ノレ (25) 1−オクチル−5−メルカプトテトラゾー
ノレ (26) 1−ドデシル−5−メルカプトテトラゾー
ノレ (27) 1−シクロへキシル−5−メルカプトテト
ラゾール (28) 1−バルミチル−5−メルカプトテトラゾ
ーノレ (29) 1−カルボキシエチル−5−メルカプトテ
トラゾール (30)1− (2.2−ジエトキシエチル)一5メル
カブトテトラゾール (31)1−(2−アミノエチル)−5−メルヵプトテ
トラゾールハイドロクロライド (32)1−(2−ジエチルアミノエチル)−5メルカ
プトテトラゾール (33)2−(5−メルカブト−1−テ1・ラゾール)
エチルトリメチルアンモニウムクロリド(34)1−(
3−フェノキシ力ルポニルフェニル)5−メルカブトテ
トラゾール (35)1−(3−マレインイミドフェニル)−6メル
カプトテトラゾール ノレ (2)4−フエニル−5−メチル−3−メルカプトトリ
アゾール (3)4.5−ジフエニル−3−メルカプトトリアゾー
ル (4) 4−(4−カルポキシフエニル)−3−メル
カブトトリアゾール 33一 (5)4−メチル−3−メルカプトトリアゾール(6)
4−(2−ジメチルアミノエチル)−3メルカプトトリ
アゾール (7)4−(α−ナフチル)−3−メルカプトトリアゾ
ール (8)4−(4−スルホフエニル)−3−メルカプトト
リアゾール (9)4−(3−ニトロフエニル)−3−メルカプトト
リアゾール ノレ (2)1.5−ジフエニル−2−カルカブトイミダゾー
ル (3)1−(4−カルボキシフエニル)−2−メルカブ
トイミダゾール (4)1−(4−へキシルカルバモイル)−2メルカプ
トイミダゾール (5)1−(3−ニトロフエニル)−2−メルカプトイ
ミダゾール (61l−(4−スルボフエニル)−2−メルカプトイ
ミダゾール 4 メルカプトピ1ミジン沃 (1)チオウラシル (2)メチルチオウラシル (3)エチルチオウラシル (4) プロビルチオウラシル (5)ノニルチオウラシル (6)アミノチオウラシル (7) ヒドロキシチオウラシル 5 メルカプ ベンズイミ ゾール抹 (1)2−メルカプトベンツイミダゾール(2)5−カ
ルボキシ−2−メルカプトベンツイミダゾール (3)5−アミノー2−メルカプトヘンツィミダゾール (4)5−ニトロ−2−メルカプトヘンツイミダゾール (5)5−クロロ−2−メルカプトベンツイミダゾール (6)5−メトキシ−2−メルカプトベンツイミダゾー
ル (7)2一メルカプトナフトイミダゾール(8)2−メ
ルカプト−5−スルホベンツイミダゾール (9)l(2−ヒドロキジエチル)−2−メルカプトベ
ンツイミダゾール 00)5−カブロアミド−2−メルカプトペンズイミダ
ゾール (II)5−(2−エチルヘキサノイルアミノ)2−メ
ルカプトベンズイミダゾール 6 メルカプ チアジアゾール銖 (1)5−メチルチオ−2−メルカプト−1.3.4−
チアジアゾール (2)5−−エチルチオ−2−メルカプト−1,34−
チアジアゾール (3)5−(2−ジメチルアミノエチルチオ)2−メル
カプト−1.3.4−チアジアゾーノレ (2−カルボキシプロピルチオ)−2 メルカブト−1.3.4−チアジアゾール(5)2−フ
エノキシ力ルポニルメチルチオ−5メルカプト−1.3
.4−チアジアゾール7 メルカプ ベンズチアゾール
沃 (1)2−メルカプ1・ヘンズチアゾール(2)5−ニ
トロ−2−メルカプ1・ペンズチアゾーノレ (3)5−カルボキシ−2−メルカプトヘンズチアゾー
ル (4)5−スルホー2−メルカプ1・ペンズチアゾーノ
レ 8 メルカプ ベンズオキサゾール沫 (1)2−メルカプトベンズオキサゾール(2)5−ニ
トロ−2−メルカプ1・ペンズオキサゾール (3)5−カルボキシ−2−メルカプトヘンズオキサゾ
ール (4)5−スルホ−2−メルカプトペンズチアゾーノレ 9 ヘンズ 1ア・−ル沃 (1)5, (6)5, (7)4, ーノレ 00)4, ノレ 6−ジメチルベンゾトリアゾール ブチルベンゾトリアゾール メチルベンゾトリアゾール クロロヘンゾトリアゾール プロモベンゾトリアゾール 6−ジクロロベンゾトリアゾール 6−ジクロ口ペンゾトリアゾール ニトロベンゾトリアゾール ニトロー6−クロローペンソトリアゾ 5.6−トリクロ口ペンゾトリアゾー (II) 5 カルボキシベンゾトリアゾール 02)5−スルホベンゾトリアゾール Na塩03)5
−メトキシ力ルポニルベンゾトリアゾーノレ 5−アミノヘンゾトリアゾール 5−ブトキシベンゾトリアゾール 5−ウレイドベンゾトリアゾール ヘンゾトリアゾール 08)5−フエノキシ力ルポニルヘンゾトリアゾーノレ 09) 5− (2.3−ジクロ口プロピルオキシ力
ルポニル)ベンゾ1〜リアゾール 10 ヘンズイミ ゾール沃 (1) ヘンツィミダゾール (2) 5−クロロヘンツィミダゾール(3) 5
−ニトロペンツィミダヅール(4) 5−n−プチル
ヘンツィミダゾール(5)5−メチルヘンツィミダゾー
ル (6) 4−クロロヘンツィミダゾール(7)5.6
−ジメチルヘンツィミダゾール(8)5−ニトロ−2−
(トリフルオロメチル)ヘンツイミダゾール l1 イン゛ゾール銖′ − (1)5−ニトロインダゾール (2)6−ニトロインダゾール (3)5−アミノインダゾール (4)6−アミノインダゾール (5)インダゾール (6)3−ニトロインダゾール (7) 5−ニトロ−31口ロインタソール(8)
3−クロロ−5−ニトロインダゾール(9) 3−
カルボキシー5−ニトロインダゾール12− −ゾー
ル沃 (1)5−(4−ニトロフェニル)テトラゾール(2)
5−フエニルテトラゾール (3)5−(3−カルポキシフェニル)一テトラゾール 13−トーザインー゛ン銖 (1)4−ヒドロキシ−6−メチル−5一二トロ1,3
.3a,7−テトラアザインデン(2)4−メルカプト
−6−メチル−5一二トロ1,3.3a,7−テトラア
ザインデン14 メルカブ アi−ル憬 (1)4−ニトロチオフェノール (2)チオフェノール (3)2−カルポキシチオフェノール ■はカルボニル基、−c−c−、スルボニル基{1)1 スルホキシ基、−p−CRrlよアルコキシ基またはR
I4 アリールオキシ基を表わす。)、イミノメチレン基、チ
オカルポニル基を表わし、■としてはカルボニル基が好
ましい。
ト (3)1−(4−アミノフエニル)−5−メルカプトテ
トラゾール (4)1−(4−カルポキシフエニル)−5−メルカプ
トテトラゾール (5)1−(4−クロロフエニル)−5−メルカプトテ
トラゾール (6)1−(4−メチルフエニル)−5−メルカプトテ
トラゾール (7)1−(2.4−ジヒドロキシフエニル)5−メル
カプトテトラゾール (8)1−(4−スルファモイルフエニル)−5メルカ
プトテトラゾール (9)1−(3−カルボキシフエニル)−5一メルカブ
トテトラゾール (to) 1− (3.5−ジカルボキシフエニル)
5−メルカプトテトラゾール (II1)−(4−メトキシフエニル)−5−メルカプ
トテトラソール 02)1−(2−メトキシフエニル)−5−メルカブト
テトラゾール 03) 1−(4−(2−ヒドロキシエトキシ)フエ
ニル〕−5−メルカプトテトラゾール圓 1−(2.4
−ジクロ口フエニル)−5メルカプトテトラゾール 05)1−(4−ジメチルアミノフエニル)−5メルカ
プトテトラゾール 0ω 1−(4−ニトロフエニル)−5−メルカプトテ
トラゾール 07)1.4−ビス(5−メルカプト−1−テトラゾリ
ル)ベンゼン 08)1−(α−ナフチル)−5−メルカプトテトラゾ
ール Q9)1−(4−スルホフエニル)−5一メルカプトテ
トラゾール QΦ 1−(3−スルホフエニル)−5−メルカプトテ
トラゾール (21)1−(β−ナフチル)−5一メルカプトテゾー
ル (22) 1−メチル−5−メルカプトテトラゾール
(23) 1−エチル−5−メルカプトテトラゾール
(24) 1−プロビル−5−メルカプトテトラゾー
ノレ (25) 1−オクチル−5−メルカプトテトラゾー
ノレ (26) 1−ドデシル−5−メルカプトテトラゾー
ノレ (27) 1−シクロへキシル−5−メルカプトテト
ラゾール (28) 1−バルミチル−5−メルカプトテトラゾ
ーノレ (29) 1−カルボキシエチル−5−メルカプトテ
トラゾール (30)1− (2.2−ジエトキシエチル)一5メル
カブトテトラゾール (31)1−(2−アミノエチル)−5−メルヵプトテ
トラゾールハイドロクロライド (32)1−(2−ジエチルアミノエチル)−5メルカ
プトテトラゾール (33)2−(5−メルカブト−1−テ1・ラゾール)
エチルトリメチルアンモニウムクロリド(34)1−(
3−フェノキシ力ルポニルフェニル)5−メルカブトテ
トラゾール (35)1−(3−マレインイミドフェニル)−6メル
カプトテトラゾール ノレ (2)4−フエニル−5−メチル−3−メルカプトトリ
アゾール (3)4.5−ジフエニル−3−メルカプトトリアゾー
ル (4) 4−(4−カルポキシフエニル)−3−メル
カブトトリアゾール 33一 (5)4−メチル−3−メルカプトトリアゾール(6)
4−(2−ジメチルアミノエチル)−3メルカプトトリ
アゾール (7)4−(α−ナフチル)−3−メルカプトトリアゾ
ール (8)4−(4−スルホフエニル)−3−メルカプトト
リアゾール (9)4−(3−ニトロフエニル)−3−メルカプトト
リアゾール ノレ (2)1.5−ジフエニル−2−カルカブトイミダゾー
ル (3)1−(4−カルボキシフエニル)−2−メルカブ
トイミダゾール (4)1−(4−へキシルカルバモイル)−2メルカプ
トイミダゾール (5)1−(3−ニトロフエニル)−2−メルカプトイ
ミダゾール (61l−(4−スルボフエニル)−2−メルカプトイ
ミダゾール 4 メルカプトピ1ミジン沃 (1)チオウラシル (2)メチルチオウラシル (3)エチルチオウラシル (4) プロビルチオウラシル (5)ノニルチオウラシル (6)アミノチオウラシル (7) ヒドロキシチオウラシル 5 メルカプ ベンズイミ ゾール抹 (1)2−メルカプトベンツイミダゾール(2)5−カ
ルボキシ−2−メルカプトベンツイミダゾール (3)5−アミノー2−メルカプトヘンツィミダゾール (4)5−ニトロ−2−メルカプトヘンツイミダゾール (5)5−クロロ−2−メルカプトベンツイミダゾール (6)5−メトキシ−2−メルカプトベンツイミダゾー
ル (7)2一メルカプトナフトイミダゾール(8)2−メ
ルカプト−5−スルホベンツイミダゾール (9)l(2−ヒドロキジエチル)−2−メルカプトベ
ンツイミダゾール 00)5−カブロアミド−2−メルカプトペンズイミダ
ゾール (II)5−(2−エチルヘキサノイルアミノ)2−メ
ルカプトベンズイミダゾール 6 メルカプ チアジアゾール銖 (1)5−メチルチオ−2−メルカプト−1.3.4−
チアジアゾール (2)5−−エチルチオ−2−メルカプト−1,34−
チアジアゾール (3)5−(2−ジメチルアミノエチルチオ)2−メル
カプト−1.3.4−チアジアゾーノレ (2−カルボキシプロピルチオ)−2 メルカブト−1.3.4−チアジアゾール(5)2−フ
エノキシ力ルポニルメチルチオ−5メルカプト−1.3
.4−チアジアゾール7 メルカプ ベンズチアゾール
