JPH03109568A - 電子写真感光体及びその製造方法 - Google Patents
電子写真感光体及びその製造方法Info
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- JPH03109568A JPH03109568A JP1246503A JP24650389A JPH03109568A JP H03109568 A JPH03109568 A JP H03109568A JP 1246503 A JP1246503 A JP 1246503A JP 24650389 A JP24650389 A JP 24650389A JP H03109568 A JPH03109568 A JP H03109568A
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- G03G5/02—Charge-receiving layers
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- G03G5/047—Photoconductive layers characterised by having two or more layers or characterised by their composite structure characterised by the charge-generation layers or charge transport layers
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、電子写真感光体及びその製造方法に関し、詳
しくは、機能分離型感光層を有する電子写真感光体及び
その製造方法に関する。
しくは、機能分離型感光層を有する電子写真感光体及び
その製造方法に関する。
従来の技術
近年、光照射により電荷担体を発生させる電荷発生層と
、電荷発生層で生じた電荷担体を効率良く注入でき、か
つ効率的に移動可能な電荷輸送層とに分離した、いわゆ
る機能分離型感光層を有する電子写真感光体において、
電荷発生層として、非晶質ケイ素を、また電荷輸送層と
して、プラズマＣＶＤ法で形成された非晶質材料を用い
た電子写真感光体が注目されている。これは非晶質ケイ
素の有する優れた特性である光感度、高硬度、熱安定性
を損なうことなく、従来の非晶質ケイ素系電子写真感光
体の帯電性、生産性を根本的に改善できる可能性を有し
ており、電気的に安定な繰り返し特性を有し、長寿命の
電子写真感光体を得る可能性を有するためであり、これ
らの点に着目して、種々の電荷輸送層を有する非晶質ケ
イ素系電子写真感光体が提案されている。この様な機能
分離型の非晶質ケイ素系電子写真感光体において、電荷
輸送層としては、プラズマＣＶＤ法で形成された、例え
ば米国特許第４．６３４，６４８号明細書に開示されて
いる酸化ケイ素やアモルファスカーボンよりなるものを
使用することができる。
、電荷発生層で生じた電荷担体を効率良く注入でき、か
つ効率的に移動可能な電荷輸送層とに分離した、いわゆ
る機能分離型感光層を有する電子写真感光体において、
電荷発生層として、非晶質ケイ素を、また電荷輸送層と
して、プラズマＣＶＤ法で形成された非晶質材料を用い
た電子写真感光体が注目されている。これは非晶質ケイ
素の有する優れた特性である光感度、高硬度、熱安定性
を損なうことなく、従来の非晶質ケイ素系電子写真感光
体の帯電性、生産性を根本的に改善できる可能性を有し
ており、電気的に安定な繰り返し特性を有し、長寿命の
電子写真感光体を得る可能性を有するためであり、これ
らの点に着目して、種々の電荷輸送層を有する非晶質ケ
イ素系電子写真感光体が提案されている。この様な機能
分離型の非晶質ケイ素系電子写真感光体において、電荷
輸送層としては、プラズマＣＶＤ法で形成された、例え
ば米国特許第４．６３４，６４８号明細書に開示されて
いる酸化ケイ素やアモルファスカーボンよりなるものを
使用することができる。
発明が解決しようとする課題
非晶質ケイ素系電子写真感光体において、電荷輸送層と
電荷発生層を分離した層構成とし、電荷発生層として非
晶質ケイ素を用い、また電荷輸送層として非晶質ケイ素
に比べてより誘電率の小さく、より高抵抗の物質を用い
ることによって、帯電性を向上させ、暗減衰を減少させ
ることができる。しかしながら、上記プラズマＣＶＤ法
によって作成される膜は、その成膜速度が非晶質系膜の
それと変わらず、また、層構成が複雑になるため、膜欠
陥の発生確率が増大し、感光体の生産性が低く、極めて
高コストであるという問題があった。
電荷発生層を分離した層構成とし、電荷発生層として非
晶質ケイ素を用い、また電荷輸送層として非晶質ケイ素
に比べてより誘電率の小さく、より高抵抗の物質を用い
ることによって、帯電性を向上させ、暗減衰を減少させ
ることができる。しかしながら、上記プラズマＣＶＤ法
によって作成される膜は、その成膜速度が非晶質系膜の
