JPH03105282A - 流体軸受ステージ - Google Patents
流体軸受ステージInfo
- Publication number
- JPH03105282A JPH03105282A JP1243797A JP24379789A JPH03105282A JP H03105282 A JPH03105282 A JP H03105282A JP 1243797 A JP1243797 A JP 1243797A JP 24379789 A JP24379789 A JP 24379789A JP H03105282 A JPH03105282 A JP H03105282A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- axis
- axis table
- air bearing
- movable part
- bearing pad
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16C—SHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
- F16C29/00—Bearings for parts moving only linearly
- F16C29/02—Sliding-contact bearings
- F16C29/025—Hydrostatic or aerostatic
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16C—SHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
- F16C32/00—Bearings not otherwise provided for
- F16C32/06—Bearings not otherwise provided for with moving member supported by a fluid cushion formed, at least to a large extent, otherwise than by movement of the shaft, e.g. hydrostatic air-cushion bearings
- F16C32/0603—Bearings not otherwise provided for with moving member supported by a fluid cushion formed, at least to a large extent, otherwise than by movement of the shaft, e.g. hydrostatic air-cushion bearings supported by a gas cushion, e.g. an air cushion
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
- G03F7/70816—Bearings
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Magnetic Bearings And Hydrostatic Bearings (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、Ｘ線露光装置等に好適に用いることができる
流体軸受ステージに関するものである。
流体軸受ステージに関するものである。
従来の技術
半導体の高集積化に伴い、次世代の露光光源としてＸ線
が注目されている。
が注目されている。
このＸ線露光装置は、０．２〜０．５μｍ程度の線幅の
パターンを転写するため、それに用いられるステージは
０．０５μｍ以下の位置決め精度が必要となる。従って
、摩擦がなく高精度な流体軸受方式のガイドの上に圧電
