JPH03106721A - 縦型ウエーハ搬送装置 - Google Patents
縦型ウエーハ搬送装置Info
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- JPH03106721A JPH03106721A JP1243417A JP24341789A JPH03106721A JP H03106721 A JPH03106721 A JP H03106721A JP 1243417 A JP1243417 A JP 1243417A JP 24341789 A JP24341789 A JP 24341789A JP H03106721 A JPH03106721 A JP H03106721A
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
- H10P72/30—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for conveying, e.g. between different workstations
- H10P72/32—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
- H10P72/3202—Mechanical details, e.g. rollers or belts
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- H10P72/30—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for conveying, e.g. between different workstations
- H10P72/34—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading
- H10P72/3404—Storage means
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65H—HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL, e.g. SHEETS, WEBS, CABLES
- B65H2404/00—Parts for transporting or guiding the handled material
- B65H2404/20—Belts
- B65H2404/23—Belts with auxiliary handling means
- B65H2404/232—Blade, plate, finger
- B65H2404/2321—Blade, plate, finger on two opposite belts or set of belts, i.e. having active handling section cooperating with and facing to each other
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Intermediate Stations On Conveyors (AREA)
- Delivering By Means Of Belts And Rollers (AREA)
- Specific Conveyance Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
この発明は縦型ウェーハ搬送装置に関し、特に半導体装
置製造工程中で半導体ウェーハを搬送するための縦型ウ
ェーハ搬送装置に関するものである． ［従来の技術］ 半導体素子の生産性の向上に向けて半導体ウェーハは大
口径化が進み、口径は今や約２０ｃｌｌ１乃至約２５ｃ
ｍに達しまたそれ以上にもなろうとしている。
置製造工程中で半導体ウェーハを搬送するための縦型ウ
ェーハ搬送装置に関するものである． ［従来の技術］ 半導体素子の生産性の向上に向けて半導体ウェーハは大
口径化が進み、口径は今や約２０ｃｌｌ１乃至約２５ｃ
ｍに達しまたそれ以上にもなろうとしている。
