JPH03112962A

JPH03112962A - 新規ヒドロキシピロリジン化合物、その製造用中間体およびそれらの製造方法

Info

Publication number: JPH03112962A
Application number: JP1252576A
Authority: JP
Inventors: Seiichi Takano; 誠一高野; Kuniro Ogasawara; 國郎小笠原; Koji Iwabuchi; 好治岩渕
Original assignee: Daiso Co Ltd
Current assignee: Osaka Soda Co Ltd
Priority date: 1989-09-28
Filing date: 1989-09-28
Publication date: 1991-05-14
Anticipated expiration: 2013-04-15
Also published as: JP2739506B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】［産業上の利用分野コ本発明は、単為生殖性の原生動物による疾病の治療や、
植物例えば豆類のうどんこ病などのかびによる被害の防
除に有用な抗生物質アニソマイシンおよびその誘導体を
製造するために有用な反応中間体である（式中、Ａｒは置換または無置換のアリール基Ｚはアミ
ノ基の保護基または水素原子、＊は光学活性炭素をそれ
ぞれ意味する）で示される新規ヒドロキシピロリジン化合物、その製造
用中間体およびそれらの製造方法に関する。

［従来技術および解決すべき課Ｂ］上記ヒドロキシピロリジン化合物［ＸＸＩ　３は、これ
を脱水処理することによって、番（式中、Ａｒは置換または無置換のアリール基、Ｚはア
ミノ基の保護基、＊は光学活性炭素をそれぞれ意味する
）で示される光学活性３，４−デヒドロピロリジン化合物
に導かれ、必要に応じてそのＮ−保護基を除去すること
によってさらにＮ−遊離の化合物に導かれる。

一般式［１］で示される上記光学活性化合物の製造に関
しては、つぎの反応経路１で示すように、Ｄ−チロシン
を出発原料とする方法（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　Ｌｅ
ｔｔ、、２９．４４１９．Ｌ９８ｆｌ、　Ｓ、ジェーガ
ム（Ｓ、Ｊｅｇｈａｍ　）　、　Ｂ、Ｃ，ダス（Ｂ、Ｃ
，Ｄａｓ　）　）が知られている。

（以下余白）反応経路１（ｎ）［Ｍ］ ↓ （上記各式中、ｒは４−メトキシフェニル、は −ブチルオキシカルボニル、Ｍｅはしかし、この反応経路の方法では中間体［Ｖ］がラセミ
化しやすく、そのため最終製品である光学活性化合物［
１］の光学純度に問題があった。またこの方法ではＡｒ
が４−メトキシフェニルに限定されており、上記化合物
ＣＩ］の同族体は未だ開発されていなかった。

本発明は、上記の如き実情に鑑み、アニソマイシンおよ
びその同族体を製造する上で有用な新規ヒドロキシピロ
リジン化合物［ＸＸＩ　］およびその製造方法を提供す
ることを目的とする。

本発明はまた、同ヒドロキシピロリジン化合物［１’Ｘ
Ｉ　］の製造に有用な中間体である新規Ｎ−置置換コロ
リジン化合物よび新規アシルオキシピロリジン化合物な
らびにそれらの製造方法を提供することを目的とする。

［課題を解決するための手段］本発明によるヒドロキシピロリジン化合物は、（式中、
Ａｒは置換または無置換のアリール基、Ｚはアミノ基の
保護基または水素原子、＊は光学活性炭素をそれぞれ意
味する）で示される化学構造を有する。

また、同ヒドロキシピロリジン化合物［ＸＸＩ　１の製
造に有用な中間体である本発明のＮ−置換ピロリジン化
合物［ＸＸＩおよびアシルオキシピロリジン化合物［Ｘ
ＸＩは、 ↓ で示される化学構造、および（上記各式中、ＡｒおよびＡｒ−は同一のまたは異なる
置換または無置換のアリール基、Ｚはアミノ基の保護基
、＊は光学活性炭素をそれぞれ意味する）で示される化学構造をそれぞれ有する。

