JPH03105165A - 極低温冷凍機 - Google Patents
極低温冷凍機Info
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- JPH03105165A JPH03105165A JP24186389A JP24186389A JPH03105165A JP H03105165 A JPH03105165 A JP H03105165A JP 24186389 A JP24186389 A JP 24186389A JP 24186389 A JP24186389 A JP 24186389A JP H03105165 A JPH03105165 A JP H03105165A
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- JP
- Japan
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- displacer
- cylinder
- seal ring
- stage
- circumferential surface
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
(産業上の利用分野)
本発明は、冷凍機に係り、特にギホード・マクマホン形
の極低温冷凍機に関する。
の極低温冷凍機に関する。
(従来の技術)
極低温用の冷凍機には種々のタイプがある。これらの中
にギホード・マクマホン形の冷凍機がある。この冷凍機
は、通常、第6図に示すように構成されている。
にギホード・マクマホン形の冷凍機がある。この冷凍機
は、通常、第6図に示すように構成されている。
すなわち、この冷凍機は大きく別けて、コールドヘッド
lと、冷媒ガス導排出系2とで構威されている。コール
ドヘクド1は、閉じられたシリンダ11と、このシリン
ダ11内に往復動自在に収容されたディスプ・レーサ1
2と、このディスプレー?12に往復動に必要な動力を
与えるモータ13とで#l或されている。
lと、冷媒ガス導排出系2とで構威されている。コール
ドヘクド1は、閉じられたシリンダ11と、このシリン
ダ11内に往復動自在に収容されたディスプ・レーサ1
2と、このディスプレー?12に往復動に必要な動力を
与えるモータ13とで#l或されている。
シリンダ11は、大径の第1シリンダ14と、この第1
シリンダ14に同軸的に接続された小径の第2シリンダ
15とで構成されている。そして、第1シリンダ14と
第2シリンダ15との境界壁部分で冷却面としての1段
ステージ16を構成しlたシリンダ15の先端壁部分で
1段ステージ16よシ低温の2段ステージl7をW威し
ている。
シリンダ14に同軸的に接続された小径の第2シリンダ
15とで構成されている。そして、第1シリンダ14と
第2シリンダ15との境界壁部分で冷却面としての1段
ステージ16を構成しlたシリンダ15の先端壁部分で
1段ステージ16よシ低温の2段ステージl7をW威し
ている。
ディスプレーサ12は、第1シリンダ14内を往復動す
る第1ディスプレーサ18と、第2シリンダ15内を往
復動する第2ディスプレーサ19とで構成されている。
る第1ディスプレーサ18と、第2シリンダ15内を往
復動する第2ディスプレーサ19とで構成されている。
第1ディスプレーサ18と第2ディスプレーサ19とは
、連結部材20によって軸方向に連結されている。第1
ディスプレーサ18の内側には、軸方向に延びる流体通
路2lが形成されてレシ、この流体通路21には銅メク
シュ等で形成された蓄冷材22が収容されている。
、連結部材20によって軸方向に連結されている。第1
ディスプレーサ18の内側には、軸方向に延びる流体通
路2lが形成されてレシ、この流体通路21には銅メク
シュ等で形成された蓄冷材22が収容されている。
同様に、第2ディスプレーサ19の内側にも軸方向に延
びる流体通路23が形成されてシシ、この流体通路23
