JPH03104208A - 荷電ビーム描画装置 - Google Patents
荷電ビーム描画装置Info
- Publication number
- JPH03104208A JPH03104208A JP1240765A JP24076589A JPH03104208A JP H03104208 A JPH03104208 A JP H03104208A JP 1240765 A JP1240765 A JP 1240765A JP 24076589 A JP24076589 A JP 24076589A JP H03104208 A JPH03104208 A JP H03104208A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pattern
- mask
- data
- lithography
- special pattern
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、マスクパターンを形成する荷電ビーム描画装
置に関する． （従来の技術） 第３図は従来のフォトマスク乾板の平面図であって、ｌ
１はフォトマスク乾板、ｌ２はフォトマスク乾板１１の
上に描画されたマスクパターン，１３はマスクパターン
ｌ２を識別できる名前（この例では１２３４）であるマ
スク識別パターンであり、マスク識別パターン１３はフ
ォトマスク乾板１１の上にマスクパターン１２の描画と
同時に形成される。
置に関する． （従来の技術） 第３図は従来のフォトマスク乾板の平面図であって、ｌ
１はフォトマスク乾板、ｌ２はフォトマスク乾板１１の
上に描画されたマスクパターン，１３はマスクパターン
ｌ２を識別できる名前（この例では１２３４）であるマ
スク識別パターンであり、マスク識別パターン１３はフ
ォトマスク乾板１１の上にマスクパターン１２の描画と
同時に形成される。
第４図は従来の描画装置を示すブロック図であって、１
４はマスク識別名、１５はパターン変換部、ｌ６はマス
ク識別パターンの描画データである。
４はマスク識別名、１５はパターン変換部、ｌ６はマス
ク識別パターンの描画データである。
同図において、マスク識別パターンの描画データｌ６は
，マスク識別名１４をパターン変換部１５を通すことに
よって形成され、マスク識別パターンの描画データｌ６
に基づき図示しない描画手段によって前記フォトマスク
乾板１１の上にマスク識別パターン１３を描画する． そしてマスク取扱者は、前記マスク識別パターン１３を
目で読むことにより、使用するマスクパターン１２の識
別を行う。
，マスク識別名１４をパターン変換部１５を通すことに
よって形成され、マスク識別パターンの描画データｌ６
に基づき図示しない描画手段によって前記フォトマスク
乾板１１の上にマスク識別パターン１３を描画する． そしてマスク取扱者は、前記マスク識別パターン１３を
目で読むことにより、使用するマスクパターン１２の識
別を行う。
ところで、近年，縮小投影装置によるパターン形或が主
となってきた．このパターン形或方法では、フォトマス
ク乾板１１を専用ケースに収納したままセットするため
、フォトマスク乾板ｌ１の上のマスク識別パターン１３
が目視できず，マスクパターン１２の識別が困難になっ
てきている．このため第５図に示す他のフォトマスク乾
板の平面図のように、フォトマスク乾板１７の上に、光
学素子（図示せず）によって読取り可能なマスク識別パ
ターン（例えばバーコードパターン）１８を描画形威し
，専用ケースからフォトマスク乾板１１を取り出し、マ
スク識別パターン１８の識別を光学素子で自動的に行う
ようになった。
となってきた．このパターン形或方法では、フォトマス
ク乾板１１を専用ケースに収納したままセットするため
、フォトマスク乾板ｌ１の上のマスク識別パターン１３
が目視できず，マスクパターン１２の識別が困難になっ
てきている．このため第５図に示す他のフォトマスク乾
板の平面図のように、フォトマスク乾板１７の上に、光
学素子（図示せず）によって読取り可能なマスク識別パ
ターン（例えばバーコードパターン）１８を描画形威し
，専用ケースからフォトマスク乾板１１を取り出し、マ
スク識別パターン１８の識別を光学素子で自動的に行う
ようになった。
（発明が解決しようとする課題）
上記の従来技術において、光学素子による識別可能なマ
スク識別パターン１８は，現在，描画装置で描画する際
に所定のパターンデータとして、その都度設計し、描画
データへの変換を行っている．従って、半導体素子の設
計データを変換する毎に，前記マスク識別パターン１８
も対応して設計し直す必要があり，作業も煩雑であった
。
スク識別パターン１８は，現在，描画装置で描画する際
に所定のパターンデータとして、その都度設計し、描画
データへの変換を行っている．従って、半導体素子の設
計データを変換する毎に，前記マスク識別パターン１８
も対応して設計し直す必要があり，作業も煩雑であった
。
本発明の目的は、符号化特殊パターンを容易かつ確実に
形或できる荷電ビーム描画装置を提供することにある。
形或できる荷電ビーム描画装置を提供することにある。
（課題を解決するための手段）
上記の目的を達或するため、本発明は、マスクパターン
のデータ発生部と光学素子により識別可能な符号化特殊
パターンのデータ発生部とを有し，発生データに基づい
て描画作動を行う描画手段を備えたことを特徴とする。
のデータ発生部と光学素子により識別可能な符号化特殊
パターンのデータ発生部とを有し，発生データに基づい
て描画作動を行う描画手段を備えたことを特徴とする。
（作 用）
マスクパターンと光学素子により識別可能な符号化特殊
パターンとが描画手段で同時に描画形成される． （実施例） 以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
パターンとが描画手段で同時に描画形成される． （実施例） 以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
第１図は本発明による荷電ビーム描画装置を示すブロッ
ク図であって、１は操作部、２はマスクパターンデータ
発生部，３は符号化特殊パターンデータ発生部，４はマ
スクパターンデータ発生部２または符号化特殊パターン
データ発生部３からの発生データを受けて作動する駆動
部、５は駆動部４で駆動される描画手段である。
ク図であって、１は操作部、２はマスクパターンデータ
発生部，３は符号化特殊パターンデータ発生部，４はマ
スクパターンデータ発生部２または符号化特殊パターン
データ発生部３からの発生データを受けて作動する駆動
