JPH0311083A - シリル化剤 - Google Patents
シリル化剤Info
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- JPH0311083A JPH0311083A JP1146242A JP14624289A JPH0311083A JP H0311083 A JPH0311083 A JP H0311083A JP 1146242 A JP1146242 A JP 1146242A JP 14624289 A JP14624289 A JP 14624289A JP H0311083 A JPH0311083 A JP H0311083A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
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- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明は、有機反応を行なう際に、活性水素を保護する
のに有用なシリル化剤に関する。
のに有用なシリル化剤に関する。
[従来の技術]
従来、化学薬品の中間体、医薬品等の製造の際、水酸基
やアミンのNHなどの活性水素を保護する目的で用いら
れるシリル化剤としては市場供給性、価格などの観点か
らトリメチルクロロシランがよく用いられてきた。トリ
メチルシリル基で水酸基、アミンのNHなどをシリル化
した場合、有機5反応を行う際にその保護基としての機
能、すなわちシリル化生成物の化学的安定性が十分でな
いために必ずしも満足のいく結果を与えなかった。その
ため、有機反応を行なっている間、十分な安定性を有す
る保護基を与えるt−ブチルジメチルクロロシランがシ
リル化剤として止車されるようになった。しかしながら
、 t−ブチルジメチルシリル基は安定であり過ぎるた
めに、必要な有機反応を行なった後で脱シリル化反応に
より活性水素を再生させようとすると、かなり激しい反
応条件を必要とし、他の官能基が破壊されてしまうなど
の不都合を生じる欠点があった。
やアミンのNHなどの活性水素を保護する目的で用いら
れるシリル化剤としては市場供給性、価格などの観点か
らトリメチルクロロシランがよく用いられてきた。トリ
メチルシリル基で水酸基、アミンのNHなどをシリル化
した場合、有機5反応を行う際にその保護基としての機
能、すなわちシリル化生成物の化学的安定性が十分でな
いために必ずしも満足のいく結果を与えなかった。その
ため、有機反応を行なっている間、十分な安定性を有す
る保護基を与えるt−ブチルジメチルクロロシランがシ
リル化剤として止車されるようになった。しかしながら
、 t−ブチルジメチルシリル基は安定であり過ぎるた
めに、必要な有機反応を行なった後で脱シリル化反応に
より活性水素を再生させようとすると、かなり激しい反
応条件を必要とし、他の官能基が破壊されてしまうなど
の不都合を生じる欠点があった。
[発明が解決しようとする問題点コ
そこで、本発明は、上記従来技術の欠点を解消し、シリ
ル化生成物の化学的安定性に優れ、かつ、脱シリル化す
る際には脱t−ブチルジメチルシリル基よりも容易に反
応するシリル化剤を提供することにある。
ル化生成物の化学的安定性に優れ、かつ、脱シリル化す
る際には脱t−ブチルジメチルシリル基よりも容易に反
応するシリル化剤を提供することにある。
[問題点を解決するための手段]
すなわち、本発明は、
一般式(CHa )(R)(R’ )SIX(式中、R
はイソプロピル基I R1は炭素原子数2〜6個の1
価炭化水素基、Xは塩素原子または臭素原子を表わす。
はイソプロピル基I R1は炭素原子数2〜6個の1
価炭化水素基、Xは塩素原子または臭素原子を表わす。
)で示されるシリル化剤に関する。
すなわち、本発明のシリル化剤を使用して得られたシリ
ル化生成物は、トリメチルクロロシランから得られたシ
リル化生成物よりもはるかに安定性を有し、 t−ブチ
ルジメチルクロロシランから得られたシリル化生成物と
同等の安定な保護基として作用する。しかも、脱シリル
化に際しては、 t−ブチルジメチルシリル基と比較し
て容易に脱シリル化されるという特徴を有する。
ル化生成物は、トリメチルクロロシランから得られたシ
リル化生成物よりもはるかに安定性を有し、 t−ブチ
ルジメチルクロロシランから得られたシリル化生成物と
同等の安定な保護基として作用する。しかも、脱シリル
化に際しては、 t−ブチルジメチルシリル基と比較し
て容易に脱シリル化されるという特徴を有する。
本発明に使用されるシリル化剤のR1基は炭素原子数2
〜6個の1価炭化水素基であるが、これにはフェニル基
および炭素原子数2〜6個の脂肪族1価炭化水素基を含
み、脂肪族1価炭化水素基には炭素原子数2〜6個のア