それと変わらず、また、層構成が複雑になるため、膜欠
陥の発生確率が増大し、感光体の生産性が低く、極めて
高コストであるという問題があった。
本発明は、従来の技術における上記のような問題点に鑑
みてなされたものである。
みてなされたものである。
したがって、本発明の目的は、新規な電荷輸送層を有す
る電子写真感光体を提供することにある。
る電子写真感光体を提供することにある。
即ち、本発明の目的は、接着性が良好で、機械的強度・
硬度が高く、欠陥の少ない電荷輸送層を有する高耐久性
の電子写真感光体を提供することにある。
硬度が高く、欠陥の少ない電荷輸送層を有する高耐久性
の電子写真感光体を提供することにある。
本発明の他の目的は、高感度で比色性に富み、高帯電性
で暗減衰が小さく、また露光後の残留電位の少ない電子
写真感光体を提供することにある。
で暗減衰が小さく、また露光後の残留電位の少ない電子
写真感光体を提供することにある。
本発明の他の目的は、帯電特性が外部環境の雰囲気の変
化によって影響を受けない電子写真感光体を提供するこ
とにある。
化によって影響を受けない電子写真感光体を提供するこ
とにある。
又、本発明の更に他の目的は、繰返し使用しても画像品
質の優れた電子写真感光体を提供することにある。
質の優れた電子写真感光体を提供することにある。
本発明の更に他の目的は、上記電子写真感光体を製造す
る方法を提供することにある。
る方法を提供することにある。
課題を解決するための手段及び作用
本発明者等は、先にアルミニウムの酸化物が、電荷輸送
層としての機能を有することを見出だしたが、更に検討
の結果、特定の方法によって多孔質のアルミニウム酸化
物膜を形成し、そしてその孔の内壁に導電物を付着させ
た場合に、物理特性、電子写真特性及び電荷発生層との
密着性において、−層優れたものが得られることを見出
だし、本発明を完成するに至った。
層としての機能を有することを見出だしたが、更に検討
の結果、特定の方法によって多孔質のアルミニウム酸化
物膜を形成し、そしてその孔の内壁に導電物を付着させ
た場合に、物理特性、電子写真特性及び電荷発生層との
密着性において、−層優れたものが得られることを見出
だし、本発明を完成するに至った。
本発明の電子写真感光体は、少なくとも支持体と電荷輸
送層と電荷発生層とを具備し、該電荷輸送層は、少なく
とも表面がアルミニウム又はアルミニウム合金よりなる
支持体を陽極酸化することによって形成された多孔質陽
極酸化アルミニウム皮膜であって、該多孔質陽極酸化ア
ルミニウム皮膜の孔の内壁に、遷移金属の酸素酸塩より
形成された導電物を付着させてなることを′特徴とする
。
送層と電荷発生層とを具備し、該電荷輸送層は、少なく
とも表面がアルミニウム又はアルミニウム合金よりなる
支持体を陽極酸化することによって形成された多孔質陽
極酸化アルミニウム皮膜であって、該多孔質陽極酸化ア
ルミニウム皮膜の孔の内壁に、遷移金属の酸素酸塩より
形成された導電物を付着させてなることを′特徴とする
。
本発明の上記電子写真感光体は、少なくとも表面がアル
ミニウム又はアルミニウム合金よりなる支持体を、硫酸
、リン酸、クロム酸等より選択された無機多塩基酸、又
はしゅう酸、マロン酸、酒石酸等より選択された有機多
塩基酸の１〜３０重量％酸性水溶液中に浸漬し、０．１
〜ｌ０Ａ−ｄＩＩＩ−２の直流を通電して、陽極酸化に
より該支持体上に多孔質陽極酸化アルミニウム皮膜を形
成し、次いで、遷移金属の酸素酸塩の水溶液に浸漬する
ことにより、該多孔質陽極酸化アルミニウム皮膜の孔の
内壁に遷移金属の酸素酸塩を付着させ、或いは、場合に
よってはその付着した遷移金属の酸素酸塩を還元した後
、形成された遷移金属の酸素酸塩により形成された導電
物付着多孔質陽極酸化アルミニウム皮膜からなる電荷輸
送層の上に電荷発生層を形成することによって製造する
ことができる。
ミニウム又はアルミニウム合金よりなる支持体を、硫酸
、リン酸、クロム酸等より選択された無機多塩基酸、又
はしゅう酸、マロン酸、酒石酸等より選択された有機多
塩基酸の１〜３０重量％酸性水溶液中に浸漬し、０．１
〜ｌ０Ａ−ｄＩＩＩ−２の直流を通電して、陽極酸化に
より該支持体上に多孔質陽極酸化アルミニウム皮膜を形
成し、次いで、遷移金属の酸素酸塩の水溶液に浸漬する
ことにより、該多孔質陽極酸化アルミニウム皮膜の孔の
内壁に遷移金属の酸素酸塩を付着させ、或いは、場合に
よってはその付着した遷移金属の酸素酸塩を還元した後
、形成された遷移金属の酸素酸塩により形成された導電
物付着多孔質陽極酸化アルミニウム皮膜からなる電荷輸
送層の上に電荷発生層を形成することによって製造する
ことができる。
以下、本発明の詳細な説明する。
第１図は、本発明の電子写真感光体の模式的断面図であ
って、例えば、直径３０〜２００ ｍｍのパイプ状の支
持体１上に孔内壁全面に導電物が付着した多孔質陽極酸
化アルミニウム皮膜２が形成され、その上に電荷発生層
３が形成されている。
って、例えば、直径３０〜２００ ｍｍのパイプ状の支
持体１上に孔内壁全面に導電物が付着した多孔質陽極酸