には鉛の球などで形成された蓄冷材24が収容されてい
る。第1ディスプレーサ18の外周面と第1シリンダ1
4の内周面との間および第2ディスプレーサl9の外周
面と第2シリンダ15の内周面との間には、それぞれシ
ール機構25.26が装着されている。
びる流体通路23が形成されてシシ、この流体通路23
には鉛の球などで形成された蓄冷材24が収容されてい
る。第1ディスプレーサ18の外周面と第1シリンダ1
4の内周面との間および第2ディスプレーサl9の外周
面と第2シリンダ15の内周面との間には、それぞれシ
ール機構25.26が装着されている。
シール機構25 .26は、たとえばシール機構26を
代表して示すと、第7図から第9図に示すように構成さ
れている。すなわち、第2ディスプレーサ19の外周面
に形威された環状溝27内に外周面が第2シリンダ15
の内周面に接触するように有端形のシールリング28を
装着するとともにシールリング28の内側にシールリン
グ28をシリンダ内面に押付けるための有端形のばねリ
ング29を装着したものとなっている。シールリング2
8は、通常、樹脂系の材料で形威されて>p、その両端
部には第10図に示すように両端部相互を半径方向に重
ね合わせる合い口部30が形成されている。
代表して示すと、第7図から第9図に示すように構成さ
れている。すなわち、第2ディスプレーサ19の外周面
に形威された環状溝27内に外周面が第2シリンダ15
の内周面に接触するように有端形のシールリング28を
装着するとともにシールリング28の内側にシールリン
グ28をシリンダ内面に押付けるための有端形のばねリ
ング29を装着したものとなっている。シールリング2
8は、通常、樹脂系の材料で形威されて>p、その両端
部には第10図に示すように両端部相互を半径方向に重
ね合わせる合い口部30が形成されている。
第1ディスプレーサ18の図中上端は、連結ロッド31
、スコクチョークあるいはクランク軸32を介してモー
タ130回転軸に連結されている。したがって、モータ
130回転軸が回転すると、この回転に同期してディス
プレーサ12が図中実線矢印33で示すように往復動す
る。
、スコクチョークあるいはクランク軸32を介してモー
タ130回転軸に連結されている。したがって、モータ
130回転軸が回転すると、この回転に同期してディス
プレーサ12が図中実線矢印33で示すように往復動す
る。
第1シリンダl4の側壁上部には冷媒ガスの導入口34
と排出口35とが設けてあう、これら導入口34と排出
口35は冷媒ガス導排出系2に接続されている。冷媒ガ
ス導排出系2は、シリンダ11を経由したヘリウムガス
循環系を構成するもので、排出口35を低圧弁36、圧
縮機37、高圧弁38を介して導入口34に接続したも
のとなっている。すなわち、この冷媒ガス導排出系2は
、低圧(約5 atm )のヘリウムガスを圧縮機37
で高圧(約1 8 atm )に圧縮してシリンダ11
内に送シ込むものである。そして、低圧弁36、高圧弁
38の開閉はディスプレーサ12の往復動との関連にか
いて後述する関係に制御される。
と排出口35とが設けてあう、これら導入口34と排出
口35は冷媒ガス導排出系2に接続されている。冷媒ガ
ス導排出系2は、シリンダ11を経由したヘリウムガス
循環系を構成するもので、排出口35を低圧弁36、圧
縮機37、高圧弁38を介して導入口34に接続したも
のとなっている。すなわち、この冷媒ガス導排出系2は
、低圧(約5 atm )のヘリウムガスを圧縮機37
で高圧(約1 8 atm )に圧縮してシリンダ11
内に送シ込むものである。そして、低圧弁36、高圧弁
38の開閉はディスプレーサ12の往復動との関連にか
いて後述する関係に制御される。
このように構成された冷凍機の動作を簡単に説明すると
以下の通うである。この冷凍機では寒冷の発生する部分
、つtb冷却面に供される部分は第1ステージ16と第
2ステージ17とである。