これに伴って従来のバッチ式の生産形態は急速にベルト
あるいはエアーベアリングによるコンベアを用いた単体
流し式に変わり、加工精度を上げられる様になって来て
いる。
あるいはエアーベアリングによるコンベアを用いた単体
流し式に変わり、加工精度を上げられる様になって来て
いる。
第４図は、通常用いられる写真製版のためのエアーベア
リングコンベアラインを示す斜視図である．この図に於
いて、ウェーハ供給カセット（１）から順次供給される
半導体ウェーハ（２〉はエアーベアリングコンベア（３
）により矢印の方向に搬送され、順次各種の加工が施さ
れる。第４図に於いては、半導体ウェーハ《２〉は、ホ
トレジストコーティングチャンバー（４〉、プリベーキ
ングゾーン（５）、パターン焼付機（６）、現像チャン
バ（７）、ポストベーキングゾーン（８）、レジストイ
ンスベクター（９）、ホトエッチングチャンバー（１０
）、ホトレジスト除去チャンバー（１１）、脱水ベーキ
ングゾーン〈１２〉、パターンインスベクター（１３）
を順次通って収納用カセット（１４）に半導体ウェーハ
（２）が収納されて一連の写真製版が行われる． ［発明が解決しようとする課題］ このような半導体ウェーハの搬送方法は、搬送が一方向
だけでとのウェーハにも同じ加工を施す場合には満足す
べきものである．しかしながら、近年、客先希望によっ
てパターンを変えた客先用途向け仕様のウェーハを混合
して同一ラインで流す必要性が高くなっており、例えば
＾ｐｐｌｉｃａｔｉｏｎＳｐｅｃｉｆｉｃ ＩＣ （＾
ＳＩＣ）と呼ばれるＩＣの場合がそうである．製造ライ
ンにとっては、特定客先毎にラインを組み替えることは
ロスが多いので避けねばならない反面、自動化および無
人（塵）化を進めねばならない． 例えば第４図に於いて、或る加エチャンバが不要となる
仕様のウェーハが流れるときは、ラインの管理が非常に
しにくいことになる．また、コンベアの途中で品質チェ
ックのために一部のウェーハの抜き取りとか、一時待機
あるいはストックなどの操作を行おうとすると全ライン
が停止すると言う欠点があった．また、このような一時
ストック、ライン分岐等を少ないスペースで可能にする
必要がある． 従って、この発明の目的は、半導体ウェーハ製造ライン
に用いて、少ないスペースで半導体ウエー八の一時スト
ック、コンベアラインの分岐あるいはプロセス飛び越し
を可能にする縦型ウェーハ搬送装置を得ることである． ［課題を解決するための手段］ この目的を達成するために、本発明の縦型ウェーハ搬送
装置は、多数の平行な棚部を有する一対の無限ベルトを
互いに離間させて棚部を向がい合わせて支持し、無限ベ
ルト間に入口および出口を有する垂直移送路を形成させ
、無限ベルトを無限ループに沿って駆動できるように支
持している．縦型ウェーハ搬送装置はまた、一対の無限
ベルトを垂直移送路内では同速度で同方向に移動するよ
う無限ループに沿って駆動する駆動装置と、垂直移送路
の入口にウェーハを搬送する入口搬送装置と、垂直移送
路の出口からウェーハを搬送する出口搬送装置とを備え
ている． ［作 用］ 本発明による縦型ウェーハ搬送装置は、無限ベルトの向
かい合わせになった棚部に半導体ウェーハを支持し、無
限ベルトを駆動することにまりウェーハを上下に搬送で
きる． ［実施例］ 第１図は本発明による一実施例の縦型ウェーハ搬送装置
（２０）を示す斜視図である．縦型ウェーハ搬送装置（
２０）は、基台（２１）と、基台（２１）に支持された
４本の支柱（２２）と、支柱（２２）により回転可能に
支持された４つのプーリー（２３）とを備えた支持装置
（２０を備えている．この支持装置《２４）には、多数
の平行な棚部《２５）を有する一対の無嘩ベルト（２６
）が支持されている．支持装置（２４）のプーリー（２
３）は、一対の無限ベルト（２６）を互いに離間させて
棚部（２５）が向かい合わせになるように支持し、無限
ベルト（２６〉がプーリー（２３〉により形成された無
限ループＬに沿って駆動され得るようにされている．支
持装！ （２４）は、無限ベルト（２６）間に入口（２
７）および出口（２８）を有する垂直移送路（２９）を
形威している．この垂直移送路（２９）では無限ベルト
（２６）の欄部〈２５）にその縁部が載せられて半導体
ウェーハ（Ｗ）が搬送される． 無限ベルト（２６）を垂直移送路（２９〉内で矢印で示