沃 (1)2−メルカプ1・ヘンズチアゾール(2)5−ニ
トロ−2−メルカプ1・ペンズチアゾーノレ (3)5−カルボキシ−2−メルカプトヘンズチアゾー
ル (4)5−スルホー2−メルカプ1・ペンズチアゾーノ
レ 8 メルカプ ベンズオキサゾール沫 (1)2−メルカプトベンズオキサゾール(2)5−ニ
トロ−2−メルカプ1・ペンズオキサゾール (3)5−カルボキシ−2−メルカプトヘンズオキサゾ
ール (4)5−スルホ−2−メルカプトペンズチアゾーノレ 9 ヘンズ 1ア・−ル沃 (1)5, (6)5, (7)4, ーノレ 00)4, ノレ 6−ジメチルベンゾトリアゾール ブチルベンゾトリアゾール メチルベンゾトリアゾール クロロヘンゾトリアゾール プロモベンゾトリアゾール 6−ジクロロベンゾトリアゾール 6−ジクロ口ペンゾトリアゾール ニトロベンゾトリアゾール ニトロー6−クロローペンソトリアゾ 5.6−トリクロ口ペンゾトリアゾー (II) 5 カルボキシベンゾトリアゾール 02)5−スルホベンゾトリアゾール Na塩03)5
−メトキシ力ルポニルベンゾトリアゾーノレ 5−アミノヘンゾトリアゾール 5−ブトキシベンゾトリアゾール 5−ウレイドベンゾトリアゾール ヘンゾトリアゾール 08)5−フエノキシ力ルポニルヘンゾトリアゾーノレ 09) 5− (2.3−ジクロ口プロピルオキシ力
ルポニル)ベンゾ1〜リアゾール 10 ヘンズイミ ゾール沃 (1) ヘンツィミダゾール (2) 5−クロロヘンツィミダゾール(3) 5
−ニトロペンツィミダヅール(4) 5−n−プチル
ヘンツィミダゾール(5)5−メチルヘンツィミダゾー
ル (6) 4−クロロヘンツィミダゾール(7)5.6
−ジメチルヘンツィミダゾール(8)5−ニトロ−2−
(トリフルオロメチル)ヘンツイミダゾール l1 イン゛ゾール銖′ − (1)5−ニトロインダゾール (2)6−ニトロインダゾール (3)5−アミノインダゾール (4)6−アミノインダゾール (5)インダゾール (6)3−ニトロインダゾール (7) 5−ニトロ−31口ロインタソール(8)
3−クロロ−5−ニトロインダゾール(9) 3−
カルボキシー5−ニトロインダゾール12− −ゾー
ル沃 (1)5−(4−ニトロフェニル)テトラゾール(2)
5−フエニルテトラゾール (3)5−(3−カルポキシフェニル)一テトラゾール 13−トーザインー゛ン銖 (1)4−ヒドロキシ−6−メチル−5一二トロ1,3
.3a,7−テトラアザインデン(2)4−メルカプト
−6−メチル−5一二トロ1,3.3a,7−テトラア
ザインデン14 メルカブ アi−ル憬 (1)4−ニトロチオフェノール (2)チオフェノール (3)2−カルポキシチオフェノール ■はカルボニル基、−c−c−、スルボニル基{1)1 スルホキシ基、−p−CRrlよアルコキシ基またはR
I4 アリールオキシ基を表わす。)、イミノメチレン基、チ
オカルポニル基を表わし、■としてはカルボニル基が好
ましい。
Rで表わされる脂肪族基は直鎖、分岐または環状ノアル
キル基、アルヶニル基、またハアルキニル基であり、好
ましい炭素数は1〜3oのものであって、特に炭素数1
〜2oのものである。ここで分岐アルキル基はその中に
1つまたはそれ以上のへテロ原子を含んだ飽和のへテロ
環を形成するように環化されていてもよい。
キル基、アルヶニル基、またハアルキニル基であり、好
ましい炭素数は1〜3oのものであって、特に炭素数1
〜2oのものである。ここで分岐アルキル基はその中に
1つまたはそれ以上のへテロ原子を含んだ飽和のへテロ
環を形成するように環化されていてもよい。
例えばメチル基、t−ブチル基、n−オクチル基、t−
オクチル基、シクロヘキシル基、ヘキセニル基、ピロリ
ジル基、テトラヒドロフリル基、n−ドデシル基などが
挙げられる。
オクチル基、シクロヘキシル基、ヘキセニル基、ピロリ
ジル基、テトラヒドロフリル基、n−ドデシル基などが
挙げられる。
芳香族基は単環または2環のアリール基であり、例えば
フエニル基、ナフチル基などが挙げられる。
フエニル基、ナフチル基などが挙げられる。
ヘテロ環基は、N,OまたはS原子のうち少なくともひ
とつを含む3〜10員の飽和もしくは不飽和のへテロ環
であり、これらは単環でもよいし、さらに他の芳香環も
しくはペテロ環と縮金環を形成してもよい。ヘテロ環と
して好ましいものは、5ないし6員環の芳香族へテロ環
であり、例えば、ピリジン環、イミダゾリル基、キノリ
ニル基、ペンズイミダゾリル基、ピリミジニル基、ピラ
ゾリル基、イソキノリニル基、ペンズチアゾリル基、チ
アゾリル基などが挙げられる。
とつを含む3〜10員の飽和もしくは不飽和のへテロ環
であり、これらは単環でもよいし、さらに他の芳香環も
しくはペテロ環と縮金環を形成してもよい。ヘテロ環と
して好ましいものは、5ないし6員環の芳香族へテロ環
であり、例えば、ピリジン環、イミダゾリル基、キノリ
ニル基、ペンズイミダゾリル基、ピリミジニル基、ピラ
ゾリル基、イソキノリニル基、ペンズチアゾリル基、チ
アゾリル基などが挙げられる。
Rは置換基で置換されていてもよい。置換基として番劣
、例えば以下のものが挙げられる。これらの基はさらに
置換されていてもよい。
、例えば以下のものが挙げられる。これらの基はさらに
置換されていてもよい。
例えばアルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アル
キニル基、アルコキシ基、アリール基、置換アミノ基、
アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、ウレイド基、ウ
レタン基、アリールオキシ基、スルファモイル基、カル
バモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホ
チル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子
、シアノ基、スルホ基、アルキルオキシ力ルボニル基、
アリールオキシ力ルボニル基、アシル基、アルコキシカ
ルボニル基、アシルオキシ基、カルボンアミド基、スル
ホンアミド基やカルボキシ基、リン酸アミド基などであ
る。
キニル基、アルコキシ基、アリール基、置換アミノ基、
アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、ウレイド基、ウ
レタン基、アリールオキシ基、スルファモイル基、カル
バモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホ
チル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子
、シアノ基、スルホ基、アルキルオキシ力ルボニル基、
アリールオキシ力ルボニル基、アシル基、アルコキシカ
ルボニル基、アシルオキシ基、カルボンアミド基、スル
ホンアミド基やカルボキシ基、リン酸アミド基などであ
る。
また一般式(1)において、R、または+T imeh
− P U Gは、その中にカプラー等の不動性写真用
添加剤において常用されているバラスト基や一般式(1
)で表わされる化合物がハロゲン化銀に吸着することを
促進する基が組み込まれていてもよい。
− P U Gは、その中にカプラー等の不動性写真用
添加剤において常用されているバラスト基や一般式(1
)で表わされる化合物がハロゲン化銀に吸着することを
促進する基が組み込まれていてもよい。
バラスト基は一般式(1)で表わされる化合物が実質的
に他層または処理液中へ拡散できないようにするのに十
分な分子量を与える有機基であり、アルキル基、アリー
ル基、ヘテロ環基、エーテル基、チオエーテル基、アミ
ド基、ウレイド基、ウレタン基、スルホンアミド基など
の一以上の組合せからなるものである。バラスト基とし
て好ましくは置換ベンゼン環を有するハラスト基であり
、特に分岐状アルキル基で置換されたベンゼン環を有す
るバラスト基が好ましい。
に他層または処理液中へ拡散できないようにするのに十
分な分子量を与える有機基であり、アルキル基、アリー
ル基、ヘテロ環基、エーテル基、チオエーテル基、アミ
ド基、ウレイド基、ウレタン基、スルホンアミド基など
の一以上の組合せからなるものである。バラスト基とし
て好ましくは置換ベンゼン環を有するハラスト基であり
、特に分岐状アルキル基で置換されたベンゼン環を有す
るバラスト基が好ましい。
ハロゲン化銀への吸着促進基としては、具体的には4−
チアゾリン−2−チオン、4−イミダゾlJ:/−2−
チオン、2−チオヒダントイン、ローダニン、チオパル
ビッール酸、テトラゾリン−5チオン、1,2.4−}
リアゾリン−3−チオン、1,3.4−オキサゾリン−
2−チオン、ヘンズイミダゾリン−2−チオン、ペンズ
オキサゾリン−2−チオン、ペンゾチアゾリン−2−チ
オン、チオトリアジン、1,3−イミダゾリンー2チオ
ンのような環状チオアミド基、鎖状チオアミド基、脂肪
族メルカプト基、芳香族メルカブト基、ヘテロ環メルカ
プト基(−SH基が結合した炭素原子の隣が窒素原子の
場合はこれと互変異性体の関係にある環状チオアミド基
と同義であり、この基の具体例は上に列挙したものと同
じである。)ジスルフィド結合を有する基、ペンゾトリ
アゾール、トリアゾール、テトラゾール、インダゾール
、ペンズイミダゾール、イミダゾール、ベンゾチアゾー
ル、チアゾール、チアゾリン、ペンゾオキサゾール、オ
キサゾール、オキサゾリン、チアジアゾール、オキサチ
アゾール、1・リアジン、アザインデンのような窒素、
酸素、硫黄及び炭素の組合せからなる5員ないし6員の
含窒素へテロ環基、及びペンズイミダゾリニウムのよう
な複素環四級塩などが挙げられる。
チアゾリン−2−チオン、4−イミダゾlJ:/−2−
チオン、2−チオヒダントイン、ローダニン、チオパル
ビッール酸、テトラゾリン−5チオン、1,2.4−}
リアゾリン−3−チオン、1,3.4−オキサゾリン−
2−チオン、ヘンズイミダゾリン−2−チオン、ペンズ
オキサゾリン−2−チオン、ペンゾチアゾリン−2−チ
オン、チオトリアジン、1,3−イミダゾリンー2チオ
ンのような環状チオアミド基、鎖状チオアミド基、脂肪
族メルカプト基、芳香族メルカブト基、ヘテロ環メルカ
プト基(−SH基が結合した炭素原子の隣が窒素原子の
場合はこれと互変異性体の関係にある環状チオアミド基
と同義であり、この基の具体例は上に列挙したものと同
じである。)ジスルフィド結合を有する基、ペンゾトリ
アゾール、トリアゾール、テトラゾール、インダゾール
、ペンズイミダゾール、イミダゾール、ベンゾチアゾー
ル、チアゾール、チアゾリン、ペンゾオキサゾール、オ
キサゾール、オキサゾリン、チアジアゾール、オキサチ
アゾール、1・リアジン、アザインデンのような窒素、
酸素、硫黄及び炭素の組合せからなる5員ないし6員の
含窒素へテロ環基、及びペンズイミダゾリニウムのよう
な複素環四級塩などが挙げられる。
これらはさらに適当な置換基で置換されていてもよい。
置換基としては、例えばRの置換基として述べたものが
挙げられる。
挙げられる。
以下に本発明に用いられる化合物の具体例を列記するが
本発明はこれに限定されるものではない。
本発明はこれに限定されるものではない。
ε
49.
50.