化アルミニウム皮膜２が形成され、その上に電荷発生層
３が形成されている。
本発明において、支持体としては、アルミニウム及びそ
の合金（以下、これ等を単にアルミニウムという）より
なるもの、及びアルミニウム以外の導電性支持体及び絶
縁性支持体のいずれをも用いることが出来るが、アルミ
ニウム以外の支持体を用いる場合には、少なくとも他の
層と接触する面に、少なくとも５加以上の膜厚を有する
アルミニウム膜が形成されていることが必要である。こ
のアルミニウム膜は、蒸着法、スパッター法、イオンブ
レーティング法によって形成することが出来る。アルミ
ニウム以外の導電性支持体としては、ステンレススチー
ル、ニッケル、クロム等の金属及びその合金があげられ
、絶縁性支持体としては、ポリエステル、ポリエチレン
、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリアミド、ポリ
イミド等の高分子フィルム又はシート、ガラス、セラミ
ック等があげられる。
の合金（以下、これ等を単にアルミニウムという）より
なるもの、及びアルミニウム以外の導電性支持体及び絶
縁性支持体のいずれをも用いることが出来るが、アルミ
ニウム以外の支持体を用いる場合には、少なくとも他の
層と接触する面に、少なくとも５加以上の膜厚を有する
アルミニウム膜が形成されていることが必要である。こ
のアルミニウム膜は、蒸着法、スパッター法、イオンブ
レーティング法によって形成することが出来る。アルミ
ニウム以外の導電性支持体としては、ステンレススチー
ル、ニッケル、クロム等の金属及びその合金があげられ
、絶縁性支持体としては、ポリエステル、ポリエチレン
、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリアミド、ポリ
イミド等の高分子フィルム又はシート、ガラス、セラミ
ック等があげられる。
本発明において、良好な特性の陽極酸化アルミニウム皮
膜を得るためのアルミニウム材料としては、純Ａｇ系の
材料の他に、Ａ、９−Ｍｇ系、ＡＩ −Ｍｇ−３Ｉ系、
Ａ、Ｑ−Ｍｇ−Ｍｎ系、ＡＪ−Ｍｎ系、ＡＮ−Ｃｕ−Ｍ
ｇ系、／Ｖ−Ｃｕ−Ｎｌ系、ＡＪ！−Ｃｕ系、Ａ１−８
ｌ系、ＩＩＪ！−Ｃｕ−Ｚｎ系、Ａｌ−Ｃｕ−３ｌ系、
Ａｌ１−Ｃｕ−Ｍｇ−Ｚｎ系１．Ｑ−Ｍｇ−Ｚｎ系等の
アルミニウム合金材料の中から適宜選択して使用するこ
とができる。
膜を得るためのアルミニウム材料としては、純Ａｇ系の
材料の他に、Ａ、９−Ｍｇ系、ＡＩ −Ｍｇ−３Ｉ系、
Ａ、Ｑ−Ｍｇ−Ｍｎ系、ＡＪ−Ｍｎ系、ＡＮ−Ｃｕ−Ｍ
ｇ系、／Ｖ−Ｃｕ−Ｎｌ系、ＡＪ！−Ｃｕ系、Ａ１−８
ｌ系、ＩＩＪ！−Ｃｕ−Ｚｎ系、Ａｌ−Ｃｕ−３ｌ系、
Ａｌ１−Ｃｕ−Ｍｇ−Ｚｎ系１．Ｑ−Ｍｇ−Ｚｎ系等の
アルミニウム合金材料の中から適宜選択して使用するこ
とができる。
支持体のアルミニウム面に形成される多孔質陽極酸化ア
ルミニウム皮膜は、電荷輸送層としての役割を果たすも
ので、次のようにして製造される。
ルミニウム皮膜は、電荷輸送層としての役割を果たすも
ので、次のようにして製造される。
支持体上に多孔質陽極酸化アルミニウム皮膜を形成する
ための陽極酸化処理について、より具体的に説明すると
、まず、表面を鏡面切削仕上げし、所望の形状に加工さ
れたアルミニウム面を有する支持体の脱脂を行い、機械
加工時などに付着した油分などを完全に除去する。脱脂
には市販のアルミニウム用脱脂剤を用いればよい。
ための陽極酸化処理について、より具体的に説明すると
、まず、表面を鏡面切削仕上げし、所望の形状に加工さ
れたアルミニウム面を有する支持体の脱脂を行い、機械
加工時などに付着した油分などを完全に除去する。脱脂
には市販のアルミニウム用脱脂剤を用いればよい。
引き続いて、支持体上に多孔質陽極酸化アルミニウム皮
膜を形成する。ステンレス鋼或いは硬質ガラスなどで作
製された電解槽（陽極酸化槽）中に電解質溶液（陽極酸
化溶液）を所定の液面まで満たす。電解質溶液としては
、硫酸、リン酸、クロム酸等より選択された無機多塩基
酸、又はしゅう酸、マロン酸、酒石酸等より選択された
有機多塩基酸の１〜３０重量％酸性水溶液が用いられる
。
膜を形成する。ステンレス鋼或いは硬質ガラスなどで作
製された電解槽（陽極酸化槽）中に電解質溶液（陽極酸
化溶液）を所定の液面まで満たす。電解質溶液としては
、硫酸、リン酸、クロム酸等より選択された無機多塩基
酸、又はしゅう酸、マロン酸、酒石酸等より選択された
有機多塩基酸の１〜３０重量％酸性水溶液が用いられる
。
溶媒として用いる純水としては、蒸溜水或いはイオン交
換水等をあげることができるが、特に塩素分等の不純物
が充分に取り除かれていることが、陽極酸化アルミニウ
ム皮膜の腐蝕やピンホール発生防止のために必要である
。
換水等をあげることができるが、特に塩素分等の不純物
が充分に取り除かれていることが、陽極酸化アルミニウ
ム皮膜の腐蝕やピンホール発生防止のために必要である
。
次いで、この電解質溶液の中に陽極として上記のアルミ
ニウム面を有する支持体を、又、陰極としてステンレス