す如く同速度で同方向に移動するよう無限ループに沿っ
て駆動するために、駆動装置（３０）が基台（２１）上
に設けられてプーリー（２３）に接続されている．この
実施例では駆動装Ｎ（３０）は２台のステッピングモー
ターである． 縦型ウェーハ搬送装置（２０）は更に、垂直移送路（２
９）の入口（２７）にウェーハ（Ｗ）を搬送する入口搬
送装置（３１）と、垂直移送路（２９）の出口（２８）
からウェーハ（Ｗ）を搬出する出口搬出装！ （３２）
とを備えている。入口搬送装置（３ｌ）は、図示の例で
は先端が無限ベルト（２６）間の垂直移送路（２９）の
入口（２７）に挿入されたエアーベアリングコンベアで
あり、無限ベルト（２６）に対してエアーベアリングコ
ンベア（３ｌ）の上を運ばれて来た半導体ウェーハ（Ｗ
）の両側の縁部がそれぞれの側の無限ベルト（２６）の
棚部ク２５）の上方に位置するような関係にしてある．
エアーベアリングコンベアとは、一方向に傾けられた一
連の多数のノズルから空気を吹き出して空気流れの層を
作り、これにより物体を搬送する周知の装置である。
リングコンベアラインを示す斜視図である．この図に於
いて、ウェーハ供給カセット（１）から順次供給される
半導体ウェーハ（２〉はエアーベアリングコンベア（３
）により矢印の方向に搬送され、順次各種の加工が施さ
れる。第４図に於いては、半導体ウェーハ《２〉は、ホ
トレジストコーティングチャンバー（４〉、プリベーキ
ングゾーン（５）、パターン焼付機（６）、現像チャン
バ（７）、ポストベーキングゾーン（８）、レジストイ
ンスベクター（９）、ホトエッチングチャンバー（１０
）、ホトレジスト除去チャンバー（１１）、脱水ベーキ
ングゾーン〈１２〉、パターンインスベクター（１３）
を順次通って収納用カセット（１４）に半導体ウェーハ
（２）が収納されて一連の写真製版が行われる． ［発明が解決しようとする課題］ このような半導体ウェーハの搬送方法は、搬送が一方向
だけでとのウェーハにも同じ加工を施す場合には満足す
べきものである．しかしながら、近年、客先希望によっ
てパターンを変えた客先用途向け仕様のウェーハを混合
して同一ラインで流す必要性が高くなっており、例えば
＾ｐｐｌｉｃａｔｉｏｎＳｐｅｃｉｆｉｃ ＩＣ （＾
ＳＩＣ）と呼ばれるＩＣの場合がそうである．製造ライ
ンにとっては、特定客先毎にラインを組み替えることは
ロスが多いので避けねばならない反面、自動化および無
人（塵）化を進めねばならない． 例えば第４図に於いて、或る加エチャンバが不要となる
仕様のウェーハが流れるときは、ラインの管理が非常に
しにくいことになる．また、コンベアの途中で品質チェ
ックのために一部のウェーハの抜き取りとか、一時待機
あるいはストックなどの操作を行おうとすると全ライン
が停止すると言う欠点があった．また、このような一時
ストック、ライン分岐等を少ないスペースで可能にする
必要がある． 従って、この発明の目的は、半導体ウェーハ製造ライン
に用いて、少ないスペースで半導体ウエー八の一時スト
ック、コンベアラインの分岐あるいはプロセス飛び越し
を可能にする縦型ウェーハ搬送装置を得ることである． ［課題を解決するための手段］ この目的を達成するために、本発明の縦型ウェーハ搬送
装置は、多数の平行な棚部を有する一対の無限ベルトを
互いに離間させて棚部を向がい合わせて支持し、無限ベ
ルト間に入口および出口を有する垂直移送路を形成させ
、無限ベルトを無限ループに沿って駆動できるように支
持している．縦型ウェーハ搬送装置はまた、一対の無限
ベルトを垂直移送路内では同速度で同方向に移動するよ
う無限ループに沿って駆動する駆動装置と、垂直移送路
の入口にウェーハを搬送する入口搬送装置と、垂直移送
路の出口からウェーハを搬送する出口搬送装置とを備え
ている． ［作 用］ 本発明による縦型ウェーハ搬送装置は、無限ベルトの向
かい合わせになった棚部に半導体ウェーハを支持し、無
限ベルトを駆動することにまりウェーハを上下に搬送で
きる． ［実施例］ 第１図は本発明による一実施例の縦型ウェーハ搬送装置
（２０）を示す斜視図である．縦型ウェーハ搬送装置（
２０）は、基台（２１）と、基台（２１）に支持された
４本の支柱（２２）と、支柱（２２）により回転可能に
支持された４つのプーリー（２３）とを備えた支持装置