ルキル基とその異性体を含む。炭素原子数が3〜4個の
場合は直鎖状のものよりも分岐状のものが好ましい。好
ましいR1基としてはフェニル基もしくはイソプロピル
基である。
〜6個の1価炭化水素基であるが、これにはフェニル基
および炭素原子数2〜6個の脂肪族1価炭化水素基を含
み、脂肪族1価炭化水素基には炭素原子数2〜6個のア
ルキル基とその異性体を含む。炭素原子数が3〜4個の
場合は直鎖状のものよりも分岐状のものが好ましい。好
ましいR1基としてはフェニル基もしくはイソプロピル
基である。
本発明のシリル化剤は化学薬品の中間体、医薬品等の製
造の際のシリル化剤として有用である。
造の際のシリル化剤として有用である。
[実施例コ
以下、本発明を実施例により具体的に説明する。なお、
化学式のMeはメチル基、Phはフェニル基、t−Bu
はターシャリブチル基、1−Prはイソプロピル基を表
わす。
化学式のMeはメチル基、Phはフェニル基、t−Bu
はターシャリブチル基、1−Prはイソプロピル基を表
わす。
実施例1
■メチルフェニルイソプロピルクロロシランの合成
還流冷却管、撹拌棒、温度計、滴下ロートを備えた21
2の40フラスコにマグネシウム36g (1,5モル
)を入れて窒素下で乾燥させ、乾燥したテトラヒドロフ
ラン(THF)を800−加えた。イソプロピルクロリ
ド 117.8g (1,5モル)を滴下ロートから
ゆっくり滴下してグリニヤール試薬を調製した。次いで
、フェニルメチルジクロロシラン 267.6g(1,
4モル)を滴下ロートから滴下した。滴下終了後、TH
Fの還流温度で攪拌を5時間続けて反応を完結させた。
2の40フラスコにマグネシウム36g (1,5モル
)を入れて窒素下で乾燥させ、乾燥したテトラヒドロフ
ラン(THF)を800−加えた。イソプロピルクロリ
ド 117.8g (1,5モル)を滴下ロートから
ゆっくり滴下してグリニヤール試薬を調製した。次いで
、フェニルメチルジクロロシラン 267.6g(1,
4モル)を滴下ロートから滴下した。滴下終了後、TH
Fの還流温度で攪拌を5時間続けて反応を完結させた。
常温にもどしてからヘキサンを500−加え、反応混合
液をろ過し、ろ液から溶媒を留去した。引き続いて減圧
蒸留して、目的とするメチルフェニルイソプロピルクロ
ロシランを258g (1,3モル)得た。沸点85
°C/7璽mHgであった。
液をろ過し、ろ液から溶媒を留去した。引き続いて減圧
蒸留して、目的とするメチルフェニルイソプロピルクロ
ロシランを258g (1,3モル)得た。沸点85
°C/7璽mHgであった。
■メチルジイソプロピルクロロシランの合成還流冷却管
、撹拌棒、温度計、滴下ロートを備えた2Qの4日フラ
スコにマグネシウム73g (3,0モル)を入れて窒
素下で乾燥させ、乾燥THFを1000m9加えた。イ
ソプロピルクロリド 235.6g (3,0モル)
を滴下ロートからゆっくり滴下してグリニヤール試薬を
調製した。次いで、メチルジクロロシラン168.8
g (1,45モル)を滴下ロートがら滴下した。滴
下終了後、THFの還流温度で撹拌を2時間続は反応を
完結させ、冷却しながら水350−を加えて加水分解し
た。反応液をデヵンテーシ日ンによって採取し、30c
mのウィドマー精留管でTHFを留去して、引続き常圧
蒸留によってメチルジイソプロピルシランを160g
(1,2モル)得た。沸点122°c”tcあった。
、撹拌棒、温度計、滴下ロートを備えた2Qの4日フラ
スコにマグネシウム73g (3,0モル)を入れて窒
素下で乾燥させ、乾燥THFを1000m9加えた。イ
ソプロピルクロリド 235.6g (3,0モル)
を滴下ロートからゆっくり滴下してグリニヤール試薬を
調製した。次いで、メチルジクロロシラン168.8
g (1,45モル)を滴下ロートがら滴下した。滴
下終了後、THFの還流温度で撹拌を2時間続は反応を
完結させ、冷却しながら水350−を加えて加水分解し
た。反応液をデヵンテーシ日ンによって採取し、30c
mのウィドマー精留管でTHFを留去して、引続き常圧
蒸留によってメチルジイソプロピルシランを160g
(1,2モル)得た。沸点122°c”tcあった。
ここで得られたメチルジイソプロピルシラン28.1g
(0,2モル)を還流冷却管、温度計、滴下ロニト
を備えた50−の30フラスコに仕込み、磁気攪拌子で
攪拌しながら60″Cで塩化スルフリル27g (0
,2モル)をゆっ(りと滴下した。発熱反応が起こって
亜硫酸ガスと塩化水素が発生した。全量滴下した後、7
0℃の温度で1時間保持してから減圧蒸留した。
(0,2モル)を還流冷却管、温度計、滴下ロニト
を備えた50−の30フラスコに仕込み、磁気攪拌子で
攪拌しながら60″Cで塩化スルフリル27g (0
,2モル)をゆっ(りと滴下した。発熱反応が起こって
亜硫酸ガスと塩化水素が発生した。全量滴下した後、7