以下の通うである。この冷凍機では寒冷の発生する部分
、つtb冷却面に供される部分は第1ステージ16と第
2ステージ17とである。
これらは熱負荷のない場合にそれぞれ30K,8K程度
1で冷える。このため、4第1ディスプレーサ18の図
中上下端間には常温(300K)から30Kまでの温度
勾配がつき、また第2ディスプレーサ19の図中上下端
間には30Kから8Ktでの温度勾配がつく。ただし、
この温度は各段の熱負荷によって変化し、通常、1段ス
テージl6では30〜80K,2段ステージ17では8
〜20Kの間となる。
1で冷える。このため、4第1ディスプレーサ18の図
中上下端間には常温(300K)から30Kまでの温度
勾配がつき、また第2ディスプレーサ19の図中上下端
間には30Kから8Ktでの温度勾配がつく。ただし、
この温度は各段の熱負荷によって変化し、通常、1段ス
テージl6では30〜80K,2段ステージ17では8
〜20Kの間となる。
モータ13が回転を開始すると、ディスプレーサ12ぱ
下死点と上死点との間を往復動する。ディスプレーサ1
2が下死点にあるとき、高圧弁38が開いて高圧のヘリ
ウムガスがコールドへクド1内に流入する。次に、ディ
スプレーサ12が上死点へと移動する。前述の如く、第
1ディスプレーサ18の外周面と第1シリンダl4の内
周面との間トよび第2ディスプレーサ19の外周面と第
2シリンダ15の内周面との間にはそれぞれシール機構
25 .26が装着されている。このため、ディスプレ
ーサ12が上死点へと向かうと、高圧のヘリウムガスは
第1ディスプレーサ18に形成された流体通路21およ
び第2ディスプレーサ19に形成された流体通路23を
通って、第1ディスプレーサ18と第2ディスプレーサ
19との間に形成された1段膨脹室39および第2ディ
スプレーサ19と第2シリ/ダl5の先端壁との間に形
威された2段膨脹室40へと流れる。この流れに伴って
、高圧のヘリウムガスは蓄冷材22,24によって冷却
され、結局、1段膨脹室39に流れ込んだ高圧ヘリウム
ガスは30K程度に、捷た2段膨脹室40に流れ込んだ
高圧ヘリウムガスは8K程度に冷却される。ここで、高
圧弁38が閉じ、低圧弁36が開く。このように低圧弁
36が開くと、1段膨脹室39内および2段膨脹室40
内の高圧ヘリウムガスが膨脹して寒冷を発生する。この
寒冷によって第1ステージ16釦よび第2ステージ17
が冷却される。そして、ディスプレーサ12が再び下死
点へと移動し、これに伴って1段膨脹室39内かよび2
段膨脹室40内のヘリウムガスが排除される。膨脹した
ヘリウムガスは流体通路21 .23内を通る間に蓄冷
材22,24によって暖められ、常温となって排出され
る。
下死点と上死点との間を往復動する。ディスプレーサ1
2が下死点にあるとき、高圧弁38が開いて高圧のヘリ
ウムガスがコールドへクド1内に流入する。次に、ディ
スプレーサ12が上死点へと移動する。前述の如く、第
1ディスプレーサ18の外周面と第1シリンダl4の内
周面との間トよび第2ディスプレーサ19の外周面と第
2シリンダ15の内周面との間にはそれぞれシール機構
25 .26が装着されている。このため、ディスプレ
ーサ12が上死点へと向かうと、高圧のヘリウムガスは
第1ディスプレーサ18に形成された流体通路21およ
び第2ディスプレーサ19に形成された流体通路23を
通って、第1ディスプレーサ18と第2ディスプレーサ
19との間に形成された1段膨脹室39および第2ディ
スプレーサ19と第2シリ/ダl5の先端壁との間に形
威された2段膨脹室40へと流れる。この流れに伴って
、高圧のヘリウムガスは蓄冷材22,24によって冷却
され、結局、1段膨脹室39に流れ込んだ高圧ヘリウム
ガスは30K程度に、捷た2段膨脹室40に流れ込んだ
高圧ヘリウムガスは8K程度に冷却される。ここで、高
圧弁38が閉じ、低圧弁36が開く。このように低圧弁
36が開くと、1段膨脹室39内および2段膨脹室40
内の高圧ヘリウムガスが膨脹して寒冷を発生する。この