（２０を備えている．この支持装置《２４）には、多数
の平行な棚部《２５）を有する一対の無嘩ベルト（２６
）が支持されている．支持装置（２４）のプーリー（２
３）は、一対の無限ベルト（２６）を互いに離間させて
棚部（２５）が向かい合わせになるように支持し、無限
ベルト（２６〉がプーリー（２３〉により形成された無
限ループＬに沿って駆動され得るようにされている．支
持装！ （２４）は、無限ベルト（２６）間に入口（２
７）および出口（２８）を有する垂直移送路（２９）を
形威している．この垂直移送路（２９）では無限ベルト
（２６）の欄部〈２５）にその縁部が載せられて半導体
ウェーハ（Ｗ）が搬送される． 無限ベルト（２６）を垂直移送路（２９〉内で矢印で示
す如く同速度で同方向に移動するよう無限ループに沿っ
て駆動するために、駆動装置（３０）が基台（２１）上
に設けられてプーリー（２３）に接続されている．この
実施例では駆動装Ｎ（３０）は２台のステッピングモー
ターである． 縦型ウェーハ搬送装置（２０）は更に、垂直移送路（２
９）の入口（２７）にウェーハ（Ｗ）を搬送する入口搬
送装置（３１）と、垂直移送路（２９）の出口（２８）
からウェーハ（Ｗ）を搬出する出口搬出装！ （３２）
とを備えている。入口搬送装置（３ｌ）は、図示の例で
は先端が無限ベルト（２６）間の垂直移送路（２９）の
入口（２７）に挿入されたエアーベアリングコンベアで
あり、無限ベルト（２６）に対してエアーベアリングコ
ンベア（３ｌ）の上を運ばれて来た半導体ウェーハ（Ｗ
）の両側の縁部がそれぞれの側の無限ベルト（２６）の
棚部ク２５）の上方に位置するような関係にしてある．
エアーベアリングコンベアとは、一方向に傾けられた一
連の多数のノズルから空気を吹き出して空気流れの層を
作り、これにより物体を搬送する周知の装置である。
出口搬出装！ （３２＞は、垂直移送路（２９〉の出口
（２８）に望んで一端が取り付けられたエアーベアリン
グコンベア（３３）と、出口（２８〉とエアーベアリン
グコンベア（３３）との間で半導体ウェーハ（Ｗ）を移
送できる移送装置（３４）とを備えている．移送装置（
３４）は、吸着パッド（３５〉と、吸着パッド（３５）
に接続された真空源（３６〉と、吸着パッド（３５）を
動かすための駆動装置（３７）とを備えている．吸着パ
ッド（３５〉の代わりに静電チャック、機械的チャック
、ベルヌーイチャ，ツク等を用いることもできる。
（２８）に望んで一端が取り付けられたエアーベアリン
グコンベア（３３）と、出口（２８〉とエアーベアリン
グコンベア（３３）との間で半導体ウェーハ（Ｗ）を移
送できる移送装置（３４）とを備えている．移送装置（
３４）は、吸着パッド（３５〉と、吸着パッド（３５）
に接続された真空源（３６〉と、吸着パッド（３５）を
動かすための駆動装置（３７）とを備えている．吸着パ
ッド（３５〉の代わりに静電チャック、機械的チャック
、ベルヌーイチャ，ツク等を用いることもできる。
このような構成の縦型ウェーハ搬送装置に於いて、エア
ーベアリングコンベア（３１）により運ばれて来た半導
体ウェーハ（Ｗ）は、無限ベルト（２６）間に形或され
た垂直移送路（２９〉の入口（２７）に入り、各側縁が
それぞれの無限ベルト（２６）の２つの棚部（２５）間
に挿入される。半導体ウェーハ（Ｗ）が入口（２７）に
入ったことは検出器（３８）により検出され、駆動装Ｗ
（３０）が附勢されて無限ベルト（２６）が棚部（２５
）の１ピッチに相当する距離だけ上に駆動され，半導体
ウェーハ（Ｗ＞の縁部を棚部（２５）に乗せて上方に移
動させる。次の半導体ウェーハ（Ｗ＞が入口（２７）に
入ったときも、これが同様に検知されて無限ベルト（２
６）が１ピッチ分だけ上方に駆動される。
ーベアリングコンベア（３１）により運ばれて来た半導
体ウェーハ（Ｗ）は、無限ベルト（２６）間に形或され
た垂直移送路（２９〉の入口（２７）に入り、各側縁が
それぞれの無限ベルト（２６）の２つの棚部（２５）間
に挿入される。半導体ウェーハ（Ｗ）が入口（２７）に
入ったことは検出器（３８）により検出され、駆動装Ｗ
（３０）が附勢されて無限ベルト（２６）が棚部（２５
）の１ピッチに相当する距離だけ上に駆動され，半導体
ウェーハ（Ｗ＞の縁部を棚部（２５）に乗せて上方に移