0℃の温度で1時間保持してから減圧蒸留した。
目的とするメチルジイソプロピルクロロシランが27g
(,0,16モル)得られた。沸点64”C/ 3
2 mmHgであった。
(,0,16モル)得られた。沸点64”C/ 3
2 mmHgであった。
■メチルジイソプロピルブロモシランの合成上記の■で
得られたメチルジイソプロピルシラン 20.8g
(0,16モル)を還流冷却管、温度計、滴下ロートを
備えた50−の3日フラスコに仕込み、磁気撹拌子で攪
拌しながら氷で冷却下、臭素25g (0,16モル
)をゆっくりと滴下した。激しい発熱反応が起こって、
臭化水素が発生した。臭素を全量滴下した後、室温に1
時間放置し、減圧蒸留した。目的とするメチルジイソプ
ロピルブロモシランが 26.3g (0,13モル
)得られた。沸点92°C1501■Hgであった。
得られたメチルジイソプロピルシラン 20.8g
(0,16モル)を還流冷却管、温度計、滴下ロートを
備えた50−の3日フラスコに仕込み、磁気撹拌子で攪
拌しながら氷で冷却下、臭素25g (0,16モル
)をゆっくりと滴下した。激しい発熱反応が起こって、
臭化水素が発生した。臭素を全量滴下した後、室温に1
時間放置し、減圧蒸留した。目的とするメチルジイソプ
ロピルブロモシランが 26.3g (0,13モル
)得られた。沸点92°C1501■Hgであった。
■シリル化生成物のアルコキシアニオンに対する安定性
4−シロキシ−1−ブロモブタンのエタノール中ナトリ
ウムエトキシドによる4−シロキシ−1−二トキシブタ
ンの合成を試みたところ、ケイ素原子上の置換基がt−
ブチルジメチルのもの、およびメチルジイソプロピルの
ものでは、反応はほぼ定量的に進行し、メチルフェニル
イソプロピルのものでは、90%の収率で反応が進行し
たが、トリメチルのものでは、トリメチルエトキシシラ
ンが大量に生成し目的物は得られなかった。
ウムエトキシドによる4−シロキシ−1−二トキシブタ
ンの合成を試みたところ、ケイ素原子上の置換基がt−
ブチルジメチルのもの、およびメチルジイソプロピルの
ものでは、反応はほぼ定量的に進行し、メチルフェニル
イソプロピルのものでは、90%の収率で反応が進行し
たが、トリメチルのものでは、トリメチルエトキシシラ
ンが大量に生成し目的物は得られなかった。
■シリル化生成物のグリニヤール試薬に対する安定性
第1表に示すシクロヘキサノールのシリル化生成物とシ
クロヘキサノンを等モル含むTHF溶液に7クロヘキサ
ノンに対して当量のエチルグリニヤール試薬のTHF溶
液を加え、加水分解後のエチルシクロヘキサノールの収
率を測定した。結果は第1表に示すようにメチルジイソ
プロピルシロキシシクロヘキサン、メチルフェニルイソ
プロピルシロキシシクロヘキサンがt−ブチルジメチル
シロキシシクロヘキサンと同じようにエチルグリニヤー
ル試薬に対して安定であることが分かった。
クロヘキサノンを等モル含むTHF溶液に7クロヘキサ
ノンに対して当量のエチルグリニヤール試薬のTHF溶
液を加え、加水分解後のエチルシクロヘキサノールの収
率を測定した。結果は第1表に示すようにメチルジイソ
プロピルシロキシシクロヘキサン、メチルフェニルイソ
プロピルシロキシシクロヘキサンがt−ブチルジメチル
シロキシシクロヘキサンと同じようにエチルグリニヤー
ル試薬に対して安定であることが分かった。
第1表
第2表
■シリル化生成物の脱シリル化反応速度第2表に示すシ
クロヘキサノールのシリル化生成物を25“Cで1重量
%の濃塩酸を含むエタノールに3重量%になるように混
合し、シクロヘキサノールの生成速度を測定した。速度
は、シクロヘキサノールのシリル化生成物の濃度に一次
で、−次速度定数には第2表に示す通りである。この結
果からメチルジイソプロピルシロキシシクロヘキサン、
メチルフェニルイソプロピルシロキシシクロヘキサンが
t−ブチルジメチルシロキシシクロヘキサンよりも脱シ
リル化しやすいことがわかった。
クロヘキサノールのシリル化生成物を25“Cで1重量
%の濃塩酸を含むエタノールに3重量%になるように混
合し、シクロヘキサノールの生成速度を測定した。速度
は、シクロヘキサノールのシリル化生成物の濃度に一次
で、−次速度定数には第2表に示す通りである。この結
果からメチルジイソプロピルシロキシシクロヘキサン、
メチルフェニルイソプロピルシロキシシクロヘキサンが
t−ブチルジメチルシロキシシクロヘキサンよりも脱シ
リル化しやすいことがわかった。
[発明の効果]
本発明のシリル化剤を用いてカルボン酸やアルコールな
どの水酸基、アミンのNHなどをシリル化することによ
って生成したシリル化生成物は、トリメチルシリル基に
よるシリル化生成物と比較してはるかに安定性のある保
護基を与え、かつ、加水分解して脱シリル化を行なう際
にはt−ブチルジメチルシリル基によるシリル化生成物
よりも10倍から100倍の速さで脱シリル化されるた