寒冷によって第1ステージ16釦よび第2ステージ17
が冷却される。そして、ディスプレーサ12が再び下死
点へと移動し、これに伴って1段膨脹室39内かよび2
段膨脹室40内のヘリウムガスが排除される。膨脹した
ヘリウムガスは流体通路21 .23内を通る間に蓄冷
材22,24によって暖められ、常温となって排出され
る。
以下、上述したサイクルが繰返されて冷凍運転が行なわ
れる。このタイプの冷凍機は、超電導マグネットの冷却
や赤外線センサの冷却や、あるいは筐たクライオポンプ
の冷却源として使用される。
れる。このタイプの冷凍機は、超電導マグネットの冷却
や赤外線センサの冷却や、あるいは筐たクライオポンプ
の冷却源として使用される。
しかしながら、上記のように構成された従来の冷凍機に
あっては次のような問題があった。すなわち、シール機
構25は常温部と1段膨脹室39との間においてヘリウ
ムガスが第1シリンダ14と第1ディスプレーサ18と
の間の隙間を通して流れるのを防止してかシ、1九シー
ル機構26は1段膨aI!室39と2段FIe脹室40
との間に釦いてヘリウムガスが第2シリンダ15と第2
ディスプレーサ19との間の隙間を通して流れるのを防
止している。これらのシール機構25.26は、高純度
(99.99%)のヘリウムガス中で凪用されてか歩、
ヘリウムガスの汚染を防止する意味からグリス等の潤滑
材を使用することはできない。特に、シール機構26は
、低温部(30〜80K)にかかれ、しかもピストンシ
ールのような形状が要求される。
あっては次のような問題があった。すなわち、シール機
構25は常温部と1段膨脹室39との間においてヘリウ
ムガスが第1シリンダ14と第1ディスプレーサ18と
の間の隙間を通して流れるのを防止してかシ、1九シー
ル機構26は1段膨aI!室39と2段FIe脹室40
との間に釦いてヘリウムガスが第2シリンダ15と第2
ディスプレーサ19との間の隙間を通して流れるのを防
止している。これらのシール機構25.26は、高純度
(99.99%)のヘリウムガス中で凪用されてか歩、
ヘリウムガスの汚染を防止する意味からグリス等の潤滑
材を使用することはできない。特に、シール機構26は
、低温部(30〜80K)にかかれ、しかもピストンシ
ールのような形状が要求される。
今、1段膨脹室39の温度が30K,2段膨脹室40の
温度がIOKであったとした場合、シール機構26の部
分で漏れが生じると、30Kのヘリウムガスが第2ディ
スプレーサ19内の蓄冷材24に接触することなく2段
膨脹室40内に入D1筐た逆にIOKのヘリウムガスが
iRm脹室39内に入ることになる。この結果、1段ス
テージ16の温度が下降し、2段ステージ17の温度が
上昇してしまうことになる。第lO図にはシール機構2
6でのヘリウムガスの漏れ量割合(2段膨脹室40へ流
れ込むヘリウムガスの総量に対するシール機構26を通
して流れ込むヘリウムガスの割合)と各段(1段ステー
ジ16、2段ステージ17)の温度との関係を計算で求
めた結果が示されている。この図から判かるように、シ
ール機構26の部分での漏れが各段ステージの温度に大
きい影響を与える。これはシール機構26に限らず、シ
ール機構25にも言えることである。
温度がIOKであったとした場合、シール機構26の部
分で漏れが生じると、30Kのヘリウムガスが第2ディ
スプレーサ19内の蓄冷材24に接触することなく2段
膨脹室40内に入D1筐た逆にIOKのヘリウムガスが
iRm脹室39内に入ることになる。この結果、1段ス
テージ16の温度が下降し、2段ステージ17の温度が
上昇してしまうことになる。第lO図にはシール機構2
6でのヘリウムガスの漏れ量割合(2段膨脹室40へ流
れ込むヘリウムガスの総量に対するシール機構26を通
して流れ込むヘリウムガスの割合)と各段(1段ステー
ジ16、2段ステージ17)の温度との関係を計算で求
めた結果が示されている。この図から判かるように、シ
ール機構26の部分での漏れが各段ステージの温度に大