本発明に用いられるレドックス化合物の合成法は例えば
、特開昭61−213,847号、同62−260,1
53号、米国特許第4,684,604号、特願昭6
3−9 8 8 0 3号、米国特許第3,379,5
29号、同3,620.746号、同4,377,63
4号、同4, 332. 878号、特開昭49−
129,536号、同56153.336号、同56−
153,342号、などに記載されている。
、特開昭61−213,847号、同62−260,1
53号、米国特許第4,684,604号、特願昭6
3−9 8 8 0 3号、米国特許第3,379,5
29号、同3,620.746号、同4,377,63
4号、同4, 332. 878号、特開昭49−
129,536号、同56153.336号、同56−
153,342号、などに記載されている。
本発明のレドックス化合物は銀1モルあたり1.O X
1 0−’moj!〜5. O X 1 0−2m
oA,好ましくは1.OXIO−”1.OXIO−2m
oA’の範囲内で用いられる。
1 0−’moj!〜5. O X 1 0−2m
oA,好ましくは1.OXIO−”1.OXIO−2m
oA’の範囲内で用いられる。
本発明のレドックス化合物は、適当な水混和性有機溶媒
、例えば、アルコール頻(メタノール、エタノール、プ
ロパノール、フッ素化アルコール)、ケトン類(アセト
ン、メチルエチルケトン)、ジメチルホルムアミド、ジ
メチルスルホキシド、メチルセルソルブなどに溶解して
用いることができまた、既に良く知られている乳化分散
法によって、ジブチルフタレート、トリクレジルフオス
フエート、グリセリルトリアセテートあるいはジエチル
フタレートなどのオイルに、酢酸エチルやシクロヘキサ
ノンなどの補助溶媒を用いて熔解し、機械的に乳化分散
物を作成して用いることもできる。あるいは、固体分散
法として知られている方法によって、レドックス化合物
の粉末を水の中に、ボールミル、コロイドミル、あるい
は超音波によって分散して用いることもできる。
、例えば、アルコール頻(メタノール、エタノール、プ
ロパノール、フッ素化アルコール)、ケトン類(アセト
ン、メチルエチルケトン)、ジメチルホルムアミド、ジ
メチルスルホキシド、メチルセルソルブなどに溶解して
用いることができまた、既に良く知られている乳化分散
法によって、ジブチルフタレート、トリクレジルフオス
フエート、グリセリルトリアセテートあるいはジエチル
フタレートなどのオイルに、酢酸エチルやシクロヘキサ
ノンなどの補助溶媒を用いて熔解し、機械的に乳化分散
物を作成して用いることもできる。あるいは、固体分散
法として知られている方法によって、レドックス化合物
の粉末を水の中に、ボールミル、コロイドミル、あるい
は超音波によって分散して用いることもできる。
本発明に用いられるヒドラジンi%2N=体は、下記一
般式(1)によって表わされる化合物が好ましい。
般式(1)によって表わされる化合物が好ましい。
一般式(I)
R+ N N GI R2B. B
2 式中、R,は脂肪族基または芳香族基を表わし、R2は
水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、ア
リールオキシ基、アミノ基、カルバモイル基又はオキシ
カルボニル基を表わし、G1はカルボニル基、スルホニ
ル基、スルホキシ基、P一 基、又はイミノメチレン基
を表わし、R2 Bl、B2はともに水素原子あるいは一方が水素原子で
他方が置換もしくは無置換のアルキルスルホニル基、又
は置換もしくは無置換のアリールスルホニル基、又は置
換もしくは無置換のアシル基を表わす。
2 式中、R,は脂肪族基または芳香族基を表わし、R2は
水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、ア
リールオキシ基、アミノ基、カルバモイル基又はオキシ
カルボニル基を表わし、G1はカルボニル基、スルホニ
ル基、スルホキシ基、P一 基、又はイミノメチレン基
を表わし、R2 Bl、B2はともに水素原子あるいは一方が水素原子で
他方が置換もしくは無置換のアルキルスルホニル基、又
は置換もしくは無置換のアリールスルホニル基、又は置
換もしくは無置換のアシル基を表わす。
一般式(1)において、R1で表される脂肪族基は好ま
しくは炭素数1〜30のものであって、特に炭素数1〜
20の直鎖、分岐または環状のアルキル基である。ここ
で分岐アルキル基はその中に1つまたはそれ以上のへテ
ロ原子を含んだ飽和のへテロ環を形成するように環化さ
れていてもよい。またこのアルキル基は、アリール基、
アルコキシ基、スルホキシ基、スルホンアミド基、カル
ボンアミド基等の置換基を有していてもよい。
しくは炭素数1〜30のものであって、特に炭素数1〜
20の直鎖、分岐または環状のアルキル基である。ここ
で分岐アルキル基はその中に1つまたはそれ以上のへテ
ロ原子を含んだ飽和のへテロ環を形成するように環化さ
れていてもよい。またこのアルキル基は、アリール基、
アルコキシ基、スルホキシ基、スルホンアミド基、カル
ボンアミド基等の置換基を有していてもよい。
一般式(1)においてR1で表される芳香族基は単環ま
たは2環のアリール基または不飽和へテロ環基である。
たは2環のアリール基または不飽和へテロ環基である。
ここで不飽和へテロ環基は単環または2環のアリール基
と縮合してヘテロアリール基を形成してもよい。
と縮合してヘテロアリール基を形成してもよい。
例えばベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、ピリミ
ジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、キノリン環、
イソキノリン環、ヘンズイミダゾール環、チアゾール環
、ペンゾチアゾール環等があるがなかでもベンゼン環を
含むものが好ましい。
ジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、キノリン環、
イソキノリン環、ヘンズイミダゾール環、チアゾール環
、ペンゾチアゾール環等があるがなかでもベンゼン環を
含むものが好ましい。
R1 として特に好ましいものは7リール基である。
R.のアリール基または不飽和へテロ環基は置換されて
いてもよく、代表的な置換基としては例えばアルキル基
、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコ
キシ基、アリール基、Kmアミノ基、アシルアミノ基、
スルホニルアミノ基、ウレイド基、ウレタン基、アリー
ルオキシ基、スルファモイル基、カルバモイル基、アル
キルチオ基、アリールチオ基、スルホニル基、スルフイ
ニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、スル
ホ基、アルキルオキシ力ルボニル基、アリールオキシ力
ルボニル基、アシル基、アルコキシ力ルボニル基、アシ
ルオキシ基、カルポンアミド基、スルホンアミド基やカ
ルボキシル基、リン酸アミド基、ジアシルアミノ基、イ
ミド基、などが挙げられ、好ましい置換基としては直鎖
、分岐または環状のアルキル基(好ましくは炭素数1〜
20のもの)、アラルキル基(好ましくはアルキル部分
の炭素数が1〜3の単環または2環のもの)、アルコキ
シ基(好ましくは炭素数1〜20のもの)、置換アミノ
基(好ましくは炭素数1〜20のアルキル基で置換され
たアミノ基)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜
30を持つもの)、スルホンアミF′基(好ましくは炭
素数1〜30を持つもの)、ウレイド基(好ましくは炭
素数1〜30を持つもの)、リン酸アミド基(好ましく
は炭素数1〜30のもの)などである。
いてもよく、代表的な置換基としては例えばアルキル基
、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコ
キシ基、アリール基、Kmアミノ基、アシルアミノ基、
スルホニルアミノ基、ウレイド基、ウレタン基、アリー
ルオキシ基、スルファモイル基、カルバモイル基、アル
キルチオ基、アリールチオ基、スルホニル基、スルフイ
ニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、スル
ホ基、アルキルオキシ力ルボニル基、アリールオキシ力
ルボニル基、アシル基、アルコキシ力ルボニル基、アシ
ルオキシ基、カルポンアミド基、スルホンアミド基やカ
ルボキシル基、リン酸アミド基、ジアシルアミノ基、イ
ミド基、などが挙げられ、好ましい置換基としては直鎖
、分岐または環状のアルキル基(好ましくは炭素数1〜
20のもの)、アラルキル基(好ましくはアルキル部分
の炭素数が1〜3の単環または2環のもの)、アルコキ
シ基(好ましくは炭素数1〜20のもの)、置換アミノ
基(好ましくは炭素数1〜20のアルキル基で置換され
たアミノ基)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜
30を持つもの)、スルホンアミF′基(好ましくは炭
素数1〜30を持つもの)、ウレイド基(好ましくは炭
素数1〜30を持つもの)、リン酸アミド基(好ましく
は炭素数1〜30のもの)などである。
一般式(1)においてR2で表わされるアルキル基とし
ては、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基であって、
ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシ基、スルホ基、ア
ルコキシ基、フエニル基、スルホニル基などの置換基を
有していてもよい。
ては、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基であって、
ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシ基、スルホ基、ア
ルコキシ基、フエニル基、スルホニル基などの置換基を
有していてもよい。
了りール基としては単環または2環のアリール基が好ま
しく、例えばベンゼン環を含むものである。このアリー
ル基は、例えばハロゲン原子、アルキル基、シアノ基、
カルポキシル基、スルホ基、スルホニル基などで置換さ
れていてもよい。
しく、例えばベンゼン環を含むものである。このアリー
ル基は、例えばハロゲン原子、アルキル基、シアノ基、
カルポキシル基、スルホ基、スルホニル基などで置換さ
れていてもよい。
アルコキシ基としては炭素数1〜8のアルコキシ基のも
のが好ましく、ハロゲン原子、アリール基などで置換さ
れていてもよい。
のが好ましく、ハロゲン原子、アリール基などで置換さ
れていてもよい。
アリールオキシ基としては単環のものが好ましく、また
置換基としてはハロゲン原子などがある。
置換基としてはハロゲン原子などがある。
アミノ基、としては無置換アミノ基及び、炭素数1〜1
0のアルキルアミノ基、アリールアミノ基が好ましく、
アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、二トロ基、カル
ボキシ基などで置換されていてもよい。
0のアルキルアミノ基、アリールアミノ基が好ましく、
アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、二トロ基、カル
ボキシ基などで置換されていてもよい。
カルハモイル基としては、無置換カルバモイル基及び炭
素数1〜10のアルキルカルバモイル基、アリールカル
バモイル基が好ましく、アルキル基、ハロゲン原子、シ
アノ基、カルボキシ基などで置換されていてもよい。
素数1〜10のアルキルカルバモイル基、アリールカル
バモイル基が好ましく、アルキル基、ハロゲン原子、シ
アノ基、カルボキシ基などで置換されていてもよい。
オキシカルボニル基としては、炭素数1〜1oのアルコ
キシカルポニル基、了りールオキシカルボニル基が好ま
しく、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基
などで置換されていてもよい。
キシカルポニル基、了りールオキシカルボニル基が好ま
しく、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基
などで置換されていてもよい。
R2で表わされる基のうち好ましいものは、G,がカル
ボニル基の場合には、水素原子、アルキル基(例えば、
メチル基、トリフルオ口メチル基、3〜ヒドロキシプ口
ピル基、3−メタンスルホンアミドプロビル基、フエニ
ルスルホニルメチル基など)、アラルキル基(例えば、
0−ヒドロキシベンジル基など)、アリール基(例えば
、フェニル基、3.5−ジクロロフェニル基、0−メタ
ンスルホンアミドフエニル基、4−メタンスルホニルフ
エニル基など)などであり、特に水素原子が好ましい。
ボニル基の場合には、水素原子、アルキル基(例えば、
メチル基、トリフルオ口メチル基、3〜ヒドロキシプ口
ピル基、3−メタンスルホンアミドプロビル基、フエニ
ルスルホニルメチル基など)、アラルキル基(例えば、
0−ヒドロキシベンジル基など)、アリール基(例えば
、フェニル基、3.5−ジクロロフェニル基、0−メタ
ンスルホンアミドフエニル基、4−メタンスルホニルフ
エニル基など)などであり、特に水素原子が好ましい。
またG,がスルホニル基の場合には、R2はアルキル基
(例えば、メチル基など)、アラルキル基(例えば、0
−ヒドロキシフェニルメチル基など)、アリール基(例
えば、フエニル基など)または置換アミノ基(例えば、
ジメチルアミノ基など)などが好ましい。
(例えば、メチル基など)、アラルキル基(例えば、0
−ヒドロキシフェニルメチル基など)、アリール基(例
えば、フエニル基など)または置換アミノ基(例えば、
ジメチルアミノ基など)などが好ましい。
G1がスルホキシ基の場合、好ましいR2はシアノベン
ジル基、メチルチオベンジル基などであはメトキシ基、
エトキシ基、ブトキシ基、フエノキシ基、フエニル基が
好ましく、特に、フエノキシ基が好適である。
ジル基、メチルチオベンジル基などであはメトキシ基、
エトキシ基、ブトキシ基、フエノキシ基、フエニル基が
好ましく、特に、フエノキシ基が好適である。
G1がN−置換または無置換イミノメチレン基の場合、
好ましいR2はメチル基、エチル基、置換または無置換
のフエニル基である。
好ましいR2はメチル基、エチル基、置換または無置換
のフエニル基である。
R2の置換基としては、R1に関して列挙した置換基が
適用できる。
適用できる。
一般式(1)のGとしてはカルボニル基が最も好ましい
。
。
又、R2はG,−R*部分を残余分子から分裂させ、−
G,−R,部分の原子を含む環式構造を生成させる環化
反応を生起するようなものであつてもよく、具体的には
一般式(a)で表わすことができるようなものである。