動させる。次の半導体ウェーハ（Ｗ＞が入口（２７）に
入ったときも、これが同様に検知されて無限ベルト（２
６）が１ピッチ分だけ上方に駆動される。
この工程を繰り返すと、やがて最初の半導体ウ工−ハ（
Ｗ）が垂直移送路（２９）の出口（２８）に達する。
Ｗ）が垂直移送路（２９）の出口（２８）に達する。
半導体ウェーハ（Ｗ）が出口（２８）に達したことは例
えばレーザーセンサー（３９）等の適当な検出器により
検出され、移送装置（３４）が駆動されてその吸着バッ
ド（３５）により出口（２８〉にある半導体ウェーハ（
Ｗ＞を吸着して持ち上げ、エアーベアリングコンベア（
３３〉上に載せる．エアーベアリングコンベア（３３）
はこの半導体ウェーハ（Ｗ）を図示してない次の工程に
搬送する．この様に、この実施例では、垂直方向に離れ
たコンベアライン間で半導体ウェーハ（Ｗ＞の搬送を行
うことができる．第２図には、コンベアラインに挿入し
て半導体ウェーハを一時的にストックしておくことがで
きる本発明の縦型ウェーハ搬送装置の別の実施例を示す
。この実施例では、縦型ウェーハ搬送装置（４０）の垂
直移送路（４１）が往復型であって、入口（４２）と出
口〈４３）が共通で垂直移送路（４１）の下端にあり、
従って出口搬送用エアーベアリングコンベア（４４）が
垂直移送路（４１〉の下端から次の工程に向かって延び
ている。エアーベアリングコンベアは、無限ベル！−（
２６）間を貫通して延びる連続したものでも良い。
えばレーザーセンサー（３９）等の適当な検出器により
検出され、移送装置（３４）が駆動されてその吸着バッ
ド（３５）により出口（２８〉にある半導体ウェーハ（
Ｗ＞を吸着して持ち上げ、エアーベアリングコンベア（
３３〉上に載せる．エアーベアリングコンベア（３３）
はこの半導体ウェーハ（Ｗ）を図示してない次の工程に
搬送する．この様に、この実施例では、垂直方向に離れ
たコンベアライン間で半導体ウェーハ（Ｗ＞の搬送を行
うことができる．第２図には、コンベアラインに挿入し
て半導体ウェーハを一時的にストックしておくことがで
きる本発明の縦型ウェーハ搬送装置の別の実施例を示す
。この実施例では、縦型ウェーハ搬送装置（４０）の垂
直移送路（４１）が往復型であって、入口（４２）と出
口〈４３）が共通で垂直移送路（４１）の下端にあり、
従って出口搬送用エアーベアリングコンベア（４４）が
垂直移送路（４１〉の下端から次の工程に向かって延び
ている。エアーベアリングコンベアは、無限ベル！−（
２６）間を貫通して延びる連続したものでも良い。
エアーベアリングコンベア〈３１）により垂直移送路（
４１）の入口〈４２）に搬送されてきた半導体ウェーハ
（Ｗ）は、無限ベルト（２６）の棚部（２５）により持
ち上げられて順次垂直移送路（４１）内を上方に移送さ
れる。このように半導体ウェーハ（Ｗ＞が垂直移送路（
４１）に入った場合には、半導体ウェーハ（Ｗ＞は出口
側エアーベアリングコンベア（４４）には出て来ないこ
とになる．半導体ウェーハ（Ｗ）が必要なだけ垂直移送
路（４１〉内にストックされたら無限ベル１−（２６）
の上方への駆動を停止すれば、半導体ウェーハ（Ｗ）は
無限ベルト（２６）間をそのまま水平方向に通過して入
口側エアーベアリングコンベア（３１）から出口側エア
ーベアリングコンベア（４４）へ移動する。次に無限ベ
ルト（２６）の棚部（２５〉間に保持されストックされ
た半導体ウェーハ（Ｗ）をラインに戻すためには、無限
ベルト（２６）を先とは反対方向に下向きに駆動する。
４１）の入口〈４２）に搬送されてきた半導体ウェーハ
（Ｗ）は、無限ベルト（２６）の棚部（２５）により持
ち上げられて順次垂直移送路（４１）内を上方に移送さ
れる。このように半導体ウェーハ（Ｗ＞が垂直移送路（
４１）に入った場合には、半導体ウェーハ（Ｗ＞は出口
側エアーベアリングコンベア（４４）には出て来ないこ
とになる．半導体ウェーハ（Ｗ）が必要なだけ垂直移送
路（４１〉内にストックされたら無限ベル１−（２６）
の上方への駆動を停止すれば、半導体ウェーハ（Ｗ）は
無限ベルト（２６）間をそのまま水平方向に通過して入
口側エアーベアリングコンベア（３１）から出口側エア
ーベアリングコンベア（４４）へ移動する。次に無限ベ
ルト（２６）の棚部（２５〉間に保持されストックされ
た半導体ウェーハ（Ｗ）をラインに戻すためには、無限