きい影響を与える。これはシール機構26に限らず、シ
ール機構25にも言えることである。
従来の冷凍機では、第7図から第9図に示したように、
ベークライト等で形成された第2ディスプレーサ19の
外周面に形威された環状溝27内に、合い口部30が第
9図に示すように構成された有端形のテフロン等の潤滑
性のある材料で形成したシールリング28を1段装着し
、さらにその背面側に押圧力を付与するための有端形の
ばねリング29を装着した構成のシール機構26を用い
ている。このように第2ディスプレーサ19にベークラ
イト等を使用するのは金属を用いると第2シリンダl5
がステンレス鋼等の金属であることからかじbが生じる
ためである。又シールリング28にテフロン等の潤滑性
のある材料を用いるのは、金属で形成された第2シリン
ダ15と摺動するためである。このような構成のシール
機構26では積状溝27を構成する第2ディスプレーサ
l9とシールリング28とを形成する材料とが異なるこ
とから、熱収縮も異なυ、極低温下にあっては、例えば
テフロンにあっては、ベークライトに比べ熱収縮率力が
大きい。従って、極低温下にあっては第9図にかけるシ
ールリング28が環状溝27に比べて大きく収縮し、シ
ールリング28と環状溝27との間隙a,bが大きくな
りこの結果、合い口部30からのヘリウムガスの漏れ量
が多く、この結果、第2ステージ17の温度上昇を招く
問題があった。第2ステージ17の温度上昇は、結果的
にある温度での冷凍能力の減少につながることになる。
ベークライト等で形成された第2ディスプレーサ19の
外周面に形威された環状溝27内に、合い口部30が第
9図に示すように構成された有端形のテフロン等の潤滑
性のある材料で形成したシールリング28を1段装着し
、さらにその背面側に押圧力を付与するための有端形の
ばねリング29を装着した構成のシール機構26を用い
ている。このように第2ディスプレーサ19にベークラ
イト等を使用するのは金属を用いると第2シリンダl5
がステンレス鋼等の金属であることからかじbが生じる
ためである。又シールリング28にテフロン等の潤滑性
のある材料を用いるのは、金属で形成された第2シリン
ダ15と摺動するためである。このような構成のシール
機構26では積状溝27を構成する第2ディスプレーサ
l9とシールリング28とを形成する材料とが異なるこ
とから、熱収縮も異なυ、極低温下にあっては、例えば
テフロンにあっては、ベークライトに比べ熱収縮率力が
大きい。従って、極低温下にあっては第9図にかけるシ
ールリング28が環状溝27に比べて大きく収縮し、シ
ールリング28と環状溝27との間隙a,bが大きくな
りこの結果、合い口部30からのヘリウムガスの漏れ量
が多く、この結果、第2ステージ17の温度上昇を招く
問題があった。第2ステージ17の温度上昇は、結果的
にある温度での冷凍能力の減少につながることになる。
(発明が解決しようとする課題)
上述の如く、従来のギホード●マクマホン形の冷凍機に
あっては、ディスプレーサとシリンダとの間の隙間をシ
ールするためのシール機構で完全な/−ルを行なうこと
ができず、これが原因して冷凍能力が低いと言う問題が
あった。
あっては、ディスプレーサとシリンダとの間の隙間をシ
ールするためのシール機構で完全な/−ルを行なうこと
ができず、これが原因して冷凍能力が低いと言う問題が
あった。
そこで本発明は、シール機構でのシール性能を大幅に向
上させることができ、もって冷凍能力を向上させること
ができる冷凍機を提供することを目的としている。
上させることができ、もって冷凍能力を向上させること
ができる冷凍機を提供することを目的としている。
(課題を解決するための手段)
本発明は、ギホード・マクマホン形の冷凍機を対象にし
ている。そして、上記目的を達或するために、本発明で
は、環状溝にシールリングを常温ですき1なく収まる状
態にしてかく。冷凍機が極低温になった場合、シールリ
ングは収縮するが、環状溝もシールリングと同一素材の