鋼板あるいはアルミニウム板をある一定の電極間距離を
隔てて浸漬する。この際の電極間距離はＯ，１ｃｍ＝
１００ｃｍの間において適宜に設定される。直流電源装
置を用意し、その正（プラス）端子とアルミニウム面、
及び負（マイナス）端子と陰極板とをそれぞれ結線し、
電解質溶液中の陽極、陰極両電極間に通電する。印加す
る直流は、直流成分のみよりなるものであっても、交流
成分が重畳したものであってもよい。陽極酸化実施時の
電流密度は、０，１〜１０Ａ−ｄ「２の範囲に設定する
。また陽極酸化電圧は、通常３〜１５０ Ｖ、好ましく
は７〜１００ｖである。又、電解質溶液の液温は、−５
〜１００℃、好ましくは１０〜８０℃に設定される。
ニウム面を有する支持体を、又、陰極としてステンレス
鋼板あるいはアルミニウム板をある一定の電極間距離を
隔てて浸漬する。この際の電極間距離はＯ，１ｃｍ＝
１００ｃｍの間において適宜に設定される。直流電源装
置を用意し、その正（プラス）端子とアルミニウム面、
及び負（マイナス）端子と陰極板とをそれぞれ結線し、
電解質溶液中の陽極、陰極両電極間に通電する。印加す
る直流は、直流成分のみよりなるものであっても、交流
成分が重畳したものであってもよい。陽極酸化実施時の
電流密度は、０，１〜１０Ａ−ｄ「２の範囲に設定する
。また陽極酸化電圧は、通常３〜１５０ Ｖ、好ましく
は７〜１００ｖである。又、電解質溶液の液温は、−５
〜１００℃、好ましくは１０〜８０℃に設定される。
この通電により、陽極となる支持体のアルミニウム゛面
上に多孔質陽極酸化アルミニウム皮膜が形成される。
上に多孔質陽極酸化アルミニウム皮膜が形成される。
この様にして形成された陽極酸化アルミニウム皮膜は、
必要に応じて純水による洗浄等の措置が取られた後、乾
燥させる。多孔質陽極酸化アルミニウム皮膜の膜厚は１
〜１００ 虜、好ましくは５〜５０１ＩＭに設定される
。
必要に応じて純水による洗浄等の措置が取られた後、乾
燥させる。多孔質陽極酸化アルミニウム皮膜の膜厚は１
〜１００ 虜、好ましくは５〜５０１ＩＭに設定される
。
次いで、形成された多孔質陽極酸化アルミニウム皮膜の
孔の内壁に遷移金属の酸素酸塩を付着させ、或いは場合
によっては引き続いてその付着物質を還元して、導電物
が孔の内壁に付着した多孔質陽極酸化アルミニウム皮膜
を形成する。本発明において、付着した導電物が電荷輸
送性に寄与し、電荷輸送層の電荷輸送能を向上させるよ
うに作用する。
孔の内壁に遷移金属の酸素酸塩を付着させ、或いは場合
によっては引き続いてその付着物質を還元して、導電物
が孔の内壁に付着した多孔質陽極酸化アルミニウム皮膜
を形成する。本発明において、付着した導電物が電荷輸
送性に寄与し、電荷輸送層の電荷輸送能を向上させるよ
うに作用する。
導電物の付着は、多孔質陽極酸化アルミニウム皮膜が形
成された支持体を、遷移金属の酸素酸塩の水溶液の中に
浸漬するか、或いは場合によっては引き続いてその付着
物質を還元することによって実施することができる。
成された支持体を、遷移金属の酸素酸塩の水溶液の中に
浸漬するか、或いは場合によっては引き続いてその付着
物質を還元することによって実施することができる。
遷移金属の酸素酸塩としては、ＷＳＭｏＳＣｒ及びＭｎ
から選択された少なくともにずれか１種の酸素酸塩が好
ましく使用できる。酸素酸塩の形態としては、それぞれ
の酸素酸の水素塩、アンモニウム塩、アルカリ金属塩が
あげられる。
から選択された少なくともにずれか１種の酸素酸塩が好
ましく使用できる。酸素酸塩の形態としては、それぞれ
の酸素酸の水素塩、アンモニウム塩、アルカリ金属塩が
あげられる。
浸漬温度は、１０〜７０℃の範囲が採用されるが、２０
〜４０℃の範囲の温度が、吸着速度が速く、しかも皮膜
水和速度が遅いため好ましい。
〜４０℃の範囲の温度が、吸着速度が速く、しかも皮膜
水和速度が遅いため好ましい。
遷移金属の酸素酸が付着した多孔質陽極酸化アルミニウ
ム皮膜は、次工程に浸漬処理液が持ち込まれない程度に
流水で充分に水洗した後、イオン交換水又は蒸留水で水
洗する。
ム皮膜は、次工程に浸漬処理液が持ち込まれない程度に
流水で充分に水洗した後、イオン交換水又は蒸留水で水
洗する。
次いで、所望により後処理を行い、それは還元剤を含む
水溶液中に浸漬することによって行うことができる。還
元剤としては、水溶液にできるものであれば如何なるも
のでも使用可能であり、例えば、第１錫溶液、Ｌ−アス
コルビン酸溶液等があげられる。なお、この後処理は、
後の工程で還元が行われる場合、例えばＣＶＤ工程が実
施される場合、実施しなくてもかまわない。しかしなが
ら、還元によって発色（例えば、ＭＯ及びＷの場合は青
色に発色）する為、浸漬処理による付着状態が確認でき
るので、実施するのが好ましい。
水溶液中に浸漬することによって行うことができる。還
元剤としては、水溶液にできるものであれば如何なるも
のでも使用可能であり、例えば、第１錫溶液、Ｌ−アス
コルビン酸溶液等があげられる。なお、この後処理は、
