JPH0311083A - シリル化剤 - Google Patents

シリル化剤

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JPH0311083A
JPH0311083A JP1146242A JP14624289A JPH0311083A JP H0311083 A JPH0311083 A JP H0311083A JP 1146242 A JP1146242 A JP 1146242A JP 14624289 A JP14624289 A JP 14624289A JP H0311083 A JPH0311083 A JP H0311083A
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JP
Japan
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methyl
silylating agent
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mol
isopropyl
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JP1146242A
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Akihiko Shirahata
明彦 白幡
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DuPont Toray Specialty Materials KK
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Dow Corning Toray Silicone Co Ltd
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/12Organo silicon halides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/18Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
    • C07F7/1804Compounds having Si-O-C linkages
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ 本発明は、有機反応を行なう際に、活性水素を保護する
のに有用なシリル化剤に関する。
[従来の技術] 従来、化学薬品の中間体、医薬品等の製造の際、水酸基
やアミンのNHなどの活性水素を保護する目的で用いら
れるシリル化剤としては市場供給性、価格などの観点か
らトリメチルクロロシランがよく用いられてきた。トリ
メチルシリル基で水酸基、アミンのNHなどをシリル化
した場合、有機5反応を行う際にその保護基としての機
能、すなわちシリル化生成物の化学的安定性が十分でな
いために必ずしも満足のいく結果を与えなかった。その
ため、有機反応を行なっている間、十分な安定性を有す
る保護基を与えるt−ブチルジメチルクロロシランがシ
リル化剤として止車されるようになった。しかしながら
、 t−ブチルジメチルシリル基は安定であり過ぎるた
めに、必要な有機反応を行なった後で脱シリル化反応に
より活性水素を再生させようとすると、かなり激しい反
応条件を必要とし、他の官能基が破壊されてしまうなど
の不都合を生じる欠点があった。
[発明が解決しようとする問題点コ そこで、本発明は、上記従来技術の欠点を解消し、シリ
ル化生成物の化学的安定性に優れ、かつ、脱シリル化す
る際には脱t−ブチルジメチルシリル基よりも容易に反
応するシリル化剤を提供することにある。
[問題点を解決するための手段] すなわち、本発明は、 一般式(CHa )(R)(R’ )SIX(式中、R
はイソプロピル基I  R1は炭素原子数2〜6個の1
価炭化水素基、Xは塩素原子または臭素原子を表わす。
)で示されるシリル化剤に関する。
すなわち、本発明のシリル化剤を使用して得られたシリ
ル化生成物は、トリメチルクロロシランから得られたシ
リル化生成物よりもはるかに安定性を有し、 t−ブチ
ルジメチルクロロシランから得られたシリル化生成物と
同等の安定な保護基として作用する。しかも、脱シリル
化に際しては、 t−ブチルジメチルシリル基と比較し
て容易に脱シリル化されるという特徴を有する。
本発明に使用されるシリル化剤のR1基は炭素原子数2
〜6個の1価炭化水素基であるが、これにはフェニル基
および炭素原子数2〜6個の脂肪族1価炭化水素基を含
み、脂肪族1価炭化水素基には炭素原子数2〜6個のア
ルキル基とその異性体を含む。炭素原子数が3〜4個の
場合は直鎖状のものよりも分岐状のものが好ましい。好
ましいR1基としてはフェニル基もしくはイソプロピル
基である。
本発明のシリル化剤は化学薬品の中間体、医薬品等の製
造の際のシリル化剤として有用である。
[実施例コ 以下、本発明を実施例により具体的に説明する。なお、
化学式のMeはメチル基、Phはフェニル基、t−Bu
はターシャリブチル基、1−Prはイソプロピル基を表
わす。
実施例1 ■メチルフェニルイソプロピルクロロシランの合成 還流冷却管、撹拌棒、温度計、滴下ロートを備えた21
2の40フラスコにマグネシウム36g (1,5モル
)を入れて窒素下で乾燥させ、乾燥したテトラヒドロフ