ため、シールリングと同様に収縮して溝とシールリング
の間の隙間は一定に保たれるため隙間ないしは合い口部
を通って、ガスがもれることを防ぐことができる。
ている。そして、上記目的を達或するために、本発明で
は、環状溝にシールリングを常温ですき1なく収まる状
態にしてかく。冷凍機が極低温になった場合、シールリ
ングは収縮するが、環状溝もシールリングと同一素材の
ため、シールリングと同様に収縮して溝とシールリング
の間の隙間は一定に保たれるため隙間ないしは合い口部
を通って、ガスがもれることを防ぐことができる。
又、環状溝を含めてディスプレーサ全体をシールリング
と同一素材としても同様の効果が得られる。
と同一素材としても同様の効果が得られる。
(作用)
シールリングと少なくともディスプレーサの溝の部分を
同一素材で構成することによう,極低温状態でもシール
リングと溝の隙間が広がることがないため、ガスもれ量
を大幅に減らすことができる。
同一素材で構成することによう,極低温状態でもシール
リングと溝の隙間が広がることがないため、ガスもれ量
を大幅に減らすことができる。
(実施例)
以下、図面を参照しながら実施例を説明する。
第1図には本発明の一実施例に係る冷凍機が示されてい
る。この図では第6図と同一部分が同一符号で示されて
いる。したがって、重複する部分の説明は省略する。
る。この図では第6図と同一部分が同一符号で示されて
いる。したがって、重複する部分の説明は省略する。
この実施例に係る冷凍機が従来の冷凍機と異なる点は、
第2ディスプレーサ19の外周面に形成された環状溝2
7のシールリング2Bとの接触部27aを、シールリン
グ28と同一の素材にした点である。
第2ディスプレーサ19の外周面に形成された環状溝2
7のシールリング2Bとの接触部27aを、シールリン
グ28と同一の素材にした点である。
シール機構26は、第2図,第3図に示すように、環状
@27内に外周面を第2シリンダ15の内周面に接触さ
せて装着された有端形のシールリング28と、このシー
ルリング28の内側に装着されて第2シリンダ15の内
周面側への押圧力を与える有端形のばねリング29とで
構成されている。シールリング28は、テフロン等の潤
滑性のある樹脂系の部材で形成されている。
@27内に外周面を第2シリンダ15の内周面に接触さ
せて装着された有端形のシールリング28と、このシー
ルリング28の内側に装着されて第2シリンダ15の内
周面側への押圧力を与える有端形のばねリング29とで
構成されている。シールリング28は、テフロン等の潤
滑性のある樹脂系の部材で形成されている。
第2ディスプレーサ19に形戒される環状溝27のシー
ルリング28と接触する接触部27aをシールリング2
8と同じ素材であるテフロン等の樹脂系の部材で形成す
る。この接触部27aと第2ディスプレーサ19とは接
着剤等で固定する。
ルリング28と接触する接触部27aをシールリング2
8と同じ素材であるテフロン等の樹脂系の部材で形成す
る。この接触部27aと第2ディスプレーサ19とは接
着剤等で固定する。
この場合、常温でシールリング28を壊状溝27に隙間
なく挿入できるような寸法にF#度よく仕上げることが
望ましい。
なく挿入できるような寸法にF#度よく仕上げることが
望ましい。
このような構成であると、極低温度下にあってもシール
リング28と環状溝27の接触部27aとが同じ素材で
あることから熱収縮率が同じとなるので熱収縮差による
隙間が生ずることない。又、シールリング28と環状溝
27とが同じ素材であることからいわゆるなじみがよく
、密着性がよいことから、7−ル機構26でのガス漏れ
を大幅に減少させることができる。したがって、第2膨
脹室、つまb第2ステージ17の温度上昇を抑制でき、
冷凍能力を向上させることができる。
リング28と環状溝27の接触部27aとが同じ素材で
あることから熱収縮率が同じとなるので熱収縮差による
隙間が生ずることない。又、シールリング28と環状溝