後の工程で還元が行われる場合、例えばＣＶＤ工程が実
施される場合、実施しなくてもかまわない。しかしなが
ら、還元によって発色（例えば、ＭＯ及びＷの場合は青
色に発色）する為、浸漬処理による付着状態が確認でき
るので、実施するのが好ましい。
続いて、処理された多孔質陽極酸化アルミニウム皮膜上
には、直接密着して、電荷発生層が形成されるが、電荷
発生層としては、非晶質ケイ素、セレン、セレン化水素
、セレン−テルル等の無機物を、ＣＶＤ、蒸着或いはス
パッタ等の方法によって形成したものが使用できる。ま
た、フタロシアニン、銅フタロシアニン、Ａｇフタロシ
アニン、スクエアリン酸誘導体、ビスアゾ染料等の色素
を蒸着により、或いは結着樹脂中に分散して浸漬塗布等
の方法により薄膜としたものを用いることもできる。中
でも、非晶質ケイ素、ゲルマニウムを添加した非晶質ケ
イ素を用いた場合には、優れた機械的、電気的特性を示
すものとなるので好ましい。
には、直接密着して、電荷発生層が形成されるが、電荷
発生層としては、非晶質ケイ素、セレン、セレン化水素
、セレン−テルル等の無機物を、ＣＶＤ、蒸着或いはス
パッタ等の方法によって形成したものが使用できる。ま
た、フタロシアニン、銅フタロシアニン、Ａｇフタロシ
アニン、スクエアリン酸誘導体、ビスアゾ染料等の色素
を蒸着により、或いは結着樹脂中に分散して浸漬塗布等
の方法により薄膜としたものを用いることもできる。中
でも、非晶質ケイ素、ゲルマニウムを添加した非晶質ケ
イ素を用いた場合には、優れた機械的、電気的特性を示
すものとなるので好ましい。
以下、非晶質ケイ素を用いて電荷発生層を形成する場合
を例にあげて説明する。
を例にあげて説明する。
非晶質ケイ素を主成分とする電荷発生層は公知の方法に
よって形成することができる。例えば、グロー放電分解
法、スパッタリング法、イオンブレーティング法、真空
蒸着法等によって形成することができる。これらの膜形
成方法は、目的に応じて適宜選択されるが、プラズマＣ
ＶＤ法によりシラン或いはシラン系ガスをグロー放電分
解する方法が好ましく、この方法によれば、膜中に適量
の水素を含有した比較的暗抵抗が高く、かつ、光感度も
高い膜が形成され、電荷発生層として好適な特性を得る
ことができる。
よって形成することができる。例えば、グロー放電分解
法、スパッタリング法、イオンブレーティング法、真空
蒸着法等によって形成することができる。これらの膜形
成方法は、目的に応じて適宜選択されるが、プラズマＣ
ＶＤ法によりシラン或いはシラン系ガスをグロー放電分
解する方法が好ましく、この方法によれば、膜中に適量
の水素を含有した比較的暗抵抗が高く、かつ、光感度も
高い膜が形成され、電荷発生層として好適な特性を得る
ことができる。
以下、プラズマＣＶＤ法を例にあげて説明する。
ケイ素を主成分とする非晶質ケイ素感光層を作成するた
めの原料としては、シラン、ジシランをはじめとするシ
ラン類等があげられる。又、電荷発生層を形成する際、
必要に応じて、水素、ヘリウム、アルゴン、ネオン等の
キャリアガスを用いることも可能である。又、これ等の
原料ガス中に、ジボラン（Ｂ２Ｈ６）ガス、ホスフィン
（ＰＨ３）ガス等のドーパントガスを混入させ、膜中に
ホウ素あるいはリン等の不純物元素の添加することもで
きる。又、光感度の増加等を目的として、感光層中にハ
ロゲン原子、炭素原子、酸素原子、窒素原子等を含有さ
せてもよい。更に又、長波長域感度の増加を目的として
、ゲルマニウム、錫等の元素を添加することも可能であ
る。
めの原料としては、シラン、ジシランをはじめとするシ
ラン類等があげられる。又、電荷発生層を形成する際、
必要に応じて、水素、ヘリウム、アルゴン、ネオン等の
キャリアガスを用いることも可能である。又、これ等の
原料ガス中に、ジボラン（Ｂ２Ｈ６）ガス、ホスフィン
（ＰＨ３）ガス等のドーパントガスを混入させ、膜中に
ホウ素あるいはリン等の不純物元素の添加することもで
きる。又、光感度の増加等を目的として、感光層中にハ
ロゲン原子、炭素原子、酸素原子、窒素原子等を含有さ
せてもよい。更に又、長波長域感度の増加を目的として
、ゲルマニウム、錫等の元素を添加することも可能であ
る。
本発明において、電荷発生層は、ケイ素を主成分とし、
１〜４０原子％、好ましくは５〜２０原子％の水素を
含んだものが好ましい。膜厚としては、０．１〜３０加
、好ましくは０．２〜５如の範囲に設定される。
１〜４０原子％、好ましくは５〜２０原子％の水素を
含んだものが好ましい。膜厚としては、０．１〜３０加
、好ましくは０．２〜５如の範囲に設定される。
電荷発生層の膜形成条件は次の通りである。即ち、周波
数は、通常、０〜５ＧＩＩｚ、好ましくは５〜３ＧＩ（
ｚ、放電時の真空度は１０−’ 〜５ Ｔｏｒｒ （０
，００Ｌ 〜６６５ Ｐａ） 、基板加熱温度は１００
〜４００℃である。
数は、通常、０〜５ＧＩＩｚ、好ましくは５〜３ＧＩ（
ｚ、放電時の真空度は１０−’ 〜５ Ｔｏｒｒ （０
，００Ｌ 〜６６５ Ｐａ） 、基板加熱温度は１００
〜４００℃である。