素子等を用いた微動ステージを設けたステージが従来よ
り多用されている。このタイプのステージは流体の流れ
によって生しる０．０５μｍ程度の微小振動がパターン
転写に悪影響を及ぼすため流体軸受をロックする必要が
ある。
パターンを転写するため、それに用いられるステージは
０．０５μｍ以下の位置決め精度が必要となる。従って
、摩擦がなく高精度な流体軸受方式のガイドの上に圧電
素子等を用いた微動ステージを設けたステージが従来よ
り多用されている。このタイプのステージは流体の流れ
によって生しる０．０５μｍ程度の微小振動がパターン
転写に悪影響を及ぼすため流体軸受をロックする必要が
ある。
第３図、第４図は昭和６０年度精機学会秋季大会学術講
演論文集Ｐ５６９〜Ｐ５７２に示された第１の従来例の
Ｘ線露光用ステージで、１はＸ軸リニアモー夕、２はＹ
軸リニアモータ、３はＸ軸ガイド、４はＹ軸ガイドであ
る。５はウエハチャック部で、Ｘ軸ガイド３、Ｙ軸ガイ
ド４にてガイドされ、定盤６の上に空気軸受を介して浮
上している。ウエハチャック部５の下には、第４図に示
す仮ばねと真空吸着パッドを用いたロック機構７を有し
ている。又、位置の計測はレーザー測長ユニット８で行
っている。
演論文集Ｐ５６９〜Ｐ５７２に示された第１の従来例の
Ｘ線露光用ステージで、１はＸ軸リニアモー夕、２はＹ
軸リニアモータ、３はＸ軸ガイド、４はＹ軸ガイドであ
る。５はウエハチャック部で、Ｘ軸ガイド３、Ｙ軸ガイ
ド４にてガイドされ、定盤６の上に空気軸受を介して浮
上している。ウエハチャック部５の下には、第４図に示
す仮ばねと真空吸着パッドを用いたロック機構７を有し
ている。又、位置の計測はレーザー測長ユニット８で行
っている。
このステージの動作は、まずＸ軸、Ｙ軸のりニアモータ
１，２でウエハチャック部５が粗位置決めされた後、ロ
ック機構７が定盤６に吸着し、Ｘ軸、Ｙ軸のりニアモー
タ１、２の推力とロック機構７の板ばねの釣合いで粗位
置決めを行っている。
１，２でウエハチャック部５が粗位置決めされた後、ロ
ック機構７が定盤６に吸着し、Ｘ軸、Ｙ軸のりニアモー
タ１、２の推力とロック機構７の板ばねの釣合いで粗位
置決めを行っている。
このロック機構７は、以下の３つの特徴がある。
■ 粗位置決め後、ステージにばね力による復元性を持
たせ、偉置決め精度の向上を図っている。
たせ、偉置決め精度の向上を図っている。
■ 空気軸受の振動をロック機構７が定盤６に吸着する
ことによって防止している。
ことによって防止している。
■ ロック機構７が定盤６に吸着しても、板ばねが伸び
ることにより、ウエハチャック部５が下方に沈むことが
なく、フォーカス合わせ、あるいはマスクとウエハのギ
ャップ合わせに悪影響を及ぼすことがない。
ることにより、ウエハチャック部５が下方に沈むことが
なく、フォーカス合わせ、あるいはマスクとウエハのギ
ャップ合わせに悪影響を及ぼすことがない。
第５図は、特開昭６３−１３０４６５号公報に示された
空気軸受の他のロック方法を示す第２の従来例である。
空気軸受の他のロック方法を示す第２の従来例である。
第５図において、９はガイド、１０，１１，１２．１３
はそれぞれ第１、第２、第３、第４の空気軸受バットで
、可動部ｌ４をガイド９より浮上させている。このステ
ージの動作は位置決め後、例えば第１の空気軸受パッド
１０の給気を停止させ、可動部１４を片側に寄せてガイ
ド９にロックするようになっている。
はそれぞれ第１、第２、第３、第４の空気軸受バットで
、可動部ｌ４をガイド９より浮上させている。このステ
ージの動作は位置決め後、例えば第１の空気軸受パッド
１０の給気を停止させ、可動部１４を片側に寄せてガイ
ド９にロックするようになっている。
発明が解決しようとする課題
しかしながら、第１の従来例では複雑、高価な板ばねを
有した真空吸着パッドが必要であり、また第２の従来例
ではロック時に可動部が片側に寄ってしまい、１μｍ以
下の精度が必要なフォーカス合わせあるいはマスクとウ