27とが同じ素材であることからいわゆるなじみがよく
、密着性がよいことから、7−ル機構26でのガス漏れ
を大幅に減少させることができる。したがって、第2膨
脹室、つまb第2ステージ17の温度上昇を抑制でき、
冷凍能力を向上させることができる。
第4図には第8図に示すシール機構を組込んだ従来の冷
凍機と第3図に示すシール機構26を組込んだ本発明冷
凍機とのガス漏れ量の測定結果が示されている。これは
環状溝の幅を等しくするとともにばねリングの押圧力を
等しくして常温・静止状態で測定した結果である。実際
の使用条件(低温,往復動)とは異なるが、漏れ量が大
幅に減少していることが判かる。この傾向は、使用条件
にレいても反映されるものと考えられる。第5図には第
8図に示すシール機構を組込んだ従来の冷凍機と第3図
に示すシール機構26を組込んだ本発明に係る冷凍機と
の冷凍曲線が示されている。
凍機と第3図に示すシール機構26を組込んだ本発明冷
凍機とのガス漏れ量の測定結果が示されている。これは
環状溝の幅を等しくするとともにばねリングの押圧力を
等しくして常温・静止状態で測定した結果である。実際
の使用条件(低温,往復動)とは異なるが、漏れ量が大
幅に減少していることが判かる。この傾向は、使用条件
にレいても反映されるものと考えられる。第5図には第
8図に示すシール機構を組込んだ従来の冷凍機と第3図
に示すシール機構26を組込んだ本発明に係る冷凍機と
の冷凍曲線が示されている。
横軸は第2ステージ17の温度(k)を示し、縦軸は第
2ステージ17に加えた熱負荷尚を示している。
2ステージ17に加えた熱負荷尚を示している。
この図から判かるように、同じ温度で冷凍し得る能力は
本発明冷凍機の方が大きい。したがって、上記構成のシ
ール機構26を設けたことによって冷凍能力を向上させ
得ることが理解される。
本発明冷凍機の方が大きい。したがって、上記構成のシ
ール機構26を設けたことによって冷凍能力を向上させ
得ることが理解される。
なか、上述した実施例では、第2ディスプレーサと第2
シリンダとの間に設けられるシール機構だけを第3図に
示すシール機構26で構成しているが、第1ディスプレ
ーサと第1シリンダとの間に設けられるシール機構も第
3図に示すシール機構26で構成してもよい。
シリンダとの間に設けられるシール機構だけを第3図に
示すシール機構26で構成しているが、第1ディスプレ
ーサと第1シリンダとの間に設けられるシール機構も第
3図に示すシール機構26で構成してもよい。
又、第2ディスプレーサ19の環状溝27の接触部27
aのみをシールリング28と同じ素材で構成したが、第
2ディスプレーサ19全体をシールリング28と同じ素
材で構成してもよい。
aのみをシールリング28と同じ素材で構成したが、第
2ディスプレーサ19全体をシールリング28と同じ素
材で構成してもよい。
以上述べたように本発明によれば、シール機構でのガス
漏れを大幅に減少させることができるので、一層の低温
度化を実現でき、冷凍能力を向上させることができる。
漏れを大幅に減少させることができるので、一層の低温
度化を実現でき、冷凍能力を向上させることができる。
第1図は本発明の一実施例に係る冷凍機を局部的に切欠
して示す構成図、第2図は同冷凍機に組込1れたシール
機構を軸方向から見た図、第3図は同シール機構を局部
的に取シ出して示す縦断面図、第4図かよび第5図は本
発明に係る冷凍機の特性を従来の冷凍機のそれと比較し
て示す図、第6図は従来の冷凍機の概略構成図、第7図
は同冷凍機に組込1れたシール機構を軸方向から見た図
、第8図は同シール機構を局部的に取出して示す縦断面
図、第9図は同シール機構に組込1.れたシールリング
の両端部の形態を示す図、第10図は従来の冷凍機の問
題点を説明するための図である。 1・・・コールドヘッド、2・・・冷媒ガス導排出系、
11・・・シリンダ、12・・・ディスプレーサ、13
・・・モータ、14・・・第1シリンダ、15・・・第
