JPH03106435A - ガス分配装置 - Google Patents
ガス分配装置Info
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- JPH03106435A JPH03106435A JP2244129A JP24412990A JPH03106435A JP H03106435 A JPH03106435 A JP H03106435A JP 2244129 A JP2244129 A JP 2244129A JP 24412990 A JP24412990 A JP 24412990A JP H03106435 A JPH03106435 A JP H03106435A
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Classifications
-
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- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/18—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles
- B01J8/24—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles according to "fluidised-bed" technique
- B01J8/44—Fluidisation grids
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J38/00—Regeneration or reactivation of catalysts, in general
- B01J38/04—Gas or vapour treating; Treating by using liquids vaporisable upon contacting spent catalyst
- B01J38/12—Treating with free oxygen-containing gas
- B01J38/30—Treating with free oxygen-containing gas in gaseous suspension, e.g. fluidised bed
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はガス分配装置、コークス負荷触媒再生装置およ
びコークス負荷触媒再生方法に関する.本発明はガス分
配器およびその上流にガスを導入するための1またはそ
れより多い入口手段を含む槽であって、ガス分配器が槽
の壁に結合されそして要素の1またはそれより多い床(
この床はガス透過性である)を含む、前記槽を含む装置
に関する. そのような装置は均質ガス流を確立するのに好便に使用
しうる.本発明による装置は従って均質ガス流を必要と
するいかなるプロセスにも使用しうる.適当なプロセス
は石炭ガス化、燃焼プロセスおよび触媒再生を含む.本
装置はエアスライドにも好便に使用しうる.本装置は固
体粒子がガス流と接触するプロセスに有利に適用しうる
.本装置は固体粒子例えば触媒粒子が上向ガス流と接触
する流動化プロセスに非常に適当に使用しうる.そのよ
うなプロセスにおいて本装置は流動化粒子がガス分配器
に関し順流に保たれるような仕方で適当に適用される.
その仕方で固体粒子とガス入口手段の接触が避けられる
.従って、慣用のガス入口手段例えばノズル付分配管を
使用した場合そのような接触のために起こる浸食問題を
有利に避けうる.その結果、ガス入口の維持費をかなり
低減しうる.更に、改善された、即ち槽の全域にわたる
、ガス分配が確立されるので、ガスと固体粒子の改善さ
れた接触を得ることができる.ガス分配器は好ましくは
槽の壁に沿って実質的に延びる円周を有する. 該要素は好ましくは要素に対し不透過性のトレイの間に
置かれる.このようにして該要素は、かなりのガス流が
適用される時にも、特に床が上部トレイをも備える場合
に、床中に保留される.本発明の装置中のトレイは通常
の型のもの、例えば多孔板から作られそして槽の壁に付
けられた円周を有するシーブトレイであることができる
.適当にはトレイは例えばロンド群で構威されたスクリ
ーンからなる. 原則として床中の該要素はいかなる形状のものであるこ
ともできる.該要素は適当には床を横切って均質な流れ
