JPH03108331A - 高精度研磨装置 - Google Patents

高精度研磨装置

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Publication number
JPH03108331A
JPH03108331A JP1245926A JP24592689A JPH03108331A JP H03108331 A JPH03108331 A JP H03108331A JP 1245926 A JP1245926 A JP 1245926A JP 24592689 A JP24592689 A JP 24592689A JP H03108331 A JPH03108331 A JP H03108331A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
precision polishing
wafer
wax
autocollimator
high precision
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP1245926A
Other languages
English (en)
Inventor
Yutaro Endo
遠藤 雄太郎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
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Publication of JPH03108331A publication Critical patent/JPH03108331A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、高精度研磨装置に係り、特にウェハの平行
度調整に関するものである。
〔従来の技術〕
第2図は従来のこの種の高精度研磨装置を示す断面図で
あり、図において、1はウェハ、2はオプティカル・フ
ラット(以下、O/Fという)、4はシリンダ、5は角
度調整ネジ(X/Y)、6はバネ、7はウェハ取付台、
8は平行度を測定するオートコリメータ、9はウェハを
研磨するガラス板である。
次に作用について説明する。高精度研磨装置は、オート
コリメータ8により光学的にウェハ1の平行度を調整、
検査をしながら研磨する装置である。
07F2に対し平行にウェハ1を貼り付け、それをウェ
ハ取付台7に固定する。このウェハ取付台7の中心には
円柱状の空洞7aが形成されており、この空洞を通して
オートコリメータ8から発した光が0/F2に当たり、
そのはね返ってきた光の位置でO/F2の平行度を調整
する。この際、O/F2とウェハ1は平行でなれければ
ならないが、高精度に平行にするには、0/F2を多孔
質セラミック製のものとし、この0/F2の上(表面A
)にヒータで加熱しながらワックスを塗り、完全にワッ
クスが溶けるとウェハをのせるようにする。
その時、第3図のように多孔質セラミックでできたO/
Fにワックスがしみ込み、ウェハ1と0/F2との間の
ワックスが極力おさえられ、ワックス厚を薄く均一に、
かつ平行に貼り付けることができる。
〔発明が解決しようとする課題〕
従来の高精度研磨装置は以上のように構成されているが
、0/F2にワックスを塗った際、O/Fの裏面Bにワ
ックスがしみ出してきて、O/Fの裏面が反射鏡の役割
を果せなくなり、オートコリメータからの光を反射する
ことができず、平行度の調整に困難が生ずる場合があっ
た。
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、O/Fの裏面からのワックスのしみ出しを無
くし、O/Fの反射鏡としての性能を向上させ、オート
コリメータによるウェハの平行度の調整を容易にできる
高精度研磨装置を得ることを目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
この発明に係る高精度研磨装置は、多孔質セラミックで
できたO/Fの裏面に熱膨張率がそれと同程度の反射鏡
を貼着したものである。
〔作用〕 この発明における高精度研磨装置は、反射鏡を貼り付け
た多孔質セラミックのO/Fにより、ワックスが裏面に
しみ出さず、両脇からしみ出し、オートコリメータから
の光の反射を容易にする。
〔実施例〕
以下、この発明の一実施例を図について説明する。第1
図において、1はウェハ、2はO/Fの主部をなしワッ
クスをしみ込ませることのできる多孔質セラミックでで
きたO/F、3はこの多孔質セラミックの裏面Bに貼着
され、それと同程度の熱膨張率でなる、例えば、金属、
ガラス、セラミックなど反射鏡になり得る部材で、ワッ
クスがしみ込まずオートコリメータから発した光を反射
することができる。そしてこれら2と3とにより07F
を形成する。
次にその作用について説明する。この発明では、0/F
が、ワックスをしみこますための多孔質セラミック2の
部分と、オートコリメータ8からの光を反射させる反射
鏡3の部分に分かれた構造となっているため、従来例の
ように、O/Fにワックスを塗った際、裏面にワックス
がしみ出してきてO/Fの裏面が反射鏡の役割を果せな
くなるようなことはなく、オートコリメータからの光を
容易に反射することができ、ウェハの平行度の調整を改
善し得る。
〔発明の効果〕
以上のようにこの発明によれば、O/Fを多孔質セラミ
ックと反射鏡により構成したので、オートコリメータに
よるウェハ平行出しが容易になり、精度の高い研磨装置
が得られる効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例による高精度研磨装置のO
/Fを示す断面側面図、第2図は従来の高精度研磨装置
を示す断面側面図、第3図は従来の高精度研磨装置の0
/Fを示す断面側面図である。 図中、1はウェハ、2はO/F、3は反射鏡、4はシリ
ンダ、5は角度調整ネジ、6はバネ、7はウェハ取付台
、8はオートコリメータ、9はガラス板である。 なお、図中同一符号は同−又は相当部分を示す。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 多孔質セラミック層よりなるオプティカル・フラットを
    備えた高精度研磨装置において、上記オプティカル・フ
    ラットの片面の少なくとも一部に反射鏡となる部材を貼
    着したことを特徴とする高精度研磨装置。
JP1245926A 1989-09-20 1989-09-20 高精度研磨装置 Pending JPH03108331A (ja)

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JPH03108331A true JPH03108331A (ja) 1991-05-08

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105619184A (zh) * 2015-12-29 2016-06-01 上海现代先进超精密制造中心有限公司 X向反射镜的高精密加工方法
CN107052948A (zh) * 2017-04-24 2017-08-18 上海现代先进超精密制造中心有限公司 一种卡塞格林主镜精密加工方法及其配套夹具
US12144284B2 (en) 2018-07-30 2024-11-19 Kubota Corporation Combine harvester with a threshing device and detachable top plate

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