2シリンダ、16・・・第1ステージ、17・・・第2
ステージ、18・・・第1ディスプレーサ、19・・・
第2ディスプレーサ、21.23・・・流体通路、22
.24・・・蓄冷材、26・・・シール機構、27・
・・環状溝、27a・・・環状溝の接触部、39・・・
第1膨脹室、40・・・第2膨脹室。
して示す構成図、第2図は同冷凍機に組込1れたシール
機構を軸方向から見た図、第3図は同シール機構を局部
的に取シ出して示す縦断面図、第4図かよび第5図は本
発明に係る冷凍機の特性を従来の冷凍機のそれと比較し
て示す図、第6図は従来の冷凍機の概略構成図、第7図
は同冷凍機に組込1れたシール機構を軸方向から見た図
、第8図は同シール機構を局部的に取出して示す縦断面
図、第9図は同シール機構に組込1.れたシールリング
の両端部の形態を示す図、第10図は従来の冷凍機の問
題点を説明するための図である。 1・・・コールドヘッド、2・・・冷媒ガス導排出系、
11・・・シリンダ、12・・・ディスプレーサ、13
・・・モータ、14・・・第1シリンダ、15・・・第
2シリンダ、16・・・第1ステージ、17・・・第2
ステージ、18・・・第1ディスプレーサ、19・・・
第2ディスプレーサ、21.23・・・流体通路、22
.24・・・蓄冷材、26・・・シール機構、27・
・・環状溝、27a・・・環状溝の接触部、39・・・
第1膨脹室、40・・・第2膨脹室。
Claims (2)
- (1)閉じられたシリンダと、このシリンダ内に摺動自
在に配置されるとともに内側に蓄冷材を収容した通路を
有するディスプレーサと、このディスプレーサを往復動
させる手段と、前記シリンダの一端側に設けられた冷媒
ガスの導入口および排出口と、前記ディスプレーサの往
復動に関連させて前記導入口から前記シリンダ内に高圧
の冷媒ガスを導入した後に前記排出口から排出させる工
程を繰返す冷媒ガス導排出手段とを備えた極低温冷凍機
において、前記ディスプレーサの外周面に形成された環
状溝と、この環状溝内に外周面を前記シリンダの内周面
に接触させて装着された少なくとも1つの有端形のシー
ルリングと、このシールリングの内側に装着された有端
形のばねリングとを有し、前記シールリングと少なくと
も前記環状溝の前記シールリングと接触する接触部とを
同一材質にて構成したことを特徴とする極低温冷凍機 - (2)シールリングとディスプレーサとを同一材質にて
構成したことを特徴とする請求項1記載の極低温冷凍機
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24186389A JPH03105165A (ja) | 1989-09-20 | 1989-09-20 | 極低温冷凍機 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24186389A JPH03105165A (ja) | 1989-09-20 | 1989-09-20 | 極低温冷凍機 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03105165A true JPH03105165A (ja) | 1991-05-01 |
Family
ID=17080646
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24186389A Pending JPH03105165A (ja) | 1989-09-20 | 1989-09-20 | 極低温冷凍機 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03105165A (ja) |
-
1989
- 1989-09-20 JP JP24186389A patent/JPH03105165A/ja active Pending
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