エハのギャップ合わせが狂ってしまうという問題点を有
している。
有した真空吸着パッドが必要であり、また第２の従来例
ではロック時に可動部が片側に寄ってしまい、１μｍ以
下の精度が必要なフォーカス合わせあるいはマスクとウ
エハのギャップ合わせが狂ってしまうという問題点を有
している。
課題を解決するための手段
本発明は上記従来の欠点に鑑み、Ｚ軸に垂直な面に設け
られた空気軸受パッドの片側の給気を停止させ可動部を
Ｚ軸方向に押圧してロックするこのできる空気軸受方式
のＸ軸テーブルと、Ｘ軸テーブルを位置決めする手段と
、Ｚ軸と垂直な面上に設けられた空気軸受パッドの片側
の給気を停止させ可動部をＺ軸方向に沿いかつ、Ｘ軸テ
ーブルの可動部のロック時の押圧方向と逆向きに押圧し
てロックすることのできる空気軸受方式のＹ軸テーブル
と、Ｙ軸テーブルの位置決め手段とを備えたことを特徴
とする。
られた空気軸受パッドの片側の給気を停止させ可動部を
Ｚ軸方向に押圧してロックするこのできる空気軸受方式
のＸ軸テーブルと、Ｘ軸テーブルを位置決めする手段と
、Ｚ軸と垂直な面上に設けられた空気軸受パッドの片側
の給気を停止させ可動部をＺ軸方向に沿いかつ、Ｘ軸テ
ーブルの可動部のロック時の押圧方向と逆向きに押圧し
てロックすることのできる空気軸受方式のＹ軸テーブル
と、Ｙ軸テーブルの位置決め手段とを備えたことを特徴
とする。
作 用
本発明によるステージは、Ｘ軸テーブルの位置決め手段
およびＹ軸テーブルの位置決め手段により位置決めされ
た後、それぞれ片側の空気軸受パッドの給気を停止させ
、可動部をそれぞれＺ軸方向に沿って互いに反対側に押
圧してガイドにロックさせる。かくして、真空吸着パッ
ドを必要とせず、片側の空気軸受パッドの給気を停止す
るたけで、可動部をロックして空気軸受の微振動を防止
することができ、しかもＸ軸とＹ軸が光軸であるＺ軸に
沿ってそれぞれ逆方向に移動して可動部がロックされる
ため、それぞれの移動量が相殺され、ウエハチャックの
支持部がＺ軸方向にずれず、フォーカス合わせあるいは
マスクとウエノ１のギャップ合わせに悪影響を及ぼさな
いというすぐれた特徴を有している。
およびＹ軸テーブルの位置決め手段により位置決めされ
た後、それぞれ片側の空気軸受パッドの給気を停止させ
、可動部をそれぞれＺ軸方向に沿って互いに反対側に押
圧してガイドにロックさせる。かくして、真空吸着パッ
ドを必要とせず、片側の空気軸受パッドの給気を停止す
るたけで、可動部をロックして空気軸受の微振動を防止
することができ、しかもＸ軸とＹ軸が光軸であるＺ軸に
沿ってそれぞれ逆方向に移動して可動部がロックされる
ため、それぞれの移動量が相殺され、ウエハチャックの
支持部がＺ軸方向にずれず、フォーカス合わせあるいは
マスクとウエノ１のギャップ合わせに悪影響を及ぼさな
いというすぐれた特徴を有している。
実 施 例
第１図、第２図は本発明の一実施例である縦形のウエハ
ステージで、２０はウエノ＼チャ・ンク、２１はウエハ
チャック２０をＸ，Ｙ．θの３軸方向に精密な位置決め
をする圧電素子である。
ステージで、２０はウエノ＼チャ・ンク、２１はウエハ
チャック２０をＸ，Ｙ．θの３軸方向に精密な位置決め
をする圧電素子である。
２２は鉛直方向に移動するＹ軸テーブルて・、Ｙ軸可動
部２２ａ、ガイド２２ｂ、第１の空気軸受パッド２２ｃ
、第２の空気軸受パッド２２ｄより構威され、第２の空
気軸受パッド２２ｄはソレノイドバルブ２３により給気
を停止させることができる。Ｙ軸可動部２２ａはボール
ねし２４、モータ２５により駆動される。
部２２ａ、ガイド２２ｂ、第１の空気軸受パッド２２ｃ
、第２の空気軸受パッド２２ｄより構威され、第２の空
気軸受パッド２２ｄはソレノイドバルブ２３により給気
を停止させることができる。Ｙ軸可動部２２ａはボール
ねし２４、モータ２５により駆動される。
２６は水平方向に移動するＸ軸テーブルで、Ｘ軸可動部
２６ａ、ガイド２６ｂ、第１の空気軸受パッド２６ｃ、