め他の官能基を破壊する恐れが少ない。
どの水酸基、アミンのNHなどをシリル化することによ
って生成したシリル化生成物は、トリメチルシリル基に
よるシリル化生成物と比較してはるかに安定性のある保
護基を与え、かつ、加水分解して脱シリル化を行なう際
にはt−ブチルジメチルシリル基によるシリル化生成物
よりも10倍から100倍の速さで脱シリル化されるた
め他の官能基を破壊する恐れが少ない。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式(CH_3)(R)(R^1)SiX(式中
、Rはイソプロピル基、R^1は炭素原子数2〜6個の
1価炭化水素基、Xは塩素原子または臭素原子を表わす
。)で示されるシリル化剤。 2、R^1がフェニル基である特許請求の範囲第1項記
載のシリル化剤。 3、R^1がイソプロピル基である特許請求の範囲第1
項記載のシリル化剤。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1146242A JPH0311083A (ja) | 1989-06-08 | 1989-06-08 | シリル化剤 |
| US07/523,519 US5136074A (en) | 1989-06-08 | 1990-05-15 | Silylating agent |
| CA002017699A CA2017699C (en) | 1989-06-08 | 1990-05-29 | Silylating agent |
| AU56869/90A AU619409B2 (en) | 1989-06-08 | 1990-06-06 | Silylating agent |
| EP90110832A EP0401837B1 (en) | 1989-06-08 | 1990-06-07 | Silylating agent |
| DE69014419T DE69014419T2 (de) | 1989-06-08 | 1990-06-07 | Silylierungsmittel. |
| US07/695,833 US5153343A (en) | 1989-06-08 | 1991-05-06 | Silylating method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1146242A JPH0311083A (ja) | 1989-06-08 | 1989-06-08 | シリル化剤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0311083A true JPH0311083A (ja) | 1991-01-18 |
Family
ID=15403314
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1146242A Pending JPH0311083A (ja) | 1989-06-08 | 1989-06-08 | シリル化剤 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US5136074A (ja) |
| EP (1) | EP0401837B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0311083A (ja) |
| AU (1) | AU619409B2 (ja) |
| CA (1) | CA2017699C (ja) |
| DE (1) | DE69014419T2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000049976A (ja) * | 1998-07-31 | 2000-02-18 | Hiroshi Ise | 送信ネーム板で接続できる電話器 |
| JP2004277417A (ja) * | 2003-02-28 | 2004-10-07 | Rikogaku Shinkokai | シロキサン類,シラノール類及びシラン類,並びにその製造方法 |
| JP5783606B2 (ja) * | 2009-11-17 | 2015-09-24 | 日本化薬株式会社 | 新規熱ラジカル発生剤、その製造方法、液晶シール剤及び液晶表示セル |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2766130B2 (ja) * | 1992-07-03 | 1998-06-18 | 信越化学工業株式会社 | トリオルガノモノハロゲノシランの製造方法 |
| JPH06157554A (ja) * | 1992-11-27 | 1994-06-03 | Toray Dow Corning Silicone Co Ltd | トリオルガノクロロシランの製造方法 |