部、５は駆動部４で駆動される描画手段である。
第２図は符号化特殊パターンデータ発生部３のブロック
図であって、６は符号化特殊パターンデータ発生部３に
設けられた識別パターンデータフアイル、７は指定識別
文字、８は光学素子により識別可能な符号化特殊パター
ンの描画データである。
図であって、６は符号化特殊パターンデータ発生部３に
設けられた識別パターンデータフアイル、７は指定識別
文字、８は光学素子により識別可能な符号化特殊パター
ンの描画データである。
第１図，第２図において，識別パターンデータファイル
６に、予め指定識別文字７に対応した光学素子で識別可
能な符号化した特殊パターン（例えばバーコードパター
ン）用の符号化特殊パターンの描画データ８を入れてお
く， マスクパターン描画時には、操作部１を介して指定識別
文字７を指定することにより、識別パターンデータファ
イル６から対応する符号化特殊パターンの描画データ８
が発生され、第５図に示されたように、指定されたマス
クパターンｌ２と同時にマスク識別パターンである符号
化特殊パターンｌ８が，描画手段５によってフォトマス
ク乾板１７の上に描画形或される。
６に、予め指定識別文字７に対応した光学素子で識別可
能な符号化した特殊パターン（例えばバーコードパター
ン）用の符号化特殊パターンの描画データ８を入れてお
く， マスクパターン描画時には、操作部１を介して指定識別
文字７を指定することにより、識別パターンデータファ
イル６から対応する符号化特殊パターンの描画データ８
が発生され、第５図に示されたように、指定されたマス
クパターンｌ２と同時にマスク識別パターンである符号
化特殊パターンｌ８が，描画手段５によってフォトマス
ク乾板１７の上に描画形或される。
（発明の効果）
本発明によれば、マスクパターンとマスクパターンを識
別するための符号化特殊パターンとが同時に描画形或で
きるので，光学素子により識別可能な符号化特殊パター
ンが容易かつ確実に形成される荷電ビーム描画装置を提
供できる。
別するための符号化特殊パターンとが同時に描画形或で
きるので，光学素子により識別可能な符号化特殊パター
ンが容易かつ確実に形成される荷電ビーム描画装置を提
供できる。
第１図は本発明による荷電ビーム描画装置を示すブロッ
ク図、第２図は符号化特殊パターンデータ発生部のブロ
ック図、第３図は従来のフォトマスク乾板の平面図、第
４図は従来の描画装置を示すブロック図、第５図は従来
の他のフォトマスク乾板の平面図である． １ ・・・操作部、 ２・・・マスクパターンデータ発
生部、 ３ ・・・符号化特殊パターンデータ発生部、
４・・・駆動部、 ５・・・描画手段、 ６・・・識
別パターンデータファイル、 ７・・・指定識別文字、
８ ・・・光学素子により識別可能な符号化特殊パタ
ーンの描画データ。
ク図、第２図は符号化特殊パターンデータ発生部のブロ
ック図、第３図は従来のフォトマスク乾板の平面図、第
４図は従来の描画装置を示すブロック図、第５図は従来
の他のフォトマスク乾板の平面図である． １ ・・・操作部、 ２・・・マスクパターンデータ発
生部、 ３ ・・・符号化特殊パターンデータ発生部、
４・・・駆動部、 ５・・・描画手段、 ６・・・識
別パターンデータファイル、 ７・・・指定識別文字、
８ ・・・光学素子により識別可能な符号化特殊パタ
ーンの描画データ。
Claims (1)
- マスクパターンのデータ発生部と光学素子により識別可
能な符号化特殊パターンのデータ発生部とを有し、発生
データに基づいて描画作動を行う描画手段を備えたこと
を特徴とする荷電ビーム描画装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1240765A JPH03104208A (ja) | 1989-09-19 | 1989-09-19 | 荷電ビーム描画装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1240765A JPH03104208A (ja) | 1989-09-19 | 1989-09-19 | 荷電ビーム描画装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03104208A true JPH03104208A (ja) | 1991-05-01 |
Family
ID=17064381
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1240765A Pending JPH03104208A (ja) | 1989-09-19 | 1989-09-19 | 荷電ビーム描画装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03104208A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6240674B1 (en) | 1996-03-01 | 2001-06-05 | Honda Giken Kogyo Kabushiki Kaisha | Seedling raising sheet, method of manufacturing same, seedling raising method, culturing method, and transplanter |
| JP2013077703A (ja) * | 2011-09-30 | 2013-04-25 | Nuflare Technology Inc | 荷電粒子ビーム描画方法 |
-
1989
- 1989-09-19 JP JP1240765A patent/JPH03104208A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6240674B1 (en) | 1996-03-01 | 2001-06-05 | Honda Giken Kogyo Kabushiki Kaisha | Seedling raising sheet, method of manufacturing same, seedling raising method, culturing method, and transplanter |
| JP2013077703A (ja) * | 2011-09-30 | 2013-04-25 | Nuflare Technology Inc | 荷電粒子ビーム描画方法 |
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