第２の空気軸受パッド２６ｄにより構成され、第２の空
気軸受バッド２６ｄは、ソレノイドバルブ２７により、
給気を停止させることができる。Ｘ軸可動部２６ａはボ
ールねじ２８、モータ２９によって駆動される。
２６ａ、ガイド２６ｂ、第１の空気軸受パッド２６ｃ、
第２の空気軸受パッド２６ｄにより構成され、第２の空
気軸受バッド２６ｄは、ソレノイドバルブ２７により、
給気を停止させることができる。Ｘ軸可動部２６ａはボ
ールねじ２８、モータ２９によって駆動される。
３０はＹ軸可動部２ ２ ａのＸ，Ｙの位置を計測する
ためのＬ形ミラー、３１は同レーザー測長器である。Ｙ
軸テーブル２２とＸ軸テーブル２６のＺ方向のギャップ
はほぼ同し寸法であり、給気を停止させることのできる
Ｙ軸テーブル２２の第２の空気軸受バッド２２ｄは、第
２図において左側、Ｘ軸テーブル２６の給気を停止させ
ることのできる第２の空気軸受バッド２６ｄは同図にお
いて右側に位置している。
ためのＬ形ミラー、３１は同レーザー測長器である。Ｙ
軸テーブル２２とＸ軸テーブル２６のＺ方向のギャップ
はほぼ同し寸法であり、給気を停止させることのできる
Ｙ軸テーブル２２の第２の空気軸受バッド２２ｄは、第
２図において左側、Ｘ軸テーブル２６の給気を停止させ
ることのできる第２の空気軸受バッド２６ｄは同図にお
いて右側に位置している。
次に本実施例の動作を説明する。Ｘ軸テーブル２Ｇ、Ｙ
軸テーブル２２の可動部２６ａ．２２ａは、Ｌ形ミラー
３０、レーザー滑長器３１によって位置を計測されなが
ら、ボールねじ２４，２８，モータ２５．２９によって
０．５μｍ以下の粗位置決めが行われる。粗位置決め終
了後、ソレノイドバルブ２３．２７が動作し、Ｙ軸テー
ブル２２の第２の空気軸受パッド２２ｄ，Ｘ軸テーブル
２６の第２の空気軸受パッド２６ｄの給気が停止され、
Ｘ軸テーブル２６の可動部２６ａは第２図の右側にＹ軸
テーブル２２の可動部２２ａは第２図の左側に移動し、
それぞれガイド２６ｂ，２２ｂにロックされる。
軸テーブル２２の可動部２６ａ．２２ａは、Ｌ形ミラー
３０、レーザー滑長器３１によって位置を計測されなが
ら、ボールねじ２４，２８，モータ２５．２９によって
０．５μｍ以下の粗位置決めが行われる。粗位置決め終
了後、ソレノイドバルブ２３．２７が動作し、Ｙ軸テー
ブル２２の第２の空気軸受パッド２２ｄ，Ｘ軸テーブル
２６の第２の空気軸受パッド２６ｄの給気が停止され、
Ｘ軸テーブル２６の可動部２６ａは第２図の右側にＹ軸
テーブル２２の可動部２２ａは第２図の左側に移動し、
それぞれガイド２６ｂ，２２ｂにロックされる。
Ｘ軸，Ｙ軸可動部２６ａ．２２ａがロックされた後、圧
電素子２１がマスク（図示せず）とウエハ（図示せず）
のずれを直接計測するセンサー（図示せず）からの信号
でウエハチャック２０を移動させ、マスクとウエハを０
．０２μｍの精度で精密に位置決めする。
電素子２１がマスク（図示せず）とウエハ（図示せず）
のずれを直接計測するセンサー（図示せず）からの信号
でウエハチャック２０を移動させ、マスクとウエハを０
．０２μｍの精度で精密に位置決めする。
以上のように本実施例によれば、粗位置決め後、Ｘ軸テ
ーブルの可動部２６ａ，Ｙ軸テーブルの可動部２２ａが
ガイドにロックされ、空気軸受特有の微振動を除去する
ことができる。またＸ軸可動部２６ａとＹ軸可動部２２
ａはロック時にそれぞれ逆方向にほぼ同等量の移動をす
るため、マスクとウエハのギャップ量が変化することは
ない。
ーブルの可動部２６ａ，Ｙ軸テーブルの可動部２２ａが
ガイドにロックされ、空気軸受特有の微振動を除去する
ことができる。またＸ軸可動部２６ａとＹ軸可動部２２
ａはロック時にそれぞれ逆方向にほぼ同等量の移動をす
るため、マスクとウエハのギャップ量が変化することは
ない。
なお、本実施例では流体軸受の流体を空気としたが、他
の流体を使用しても本発明の本質に何等の変わりはない
。また、位置決め手段をレーザ測長器とモータとボール