抵抗を得ることができるような形状のものである.該要
素は適当には実質的に同じ寸法のものである.好ましく
は、該要素は0.5〜1(lu+、より好ましくは1〜
4−の範囲の直径を有する球である.球の直径は通常、
上向ガスと混合される固体粒子の直径の2〜50倍であ
る.適当には、該要素は不活性材料例えばセラ逅ツク材
料、不活性鋼または触媒粒子の担体材料で作られる.好
ましくは該要素はセラミック材料で作られる.該要素は
適当には、ガスと接触させられる固体粒子が要素の床を
通過しないような寸法のものであるかまたは通過しない
ように配置される.このようにして固体粒子とガス入口
手段の接触が避けられる.該要素は互いに対し(非)可
動であるこができる.該要素が互いに対し可動であるな
ら、床はその全高にわたって球で充満されてはいないで
あろうことは理解されよう.床は好ましくはその高さの
少なくとも99%にわたって要素で満たされている. 本発明による装置は接触分解装置中の再生室として適当
に適用しうる. 従って本発明はまた、コークス負荷触媒を導入するため
の1またはそれより多い入口手段、槽の下部に酸素含有
ガスを導入するための1またはそれより多い入口手段、
再生された触媒粒子を取出すための1またはそれより多
い出口手段および槽の上部で燃焼ガスを取出すための1
またはそれより多い出口手段を含む実質的に垂直の槽を
含むコークス負荷触媒粒子を再生するための前記のよう
な装置において、酸素含有ガス分配器がコークス負荷触
媒導入のための入口手段と酸素含有ガス導入のための入
口手段の間に槽中に実質的に水平に配置される前記装置
に関する. 本発明による装置の好ましい態様、再生室、を以下に第
1図により説明する. 第1図に示す装置はコークス負荷触媒導入用入口手段(
2)、再生触媒取出用出口手段(3),酸素含有ガス導
入用入口手段(4)、燃焼ガス取出用出口手段(5)お
よび酸素含有ガス分配器(6)を備えた実質的に垂直の
槽(1)を含む.分配器(6)はトレイ(8)の間に置
かれた実質的に同じ寸法の球(部分的にのみそして拡大
して示す)の床(7)を含む. 第1図に描かれた装置の正常運転中は、上昇管反応器か
ら生ずる熱いコークス負荷触媒粒子が入口手段(2)を
通って槽(1)中に導入される.酸素含有ガスは入口手
段(4)を経て槽中に導入されそして次に上向ガス流は
分配器(6)により矢印(9)で示すように均質に分配
される.従って入ってくる触媒粒子は均質なガス上向流
により流動化されそして触媒粒子と酸素含有ガスの最適
な混合が確立される.流動化中コークスは触媒から50
0〜800℃の温度および1〜5/<一)レの圧力で焼
き除かれ、そして得られる燃焼ガスは出口手段(5)に
より除去される.得られる再生触媒は出口手段(3)を
経て槽から取出される.出口手段(3)は、操作の変化
を実質的に生ずることなく、分配器(6)をはみ出すよ
うに配置することもできる.ロンド間の距離は通常、球
の平均直径よりも小さく、従って球は床内に保留される
.本発明はまた、上記の再生室を使用する触媒粒子再生
方法であって、酸素含有ガスを1またはそれより多い入
口手段によって槽の底部に、1またはそれより多い入口
手段により導入される触媒がそれにより流動化されるよ
うな仕方で導入し、触媒上に沈着したコークスを焼き除
き、そしてそれにより酸素含有ガス分配器をよぎる圧力
低下を達成し、そして再生触媒粒子を槽の上部から取出
すことを含む前記再生方法に関する. 再生方法で適用される温度は500〜800℃の範囲で
あることができ、また適用される圧力は1〜5バールの
範囲であることができる.
びコークス負荷触媒再生方法に関する.本発明はガス分
配器およびその上流にガスを導入するための1またはそ
れより多い入口手段を含む槽であって、ガス分配器が槽
の壁に結合されそして要素の1またはそれより多い床(
この床はガス透過性である)を含む、前記槽を含む装置
に関する. そのような装置は均質ガス流を確立するのに好便に使用
しうる.本発明による装置は従って均質ガス流を必要と
するいかなるプロセスにも使用しうる.適当なプロセス
は石炭ガス化、燃焼プロセスおよび触媒再生を含む.本
装置はエアスライドにも好便に使用しうる.本装置は固
体粒子がガス流と接触するプロセスに有利に適用しうる
.本装置は固体粒子例えば触媒粒子が上向ガス流と接触
する流動化プロセスに非常に適当に使用しうる.そのよ
うなプロセスにおいて本装置は流動化粒子がガス分配器
に関し順流に保たれるような仕方で適当に適用される.