本発明の電子写真感光体においては、必要に応じて、感
光体表面のコロナイオンによる変質を防止するための表
面保護層を設けてもよい。
光体表面のコロナイオンによる変質を防止するための表
面保護層を設けてもよい。
実施例
次に実施例によって本発明の詳細な説明する。
実施例Ｉ
ＡＩ＝４重量％Ｍｇ系合金からなる直径的１２０ｎ＋＋
ｓのアルミニウムパイプをフロン洗浄と蒸溜水中超音波
洗浄を行なった。引き続いて、電解質溶液として、純水
中に１１容量％の硫酸を添加してなる溶液を用い、液温
２０℃に維持しながら、直流電圧１３ｖをアルミニウム
パイプとステンレス鋼板製陰極との間に電流密度２．Ｏ
Ａ−ｄｍ−’で印加し、６０分間陽極酸化を行ない、膜
厚２０如の多孔質陽極酸化アルミニウム皮膜を形成した
。った。
ｓのアルミニウムパイプをフロン洗浄と蒸溜水中超音波
洗浄を行なった。引き続いて、電解質溶液として、純水
中に１１容量％の硫酸を添加してなる溶液を用い、液温
２０℃に維持しながら、直流電圧１３ｖをアルミニウム
パイプとステンレス鋼板製陰極との間に電流密度２．Ｏ
Ａ−ｄｍ−’で印加し、６０分間陽極酸化を行ない、膜
厚２０如の多孔質陽極酸化アルミニウム皮膜を形成した
。った。
次いで、このアルミニウムパイプを蒸留水を用いて充分
に水洗した後、（ＮＨ，）６ Ｍｏ７０２４・４Ｉ（２
０５ｇ／ｌの水溶液中に２５℃において１０分間浸漬し
、モリブデン酸（Ｖｌ）イオンを多孔質皮膜の孔の内壁
表面に吸着させた。
に水洗した後、（ＮＨ，）６ Ｍｏ７０２４・４Ｉ（２
０５ｇ／ｌの水溶液中に２５℃において１０分間浸漬し
、モリブデン酸（Ｖｌ）イオンを多孔質皮膜の孔の内壁
表面に吸着させた。
水洗した後、Ｓ ｎ Ｓ ０４ ＬＯｇ／ＩＩ ＳＨ２
Ｓ ０４２０ｇ／Ω、Ｈ３ＰＯ４５ｇ／ｇ、ＣＨＩ Ｃ
６Ｈ３−（Ｑ Ｈ） Ｓ Ｏ３Ｈ（ｏ−クレゾール−４
−スルホン酸）ＬＯｇ／Ｄを含む水溶液中に２５℃にお
いて５分間浸漬し、モリブデン酸（Ｖ）イオンに還元し
て、その発色状態で吸着を確認した後、水洗を経て自然
乾燥させた。
Ｓ ０４２０ｇ／Ω、Ｈ３ＰＯ４５ｇ／ｇ、ＣＨＩ Ｃ
６Ｈ３−（Ｑ Ｈ） Ｓ Ｏ３Ｈ（ｏ−クレゾール−４
−スルホン酸）ＬＯｇ／Ｄを含む水溶液中に２５℃にお
いて５分間浸漬し、モリブデン酸（Ｖ）イオンに還元し
て、その発色状態で吸着を確認した後、水洗を経て自然
乾燥させた。
この様にして処理された多孔質陽極酸化アルミニウム皮
膜が形成されたアルミニウムパイプを蒸溜水中で洗浄し
、乾燥した後、容量結合型プラズマＣＶＤ装置の真空槽
内に設置した。このアルミニウムパイプを２００℃に維
持し、真空槽内に１００％シラン（ＳｉＨ４）ガスを毎
分２５０ｃｃ、水素稀釈のＬＯＯｐｐ！ｆＩジボラン（
’Ｂ２Ｈ６）ガスを毎分３ＣＣｓ更に１００％水素（Ｈ
２）ガスを毎分２５０ｃｃで流入させ、真空槽内を１．
５Ｔｏｒｒ （２００，ＯＮ／ば）の内圧に維持した後
、１３．５６ＭＨｚの高周波電力を投入して、グロー放
電を生じせしめ、高周波電源の出力を３５０Ｗに維持し
た。このようにして水素と極微量の硼素を含む高暗抵抗
で、いわゆるｉ型の非晶質ケイ素からなる厚さ２加の電
荷発生層を形成し、電子写真感光体を得た。
膜が形成されたアルミニウムパイプを蒸溜水中で洗浄し
、乾燥した後、容量結合型プラズマＣＶＤ装置の真空槽
内に設置した。このアルミニウムパイプを２００℃に維
持し、真空槽内に１００％シラン（ＳｉＨ４）ガスを毎
分２５０ｃｃ、水素稀釈のＬＯＯｐｐ！ｆＩジボラン（
’Ｂ２Ｈ６）ガスを毎分３ＣＣｓ更に１００％水素（Ｈ
２）ガスを毎分２５０ｃｃで流入させ、真空槽内を１．
５Ｔｏｒｒ （２００，ＯＮ／ば）の内圧に維持した後
、１３．５６ＭＨｚの高周波電力を投入して、グロー放
電を生じせしめ、高周波電源の出力を３５０Ｗに維持し
た。このようにして水素と極微量の硼素を含む高暗抵抗
で、いわゆるｉ型の非晶質ケイ素からなる厚さ２加の電
荷発生層を形成し、電子写真感光体を得た。
得られた電子写真感光体に対して、正帯電特性を測定し
たところ、感光体流入電流ｌＯμＡ ／ ｃｍの場合、
帯電直後の帯電電位は５１０ｖであり、暗減衰は１３％
／ｓｅｅであった。白色光で露光した後の残留電位は５
０Ｖであり、半減露光量はＬＯｅｒｇ、ｃｆであった。
たところ、感光体流入電流ｌＯμＡ ／ ｃｍの場合、
帯電直後の帯電電位は５１０ｖであり、暗減衰は１３％
／ｓｅｅであった。白色光で露光した後の残留電位は５
０Ｖであり、半減露光量はＬＯｅｒｇ、ｃｆであった。
また、多孔質陽極酸化アルミニウム皮膜と、電荷発生層
との密着性を調べたところ、良好な接着性を有している
ことが確認された。
との密着性を調べたところ、良好な接着性を有している
ことが確認された。
比較例１
実施例１において、多孔質陽極酸化アルミニウム皮膜を
形成した後、多孔質陽極酸化アルミニウム皮膜の孔中に
導電物の付着を行わずに直接電荷発生層を形成した以外
は、実施例１と同様にして電子写真感光体を作製した。
形成した後、多孔質陽極酸化アルミニウム皮膜の孔中に
導電物の付着を行わずに直接電荷発生層を形成した以外