| ES2147382T3 (es) * | 1995-06-22 | 2000-09-01 | Yuri Gudimenko | Modificacion superficial de polimeros y materiales basados en carbono. |
| US6911032B2 (en) * | 1999-11-18 | 2005-06-28 | Scimed Life Systems, Inc. | Apparatus and method for compressing body tissue |
| US8575235B2 (en) * | 2009-06-12 | 2013-11-05 | Industrial Technology Research Institute | Removable hydrophobic composition, removable hydrophobic coating layer and fabrication method thereof |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60246390A (ja) * | 1984-05-21 | 1985-12-06 | Shin Etsu Chem Co Ltd | T−ブチルフエニルメチルクロルシラン |
-
1989
- 1989-06-08 JP JP1146242A patent/JPH0311083A/ja active Pending
-
1990
- 1990-05-15 US US07/523,519 patent/US5136074A/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-05-29 CA CA002017699A patent/CA2017699C/en not_active Expired - Fee Related
- 1990-06-06 AU AU56869/90A patent/AU619409B2/en not_active Ceased
- 1990-06-07 EP EP90110832A patent/EP0401837B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-06-07 DE DE69014419T patent/DE69014419T2/de not_active Expired - Fee Related
-
1991
- 1991-05-06 US US07/695,833 patent/US5153343A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60246390A (ja) * | 1984-05-21 | 1985-12-06 | Shin Etsu Chem Co Ltd | T−ブチルフエニルメチルクロルシラン |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000049976A (ja) * | 1998-07-31 | 2000-02-18 | Hiroshi Ise | 送信ネーム板で接続できる電話器 |
| JP2004277417A (ja) * | 2003-02-28 | 2004-10-07 | Rikogaku Shinkokai | シロキサン類,シラノール類及びシラン類,並びにその製造方法 |
| JP5783606B2 (ja) * | 2009-11-17 | 2015-09-24 | 日本化薬株式会社 | 新規熱ラジカル発生剤、その製造方法、液晶シール剤及び液晶表示セル |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0401837A2 (en) | 1990-12-12 |
| AU619409B2 (en) | 1992-01-23 |
| US5153343A (en) | 1992-10-06 |
| CA2017699A1 (en) | 1990-12-08 |
| AU5686990A (en) | 1990-12-13 |
| DE69014419D1 (de) | 1995-01-12 |
| EP0401837B1 (en) | 1994-11-30 |
| DE69014419T2 (de) | 1995-05-04 |
| CA2017699C (en) | 1999-03-30 |
| US5136074A (en) | 1992-08-04 |
| EP0401837A3 (en) | 1991-05-15 |
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