ねじとしたが、本発明はこれらに制限されるものではな
い。また本実施例では，Ｗｔ動ステージが設けられてい
るが、微動ステージの有無は本発明の本質には関係なく
、Ｙ軸可動部の上に直接ウエハチャックを設けたもので
も、本発明の意図する効果を有する。また、本実施例で
はステージを縦形としたが、横形としても全くその効果
は変わらない。
の流体を使用しても本発明の本質に何等の変わりはない
。また、位置決め手段をレーザ測長器とモータとボール
ねじとしたが、本発明はこれらに制限されるものではな
い。また本実施例では，Ｗｔ動ステージが設けられてい
るが、微動ステージの有無は本発明の本質には関係なく
、Ｙ軸可動部の上に直接ウエハチャックを設けたもので
も、本発明の意図する効果を有する。また、本実施例で
はステージを縦形としたが、横形としても全くその効果
は変わらない。
発明の効果
以上のように本発明によれば、Ｚ軸に垂直な面上に設け
られた流体軸受パッドの圧力供給を停止させ、可動部を
Ｚ軸方向に押圧して、ロックすることのできる流体軸受
方式のＸ軸テーブルと、Ｘ軸テーブルを位置決めする手
段と、同しくＺ軸と垂直な面上に設けられた流体軸受パ
ッドの片側の圧力供給を停止させ、可動部をＺ軸方向に
沿いかつ、Ｘ軸テーブルの可動部のロック時の押圧方向
と逆向きに押圧してロックすることのできる流体軸受方
式のＹ軸テーブルと、Ｙ軸テーブルの位置決め手段によ
って構成されているため、真空吸着パッドを必要とせず
、片側の流体軸受パッドの圧力供給を停止するだけで可
動部をロックして、流体軸受の微振動を防止することが
でき、しかもＸ軸テーブルとＹ軸テーブルの可動部が光
軸であるＺ軸に沿ってそれぞれ逆方向に移動してロック
されるため、それぞれの移動量が相殺され、ウエハヂャ
ックの支持部がＺ軸方向にずれず、フォーカス合わせ、
あるいはマスクとウエハのギャップ合わせに悪影響を及
ぼさないという優れた特徴を有し、その工業的価値には
大なるものがある。
られた流体軸受パッドの圧力供給を停止させ、可動部を
Ｚ軸方向に押圧して、ロックすることのできる流体軸受
方式のＸ軸テーブルと、Ｘ軸テーブルを位置決めする手
段と、同しくＺ軸と垂直な面上に設けられた流体軸受パ
ッドの片側の圧力供給を停止させ、可動部をＺ軸方向に
沿いかつ、Ｘ軸テーブルの可動部のロック時の押圧方向
と逆向きに押圧してロックすることのできる流体軸受方
式のＹ軸テーブルと、Ｙ軸テーブルの位置決め手段によ
って構成されているため、真空吸着パッドを必要とせず
、片側の流体軸受パッドの圧力供給を停止するだけで可
動部をロックして、流体軸受の微振動を防止することが
でき、しかもＸ軸テーブルとＹ軸テーブルの可動部が光
軸であるＺ軸に沿ってそれぞれ逆方向に移動してロック
されるため、それぞれの移動量が相殺され、ウエハヂャ
ックの支持部がＺ軸方向にずれず、フォーカス合わせ、
あるいはマスクとウエハのギャップ合わせに悪影響を及
ぼさないという優れた特徴を有し、その工業的価値には
大なるものがある。
第１図は本発明一実施例の斜視図、第２図は同縦断面図
、第３図は第ｌの従来例の斜視図、第４図は同一部拡大
縦断面図、第５図は第２の実施例の縦断面図である。 ２０・・・・・・ウエハチャック、２２・・・・・・Ｙ
軸テーブル、２２ａ・・・・・・Ｙ軸可動部、２２ｄ・
・・・・・第２の空気軸受パッド、２３・・・・・・ソ
レノイドバルブ、２４・・・・・・ボールねじ、２５・
・・・・・モータ、２６・・・・・・Ｘ軸テーブル、２
６ａ・・・・・・Ｘ軸可動部、２６ｄ・・・・・・第２
の空気軸受パッド、２７・・・・・・ソレノイドバルブ
、２８・・・・・・ボールねじ、２９・・・・・・モー
タ。
、第３図は第ｌの従来例の斜視図、第４図は同一部拡大
縦断面図、第５図は第２の実施例の縦断面図である。 ２０・・・・・・ウエハチャック、２２・・・・・・Ｙ
軸テーブル、２２ａ・・・・・・Ｙ軸可動部、２２ｄ・
・・・・・第２の空気軸受パッド、２３・・・・・・ソ