G,−R,部分の原子を含む環式構造を生成させる環化
反応を生起するようなものであつてもよく、具体的には
一般式(a)で表わすことができるようなものである。
一般式<a>
R3 Zl
式中、ハはG1に対し求核的に攻撃し、G + R
:+ Z +部分を残余分子から分裂させ得る基であ
り、R3はR2から水素原子1個除いたもので、ハがい
に対し求核攻撃し、G+ ,R3 ,ZIで環式構造が
生成可能なものである。
:+ Z +部分を残余分子から分裂させ得る基であ
り、R3はR2から水素原子1個除いたもので、ハがい
に対し求核攻撃し、G+ ,R3 ,ZIで環式構造が
生成可能なものである。
さらに詳細には、Z,は一般式(1)のヒドラジン化合
物が酸化等により、次の反応中間体を生成したときに容
易にG,と求核反応し Rl’−N=N−G.−R3 −Z. R,−N=N基を01から分裂させうる基であり、具体
的にはOH,SHまたはN H R 4 ( R 4
は水素原子、アルキル基、アリール基、 C O R
s、または−So2R5であり、R,は水素原子、7ル
キル基、アリール基、ヘテロ環基などを表わす)、CO
OHなどのようにG1と直接反応する官能基であっても
よく、(ここで、OH,SH.NHRa ,− C O
O Hはアルカリ等の加水分解によりこれらの基を生
成するように一時的に保護されていてもよい) N−R, 0 C−R6 あるいは−C Rb (R6 ,R7は
水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基また
はへテロ環基を表わす)のように水酸イオンや亜硫酸イ
オン等のような求核剤を反応することでG,と反応する
ことが可能になる官能基であってもよい。
物が酸化等により、次の反応中間体を生成したときに容
易にG,と求核反応し Rl’−N=N−G.−R3 −Z. R,−N=N基を01から分裂させうる基であり、具体
的にはOH,SHまたはN H R 4 ( R 4
は水素原子、アルキル基、アリール基、 C O R
s、または−So2R5であり、R,は水素原子、7ル
キル基、アリール基、ヘテロ環基などを表わす)、CO
OHなどのようにG1と直接反応する官能基であっても
よく、(ここで、OH,SH.NHRa ,− C O
O Hはアルカリ等の加水分解によりこれらの基を生
成するように一時的に保護されていてもよい) N−R, 0 C−R6 あるいは−C Rb (R6 ,R7は
水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基また
はへテロ環基を表わす)のように水酸イオンや亜硫酸イ
オン等のような求核剤を反応することでG,と反応する
ことが可能になる官能基であってもよい。
また、GI1R3、zIで形成される環としては5員ま
たは6員のものが好ましい。
たは6員のものが好ましい。
一般式(a)で表わされるもののうち、好ましいものと
しては一般式(b)及び(C)で表わされるものを挙げ
ることができる。
しては一般式(b)及び(C)で表わされるものを挙げ
ることができる。
一般式(b)
z. −tcR. 3Rb 4<°
式中、R..1 〜R..4は水素原子、アルキル基、
(好ましくは炭素数1〜12のもの)、アルケニル基(
好ましくは炭素数2〜12のもの)、了りール基(好ま
しくは炭素数6〜12のもの)などを表わし、同じでも
異ってもよい。Bは置換基を有してもよい5員環または
6員環を完成するのに必要な原子であり、m,nはOま
たは1であり、(n+m)は1または2である。
(好ましくは炭素数1〜12のもの)、アルケニル基(
好ましくは炭素数2〜12のもの)、了りール基(好ま
しくは炭素数6〜12のもの)などを表わし、同じでも
異ってもよい。Bは置換基を有してもよい5員環または
6員環を完成するのに必要な原子であり、m,nはOま
たは1であり、(n+m)は1または2である。
Bで形成される5員または6員環としては、例えば、シ
クロヘキセン環、シクロヘプテン環、ベンゼン環、ナフ
タレン環、ピリジン環、キノリン環などである。
クロヘキセン環、シクロヘプテン環、ベンゼン環、ナフ
タレン環、ピリジン環、キノリン環などである。
Z1は一般式<a>と同義である。
一般式(C)
Rc
−{−N+T−+C Rc ’ Rc ”}r Z,
式中、Rc’ % Rc”は水素原子、アルキル基、ア
ルケニル基、アリール基またはハロゲン原子などを表わ
し、同じでも異ってもよい。
式中、Rc’ % Rc”は水素原子、アルキル基、ア
ルケニル基、アリール基またはハロゲン原子などを表わ
し、同じでも異ってもよい。
Rc3は水素原子、アルキル基、アルケニル基、または
アリール基を表わす。
アリール基を表わす。
pはOまたは1を表わず。qは1〜4を表わす。
Rcl 、RetおよびRc″はZ1がG,へ分子内求
核攻撃し得る構造の限りにおいて互いに結合して環を形
成してもよい。
核攻撃し得る構造の限りにおいて互いに結合して環を形
成してもよい。
Rc ’−.Re 2は好ましくは水素原子、ハロゲン
原子、またはアルキル基であり、Rc″は好ましくはア
ルキル基またはアリール基である。
原子、またはアルキル基であり、Rc″は好ましくはア
ルキル基またはアリール基である。
qは好ましくは1〜3を表わし、qが1のときpは1ま
たは2を、qが2のときpは0または1を、qが3のと
きpは0またはlを表わし、q .lj)< 2または
3のときCRc’ Rc”は同じでも異ってもよい。
たは2を、qが2のときpは0または1を、qが3のと
きpは0またはlを表わし、q .lj)< 2または
3のときCRc’ Rc”は同じでも異ってもよい。
Z1は一般式(a)と同義である。
A+、Axは水素原子、炭素数20以下のアルキルスル
ホニル基およびアリールスルボニル基(好ましくはフエ
ニルスルホニル基又はハメットの置換基定数の和が−0
.5以上となるように置換されたフエニルスルホニル基
)、炭素数20以下のアシル基(好ましくはペンゾイル
基、又はハメットの置換基定数の和が−0.5以上とな
るように置換されたベンゾイル基、あるいは直鎖又は分
岐状又は環状の無rrL換及び置換脂肪族アシル基(置
換基としては例えばハロゲン原子、エーテル基、スルボ
ンアミF基、カルボンアミド基、水酸基、カルボキシ基
、スルホン酸基が挙げられる。))Bl,B2としては
水素原子が最も好ましい。
ホニル基およびアリールスルボニル基(好ましくはフエ
ニルスルホニル基又はハメットの置換基定数の和が−0
.5以上となるように置換されたフエニルスルホニル基
)、炭素数20以下のアシル基(好ましくはペンゾイル
基、又はハメットの置換基定数の和が−0.5以上とな
るように置換されたベンゾイル基、あるいは直鎖又は分
岐状又は環状の無rrL換及び置換脂肪族アシル基(置
換基としては例えばハロゲン原子、エーテル基、スルボ
ンアミF基、カルボンアミド基、水酸基、カルボキシ基
、スルホン酸基が挙げられる。))Bl,B2としては
水素原子が最も好ましい。
一II式(n)のR1またはR2はその中にカプラー等
の不動性写真用添加剤において常用されているバラス}
lが組み込まれているものでもよい。
の不動性写真用添加剤において常用されているバラス}
lが組み込まれているものでもよい。
バラスト基は8以上の炭素数を有する写真性に対,して
比較的不活性な基であり、例えばアルキル基、アルコキ
シ基、フエニル基、アルキルフエニル基、フエノキシ基
、アルキルフエノキシ基などの中から選ぶことができる
。
比較的不活性な基であり、例えばアルキル基、アルコキ
シ基、フエニル基、アルキルフエニル基、フエノキシ基
、アルキルフエノキシ基などの中から選ぶことができる
。
一般式(It)のR,またはR2はその中にハロゲン化
銀粒子表面に対する吸着を強める基が組み込まれている
ものでもよい。かかる吸着基としては、チオ尿素基、複
素環チオアミド基、メルカプト複素環基、トリアゾール
基などの米国特許第4,385,108号、同4,45
9,347号、特開昭51−195.233号、同59
−200,231号、同59−201,045号、同5
9201.046号、同59−201.047号、同5
9−201.048号、同59−201,049号、特
開昭61−170,733号、同6l270.744号
、同62−948号、特願昭62−67,508号、l
/62−67,501号、〃62−67,510号に記
載された基があげられる。
銀粒子表面に対する吸着を強める基が組み込まれている
ものでもよい。かかる吸着基としては、チオ尿素基、複
素環チオアミド基、メルカプト複素環基、トリアゾール
基などの米国特許第4,385,108号、同4,45
9,347号、特開昭51−195.233号、同59
−200,231号、同59−201,045号、同5
9201.046号、同59−201.047号、同5
9−201.048号、同59−201,049号、特
開昭61−170,733号、同6l270.744号
、同62−948号、特願昭62−67,508号、l
/62−67,501号、〃62−67,510号に記
載された基があげられる。
一般式(+)で示される化合物の具体例を以下に示す。
但し木発明は以下の化合物に限定されるものではない。
I−2》
I−3)
■−4)
CtHs
!−6)
H
■
S
■
H
■
■
■
■
I−14)
SH
■
I
■
CzHs
■
CN
■
■
30》
■
■
■
■
■
■
■
■
■
■
■
■
■
■
本発明に用いられるヒドラジン誘導体としては、上記の
ものの他に、RESEARCH DISCLOSUR
E I tem23516 (1983年1)月号、P
.346)およびそこに引用された文献の他、米国特許
4,080,207号、同4,269,929号、同4
,276,364号、同4,278,748号、同4,
385,108号、同4,459,347号、同4,5
60.638号、同4, 478. 928号、英国特
許2,01),391B,7特開昭60−179734
号、同62−270,948号、同63−29,751
号、特開昭61−170,733号、同61−270,
744号、同62−948号、EP217,310号、
特願昭61−175,234号、〃61−251,48
2号、ll61−26L 249号、//61−276
,283号、〃62−67528号、〃62−67,5
09号、〃62−67,510号、〃62−58,51
3号、〃62−130.819号、〃62−143.4
67号、〃62−166,1)7号、またはUS4,6
86,167号、特開昭62−178,246号、同6
3−234.244号、同63−234,245号、同
63−234,246号、同63−294,552号、
同63306.438号、特願昭62−166,1)7
号、〃62−247,478号、〃63−105,68
2号、〃63−1)4,1)8号、〃631)0,05
1号、〃63−1)4.1)9号、〃63−1)6.2
39号、〃63−14.7,339号、〃63−179
,760号、〃63−229,163号、特願平1−1
8,377号、1−18,378号、〃1−18.37
9号、〃1−15,755号、〃1−16, 814
号、1−40.792号、〃1−42.615号、〃1
−42,616号に記載されたものを用いることができ
る。
ものの他に、RESEARCH DISCLOSUR
E I tem23516 (1983年1)月号、P
.346)およびそこに引用された文献の他、米国特許
4,080,207号、同4,269,929号、同4
,276,364号、同4,278,748号、同4,
385,108号、同4,459,347号、同4,5
60.638号、同4, 478. 928号、英国特
許2,01),391B,7特開昭60−179734
号、同62−270,948号、同63−29,751
号、特開昭61−170,733号、同61−270,
744号、同62−948号、EP217,310号、
特願昭61−175,234号、〃61−251,48
2号、ll61−26L 249号、//61−276
,283号、〃62−67528号、〃62−67,5
09号、〃62−67,510号、〃62−58,51
3号、〃62−130.819号、〃62−143.4
67号、〃62−166,1)7号、またはUS4,6
86,167号、特開昭62−178,246号、同6
3−234.244号、同63−234,245号、同
63−234,246号、同63−294,552号、
同63306.438号、特願昭62−166,1)7
号、〃62−247,478号、〃63−105,68
2号、〃63−1)4,1)8号、〃631)0,05
1号、〃63−1)4.1)9号、〃63−1)6.2
39号、〃63−14.7,339号、〃63−179
,760号、〃63−229,163号、特願平1−1
8,377号、1−18,378号、〃1−18.37
9号、〃1−15,755号、〃1−16, 814
号、1−40.792号、〃1−42.615号、〃1
−42,616号に記載されたものを用いることができ
る。
本発明において一般式(1)で表わされるヒドラジン誘
導体を写真感光材料中に含有させるときには、ハロゲン
化銀乳剤層に含有させるのが好ましいがそれ以外の非感
光性の親水性コロイド層(例えば保護層、中間層、フィ
ルター層、ハレーション防止層など)に含有させてもよ
い。具体的には使用する化合物が水溶性の場合には水溶
液として、また難水溶性の場合にはアルコール類、エス
テル類、ケトン類などの水と混和しうる有機溶媒の溶液
として、親水性コロイド溶液に添加すればよい。ハロゲ
ン化銀乳剤層に添加する場合は化学熟成の開始から塗布
前までの任意の時期に行ってよいが、化学熟成終了後か
ら塗布前の間に添加するのが好ましい。特に塗布のため
に用意された塗布液中に塗布するのがよい。
導体を写真感光材料中に含有させるときには、ハロゲン
化銀乳剤層に含有させるのが好ましいがそれ以外の非感
光性の親水性コロイド層(例えば保護層、中間層、フィ
ルター層、ハレーション防止層など)に含有させてもよ
い。具体的には使用する化合物が水溶性の場合には水溶
液として、また難水溶性の場合にはアルコール類、エス
テル類、ケトン類などの水と混和しうる有機溶媒の溶液
として、親水性コロイド溶液に添加すればよい。ハロゲ
ン化銀乳剤層に添加する場合は化学熟成の開始から塗布
前までの任意の時期に行ってよいが、化学熟成終了後か
ら塗布前の間に添加するのが好ましい。特に塗布のため
に用意された塗布液中に塗布するのがよい。
本発明において、一般式(1)で表わされるヒドラジン
誘導体は、ハロゲン化銀1モル当り1×10−6モルな
いし1×10−’モル含有させるのが好ましく特に1×
10−5ないし4X10−3モル含有させるのが好まし
い。
誘導体は、ハロゲン化銀1モル当り1×10−6モルな
いし1×10−’モル含有させるのが好ましく特に1×