その仕方で固体粒子とガス入口手段の接触が避けられる
.従って、慣用のガス入口手段例えばノズル付分配管を
使用した場合そのような接触のために起こる浸食問題を
有利に避けうる.その結果、ガス入口の維持費をかなり
低減しうる.更に、改善された、即ち槽の全域にわたる
、ガス分配が確立されるので、ガスと固体粒子の改善さ
れた接触を得ることができる.ガス分配器は好ましくは
槽の壁に沿って実質的に延びる円周を有する. 該要素は好ましくは要素に対し不透過性のトレイの間に
置かれる.このようにして該要素は、かなりのガス流が
適用される時にも、特に床が上部トレイをも備える場合
に、床中に保留される.本発明の装置中のトレイは通常
の型のもの、例えば多孔板から作られそして槽の壁に付
けられた円周を有するシーブトレイであることができる
.適当にはトレイは例えばロンド群で構威されたスクリ
ーンからなる. 原則として床中の該要素はいかなる形状のものであるこ
ともできる.該要素は適当には床を横切って均質な流れ
抵抗を得ることができるような形状のものである.該要
素は適当には実質的に同じ寸法のものである.好ましく
は、該要素は0.5〜1(lu+、より好ましくは1〜
4−の範囲の直径を有する球である.球の直径は通常、
上向ガスと混合される固体粒子の直径の2〜50倍であ
る.適当には、該要素は不活性材料例えばセラ逅ツク材
料、不活性鋼または触媒粒子の担体材料で作られる.好
ましくは該要素はセラミック材料で作られる.該要素は
適当には、ガスと接触させられる固体粒子が要素の床を
通過しないような寸法のものであるかまたは通過しない
ように配置される.このようにして固体粒子とガス入口
手段の接触が避けられる.該要素は互いに対し(非)可
動であるこができる.該要素が互いに対し可動であるな
ら、床はその全高にわたって球で充満されてはいないで
あろうことは理解されよう.床は好ましくはその高さの
少なくとも99%にわたって要素で満たされている. 本発明による装置は接触分解装置中の再生室として適当
に適用しうる. 従って本発明はまた、コークス負荷触媒を導入するため
の1またはそれより多い入口手段、槽の下部に酸素含有
ガスを導入するための1またはそれより多い入口手段、
再生された触媒粒子を取出すための1またはそれより多
い出口手段および槽の上部で燃焼ガスを取出すための1
またはそれより多い出口手段を含む実質的に垂直の槽を
含むコークス負荷触媒粒子を再生するための前記のよう
な装置において、酸素含有ガス分配器がコークス負荷触
媒導入のための入口手段と酸素含有ガス導入のための入
口手段の間に槽中に実質的に水平に配置される前記装置
に関する. 本発明による装置の好ましい態様、再生室、を以下に第
1図により説明する. 第1図に示す装置はコークス負荷触媒導入用入口手段(
2)、再生触媒取出用出口手段(3),酸素含有ガス導
入用入口手段(4)、燃焼ガス取出用出口手段(5)お
よび酸素含有ガス分配器(6)を備えた実質的に垂直の
槽(1)を含む.分配器(6)はトレイ(8)の間に置
かれた実質的に同じ寸法の球(部分的にのみそして拡大
して示す)の床(7)を含む. 第1図に描かれた装置の正常運転中は、上昇管反応器か
ら生ずる熱いコークス負荷触媒粒子が入口手段(2)を
通って槽(1)中に導入される.酸素含有ガスは入口手
段(4)を経て槽中に導入されそして次に上向ガス流は
分配器(6)により矢印(9)で示すように均質に分配
される.従って入ってくる触媒粒子は均質なガス上向流
により流動化されそして触媒粒子と酸素含有ガスの最適
な混合が確立される.流動化中コークスは触媒から50
0〜800℃の温度および1〜5/<一)レの圧力で焼
き除かれ、そして得られる燃焼ガスは出口手段(5)に
より除去される.得られる再生触媒は出口手段(3)を
経て槽から取出される.出口手段(3)は、操作の変化
を実質的に生ずることなく、分配器(6)をはみ出すよ
うに配置することもできる.ロンド間の距離は通常、球
の平均直径よりも小さく、従って球は床内に保留される
.本発明はまた、上記の再生室を使用する触媒粒子再生
方法であって、酸素含有ガスを1またはそれより多い入
口手段によって槽の底部に、1またはそれより多い入口
手段により導入される触媒がそれにより流動化されるよ
うな仕方で導入し、触媒上に沈着したコークスを焼き除
き、そしてそれにより酸素含有ガス分配器をよぎる圧力
低下を達成し、そして再生触媒粒子を槽の上部から取出
すことを含む前記再生方法に関する. 再生方法で適用される温度は500〜800℃の範囲で
あることができ、また適用される圧力は1〜5バールの
範囲であることができる.
第1図は再生室の概略縦断面図である.l・・・槽、
2・・・コークス負荷触媒導入用入口、3・・・再生触
媒取出用出口、 4・・・酸素含有ガス導入用入口、
5・・・燃焼ガス出口、 6・・・酸素含有ガス分配器
.
2・・・コークス負荷触媒導入用入口、3・・・再生触
媒取出用出口、 4・・・酸素含有ガス導入用入口、
5・・・燃焼ガス出口、 6・・・酸素含有ガス分配器
.