ベルト（２６）を先とは反対方向に下向きに駆動する。
すると、最後に収納された半導体ウェーハ（Ｗ）が最初
にエアーベアリングコンベア（３１，４４）上に戻され
て次の工程に送られる。
にエアーベアリングコンベア（３１，４４）上に戻され
て次の工程に送られる。
このようにこの実施例に於いては、無限ベルト（２６）
の運転の仕方により、この発明の縦型ウェーハ搬送装置
を半導体ウェーハ（Ｗ）を一時的にストックするために
用いることもでき、半導体ウェーハ（Ｗ）の供給順序を
変えることもでき、また半導体ウェーハ（Ｗ）の供給を
選択的あるいは断続的に行うこともできる。
の運転の仕方により、この発明の縦型ウェーハ搬送装置
を半導体ウェーハ（Ｗ）を一時的にストックするために
用いることもでき、半導体ウェーハ（Ｗ）の供給順序を
変えることもでき、また半導体ウェーハ（Ｗ）の供給を
選択的あるいは断続的に行うこともできる。
第３図には、本発明の縦型ウェーハ搬送装置の別の実施
例を通常用いられる写真製版のためのエアーベアリング
コンベアラインに用いた例を示す斜視図である．この図
に於いて、ウェーハ供給カセット（１）から順次供給さ
れる半導体ウェーハ（Ｗ）はエアーベアリングコンベア
（３）により矢印の方向に搬送され、順次各種の加工が
施される．第３図に於いては、半導体ウェーハ（Ｗ＞は
、ホトレジストコーティングチャンバー（４〉、プリベ
ーキングゾーン＜５）、パターン焼付機（６）、現像チ
ャンバ（７）、ポストベーキングゾーン（８〉、レジス
トインスベクター（９〉、ホトエッチングチャンバー（
１０）、ホトレジスト除去チャンバー〈１１〉および脱
水ベーキングゾーン（１２〉を順次通り、本発明の縦型
ウェーハ搬送装置（５０）に供給される．ここでは、縦
型ウェーハ搬送装置（５０）は、半導体ウェーハ（Ｗ）
をより分けて、第１のパターンインスベクター（１３〉
を通って第１の収納用カセット（ｌ４）に収納する第１
のライン（５１）と、第１のラインの上方に設けられて
、第２のパターンインスベクター（１３０）を通って第
２の収納用カセット（１４Ｇ）に収納する第２のライン
（５２〉とに選択的に搬送する．即ち、半導体ウェーハ
（Ｗ）はウェーハ供給用カセット（１〉からラインに入
って順・次第４図と同様の加工が行われ、縦型ウェーハ
搬送装！（５０）に達する．半導体ウェーハ（Ｗ）の品
種の管理が一律で良い場合には縦型ウェーハ搬送装置（
５０）は運転されず、半導体ウェーハ（Ｗ）はそのまま
通過して第１のライン（５１）に供給され、エアーベア
リングコンベア（５３）によりパターンインスベクター
（１３）を通されて検査され、収納用カセット（１４）
に収納される．しかしながら、半導体ウェーハ（Ｗ）の
品種の管理を二種類以上に分けることが必要な場合には
、第２のライン（５２）に供給すべき半導体ウエー・ハ
（Ｗ）が縦型ウェーハ搬送装置（５０〉に入ったときに
、その無限ベルト（２６）を駆動して垂直方向に搬送し
、吸着パッド（３５）により第２のライン（５２）の第
２のエアーベアリングコンベア（５４）上に移す．この
半導体ウェーハ（Ｗ）は第１のライン（５１）の場合と
同様に、第２のパターンインスベクター（１３Ｇ）によ
り検査された後収納用カセ・シト（１４０）に収納され
る。
例を通常用いられる写真製版のためのエアーベアリング
コンベアラインに用いた例を示す斜視図である．この図
に於いて、ウェーハ供給カセット（１）から順次供給さ
れる半導体ウェーハ（Ｗ）はエアーベアリングコンベア
（３）により矢印の方向に搬送され、順次各種の加工が
施される．第３図に於いては、半導体ウェーハ（Ｗ＞は
、ホトレジストコーティングチャンバー（４〉、プリベ
ーキングゾーン＜５）、パターン焼付機（６）、現像チ
ャンバ（７）、ポストベーキングゾーン（８〉、レジス
トインスベクター（９〉、ホトエッチングチャンバー（
１０）、ホトレジスト除去チャンバー〈１１〉および脱
水ベーキングゾーン（１２〉を順次通り、本発明の縦型
ウェーハ搬送装置（５０）に供給される．ここでは、縦
型ウェーハ搬送装置（５０）は、半導体ウェーハ（Ｗ）
をより分けて、第１のパターンインスベクター（１３〉
を通って第１の収納用カセット（ｌ４）に収納する第１
のライン（５１）と、第１のラインの上方に設けられて