10−5ないし4X10−3モル含有させるのが好まし
い。
本発明に用いられるハロゲン化銀写真感光材料のハロゲ
ン化銀乳剤は90モル%以上より好ましくは95モル%
以上が塩化銀からなるハロゲン化銀であり、臭化銀をO
〜10モル%含む塩臭化銀もしくは塩沃臭化銀である。
ン化銀乳剤は90モル%以上より好ましくは95モル%
以上が塩化銀からなるハロゲン化銀であり、臭化銀をO
〜10モル%含む塩臭化銀もしくは塩沃臭化銀である。
臭化銀あるいは沃化銀の比率が増加すると明室下でのセ
ーフライト安全性の悪化、あるいはγが低下して好まし
くない。
ーフライト安全性の悪化、あるいはγが低下して好まし
くない。
ロジウム原子を含有せしめるには、単塩、錯塩など任意
の金属塩にして粒子調製時に添加することができる。
の金属塩にして粒子調製時に添加することができる。
ロジウム塩としては、一塩化ロジウム、二塩化ロジウム
、三塩化ロジウム、ヘキサクロロロジウム酸アンモニウ
ム等が挙げられるが、好ましくは水溶性の三価のロジウ
ムのハロゲン錯化合物例えばヘキサクロロロジウム(I
[[)酸もしくはその塩(アンモニウム塩、ナトリウム
塩、カリウム塩など)である。
、三塩化ロジウム、ヘキサクロロロジウム酸アンモニウ
ム等が挙げられるが、好ましくは水溶性の三価のロジウ
ムのハロゲン錯化合物例えばヘキサクロロロジウム(I
[[)酸もしくはその塩(アンモニウム塩、ナトリウム
塩、カリウム塩など)である。
これらの水溶性ロジウム塩の添加量はハロゲン化銀1モ
ル当り1.OX10−’モル〜1.OX10−3モルの
範囲で用いられる。好ましくは1.0X10−5モル〜
1.0X10−3モル、特に好ましくは5,OX10−
’モル〜5.OX10−’モルである。
ル当り1.OX10−’モル〜1.OX10−3モルの
範囲で用いられる。好ましくは1.0X10−5モル〜
1.0X10−3モル、特に好ましくは5,OX10−
’モル〜5.OX10−’モルである。
ロジウム塩が10−3モル以上であると充分硬調化する
ことが不可能となる。逆に10−6モル未満であると明
室感材に適した低感化ができなくなる。
ことが不可能となる。逆に10−6モル未満であると明
室感材に適した低感化ができなくなる。
本発明に用いられるハロゲン化銀は云わゆるコア/シエ
ル型ハロゲン化銀が好ましく、特にコアに比べてシェル
のロジウム含有率の高いコア/シエル型ハロゲン化銀が
好ましい。
ル型ハロゲン化銀が好ましく、特にコアに比べてシェル
のロジウム含有率の高いコア/シエル型ハロゲン化銀が
好ましい。
上記水溶性ロジウム塩を用いてハロゲン化銀粒子中に存
在させるには水溶性根塩と水溶性ハライド溶液を同時混
合するとき、水溶性銀塩中にまたはハライド溶液中に添
加しておく方法が好ましい。
在させるには水溶性根塩と水溶性ハライド溶液を同時混
合するとき、水溶性銀塩中にまたはハライド溶液中に添
加しておく方法が好ましい。
あるいは銀塩とハライド溶液が同時に混合されるとき第
3の溶液として、3液同時混合の方法でハロゲン化銀粒
子を調製してもよい。
3の溶液として、3液同時混合の方法でハロゲン化銀粒
子を調製してもよい。
本発明のハロゲン化銀乳剤の粒子サイズは0.15μ以
下が好ましくミより好ましくは0.12μ以下の微粒子
乳剤である。
下が好ましくミより好ましくは0.12μ以下の微粒子
乳剤である。
本発明においてハロゲン化銀微粒子を調製するには混合
条件として反応温度は50℃以下、好ましくは40℃以
下、より好ましくは30℃以下で、均一混合するように
充分攪拌速度の高い条件下で銀電位100mV以上、好
ましくは150mV〜400mV.p}{は3〜8、好
ましくは5〜7で調製すると良好な結果を得ることがで
きる。塩化銀微粒子の場合、その高い溶解性のため水洗
工程、分散工程でも粒子成長が起こるケースがあり、温
度は35℃以下、あるいは粒子成長を抑制する核酸、メ
ルカプト化合物、テトラザインデン化合物等を共存させ
ることができる。
条件として反応温度は50℃以下、好ましくは40℃以
下、より好ましくは30℃以下で、均一混合するように
充分攪拌速度の高い条件下で銀電位100mV以上、好
ましくは150mV〜400mV.p}{は3〜8、好
ましくは5〜7で調製すると良好な結果を得ることがで
きる。塩化銀微粒子の場合、その高い溶解性のため水洗
工程、分散工程でも粒子成長が起こるケースがあり、温
度は35℃以下、あるいは粒子成長を抑制する核酸、メ
ルカプト化合物、テトラザインデン化合物等を共存させ
ることができる。
粒子サイズ分布は基本的には制限ないが単分散である方
が好ましい。ここでいう単分散とは重量もしくは粒子数
で少なくともその95%が平均粒子サイズの±40%以
内の大きさを持つ粒子群から構成され、より好ましくは
±20%以内である。
が好ましい。ここでいう単分散とは重量もしくは粒子数
で少なくともその95%が平均粒子サイズの±40%以
内の大きさを持つ粒子群から構成され、より好ましくは
±20%以内である。
本発明のハロゲン化銀粒子は立方体、八面体のような規
則的な結晶体を有するものが好ましく、特に立方体が好
ましい。
則的な結晶体を有するものが好ましく、特に立方体が好
ましい。
ロジウム塩の他に、さらにカドミウム塩、鉛塩、タリウ
ム塩、イリジウム塩を共存させることもできる。
ム塩、イリジウム塩を共存させることもできる。
本発明の方法で用いるハロゲン化銀乳剤は化学増感され
ていなくてもよいが、化学増感されていてもよい。ハロ
ゲン化銀乳剤の化学増感の方法として、硫黄増感、還元
増感及び貴金属増感法が知られており、これらのいずれ
をも単独で用いても、又併用して化学増感してもよい。
ていなくてもよいが、化学増感されていてもよい。ハロ
ゲン化銀乳剤の化学増感の方法として、硫黄増感、還元
増感及び貴金属増感法が知られており、これらのいずれ
をも単独で用いても、又併用して化学増感してもよい。
貴金属増感法のうち金増感法はその代表的なもので金化
合物、主として金錯塩を用いる。金以外の貴金属、たと
えば白金、パラジウム、イリジウム等の錯塩を含有して
も差支えない。具体例は米国特許2,448,060号
、英国特許618,061号などに記載されている。
合物、主として金錯塩を用いる。金以外の貴金属、たと
えば白金、パラジウム、イリジウム等の錯塩を含有して
も差支えない。具体例は米国特許2,448,060号
、英国特許618,061号などに記載されている。
硫黄増感剤としては、ゼラチン中に含まれる硫黄化合物
のほか、種々の硫黄化合物、たとえばチオ硫酸塩、チオ
尿素類、チアゾール類、ローダニン類等を用いることが
できる。
のほか、種々の硫黄化合物、たとえばチオ硫酸塩、チオ
尿素類、チアゾール類、ローダニン類等を用いることが
できる。
還元増感剤としては第一すず塩、アミン類、ホルムアミ
ジンスルフィン酸、シラン化合物などを用いることがで
きる。
ジンスルフィン酸、シラン化合物などを用いることがで
きる。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、有機減感剤を含
んでもよい。有Ia減感剤としては、好ましくは少なく
とも1つの水溶性基又はアルカリ解離基を有するものが
よい。
んでもよい。有Ia減感剤としては、好ましくは少なく
とも1つの水溶性基又はアルカリ解離基を有するものが
よい。
本発明に用いられる有機減感剤は、そのボーラログラフ
半波電位、即ちボーラログラフイーで決定される酸化還
元電位により規定され、ポーラ口陽極電位と陰極電位の
和が正になるものである。
半波電位、即ちボーラログラフイーで決定される酸化還
元電位により規定され、ポーラ口陽極電位と陰極電位の
和が正になるものである。
ボーラログラフの酸化還元電位の測定法については例え
ば米国特許3,501,307号に記載されている。有
機減感剤に少なくとも1つ保存ずる水溶性基としては具
体的にはスルホン酸基、カルボン酸基、ホスホン酸基な
どが挙げられ、これらの基は有機塩基(例えば、アンモ
ニア、ピリジン、トリエチルアミン、ピベリジン、モル
ホリンなど)またはアルカリ金属(例えばナトリウム、
カリウムなど)などと塩を形成していてもよい。
ば米国特許3,501,307号に記載されている。有
機減感剤に少なくとも1つ保存ずる水溶性基としては具
体的にはスルホン酸基、カルボン酸基、ホスホン酸基な
どが挙げられ、これらの基は有機塩基(例えば、アンモ
ニア、ピリジン、トリエチルアミン、ピベリジン、モル
ホリンなど)またはアルカリ金属(例えばナトリウム、
カリウムなど)などと塩を形成していてもよい。
アルカリ解離性基とは現像処理液のpH(通常pH9〜
pH13の範囲であるが、これ以外のpHを示す処理液
もあり得る。)またはそれ以下のpHで脱プロトン反応
を起こし、アニオン性となる置換基をいう。具体的には
置換・未置換のスルファモイル基、置換・未置換のカル
ハモイル暴、スルホンアミド基、アシルアミノ基、置換
・未;8換のウレイド基などの置換基で窒素原子に結合
した水素原子が少なくとも1個存在する置換基およびヒ
ドロキシ基を指す。
pH13の範囲であるが、これ以外のpHを示す処理液
もあり得る。)またはそれ以下のpHで脱プロトン反応
を起こし、アニオン性となる置換基をいう。具体的には
置換・未置換のスルファモイル基、置換・未置換のカル
ハモイル暴、スルホンアミド基、アシルアミノ基、置換
・未;8換のウレイド基などの置換基で窒素原子に結合
した水素原子が少なくとも1個存在する置換基およびヒ
ドロキシ基を指す。
また含窒素へテロ環のへテロ環を構成する窒素原子上に
水素原子を有するヘテロ環基もアルカリ解離性基に含ま
れる。
水素原子を有するヘテロ環基もアルカリ解離性基に含ま
れる。
これらの水溶性基およびアルカリ解離性基は有機減感剤
のどの部分に接続していてもよく、また2種以上を同時
に有していてもよい。
のどの部分に接続していてもよく、また2種以上を同時
に有していてもよい。
・「
本発明に用いられる有mH感剤の好ましい具体例は、特
願昭61−209169号に記載されているが、その中
からいくつか例を次にあげる。
願昭61−209169号に記載されているが、その中
からいくつか例を次にあげる。
H
有機減感剤はハロゲン化銀乳剤層中に1.0×10−8
〜1.OX10−’モル/rtr、特に1,o×10〜
7〜1.OX10−’モル/d存在せしめることが好ま
しい。
〜1.OX10−’モル/rtr、特に1,o×10〜
7〜1.OX10−’モル/d存在せしめることが好ま
しい。
本発明の乳剤層又は、その他の親水性コロイ1゜層に、
フィルター染料として、あるいはイラジェーション防止
その他、種々の目的で水溶性染料を含有してもよい。フ
ィルター染料としては、写真感度をさらに低めるための
染料、好ましくは、ハロゲン化銀の固有感度域に分光吸
収極大を有する紫外線吸収剤や、明室感光材料として取
り扱われる際のセーフライ1一光に対する安全性を高め
るための、主として350nm〜600nmの領域に実
質的な光吸収をもつ染料が用いられる。
フィルター染料として、あるいはイラジェーション防止
その他、種々の目的で水溶性染料を含有してもよい。フ
ィルター染料としては、写真感度をさらに低めるための
染料、好ましくは、ハロゲン化銀の固有感度域に分光吸
収極大を有する紫外線吸収剤や、明室感光材料として取
り扱われる際のセーフライ1一光に対する安全性を高め
るための、主として350nm〜600nmの領域に実
質的な光吸収をもつ染料が用いられる。
染料のモル吸光係数により異なるが、通常10−2g/
rd〜1 g / mの範囲で添加される。好ましくは
10■〜100■/Mである。
rd〜1 g / mの範囲で添加される。好ましくは
10■〜100■/Mである。
染料の具体例は特願昭61−209169号に詳しく記
載されているが、いくつかを次にあげる。
載されているが、いくつかを次にあげる。
上記染料は適当な溶媒〔例えば水、アルコール(例えば
メタノール、エタノール、プロパノールなど)、アセト
ン、メチルセロソルブ、など、あるいはこれらの混合溶
媒〕に溶解して本発明の非感光性の親水性コロイド層用
塗布液中に添加される。
メタノール、エタノール、プロパノールなど)、アセト
ン、メチルセロソルブ、など、あるいはこれらの混合溶
媒〕に溶解して本発明の非感光性の親水性コロイド層用
塗布液中に添加される。
写真乳剤の結合剤または保護コロイドとしては、ゼラチ
ンを用いるのが有利であるが、それ以外の親水性コロイ
ドも用いることができる。たとえばゼラチン誘導体、ゼ
ラチンと他の高分子とのグラフトボリマー、アルブミン
、カゼイン等の蛋白質:ヒドロキシエチルセルロース、
カルボキシメチルセルロース、セルロース硫酸エステル
類等の如きセルロース誘導体、アルギン酸ソーゾ、澱粉
誘導体などの¥fM誘導体、ポリビニルアルコール、ポ
リビニルアルコール部分アセタール、ポリーNビニルビ
ロリドン、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリア
クリルアミド、ポリビニルイミダゾール、ポリビニルピ
ラゾール等の単一あるいは共重合体の如き多種の合成親
水性高分子物質を用いることができる。
ンを用いるのが有利であるが、それ以外の親水性コロイ
ドも用いることができる。たとえばゼラチン誘導体、ゼ
ラチンと他の高分子とのグラフトボリマー、アルブミン
、カゼイン等の蛋白質:ヒドロキシエチルセルロース、
カルボキシメチルセルロース、セルロース硫酸エステル
類等の如きセルロース誘導体、アルギン酸ソーゾ、澱粉
誘導体などの¥fM誘導体、ポリビニルアルコール、ポ
リビニルアルコール部分アセタール、ポリーNビニルビ
ロリドン、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリア
クリルアミド、ポリビニルイミダゾール、ポリビニルピ
ラゾール等の単一あるいは共重合体の如き多種の合成親
水性高分子物質を用いることができる。
ゼラチンとしては石灰処理ゼラチンのほか、酸処理ゼラ
チンを用いてもよく、ゼラチン加水分解物、ゼラチン酸
素分解物も用いることができる。
チンを用いてもよく、ゼラチン加水分解物、ゼラチン酸
素分解物も用いることができる。
本発明の感光材料の支持体としてはセルローストリアセ
テート、セルロースジアセテート、ニトロセルロース、
ボリスチレン、ポリエチレンテレフタレート紙、バライ
タ塗装紙、ポリオレフイン被覆紙などを用いることがで
きる。
テート、セルロースジアセテート、ニトロセルロース、
ボリスチレン、ポリエチレンテレフタレート紙、バライ
タ塗装紙、ポリオレフイン被覆紙などを用いることがで
きる。
本発明に用いるのに適した現像促進剤あるいは造核伝染
現像の促進剤としては、特開昭53−77616号、同
54−37732号、同53−137133号、同60
−140340号、同6014959号などに開示され
ている化合物の他、N又はS原子を含む各種の化合物が