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)ガス分配器およびその上流にガスを導入するため
の1またはそれより多い入口手段を含む槽であって、ガ
ス分配器が槽の壁に結合されそして要素の1またはそれ
より多い床(この床はガス透過性である)を含む、前記
槽を含む装置。 (2)ガス分配器が槽の壁に沿って実質的に延びる円周
を有する特許請求の範囲第1項記載の装置。 (3)該要素が該要素に対し透過性でないトレイの間に
置かれる特許請求の範囲第1または2項記載の装置。 (4)該要素が実質的に同じ寸法である特許請求の範囲
第1〜3項のいずれか記載の装置。 (5)該要素が不活性材料で作られる特許請求の範囲第
1〜4項のいずれか記載の装置。(6)該要素がセラミ
ック材料で作られる特許請求の範囲第5項記載の装置。 (7)該要素が球である特許請求の範囲第1〜6項のい
ずれか記載の装置。 (8)球が0.5〜10mmの範囲の直径を有する特許
請求の範囲第7項記載の装置。 (9)汚染された触媒粒子を導入するための1またはそ
れより多い入口手段、槽の下部に酸素含有ガスを導入す
るための1またはそれより多い入口手段、再生された触
媒粒子を取出すための1またはそれより多い出口手段お
よび槽の上部で燃焼ガスを取出すための1またはそれよ
り多い出口手段を含む実質的に垂直の槽を含み、ガス分
配器がコークス負荷触媒導入のための入口手段と酸素含
有ガス導入のための入口手段の間に槽中に実質的に水平
に配置される、コークス負荷触媒粒子を再生するための
特許請求の範囲第1〜8項のいずれか記載の装置。 (10)酸素含有ガスを1またはそれより多い入口手段
によって特許請求の範囲第9項に記載の装置の底部に、
1またはそれより多い入口手段により導入される触媒が
それにより流動化されるような仕方で導入し、触媒上に
沈着したコークスを焼き除き、そしてそれにより酸素含
有ガス分配器をよぎる圧力低下を達成し、そして再生触
媒および燃焼ガスを装置の上部から出口手段によって取
出すことを含む触媒粒子再生方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB8921190,8 | 1989-09-19 | ||
| GB898921190A GB8921190D0 (en) | 1989-09-19 | 1989-09-19 | Apparatus for gas distribution |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03106435A true JPH03106435A (ja) | 1991-05-07 |
Family
ID=10663315
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2244129A Pending JPH03106435A (ja) | 1989-09-19 | 1990-09-17 | ガス分配装置 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0421506A1 (ja) |
| JP (1) | JPH03106435A (ja) |
| AU (1) | AU6257690A (ja) |
| CA (1) | CA2025513A1 (ja) |
| GB (1) | GB8921190D0 (ja) |
| ZA (1) | ZA907385B (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100447248B1 (ko) * | 2002-01-22 | 2004-09-07 | 주성엔지니어링(주) | Icp 에쳐용 가스 확산판 |
| BE1015530A3 (nl) * | 2003-05-20 | 2005-05-03 | Fifth Element Nv | Verbeterde inrichting voor het realiseren van een wervelbed. |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2654659A (en) * | 1947-12-18 | 1953-10-06 | Phillips Petroleum Co | Distribution for inlet gas |
| FR2226207A1 (en) * | 1973-04-20 | 1974-11-15 | Anvar | Diffuser for fluidising gas entering fluidisation bed - comprises filamentary gas jets at about 45 degrees to base of bed |
| CA1152052A (en) * | 1980-06-27 | 1983-08-16 | William A. Blanton, Jr. | Flue gas pollutants control in particulate catalyst regeneration |
-
1989
- 1989-09-19 GB GB898921190A patent/GB8921190D0/en active Pending
-
1990
- 1990-09-13 EP EP90202435A patent/EP0421506A1/en not_active Withdrawn
- 1990-09-17 JP JP2244129A patent/JPH03106435A/ja active Pending
- 1990-09-17 ZA ZA907385A patent/ZA907385B/xx unknown
- 1990-09-17 AU AU62576/90A patent/AU6257690A/en not_active Abandoned
- 1990-09-17 CA CA002025513A patent/CA2025513A1/en not_active Abandoned
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| ZA907385B (en) | 1991-06-26 |
| GB8921190D0 (en) | 1989-11-08 |
| CA2025513A1 (en) | 1991-03-20 |
| AU6257690A (en) | 1991-03-28 |
| EP0421506A1 (en) | 1991-04-10 |
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