、第２のパターンインスベクター（１３０）を通って第
２の収納用カセット（１４Ｇ）に収納する第２のライン
（５２〉とに選択的に搬送する．即ち、半導体ウェーハ
（Ｗ）はウェーハ供給用カセット（１〉からラインに入
って順・次第４図と同様の加工が行われ、縦型ウェーハ
搬送装！（５０）に達する．半導体ウェーハ（Ｗ）の品
種の管理が一律で良い場合には縦型ウェーハ搬送装置（
５０）は運転されず、半導体ウェーハ（Ｗ）はそのまま
通過して第１のライン（５１）に供給され、エアーベア
リングコンベア（５３）によりパターンインスベクター
（１３）を通されて検査され、収納用カセット（１４）
に収納される．しかしながら、半導体ウェーハ（Ｗ）の
品種の管理を二種類以上に分けることが必要な場合には
、第２のライン（５２）に供給すべき半導体ウエー・ハ
（Ｗ）が縦型ウェーハ搬送装置（５０〉に入ったときに
、その無限ベルト（２６）を駆動して垂直方向に搬送し
、吸着パッド（３５）により第２のライン（５２）の第
２のエアーベアリングコンベア（５４）上に移す．この
半導体ウェーハ（Ｗ）は第１のライン（５１）の場合と
同様に、第２のパターンインスベクター（１３Ｇ）によ
り検査された後収納用カセ・シト（１４０）に収納され
る。
また、このようにして第２のライン（５２）の収納用カ
セット（１４０）をストッカーとして用い、第２のエア
ーベアリングコンベア（５４）および縦型ウェーハ搬送
装置（５０）の無限ベルト（２６）を逆方向に運転すれ
ば、第２の収納用カセット（１４Ｇ）に収納された半導
体ウェーハ（Ｗ）を第１のライン（５１）に供給するこ
ともできる。
セット（１４０）をストッカーとして用い、第２のエア
ーベアリングコンベア（５４）および縦型ウェーハ搬送
装置（５０）の無限ベルト（２６）を逆方向に運転すれ
ば、第２の収納用カセット（１４Ｇ）に収納された半導
体ウェーハ（Ｗ）を第１のライン（５１）に供給するこ
ともできる。
更に、第１および第２の収納用カセット（１４および１
４０）の代わりに本発明の縦型ウェーハ搬送装置を設け
て、これに通常のカセット型ウェーハ収納治具と同様の
櫛形渭を利用して、縦型ウェーハ搬送装置を収納用カセ
ットとして利用することもできる． また、第３図の例では縦型ウェーハ搬送装置（５Ｏ）を
２段のライン（５１． ５２）と共に用いているが、３
段あるいはそれ以上のラインと共に用いることもできる
．この場合、中間段のラインに半導体ウェーハを移送す
るためには、無限ベルト間の垂直移送路にラインの反対
側から挿入されて無限ベルトにより支持された半導体ウ
ェーハをエアーベアリングコンベア上に押し出すプッシ
ャーを用いるとよい． ［発明の効果］ 以上の説明から明らかな通り、本発明の縦型ウェーハ搬
送装置は、多数の平行な棚部を有する一対の無限ベルト
を互いに離間させて棚部を向かい合わせて支持し、無限
ベルト間に入口および出口を有する垂直移送路を形戒さ
せ、無限ベルトを無限ループに沿って駆動できるように
支持している。
４０）の代わりに本発明の縦型ウェーハ搬送装置を設け
て、これに通常のカセット型ウェーハ収納治具と同様の
櫛形渭を利用して、縦型ウェーハ搬送装置を収納用カセ
ットとして利用することもできる． また、第３図の例では縦型ウェーハ搬送装置（５Ｏ）を
２段のライン（５１． ５２）と共に用いているが、３
段あるいはそれ以上のラインと共に用いることもできる
．この場合、中間段のラインに半導体ウェーハを移送す
るためには、無限ベルト間の垂直移送路にラインの反対
側から挿入されて無限ベルトにより支持された半導体ウ
ェーハをエアーベアリングコンベア上に押し出すプッシ
ャーを用いるとよい． ［発明の効果］ 以上の説明から明らかな通り、本発明の縦型ウェーハ搬
送装置は、多数の平行な棚部を有する一対の無限ベルト
を互いに離間させて棚部を向かい合わせて支持し、無限
ベルト間に入口および出口を有する垂直移送路を形戒さ
せ、無限ベルトを無限ループに沿って駆動できるように
支持している。
縦型ウェーハ搬送装置はまた、一対の無限ベルトを垂直
移送路内では同速度で同方向に移動するよう無限ループ
に沿って駆動する駆動装置と、垂直移送路の入口に半導
体ウエー八を搬送する入口搬送装置と、垂直移送路の出
口から半導体ウェーハを搬送する出口搬送装置とを備え