有効である。
現像の促進剤としては、特開昭53−77616号、同
54−37732号、同53−137133号、同60
−140340号、同6014959号などに開示され
ている化合物の他、N又はS原子を含む各種の化合物が
有効である。
次に具体例を列挙する。
C2HS
2C7!e
?C21{S)2 NC82CH−CI{■OHOH
これらの促進剤は、化合物の種頻によって最適添加量が
異なるが1.OX10−”〜0.5g/イ、好ましくは
5.OX10−3〜0.1g/nrの範囲で用いるのが
望ましい。これらの促進剤は適当な溶媒・(H.O,
メタノールやエタノールなどのアルコール類、アセト
ン、ジメチルホルムアミド、メチルセルソルブなど)に
溶解して塗布液に添加される。
異なるが1.OX10−”〜0.5g/イ、好ましくは
5.OX10−3〜0.1g/nrの範囲で用いるのが
望ましい。これらの促進剤は適当な溶媒・(H.O,
メタノールやエタノールなどのアルコール類、アセト
ン、ジメチルホルムアミド、メチルセルソルブなど)に
溶解して塗布液に添加される。
これらの添加剤を複数の種類を併用して,もよい。
本発明で用いられる感光材料には、感度上昇を目的とし
て特開昭55−52050号第45頁〜53頁に記載さ
れた可視域に吸収極大を有する増感色素(例えばシアニ
ン色素、メロシアニン色素など。)を添加することもで
きるが、しない方が好ましい。
て特開昭55−52050号第45頁〜53頁に記載さ
れた可視域に吸収極大を有する増感色素(例えばシアニ
ン色素、メロシアニン色素など。)を添加することもで
きるが、しない方が好ましい。
これらの増感色素は単独に用いてもよいが、それらの組
合せを用いてもよく、増感色素の組合せは特に、強色増
感の目的でしばしば用いられる。
合せを用いてもよく、増感色素の組合せは特に、強色増
感の目的でしばしば用いられる。
増惑色素とともに、それ自身分光増惑作用をもたない色
素あるいは可視光を実質的に吸収しない物質であって、
強色増惑を示す物質を乳剤中に含んでもよい。
素あるいは可視光を実質的に吸収しない物質であって、
強色増惑を示す物質を乳剤中に含んでもよい。
有用な増感色素、強色増感を示す色素の組合一l及び強
色増感を示す物質はリサーチ・ディスクロージャ(Re
search Disclosure) 1 7 6巻
17643(1978年12月発行)第23頁■のJ項
に記載されている。
色増感を示す物質はリサーチ・ディスクロージャ(Re
search Disclosure) 1 7 6巻
17643(1978年12月発行)第23頁■のJ項
に記載されている。
本発明の感光材料には、感光材料の製造工程、保存中あ
るいは写真処理中のカブリを防止しあるいは写真性能を
安定化させる目的で、本発明のチオスルフィン酸化合物
以外に種々の化合物を含有させることができる。すなわ
ちアゾール類たとえばペンゾチアゾリウム塩、ニトロイ
ンダゾール類、クロロヘンズイミダゾール類、プロモヘ
ンズイミダゾール類、メルカプトチアヅール類、メルカ
ブトベンゾチアゾール類、メルカプトチアジアゾール類
、アミノトリアゾール類、ペンゾチアゾール類、ニトロ
ヘンゾトリアゾール類、など;メルカプトピリミジン類
;メルカプトトリアジン類;たとえばオキサゾリンチオ
ンのようなチオケト化合物;アザインデン類、たとえば
トリアザインデン類、テトラアザインデン類(特に4−
ヒドロキシ置換(1,3.3a,7)テトラアザインデ
ン類)、ペンタアザインデン類など;ベンゼンチオスル
フオン酸、ベンゼンスルフイン酸、ベンゼンスルフオン
酸アミド等のようなカブリ防止剤または安定剤として知
られた多くの化合物を加えることができる。
るいは写真処理中のカブリを防止しあるいは写真性能を
安定化させる目的で、本発明のチオスルフィン酸化合物
以外に種々の化合物を含有させることができる。すなわ
ちアゾール類たとえばペンゾチアゾリウム塩、ニトロイ
ンダゾール類、クロロヘンズイミダゾール類、プロモヘ
ンズイミダゾール類、メルカプトチアヅール類、メルカ
ブトベンゾチアゾール類、メルカプトチアジアゾール類
、アミノトリアゾール類、ペンゾチアゾール類、ニトロ
ヘンゾトリアゾール類、など;メルカプトピリミジン類
;メルカプトトリアジン類;たとえばオキサゾリンチオ
ンのようなチオケト化合物;アザインデン類、たとえば
トリアザインデン類、テトラアザインデン類(特に4−
ヒドロキシ置換(1,3.3a,7)テトラアザインデ
ン類)、ペンタアザインデン類など;ベンゼンチオスル
フオン酸、ベンゼンスルフイン酸、ベンゼンスルフオン
酸アミド等のようなカブリ防止剤または安定剤として知
られた多くの化合物を加えることができる。
本発明の写真感光材料には、写真乳剤層その他の親水性
コロイド層に無機または有機の硬膜剤を含有してよい。
コロイド層に無機または有機の硬膜剤を含有してよい。
例えばクロム塩(クロムミョウバン、酢酸クロムなど)
、アルデヒド類、(ホルムアルデヒド、グリオキサール
、グルタールアルデヒドなど)、N−メチロール化合物
(ジメチロール尿素、メチロールジメチルヒダントイン
など)、ジオキサン誘導体(2.3−ジヒドロキシジオ
キサンなど)、活性ビニル化合物(1,3.5−}リア
クリロイル−へキサヒドローs−}リアジン、1,3−
ビニルスルホニル−2−プロパノールなど)、活性ハロ
ゲン化合物(2,4−ジクロル6−ヒドロキシ−S−ト
リアジンなど)、ムコハロゲン酸頻(ムコクロル酸、ム
コフエノキシクロル酸など)、などを単独または組み合
わせて用いることができる。
、アルデヒド類、(ホルムアルデヒド、グリオキサール
、グルタールアルデヒドなど)、N−メチロール化合物
(ジメチロール尿素、メチロールジメチルヒダントイン
など)、ジオキサン誘導体(2.3−ジヒドロキシジオ
キサンなど)、活性ビニル化合物(1,3.5−}リア
クリロイル−へキサヒドローs−}リアジン、1,3−
ビニルスルホニル−2−プロパノールなど)、活性ハロ
ゲン化合物(2,4−ジクロル6−ヒドロキシ−S−ト
リアジンなど)、ムコハロゲン酸頻(ムコクロル酸、ム
コフエノキシクロル酸など)、などを単独または組み合
わせて用いることができる。
本発明を用いて作られる感光材料の写真乳剤層または他
の親水性コロイド層には塗布助剤、帯電防止、スベリ性
改良、乳化分散、接着防止及び写真特性改良(例えば、
現像促進剤、硬調化、増感)等種々の目的で、種々の界
面活性剤を含んでもよい。
の親水性コロイド層には塗布助剤、帯電防止、スベリ性
改良、乳化分散、接着防止及び写真特性改良(例えば、
現像促進剤、硬調化、増感)等種々の目的で、種々の界
面活性剤を含んでもよい。
例えばサボニン(ステロイド系)、アルキレンオキサイ
ド誘導体(例えばポリエチレングリコール、ポリエチレ
ングリコール/ボリブロピレングリコール縮合物、ポリ
エチレングリコールアルキルエーテル類又はボリエチレ
ングリコールアルキルアリールエーテル類、ポリエチレ
ングリコールエステル類、ポリエチレングリコールソル
ビクンエステル類、ポリアルキレングリコールアルキル
アミン又はアミド類、シリコーンのポリエチレンオキサ
イド付加物類)、グリシトール誘導体(例えばアルケニ
ルコハク酸ポリグリセリド、アルキルフェノールボリグ
リセリド)、多価アルコールの脂肪酸エステル類、糖の
アルキルエステル類などの非イオン性界面活性剤;アル
キルカルボン酸塩、アルキルスルフオン酸塩、アルキル
ヘンゼンスルフオン酸塩、アルキルナフタレンスルフォ
ン酸塩、アルキル硫酸エステル類、アルキルリン酸エス
テル類、N−アシル−N−アルキルタウリン類、スルホ
コハク酸エステル類、スルホアルキルポリオキシエチレ
ンアルキルフエニルエーテル類、ポリオキシエチレンア
ルキルリン酸エステル類などのような、カルボキシ基、
スルホ基、ホスホ基、硫酸エステル類、リン酸エステル
基等の酸性基を含むアニオン界面活性剤;アミノ酸類、
アミノアルキルスルホン酸類、アミノアルキル硫酸又は
リン酸エステル類、アルキルベタイン類、アミンオキシ
ド類などの両性界面活性剤;アルキルアミン塩類、脂肪
族あるいは芳香族第4級アンモニウム塩類、ピリジニウ
ム、イミダゾリウムなどの複素環第4級アンモニウム塩
類、及び脂肪族又は複素環を含むホスホニウム又はスル
ホニウム塩類などのカチオン界面活性剤を用いることが
できる。
ド誘導体(例えばポリエチレングリコール、ポリエチレ
ングリコール/ボリブロピレングリコール縮合物、ポリ
エチレングリコールアルキルエーテル類又はボリエチレ
ングリコールアルキルアリールエーテル類、ポリエチレ
ングリコールエステル類、ポリエチレングリコールソル
ビクンエステル類、ポリアルキレングリコールアルキル
アミン又はアミド類、シリコーンのポリエチレンオキサ
イド付加物類)、グリシトール誘導体(例えばアルケニ
ルコハク酸ポリグリセリド、アルキルフェノールボリグ
リセリド)、多価アルコールの脂肪酸エステル類、糖の
アルキルエステル類などの非イオン性界面活性剤;アル
キルカルボン酸塩、アルキルスルフオン酸塩、アルキル
ヘンゼンスルフオン酸塩、アルキルナフタレンスルフォ
ン酸塩、アルキル硫酸エステル類、アルキルリン酸エス
テル類、N−アシル−N−アルキルタウリン類、スルホ
コハク酸エステル類、スルホアルキルポリオキシエチレ
ンアルキルフエニルエーテル類、ポリオキシエチレンア
ルキルリン酸エステル類などのような、カルボキシ基、
スルホ基、ホスホ基、硫酸エステル類、リン酸エステル
基等の酸性基を含むアニオン界面活性剤;アミノ酸類、
アミノアルキルスルホン酸類、アミノアルキル硫酸又は
リン酸エステル類、アルキルベタイン類、アミンオキシ
ド類などの両性界面活性剤;アルキルアミン塩類、脂肪
族あるいは芳香族第4級アンモニウム塩類、ピリジニウ
ム、イミダゾリウムなどの複素環第4級アンモニウム塩
類、及び脂肪族又は複素環を含むホスホニウム又はスル
ホニウム塩類などのカチオン界面活性剤を用いることが
できる。
特に本発明において好ましく用いられる界面活性剤は特
公昭58−9412号公頼に記載された分子量600以
上のポリアルキレンオキサイド類である。
公昭58−9412号公頼に記載された分子量600以
上のポリアルキレンオキサイド類である。
また、帯電防止のためには特開昭60−80949号な
どに記載された含フッ素系界面活性剤を用いることが好
ましい。
どに記載された含フッ素系界面活性剤を用いることが好
ましい。
それらの具体例は米国特許3,379.529号、米国
特許3,620,746号、米国特許4,377,63
4号、米国特許4,332,878号、特開昭49−1
29,536号、特開昭5467.419号、特開昭5
6−153.336号、特開昭56−153,342号
、特願昭59278.853号、同59−90435号
、同59−90436号、同59−138808号など
に記載の化合物を挙げることができる。
特許3,620,746号、米国特許4,377,63
4号、米国特許4,332,878号、特開昭49−1
29,536号、特開昭5467.419号、特開昭5
6−153.336号、特開昭56−153,342号
、特願昭59278.853号、同59−90435号
、同59−90436号、同59−138808号など
に記載の化合物を挙げることができる。
本発明の写真感光材料には写真乳剤層その他の親水性コ
ロイド層に接着防止の目的でシリカ、酸化マグネシウム
、ポリメチルメタクリレート等のマット剤を含むことが
できる。
ロイド層に接着防止の目的でシリカ、酸化マグネシウム
、ポリメチルメタクリレート等のマット剤を含むことが
できる。
本発明で用いられる感光材料には寸度安定性の目的で水
不溶または難溶性合成ポリマーの分散物を含むことがで
きる。たとえばアルキル(メタ)アクリレート、アルコ
キシアクリル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ
)アクリレート、などの単独もしくは組合わせ、または
これらとアクリル酸、メタアクリル酸、などの組合せを
単量体成分とするポリマーを用いることができる。
不溶または難溶性合成ポリマーの分散物を含むことがで
きる。たとえばアルキル(メタ)アクリレート、アルコ
キシアクリル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ
)アクリレート、などの単独もしくは組合わせ、または
これらとアクリル酸、メタアクリル酸、などの組合せを
単量体成分とするポリマーを用いることができる。
本発明の写真感光材料のハロゲン化銀乳剤層及びその他
の層には酸基を有する化合物を含有することが好ましい
。酸基を有する化合物としてはサリチル酸、酢酸、アス
コルビン酸等の有機酸及びアクリル酸、マレイン酸、フ
タル酸の如き酸モノマーをくり返し単位として有するポ
リマー又はコボリマーを挙げることができる。これらの
化合物に関しては特願昭6(1−66179号、同60
−68873号、同60−163856号、及び同60
−195655号明細書の記載を参考にすることができ
る。これらの化合物の中でも特に好ましいのは、低分子
化合物としてはアスコルビン酸であり、高分子化合物と
してはアクリル酸の如き酸モノマーとジビニルベンゼン
の如き2個以上の不飽和基を有する架橋性モノマーから
なるコポリマーの水分散性ラテックスである。
の層には酸基を有する化合物を含有することが好ましい
。酸基を有する化合物としてはサリチル酸、酢酸、アス
コルビン酸等の有機酸及びアクリル酸、マレイン酸、フ
タル酸の如き酸モノマーをくり返し単位として有するポ
リマー又はコボリマーを挙げることができる。これらの
化合物に関しては特願昭6(1−66179号、同60
−68873号、同60−163856号、及び同60
−195655号明細書の記載を参考にすることができ
る。これらの化合物の中でも特に好ましいのは、低分子
化合物としてはアスコルビン酸であり、高分子化合物と
してはアクリル酸の如き酸モノマーとジビニルベンゼン
の如き2個以上の不飽和基を有する架橋性モノマーから
なるコポリマーの水分散性ラテックスである。
本発明のハロゲン化銀感光材料を用いて超硬調で高感度
の写真特性を得るには、従来の伝染現像液や米国特許第
2,419,975号に記載されたpH1 3に近い高
アルカリ現像液を用いる必要はなく、安定な現像液を用
いることができる。
の写真特性を得るには、従来の伝染現像液や米国特許第
2,419,975号に記載されたpH1 3に近い高
アルカリ現像液を用いる必要はなく、安定な現像液を用
いることができる。
すなわち、本発明のハロゲン化銀感光材料は、保恒剤と
しての亜硫酸イオンを0。15モル/7!以上含み、p
H10.5〜12.3、特にp H 1).0〜12.
0の現像液によって充分に超硬調のネガ画像を得ること
ができる。
しての亜硫酸イオンを0。15モル/7!以上含み、p
H10.5〜12.3、特にp H 1).0〜12.