レノイドバルブ、２４・・・・・・ボールねじ、２５・
・・・・・モータ、２６・・・・・・Ｘ軸テーブル、２
６ａ・・・・・・Ｘ軸可動部、２６ｄ・・・・・・第２
の空気軸受パッド、２７・・・・・・ソレノイドバルブ
、２８・・・・・・ボールねじ、２９・・・・・・モー
タ。
Claims (1)
- 互いに垂直な３軸をＸ軸、Ｙ軸とし、Ｚ軸に垂直な面に
設けられた流体軸受パッドの片側のみの圧力供給を選択
的に停止することによりその可動部をガイドに押圧して
固定できるように構成された流体軸受方式のＹ軸テーブ
ルと、前記Ｚ軸に垂直な面に設けられた流体軸受パッド
の片側のみの圧力供給を選択的に停止することによりそ
の可動部をガイドに前記Ｙ軸テーブルの可動部の押圧方
向と逆方向に押圧して固定できるように構成された流体
軸受方式のＸ軸テーブルと、前記Ｙ軸テーブルの位置決
め手段と、前記Ｘ軸テーブルの位置決め手段とを備えた
ことを特徴とする流体軸受ステージ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1243797A JP2797517B2 (ja) | 1989-09-20 | 1989-09-20 | 流体軸受ステージ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1243797A JP2797517B2 (ja) | 1989-09-20 | 1989-09-20 | 流体軸受ステージ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03105282A true JPH03105282A (ja) | 1991-05-02 |
| JP2797517B2 JP2797517B2 (ja) | 1998-09-17 |
Family
ID=17109091
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1243797A Expired - Fee Related JP2797517B2 (ja) | 1989-09-20 | 1989-09-20 | 流体軸受ステージ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2797517B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009107092A (ja) * | 2007-10-31 | 2009-05-21 | Nsk Ltd | 縦型位置決めテーブル |
| EP2384875A4 (en) * | 2009-01-30 | 2014-03-12 | Konica Minolta Opto Inc | DEVICE FOR PREPARING A WAFER LENS AND METHOD FOR PRODUCING A WAFER LENS |
-
1989
- 1989-09-20 JP JP1243797A patent/JP2797517B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009107092A (ja) * | 2007-10-31 | 2009-05-21 | Nsk Ltd | 縦型位置決めテーブル |
| EP2384875A4 (en) * | 2009-01-30 | 2014-03-12 | Konica Minolta Opto Inc | DEVICE FOR PREPARING A WAFER LENS AND METHOD FOR PRODUCING A WAFER LENS |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2797517B2 (ja) | 1998-09-17 |
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