ている．従って、本発明による縦型ウェーハ搬送装置は
、無限ベルトの向かい合わせになった棚部に半導体ウェ
ーハを支持し、無限ベルトを駆動することにより半導体
ウェーハを上下に搬送でき、半導体ウェーハ製造ライン
に用いて、少ないスペースで半導体ウェーハの一時スト
ック、コンベアラインの分岐あるいはプロセス飛び越し
を可能にする縦型ウェーハ搬送装置が得られる．
移送路内では同速度で同方向に移動するよう無限ループ
に沿って駆動する駆動装置と、垂直移送路の入口に半導
体ウエー八を搬送する入口搬送装置と、垂直移送路の出
口から半導体ウェーハを搬送する出口搬送装置とを備え
ている．従って、本発明による縦型ウェーハ搬送装置は
、無限ベルトの向かい合わせになった棚部に半導体ウェ
ーハを支持し、無限ベルトを駆動することにより半導体
ウェーハを上下に搬送でき、半導体ウェーハ製造ライン
に用いて、少ないスペースで半導体ウェーハの一時スト
ック、コンベアラインの分岐あるいはプロセス飛び越し
を可能にする縦型ウェーハ搬送装置が得られる．
第１図は本発明の縦型ウェーハ搬送装置の１実施例を示
す斜視図、 第２図は本発明の縦型ウェーハ搬送装置の別の実施例を
示す斜視図、 第３図は本発明の縦型ウェーハ搬送装置の更に別の実施
例を半導体ウェーハ製造ラインに適用した例を示す斜視
図、 第４図は従来の半導体ウェーハ製造ラインの一例を示す
斜視図である． ２４ ２６ ２８ ３ ０ ３２ Ｗ 支持装置 無限ベルト 出口 駆動装置 出口搬送装置 ウェーハ ２５ ２７ ２９ ３１ Ｌ
す斜視図、 第２図は本発明の縦型ウェーハ搬送装置の別の実施例を
示す斜視図、 第３図は本発明の縦型ウェーハ搬送装置の更に別の実施
例を半導体ウェーハ製造ラインに適用した例を示す斜視
図、 第４図は従来の半導体ウェーハ製造ラインの一例を示す
斜視図である． ２４ ２６ ２８ ３ ０ ３２ Ｗ 支持装置 無限ベルト 出口 駆動装置 出口搬送装置 ウェーハ ２５ ２７ ２９ ３１ Ｌ
Claims (1)
- （１）多数の平行な棚部を有する一対の無限ベルトと、 上記一対の無限ベルトを互いに離間させて上記棚部を向
かい合わせて支持し、上記無限ベルト間に入口および出
口を有する垂直移送路を形成させ、上記無限ベルトを無
限ループに沿って駆動できるように支持する支持装置と
、 上記一対の無限ベルトを上記垂直移送路内では同速度で
同方向に移動するよう上記無限ループに沿って駆動する
駆動装置と、 上記垂直移送路の上記入口にウェーハを搬送する入口搬
送装置と、 上記垂直移送路の上記出口からウェーハを搬送する出口
搬送装置とを備えた縦型ウェーハ搬送装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1243417A JPH03106721A (ja) | 1989-09-21 | 1989-09-21 | 縦型ウエーハ搬送装置 |
| US07/585,979 US5113992A (en) | 1989-09-21 | 1990-09-20 | Vertical wafer carrying apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1243417A JPH03106721A (ja) | 1989-09-21 | 1989-09-21 | 縦型ウエーハ搬送装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03106721A true JPH03106721A (ja) | 1991-05-07 |
Family
ID=17103559
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1243417A Pending JPH03106721A (ja) | 1989-09-21 | 1989-09-21 | 縦型ウエーハ搬送装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5113992A (ja) |
| JP (1) | JPH03106721A (ja) |
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