0の現像液によって充分に超硬調のネガ画像を得ること
ができる。
本発明に使用する現像液に用いる現像主薬には特別な制
限はないが、良好な網点品質を得やすい点で、ジヒドロ
キシベンゼン類を含むことが好ましく、ジヒドロキシベ
ンゼン類と1−フェニル3−ピラゾリドン類の組合せま
たはジヒドロキシベンゼン類とp−アミノフェノール類
の組合せを用いる場合もある。
限はないが、良好な網点品質を得やすい点で、ジヒドロ
キシベンゼン類を含むことが好ましく、ジヒドロキシベ
ンゼン類と1−フェニル3−ピラゾリドン類の組合せま
たはジヒドロキシベンゼン類とp−アミノフェノール類
の組合せを用いる場合もある。
本発明に用いるジヒドロキシベンゼン現像主薬としては
ハイドロキノン、クロロハイドロキノン、ブロムハイド
ロキノン、イソプロビルハイドロキノン、メチルハイド
ロキノン、2.3−ジクロロハイドロキノン、2.5−
ジクロロハイドロキノン、2,3−ジブロムハイドロキ
ノン、2つ,5ジメチルハイドロキノンなどがあるが特
にハイドロキノンが好ましい。
ハイドロキノン、クロロハイドロキノン、ブロムハイド
ロキノン、イソプロビルハイドロキノン、メチルハイド
ロキノン、2.3−ジクロロハイドロキノン、2.5−
ジクロロハイドロキノン、2,3−ジブロムハイドロキ
ノン、2つ,5ジメチルハイドロキノンなどがあるが特
にハイドロキノンが好ましい。
本発明に用いる1−フェニル−3−ピラゾリドン又はそ
の誘導体の現像主薬としては1−フェニル−3−ピラゾ
リドン、1−フエニルー4.4ジメチル−3−ピラゾリ
ドン、1−フェニル−4メチル−4−ヒドロキシメチル
−3−ピラゾリドン、1−フエニル−4,−4−ジヒド
ロキシメチル−3−ピラゾリドン、1−フエニル−5−
メチル−3−ピラゾリドン、1−p−アミノフェニル4
,4−ジメチル−3−ピラゾリドン、t−pトリル−4
.4−ジメチル−3−ピラゾリドンなどがある。
の誘導体の現像主薬としては1−フェニル−3−ピラゾ
リドン、1−フエニルー4.4ジメチル−3−ピラゾリ
ドン、1−フェニル−4メチル−4−ヒドロキシメチル
−3−ピラゾリドン、1−フエニル−4,−4−ジヒド
ロキシメチル−3−ピラゾリドン、1−フエニル−5−
メチル−3−ピラゾリドン、1−p−アミノフェニル4
,4−ジメチル−3−ピラゾリドン、t−pトリル−4
.4−ジメチル−3−ピラゾリドンなどがある。
本発明に用いるp−アミノフェノール系現像主薬として
はN−メチルーp−アミノフェノール、p−アミノフェ
ノール、N−(β−ヒドロキシェチル>−p−アミノフ
ェノール、N−(4−ヒドロキシフエニル)グリシン、
2−メチル−p−アミノフェノール、p−ペンジルアミ
ノフェノール等があるが、なかでもN−メチル〜p−ア
ミノフェノールが好ましい。
はN−メチルーp−アミノフェノール、p−アミノフェ
ノール、N−(β−ヒドロキシェチル>−p−アミノフ
ェノール、N−(4−ヒドロキシフエニル)グリシン、
2−メチル−p−アミノフェノール、p−ペンジルアミ
ノフェノール等があるが、なかでもN−メチル〜p−ア
ミノフェノールが好ましい。
現像主薬は通常0.05モル#−0.8モル/7!の量
で用いられるのが好ましい。またジヒドロキシベンゼン
類と1−フェニル−3−ピラゾリドン類又はp.アミノ
・フェノール類との組合せを用いる場合には前者を0.
05モル/2−0.5モル/l後者を0.06モル/l
以下の量で用いるのが好ましい。
で用いられるのが好ましい。またジヒドロキシベンゼン
類と1−フェニル−3−ピラゾリドン類又はp.アミノ
・フェノール類との組合せを用いる場合には前者を0.
05モル/2−0.5モル/l後者を0.06モル/l
以下の量で用いるのが好ましい。
本発明に用いる亜硫酸塩の保恒剤としては亜硫酸ナトリ
ウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫酸アンモ
ニウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸カリウム、
ホルムアルデヒド重亜硫酸ナトリウムなどがある。亜硫
酸塩はo゛.4モル/7!以上特に0.5モル/l以上
が好ましい。また上限は2.5モル/lまでとするのが
好ましい。
ウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫酸アンモ
ニウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸カリウム、
ホルムアルデヒド重亜硫酸ナトリウムなどがある。亜硫
酸塩はo゛.4モル/7!以上特に0.5モル/l以上
が好ましい。また上限は2.5モル/lまでとするのが
好ましい。
pHの設定のために用いるアルカリ剤には水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム
、第三リン酸ナトリウム、第三リン酸カリウムの如きp
H調節剤や緩衝剤を含む。現像液のpHは10.5〜1
2.3の間に設定される。
ウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム
、第三リン酸ナトリウム、第三リン酸カリウムの如きp
H調節剤や緩衝剤を含む。現像液のpHは10.5〜1
2.3の間に設定される。
上記成分以外に用いられる添加剤としてはホウ酸、ホウ
砂などの化合物、臭化ナトリウム、臭化カリウム、沃化
カリウムの如き現像抑制剤;エチレングリコール、ジエ
チレングリコール、トリエチレングリコール、ジメチル
ホルムアミド、メチルセロソルブ、ヘキシレングリコー
ル、エタノール、メタノールの如き有機溶剤;1−フエ
ニル5−メルカプトテトラゾール、5−ニトロインダゾ
ール等のインダゾール系化合物、5−メチルベンットリ
アゾール等のペンットリアゾール系化合物などのカブリ
防止剤又は黒ポツ(black pepper)防止剤
:を含んでもよく、更に必要に応じて色調剤、界面活性
剤、消泡剤、硬水軟化剤、硬膜剤、特開昭56−106
244号記載のアミノ化合物などを含んでもよい。
砂などの化合物、臭化ナトリウム、臭化カリウム、沃化
カリウムの如き現像抑制剤;エチレングリコール、ジエ
チレングリコール、トリエチレングリコール、ジメチル
ホルムアミド、メチルセロソルブ、ヘキシレングリコー
ル、エタノール、メタノールの如き有機溶剤;1−フエ
ニル5−メルカプトテトラゾール、5−ニトロインダゾ
ール等のインダゾール系化合物、5−メチルベンットリ
アゾール等のペンットリアゾール系化合物などのカブリ
防止剤又は黒ポツ(black pepper)防止剤
:を含んでもよく、更に必要に応じて色調剤、界面活性
剤、消泡剤、硬水軟化剤、硬膜剤、特開昭56−106
244号記載のアミノ化合物などを含んでもよい。
本発明の現像液には銀汚れ防止剤として特開昭56−2
4,347号に記載の化合物を用いることができる。現
像液中に添加する溶解助剤として特願昭60−109.
,743号に記載の化合物を用いることができる。さら
に現像液に用いるpH緩衝剤として特開昭60−93,
433号に記載の化合物あるいは特願昭61−2870
8号に記載の化合物を用いることができる。
4,347号に記載の化合物を用いることができる。現
像液中に添加する溶解助剤として特願昭60−109.
,743号に記載の化合物を用いることができる。さら
に現像液に用いるpH緩衝剤として特開昭60−93,
433号に記載の化合物あるいは特願昭61−2870
8号に記載の化合物を用いることができる。
定着剤としては一般に用いられる組成のものを用いるこ
とができる。定着剤としてはチオ硫酸塩、チオシアン酸
塩のほか、定着剤としての効果の知られている有機硫黄
化合物を用いることができる。
とができる。定着剤としてはチオ硫酸塩、チオシアン酸
塩のほか、定着剤としての効果の知られている有機硫黄
化合物を用いることができる。
定着液には硬膜剤として水溶性アルミニウム(例えば硫
酸アルミニウム、明バンなど)を含んでもよい。ここで
水溶性アルミニウム塩の量としては通常0.4〜2.0
g−Ajl!/fiである。さらに三価の鉄化合物を酸
化剤としてエチレンジアミン4酢酸との錯体として用い
ることもできる。
酸アルミニウム、明バンなど)を含んでもよい。ここで
水溶性アルミニウム塩の量としては通常0.4〜2.0
g−Ajl!/fiである。さらに三価の鉄化合物を酸
化剤としてエチレンジアミン4酢酸との錯体として用い
ることもできる。
現像処理温度は普通18℃から50℃の間で選ばれるが
より好ましくは25℃から43℃である。
より好ましくは25℃から43℃である。
以下実施例により、本発明を詳しく説明する。
なお実施例に於では下記処方の現像液を用いた。
現像液
ハイドロキノン 50.0gN−メ
チルーp−アミノフエノ ール l/2硫酸塩 0.3g水酸化ナト
リウム 18.0g5−スルホサリチル
酸 55.0g亜硫酸カリウム
1)0.0gエチレンジアミン四酢酸二ナト リウム塩 1.0g2−メル
カプト・ベンツイミダゾ ールー5−スルホン酸 0.3g臭化カリウ
ム 10.0g5−メチルベンゾ
トリアゾール 0.68n−ブチルジエタノールア
ミン 15.0g1・ルエンスルホン酸ナトリウム
8.0g水を加えて
1l(水酸化カリウムを加えてp}I=1).6に合わ
せる。)(実施例1) 以下の方法で乳剤A−Cを調製した。
チルーp−アミノフエノ ール l/2硫酸塩 0.3g水酸化ナト
リウム 18.0g5−スルホサリチル
酸 55.0g亜硫酸カリウム
1)0.0gエチレンジアミン四酢酸二ナト リウム塩 1.0g2−メル
カプト・ベンツイミダゾ ールー5−スルホン酸 0.3g臭化カリウ
ム 10.0g5−メチルベンゾ
トリアゾール 0.68n−ブチルジエタノールア
ミン 15.0g1・ルエンスルホン酸ナトリウム
8.0g水を加えて
1l(水酸化カリウムを加えてp}I=1).6に合わ
せる。)(実施例1) 以下の方法で乳剤A−Cを調製した。
(乳剤A:本発明)
35℃に保ったゼラチン水溶液に硝酸銀水溶液と1×1
0−’モルの(N H 4)3R h C j! bを
含む塩化ナトリウム水溶液を同時に10分間で添加し、
その間の電位を2 0 0mVにコントロールすること
により単分散で平均粒子サイズ0.10μの塩化銀立方
体粒子を調製した。常法により可溶性塩類を除去したの
ち、安定剤として6−メチル−4ヒドロキシ−1.3.
3a,7−テトラアザインデンおよびゼラチンを加えた
。(未後熟乳剤)(乳剤B:本発明) 35℃に保ったゼラチン水溶液に硝酸銀水溶液と1×1
0−’モルの( N H a) a R h C 1
aを含む塩化ナトリウム水溶液を同時に10分間で添加
し、その間の電位を4 0 0mVにコントロールする
ことにより単分散で平均粒子サイズ0.08μの塩化銀
立方体粒子を調製した。常法により可溶性塩類を除去し
たのち、安定剤として6−メチル−4ヒドロキシ−1.
3.3a,7−テトラアザインデンおよびゼラチンを加
えた。(未後熟乳剤)(乳剤C:比 較) 40℃に保ったゼラチン水溶液に硝酸銀水溶液と1×1
0−’モルの(N H4)3 R h C 7!bを含
む塩化ナトリウム水溶液を同時に20分間で添加し、そ
の間の電位を200mVにコントロールすることにより
単分散で平均粒子サイズ0.15μの塩化銀立方体粒子
を調製した。常法により可溶性塩類を除去したのち、安
定剤として6−メチル−4ヒドロキシ−1.3.3a,
7−テトラアザインデンおよびゼラチンを加えた。(未
後熟乳剤)これらの乳剤に表1に示したように本発明の
一般式(II)の化合物および一般式(I)のヒドラジ
ン化合物を添加したのち次の造核促進剤■を5Orrg
/rd、ヒドラジン化合物(I−5)を1×10−3モ
ル/モルAg、染料■30+ng/rrr■ ボリエチルアクリレートラテックスを固形分で対ゼラチ
ン3Qwt%添加し、硬膜剤としてl,3−ジビニルー
スルホニル−2−プロパノールを加え、ポリエステル支
持体上に3.8g/rdの銀量になるように塗布した。
0−’モルの(N H 4)3R h C j! bを
含む塩化ナトリウム水溶液を同時に10分間で添加し、
その間の電位を2 0 0mVにコントロールすること
により単分散で平均粒子サイズ0.10μの塩化銀立方
体粒子を調製した。常法により可溶性塩類を除去したの
ち、安定剤として6−メチル−4ヒドロキシ−1.3.
3a,7−テトラアザインデンおよびゼラチンを加えた
。(未後熟乳剤)(乳剤B:本発明) 35℃に保ったゼラチン水溶液に硝酸銀水溶液と1×1
0−’モルの( N H a) a R h C 1
aを含む塩化ナトリウム水溶液を同時に10分間で添加
し、その間の電位を4 0 0mVにコントロールする
ことにより単分散で平均粒子サイズ0.08μの塩化銀
立方体粒子を調製した。常法により可溶性塩類を除去し
たのち、安定剤として6−メチル−4ヒドロキシ−1.