は、実施例１と同様にして電子写真感光体を作製した。
実施例１におけると同様に評価を行ったところ、帯電電
位は５５０ Ｖ、暗減衰は１１％／ｓｅｅ、残留電位は
２００ Ｖ、半減露光量はＬｌｅｒｇ、ｃｉｒであった
。
位は５５０ Ｖ、暗減衰は１１％／ｓｅｅ、残留電位は
２００ Ｖ、半減露光量はＬｌｅｒｇ、ｃｉｒであった
。
実施例２
実施例１におけると同様のアルミニウムパイプ上に同様
にして多孔質陽極酸化皮膜を形成した。
にして多孔質陽極酸化皮膜を形成した。
このアルミニウムパイプを水洗処理した後、ＳＳｎ５Ｏ
４Ｌｏ／Ω、Ｈ３ＰＯ４５ｇ／ｌを含む水溶液中に４０
℃において２分間浸漬し、その後、（ＮＨ４）２０・１
２ＷＯ３会５ Ｈ２０ＬＯｇ／ＩＩの水溶液中に２５℃
において１０分間浸漬し、タングステン酸（ＶＩ）イオ
ンを多孔質皮膜の孔内の表面に吸着れている錫イオンと
、還元状態で交換吸着させた。
４Ｌｏ／Ω、Ｈ３ＰＯ４５ｇ／ｌを含む水溶液中に４０
℃において２分間浸漬し、その後、（ＮＨ４）２０・１
２ＷＯ３会５ Ｈ２０ＬＯｇ／ＩＩの水溶液中に２５℃
において１０分間浸漬し、タングステン酸（ＶＩ）イオ
ンを多孔質皮膜の孔内の表面に吸着れている錫イオンと
、還元状態で交換吸着させた。
次いで、実施例１におけると同様にして電荷発主層を形
成し電子写真感光体を作製した。
成し電子写真感光体を作製した。
実施例１におけると同様に評価を行ったところ、帯電電
位は５２０ Ｖ、暗減衰は１２％／ｓｅｅ、残留電位は
４０ｖ１半減露光量はｌＯｅｒｇ、ｃ♂であった。
位は５２０ Ｖ、暗減衰は１２％／ｓｅｅ、残留電位は
４０ｖ１半減露光量はｌＯｅｒｇ、ｃ♂であった。
実施例３
実施例１におけると同様のアルミニウムパイプ上に同様
にして多孔質陽極酸化皮膜を形成した。
にして多孔質陽極酸化皮膜を形成した。
このアルミニウムパイプを水洗処理した後、（ＮＨ４）
２ Ｃｒ ０４２０ｇ／（Ｉの水溶液中に３５℃にお
いて１０分間浸漬し、クロム酸（Ｖｌ）イオンを多孔質
皮膜の孔内の表面に吸着させた。
２ Ｃｒ ０４２０ｇ／（Ｉの水溶液中に３５℃にお
いて１０分間浸漬し、クロム酸（Ｖｌ）イオンを多孔質
皮膜の孔内の表面に吸着させた。
水洗した後、ＳｎＳＯ４ＬＯｇ／Ｄ 、Ｈ２５０４２０
ｇ／ＩＩ ＳＨ３ＰＯ４５ｇ／（ｌを含む水溶液中に４
０℃において８分間浸漬し、還元した後、水洗し、乾燥
した。
ｇ／ＩＩ ＳＨ３ＰＯ４５ｇ／（ｌを含む水溶液中に４
０℃において８分間浸漬し、還元した後、水洗し、乾燥
した。
次いで、実施例１におけると同様にして電荷発生層を形
成し電子写真感光体を作製した。
成し電子写真感光体を作製した。
実施例１におけると同様に評価を行ったところ、帯電電
位は５３０ Ｖ、暗減衰は１０％／５ｅａｓ残留電位は
６０Ｖ１半減露光量は９ ｅｒｇ、ｃｎ？であった。
位は５３０ Ｖ、暗減衰は１０％／５ｅａｓ残留電位は
６０Ｖ１半減露光量は９ ｅｒｇ、ｃｎ？であった。
発明の効果
本発明の電子写真感光体は、電荷輸送層として多孔質陽
極酸化アルミニウム皮膜の孔の内壁に、遷移金属の酸素
酸塩より形成された導電物を付着させた層を有し、その
上に電荷発生層が直接設けられた構成を有するものであ
るから、高感度で汎色性に富み、高帯電性で暗減衰が低
く、また、露光後の残留電位の少ないものであり、その
帯電特性は、外部環境の雰囲気の変化によって影響を受
けることがなく、また、繰り返し使用しても優れた画質
の画像を形成する。また、電荷輸送層と電荷発生層との
接着性、密着性も極めて高く、機械的強度・硬度も高く
、欠陥の少ないものであり、したがって本発明の電子写
真感光体は耐久性に優れている。
極酸化アルミニウム皮膜の孔の内壁に、遷移金属の酸素
酸塩より形成された導電物を付着させた層を有し、その
上に電荷発生層が直接設けられた構成を有するものであ
るから、高感度で汎色性に富み、高帯電性で暗減衰が低
く、また、露光後の残留電位の少ないものであり、その
帯電特性は、外部環境の雰囲気の変化によって影響を受
けることがなく、また、繰り返し使用しても優れた画質
の画像を形成する。また、電荷輸送層と電荷発生層との
接着性、密着性も極めて高く、機械的強度・硬度も高く
、欠陥の少ないものであり、したがって本発明の電子写
真感光体は耐久性に優れている。
第１図は本発明の電子写真感光体の一実施例の模式的断
面図である。 ■・・・支持体、２・・・導電物付着多孔質陽極酸化ア
ルミニウム皮膜、 ・・・電荷発生層。
面図である。 ■・・・支持体、２・・・導電物付着多孔質陽極酸化ア
ルミニウム皮膜、 ・・・電荷発生層。
Claims (3)
- （１）少なくとも支持体と電荷輸送層と電荷発生層とを
具備し、該電荷輸送層は、少なくとも表面がアルミニウ
ム又はアルミニウム合金よりなる支持体を陽極酸化する
ことによって形成された多孔質陽極酸化アルミニウム皮
膜であって、該多孔質陽極酸化アルミニウム皮膜の孔の
内壁に、遷移金属の酸素酸塩より形成された導電物を付
着させてなることを特徴とする電子写真感光体。 - （２）遷移金属がＷ、Ｍｏ、Ｃｒ及びＭｎから選択され
