JPH0321842U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0321842U JPH0321842U JP8219489U JP8219489U JPH0321842U JP H0321842 U JPH0321842 U JP H0321842U JP 8219489 U JP8219489 U JP 8219489U JP 8219489 U JP8219489 U JP 8219489U JP H0321842 U JPH0321842 U JP H0321842U
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chip
- wafer
- chips
- projection exposure
- alignment
- Prior art date
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- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims 1
Description
第１図は本案の実施例に用いた縮小投影露光装
置の全体図、第２図はこの処理を行うための概略
フローチヤート図である。 １…Ｘ−Ｙステージ、２…縮小レンズ、３…レ
テイクル、４…ウエハ、５…パターン検出器、６
…データ処理装置。
置の全体図、第２図はこの処理を行うための概略
フローチヤート図である。 １…Ｘ−Ｙステージ、２…縮小レンズ、３…レ
テイクル、４…ウエハ、５…パターン検出器、６
…データ処理装置。
Claims (1)
- 縮小レンズとパターン検出光学系と位置計測装
置（レーザ測長系）、パターン検出データの処理
装置より成る縮小投影露光装置において、回路パ
ターンが描画されているレテイクルと、ウエハ上
のチツプを交互にパターン検出を行い重ね合わせ
露光するチツプアライメント方式で、チツプアラ
イメントが不可能なチツプに対しても疑似的にチ
ツプアライメントを行うことによつて、ウエハ上
の全てのチツプに対して高精度なアライメントを
行うことを特徴とする縮小投影露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8219489U JPH0321842U (ja) | 1989-07-14 | 1989-07-14 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8219489U JPH0321842U (ja) | 1989-07-14 | 1989-07-14 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0321842U true JPH0321842U (ja) | 1991-03-05 |
Family
ID=31628786
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8219489U Pending JPH0321842U (ja) | 1989-07-14 | 1989-07-14 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0321842U (ja) |
-
1989
- 1989-07-14 JP JP8219489U patent/JPH0321842U/ja active Pending
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