ラン(THF)を800−加えた。イソプロピルクロリ
ド 117.8g  (1,5モル)を滴下ロートから
ゆっくり滴下してグリニヤール試薬を調製した。次いで
、フェニルメチルジクロロシラン 267.6g(1,
4モル)を滴下ロートから滴下した。滴下終了後、TH
Fの還流温度で攪拌を5時間続けて反応を完結させた。
常温にもどしてからヘキサンを500−加え、反応混合
液をろ過し、ろ液から溶媒を留去した。引き続いて減圧
蒸留して、目的とするメチルフェニルイソプロピルクロ
ロシランを258g  (1,3モル)得た。沸点85
°C/7璽mHgであった。
■メチルジイソプロピルクロロシランの合成還流冷却管
、撹拌棒、温度計、滴下ロートを備えた2Qの4日フラ
スコにマグネシウム73g (3,0モル)を入れて窒
素下で乾燥させ、乾燥THFを1000m9加えた。イ
ソプロピルクロリド 235.6g  (3,0モル)
を滴下ロートからゆっくり滴下してグリニヤール試薬を
調製した。次いで、メチルジクロロシラン168.8 
g  (1,45モル)を滴下ロートがら滴下した。滴
下終了後、THFの還流温度で撹拌を2時間続は反応を
完結させ、冷却しながら水350−を加えて加水分解し
た。反応液をデヵンテーシ日ンによって採取し、30c
mのウィドマー精留管でTHFを留去して、引続き常圧
蒸留によってメチルジイソプロピルシランを160g 
 (1,2モル)得た。沸点122°c”tcあった。
ここで得られたメチルジイソプロピルシラン28.1g
  (0,2モル)を還流冷却管、温度計、滴下ロニト
を備えた50−の30フラスコに仕込み、磁気攪拌子で
攪拌しながら60″Cで塩化スルフリル27g  (0
,2モル)をゆっ(りと滴下した。発熱反応が起こって
亜硫酸ガスと塩化水素が発生した。全量滴下した後、7
0℃の温度で1時間保持してから減圧蒸留した。
目的とするメチルジイソプロピルクロロシランが27g
  (,0,16モル)得られた。沸点64”C/ 3
2 mmHgであった。
■メチルジイソプロピルブロモシランの合成上記の■で
得られたメチルジイソプロピルシラン 20.8g  
(0,16モル)を還流冷却管、温度計、滴下ロートを
備えた50−の3日フラスコに仕込み、磁気撹拌子で攪
拌しながら氷で冷却下、臭素25g  (0,16モル
)をゆっくりと滴下した。激しい発熱反応が起こって、
臭化水素が発生した。臭素を全量滴下した後、室温に1
時間放置し、減圧蒸留した。目的とするメチルジイソプ
ロピルブロモシランが 26.3g  (0,13モル
)得られた。沸点92°C1501■Hgであった。
■シリル化生成物のアルコキシアニオンに対する安定性 4−シロキシ−1−ブロモブタンのエタノール中ナトリ
ウムエトキシドによる4−シロキシ−1−二トキシブタ
ンの合成を試みたところ、ケイ素原子上の置換基がt−
ブチルジメチルのもの、およびメチルジイソプロピルの
ものでは、反応はほぼ定量的に進行し、メチルフェニル
イソプロピルのものでは、90%の収率で反応が進行し
たが、トリメチルのものでは、トリメチルエトキシシラ
ンが大量に生成し目的物は得られなかった。
■シリル化生成物のグリニヤール試薬に対する安定性 第1表に示すシクロヘキサノールのシリル化生成物とシ
クロヘキサノンを等モル含むTHF溶液に7クロヘキサ
ノンに対して当量のエチルグリニヤール試薬のTHF溶
液を加え、加水分解後のエチルシクロヘキサノールの収
率を測定した。結果は第1表に示すようにメチルジイソ
プロピルシロキシシクロヘキサン、メチルフェニルイソ
プロピルシロキシシクロヘキサンがt−ブチルジメチル
シロキシシクロヘキサンと同じようにエチルグリニヤー
ル試薬に対して安定であることが分かった。
第1表 第2表 ■シリル化生成物の脱シリル化反応速度第2表に示すシ
クロヘキサノールのシリル化生成物を25“Cで1重量
%の濃塩酸を含むエタノールに3重量%になるように混
合し、シクロヘキサノールの生成速度を測定した。速度
は、シクロヘキサノールのシリル化生成物の濃度に一次
で、−次速度定数には第2表に示す通りである。この結
果からメチルジイソプロピルシロキシシクロヘキサン、
メチルフェニルイソプロピルシロキシシクロヘキサンが
t−ブチルジメチルシロキシシクロヘキサンよりも脱シ
リル化しやすいことがわかった。
[発明の効果] 本発明のシリル化剤を用いてカルボン酸やアルコールな
どの水酸基、アミンのNHなどをシリル化することによ
って生成したシリル化生成物は、トリメチルシリル基に
よるシリル化生成物と比較してはるかに安定性のある保
護基を与え、かつ、加水分解して脱シリル化を行なう際
にはt−ブチルジメチルシリル基によるシリル化生成物
よりも10倍から100倍の速さで脱シリル化されるた
め他の官能基を破壊する恐れが少ない。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、一般式(CH_3)(R)(R^1)SiX(式中
    、Rはイソプロピル基、R^1は炭素原子数2〜6個の
    1価炭化水素基、Xは塩素原子または臭素原子を表わす
    。)で示されるシリル化剤。 2、R^1がフェニル基である特許請求の範囲第1項記
    載のシリル化剤。 3、R^1がイソプロピル基である特許請求の範囲第1
    項記載のシリル化剤。
JP1146242A 1989-06-08 1989-06-08 シリル化剤 Pending JPH0311083A (ja)

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