3.3a,7−テトラアザインデンおよびゼラチンを加
えた。(未後熟乳剤)(乳剤C:比 較) 40℃に保ったゼラチン水溶液に硝酸銀水溶液と1×1
0−’モルの(N H4)3 R h C 7!bを含
む塩化ナトリウム水溶液を同時に20分間で添加し、そ
の間の電位を200mVにコントロールすることにより
単分散で平均粒子サイズ0.15μの塩化銀立方体粒子
を調製した。常法により可溶性塩類を除去したのち、安
定剤として6−メチル−4ヒドロキシ−1.3.3a,
7−テトラアザインデンおよびゼラチンを加えた。(未
後熟乳剤)これらの乳剤に表1に示したように本発明の
一般式(II)の化合物および一般式(I)のヒドラジ
ン化合物を添加したのち次の造核促進剤■を5Orrg
/rd、ヒドラジン化合物(I−5)を1×10−3モ
ル/モルAg、染料■30+ng/rrr■ ボリエチルアクリレートラテックスを固形分で対ゼラチ
ン3Qwt%添加し、硬膜剤としてl,3−ジビニルー
スルホニル−2−プロパノールを加え、ポリエステル支
持体上に3.8g/rdの銀量になるように塗布した。
ゼラチンは1.8g/ボであった。
この上に保護層として、ゼラチン1.5g/n?、粒径
3.0μのポリメチルメタクリレ−150■/ m’、
ハイドロキノン50■/I′rr、チオクト酸6■/M
、塗布剤としてドデシルベンゼンスルフオン酸ナトリウ
ム、下記構造弐〇、■で表わされる界面活性剤および構
造式■で表わされるUV光を吸収する染料を75■/n
l添加した。
3.0μのポリメチルメタクリレ−150■/ m’、
ハイドロキノン50■/I′rr、チオクト酸6■/M
、塗布剤としてドデシルベンゼンスルフオン酸ナトリウ
ム、下記構造弐〇、■で表わされる界面活性剤および構
造式■で表わされるUV光を吸収する染料を75■/n
l添加した。
このようにして得られた試料を光楔を通して大日本スク
リーン社製明室プリンターP−6 0 7で露光し、3
8℃で20秒間現像処理し、定着、水洗、乾燥した。(
自動現像機FG−660F)′j ■ co FI?SO2 NCHz COOK
C.H. 第1表より明らかなように本発明の試料2〜4、6〜1
0、12〜13はDmaxが高く、返し特性も良好であ
る。
リーン社製明室プリンターP−6 0 7で露光し、3
8℃で20秒間現像処理し、定着、水洗、乾燥した。(
自動現像機FG−660F)′j ■ co FI?SO2 NCHz COOK
C.H. 第1表より明らかなように本発明の試料2〜4、6〜1
0、12〜13はDmaxが高く、返し特性も良好であ
る。
C H 3
(実施例2)
以下の方法で乳剤D,Eを調製した。
(乳剤D;本発明)
35℃に保ったゼラチン水溶液に硝酸銀水溶液と1×1
0−5モルの(NH4)3R h C 7!6を含む塩
化ナトリウム水溶液を同時に10分間で添加し、その間
の電位を200mVにコントロールすることにより単分
散で平均粒子サイズ0.10μの塩化銀立方体粒子を調
製した。常法により可溶性塩類を除去したのち、安定剤
として6−メチル−4ヒドロキシ−1.3.3a.7−
テトラアザインデンおよびゼラチンを加えた。(未後熟
乳剤)(乳剤E;比 較) 40℃に保ったゼラチン水溶液に硝酸銀水溶液と1×1
0−5モルの(N H *) 3R h C j! b
を含む塩化ナトリウム水溶液を同時に20分間で添加し
、その間の電位を2 0 0mVにコントロールするこ
とにより単分散で平均粒子サイズ0.15μの塩化銀立
方体粒子を調製した。常法により可溶性塩類を除去した
のち、安定剤として6−メチルー4ヒドロキシ−1.3
.3a.7−テトラアザインデンおよびゼラチンを加え
た。(未後熟乳剤)この乳剤に表2に示したように本発
明の一般式(n)の化合物および一般式(1)のヒドラ
ジン化合物を添加したのち次の造核促進剤■を50■/
督、ヒドラジン化合物I−5)を2.X10−’モル/
モルAg,I−30)5xlO−’モル/モルAg、染
料■50■/イ ■ ポリエチルアクリレートラテックスを固形分で対ゼラチ
ン3 Qwt%添加し、硬膜剤として1.3−ジビニル
ースルホニル−2−プロバノールを加え、ポリエステル
支持体上に3.8g/rdの銀量になるように塗布した
。ゼラチンは1.8g/dであった。
0−5モルの(NH4)3R h C 7!6を含む塩
化ナトリウム水溶液を同時に10分間で添加し、その間
の電位を200mVにコントロールすることにより単分
散で平均粒子サイズ0.10μの塩化銀立方体粒子を調
製した。常法により可溶性塩類を除去したのち、安定剤
として6−メチル−4ヒドロキシ−1.3.3a.7−
テトラアザインデンおよびゼラチンを加えた。(未後熟
乳剤)(乳剤E;比 較) 40℃に保ったゼラチン水溶液に硝酸銀水溶液と1×1
0−5モルの(N H *) 3R h C j! b
を含む塩化ナトリウム水溶液を同時に20分間で添加し
、その間の電位を2 0 0mVにコントロールするこ
とにより単分散で平均粒子サイズ0.15μの塩化銀立
方体粒子を調製した。常法により可溶性塩類を除去した
のち、安定剤として6−メチルー4ヒドロキシ−1.3
.3a.7−テトラアザインデンおよびゼラチンを加え
た。(未後熟乳剤)この乳剤に表2に示したように本発
明の一般式(n)の化合物および一般式(1)のヒドラ
ジン化合物を添加したのち次の造核促進剤■を50■/
督、ヒドラジン化合物I−5)を2.X10−’モル/
モルAg,I−30)5xlO−’モル/モルAg、染
料■50■/イ ■ ポリエチルアクリレートラテックスを固形分で対ゼラチ
ン3 Qwt%添加し、硬膜剤として1.3−ジビニル
ースルホニル−2−プロバノールを加え、ポリエステル
支持体上に3.8g/rdの銀量になるように塗布した
。ゼラチンは1.8g/dであった。
この上に保護層として、ゼラチン1.5g/%、粒径3
.0μのポリメチルメタクリレート50■/d、ハイド
ロキノン50■/n?、チオクト酸6■/ n{ ,
WJ 布剤としてドデシルベンゼンスルフオン酸ナトリ
ウム、下記構造式■で表わされる界面活性剤および構造
式■で表わされるUV光を吸収する染料を50■/ポ添
加した。
.0μのポリメチルメタクリレート50■/d、ハイド
ロキノン50■/n?、チオクト酸6■/ n{ ,
WJ 布剤としてドデシルベンゼンスルフオン酸ナトリ
ウム、下記構造式■で表わされる界面活性剤および構造
式■で表わされるUV光を吸収する染料を50■/ポ添
加した。
このようにして得られた試料を光楔を通して大日本スク
リーン社製明室プリンターP−607で露光し、38℃
で20秒間現像処理し、定着、水洗、乾燥した。(自動
現像機FC−660F)■ Cll F
+tS Ox N C H2 C O O KC3
H? ■ 第2表より明らかなように本発明の試料2〜13はD
maxが高く、返し特性も良好である。
リーン社製明室プリンターP−607で露光し、38℃
で20秒間現像処理し、定着、水洗、乾燥した。(自動
現像機FC−660F)■ Cll F
+tS Ox N C H2 C O O KC3
H? ■ 第2表より明らかなように本発明の試料2〜13はD
maxが高く、返し特性も良好である。
(写真性能評価方法)
+1) γは以下の様に定義する。
(2)抜き文字画質
抜文字画質5とは第1図の如き原稿を用いて50%の網
点面積が返し用感光材料上に50%の網点面積となる様
な適正露光した時30μm巾の文字が再現される画質を
言い非常に良好な抜文字画質である。一方抜文字画質1
とは同様な適正露光を与えた時150μm中以上の文字
しか再現することのできない画質を言い良くない抜文字
品質であり、5と1の間に官能評価で4〜2のランクを
設けた。3以上が実用し得るレベルである。
点面積が返し用感光材料上に50%の網点面積となる様
な適正露光した時30μm巾の文字が再現される画質を
言い非常に良好な抜文字画質である。一方抜文字画質1
とは同様な適正露光を与えた時150μm中以上の文字
しか再現することのできない画質を言い良くない抜文字
品質であり、5と1の間に官能評価で4〜2のランクを
設けた。3以上が実用し得るレベルである。
(3)貼り込み跡
第1図において貼り込み用ベース(ハ)上に網フイルム
(二)を載せて、更に網フイルムの周辺を透明な製版用
スコッチテープで固定しておき、露光現像処理した後こ
のテープ跡(貼り込み跡)がないときを15」、跡が目
立ち最も悪いレベルを「1」として5段階評価した。
(二)を載せて、更に網フイルムの周辺を透明な製版用
スコッチテープで固定しておき、露光現像処理した後こ
のテープ跡(貼り込み跡)がないときを15」、跡が目
立ち最も悪いレベルを「1」として5段階評価した。
第1図は実施例におレノる評価方法を模式的に示すもの
であり、(イ)〜(ホ)は以下のものを表わす。 (イ)透明もしくは半透明の貼りこめベース(口)線画
原稿(なお黒色部分は線画を示す)(ハ)透明もしくは
半透明の貼りこみベース(二)網点原稿(なお黒色部分
は網点を示す)(ホ)返し用感光材料 (なお、斜線部は感光層を示す) 特許出願人 富士写真フイルム株式会社手続補正書 4.補正の対象 明細書の の欄 「発明の詳細な説明」 1. 2.
であり、(イ)〜(ホ)は以下のものを表わす。 (イ)透明もしくは半透明の貼りこめベース(口)線画
原稿(なお黒色部分は線画を示す)(ハ)透明もしくは
半透明の貼りこみベース(二)網点原稿(なお黒色部分
は網点を示す)(ホ)返し用感光材料 (なお、斜線部は感光層を示す) 特許出願人 富士写真フイルム株式会社手続補正書 4.補正の対象 明細書の の欄 「発明の詳細な説明」 1. 2.
Claims (4)
- (1)支持体上に少なくとも1層の感光性ハロゲン化銀
乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光材料において、前
記乳剤層が銀1モルあたり少なくとも1×10^−^6
モルのロジウム塩を含み、塩化銀含有率が少なくとも9
0モル%および粒子サイズが0.12μ以下のハロゲン
化銀粒子からなり、該乳剤層又は、その他の親水性コロ
イド層にヒドラジン誘導体および酸化されることにより
、現像抑制剤を放出するレドックス化合物を含有するこ
とを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。 - (2)レドックス化合物がレドックス基として、ハイド
ロキノン類、カテコール類、ナフトハイドロキノン類、
アミノフェノール類、ピラゾリドン類、ヒドラジン類、
ヒドロキシルアミン類、レダクトン類を有することを特
徴とする特許請求の範囲第(1)項記載のハロゲン化銀
写真感光材料。 - (3)レドックス化合物がレドックス基としてヒドラジ
ン類を有することを特徴とする特許請求の範囲第(1)
項記載のハロゲン化銀写真感光材料。 - (4)レドックス化合物が下記一般式( I )で表わさ
れることを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載の
ハロゲン化銀写真感光材料。 一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、A_1、A_2はともに水素原子又は一方が水
素原子で他方はスルフィン酸残基もしくは▲数式、化学
式、表等があります▼(式中、R_0はアルキル基、ア
ルケニル基、アリール基、アルコキシ基またはアリール
オキシ基を表わし、lは1または2を表わす。)を表わ
す。 Timeは二価の連結基を表わし、tは0または1を表
わす。 PUGは現像抑制剤を表わす。Vはカルボニル基、▲数
式、化学式、表等があります▼、スルホニル基、スルホ
キシ基、▲数式、化学式、表等があります▼(R_1は
アルコキシ基またはアリールオキシ基を表わす。)、イ
ミノメチレン基、またはチオカルボニル基を表わす。R
は脂肪族基、芳香族基またはヘテロ環基を表わす。)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11309489A JPH02293736A (ja) | 1989-05-02 | 1989-05-02 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11309489A JPH02293736A (ja) | 1989-05-02 | 1989-05-02 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02293736A true JPH02293736A (ja) | 1990-12-04 |
Family
ID=14603331
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11309489A Pending JPH02293736A (ja) | 1989-05-02 | 1989-05-02 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02293736A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04264545A (ja) * | 1991-02-20 | 1992-09-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
| JPH04265970A (ja) * | 1991-02-21 | 1992-09-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
| JPH04278939A (ja) * | 1991-01-17 | 1992-10-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
| JPH04316038A (ja) * | 1991-04-15 | 1992-11-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
| JPH0511384A (ja) * | 1991-07-05 | 1993-01-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
| EP0580041A2 (en) | 1992-07-10 | 1994-01-26 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method of processing silver halide photographic material and composition for processing |
| EP0589460A1 (en) | 1992-09-24 | 1994-03-30 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for processing a black & white silver halide light-sensitive material |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6230243A (ja) * | 1985-04-18 | 1987-02-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料及びそれを用いた超硬調ネガ画像形成方法 |
| JPS6325653A (ja) * | 1986-07-18 | 1988-02-03 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
| JPS63271347A (ja) * | 1987-04-30 | 1988-11-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料を用いた画像形成法 |
| JPS63296032A (ja) * | 1987-05-28 | 1988-12-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
| JPS6472139A (en) * | 1987-09-12 | 1989-03-17 | Konishiroku Photo Ind | Silver halide photographic sensitive material which is improved in retouch work |
-
1989
- 1989-05-02 JP JP11309489A patent/JPH02293736A/ja active Pending
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6230243A (ja) * | 1985-04-18 | 1987-02-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料及びそれを用いた超硬調ネガ画像形成方法 |
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| JPS63296032A (ja) * | 1987-05-28 | 1988-12-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
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| JPH04265970A (ja) * | 1991-02-21 | 1992-09-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
| JPH04316038A (ja) * | 1991-04-15 | 1992-11-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
| JPH0511384A (ja) * | 1991-07-05 | 1993-01-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
| EP0580041A2 (en) | 1992-07-10 | 1994-01-26 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method of processing silver halide photographic material and composition for processing |
| EP0589460A1 (en) | 1992-09-24 | 1994-03-30 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for processing a black & white silver halide light-sensitive material |
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