た少なくともいずれか１種であることを特徴とする特許
請求の範囲第１項に記載の電子写真感光体。 - （３）少なくとも表面がアルミニウム又はアルミニウム
合金よりなる支持体を、硫酸、リン酸、クロム酸等より
選択された無機多塩基酸、又はしゅう酸、マロン酸、酒
石酸等より選択された有機多塩基酸の１〜３０重量％酸
性水溶液中に浸漬し、０．１〜１０Ａ・ｄｍ＾−＾２の
直流を通電して、陽極酸化により該支持体上に多孔質陽
極酸化アルミニウム皮膜を形成し、次いで、遷移金属の
酸素酸塩の水溶液に浸漬することにより、該多孔質陽極
酸化アルミニウム皮膜の孔の内壁に遷移金属の酸素酸塩
を付着させ、その後、形成された遷移金属の酸素酸塩よ
り形成された導電物付着多孔質陽極酸化アルミニウム皮
膜からなる電荷輸送層の上に電荷発生層を形成すること
を特徴とする電子写真感光体の製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1246503A JP2622758B2 (ja) | 1989-09-25 | 1989-09-25 | 電子写真感光体及びその製造方法 |
| US08/182,367 US5397666A (en) | 1989-09-25 | 1994-01-18 | Electrophotographic photoreceptor and process for producing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1246503A JP2622758B2 (ja) | 1989-09-25 | 1989-09-25 | 電子写真感光体及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03109568A true JPH03109568A (ja) | 1991-05-09 |
| JP2622758B2 JP2622758B2 (ja) | 1997-06-18 |
Family
ID=17149368
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1246503A Expired - Lifetime JP2622758B2 (ja) | 1989-09-25 | 1989-09-25 | 電子写真感光体及びその製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5397666A (ja) |
| JP (1) | JP2622758B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2887831B2 (ja) * | 1993-12-28 | 1999-05-10 | 富士ゼロックス株式会社 | 電子写真用帯電部材 |
| JP2000162806A (ja) | 1998-11-30 | 2000-06-16 | Canon Inc | 電子写真感光体、該感光体の製造方法、プロセスカートリッジ及び電子写真装置 |
| US7534535B2 (en) * | 2004-11-23 | 2009-05-19 | Xerox Corporation | Photoreceptor member |
| US7799140B1 (en) * | 2009-06-17 | 2010-09-21 | Xerox Corporation | Process for the removal of photoreceptor coatings using a stripping solution |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59158A (ja) * | 1982-06-25 | 1984-01-05 | Canon Inc | 電子写真感光体 |
| JPH07117761B2 (ja) * | 1988-08-17 | 1995-12-18 | 富士ゼロックス株式会社 | 電子写真感光体 |
| JPH0812433B2 (ja) * | 1989-09-25 | 1996-02-07 | 富士ゼロックス株式会社 | 電子写真感光体及びその製造方法 |
-
1989
- 1989-09-25 JP JP1246503A patent/JP2622758B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1994
- 1994-01-18 US US08/182,367 patent/US5397666A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2622758B2 (ja) | 1997-06-18 |
| US5397666A (en) | 1995-03-14 |
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