上記ヒドロキシピロリジン化合物［ＸＸＩ　］を製造す
るには、で示されるアシルオキシピロリジン化合物のアシルオキ
シ基を直接加水分解するか、またはアシルオキシピロリ
ジン化合物［ＸＩＩＩのアミノ基を保護試剤で保護して閂（上記各式中、Ａｒ５Ｚおよび＊は上記定義のものと同
じ意味を有し、Ａｒ”は置換または無置換のアリール基
をそれぞれ意味する）で示されるＮ−置換ピロリジン化
合物を得、ついて同化合物［ＸＸＩのアシルオキシ基を
加水分解する。

上記方法に使用するアシルオキシピロリジン化合物［Ｘ
ＩＩＩを製造するには、一般式（式中、Ａ「、Ａｒ−および＊は上記定義のものと同じ
意味を有する）で示されるベンズアミド化合物を臭素、塩化ヨウ素、ヨ
ウ素、ピリジンのＨＢｒ３塩、Ｎ−ブロモコハク酸イミ
ドより成る群から選ばれた環化試剤で処理する。

上記方法に使用するベンズアミド化合物［Ｘ■コを製造
するには、で示されるアリルアミン化合物を一般式％式％（上記各式中、Ａｒ、Ａｒ’および本は上記定義のもの
と同じ意味を有し、Ｘｌはハロゲン原子を意味する）で
示されるアミド化試剤で処理する。

上記方法に使用するアリルアミン化合物［Ｘ■を製造す
るには、（式中、Ａｒおよび＊は上記定義のものと同じ意味を有
し、ＹはＮＨＣＯｚｔ−Ｂｕ。

ＮＨＣＯ２Ｂｎ　（Ｂｎはベンジル基を意味するＢｎＯ
ＮＣＯ２Ｂｎ。

ｏ　−Ｃ６Ｈ４（ＣＯ）　２　Ｎ％ＮＣ（Ｃ６Ｈ４）３　、ＨＣＯＮＨ。

ｐ−Ｍｅ　（Ｃ６Ｈａ　）Ｓ０２　ＮＨまたはＣｓ　Ｈ
ｓ　Ｓ０２　ＮＨを意味する）で示される含窒素化合物
を塩基で処理するか、または上記一般式においてＹがＮ
、である含窒素化合物［ｘ■］を水素化反応に付する。

上記方法に使用する含窒素化合物［ＸＶＩ］を製造する
には、一般式で示されるアリルアルコール化合物を、一般式Ｒ２０２
ＣＮ　−Ｎ　Ｃ０２Ｒ２で示されるジアゾカルボン酸ジ
アルキルおよび一般式Ｐ（Ｒ’）、（上記各式中、Ａｒおよび＊は上記定義の
ものと同じ意味を有し、Ｒ２はアルキル基、Ｒ３はアリ
ール基またはアルキル基をそれぞれ意味する）で示され
る三級ホスフィン化合物の存在下、一般弐ＹＨ（Ｙは上
記定義の基のうちＮ３以外のものを意味する）で示され
る化合物と反応させるか、またはＣＣｂ　Ｈｓ　Ｏ）２　ＰＯＮ３　と反応させる。

上記方法に使用するアリルアルコール化合物［ＫＶ］を
製造するには、一般式で示されるエポキシプロパン化合物をリチウムアセチリ
ドと反応させて一般式（上記各式中、Ａｒおよび＊は上記定義のものと同じ意
味を有する）で示されるエチニルアルコールとし、これを部分還元す
る。

本発明によるヒドロキシピロリジン化合物［ＸＸｌ　］
は、これを脱水処理することによって、杢（式中、Ａｒは置換または無置換のアリール基、Ｚはア
ミノ基の保護基、本は光学活性炭素をそれぞれ意味する
）で示される光学活性３，４−デヒドロピロリジン化合物
に導かれ、必要に応じてそのＮ−保護基を除去すること
によってさらにＮ−遊離の化合物に導かれる。

本発明によるヒドロキシピロリジン化合物ＣＸＸＩ　］
を脱水して化合物［１１を得るには、（１）ヒドロキシ
ピロリジン化合物［ＸＸｌ　］に二硫化炭素ついで一般
式ＲＩＸ２で示される化合物を反応させて、（上記各式中、Ａｒ、Ｚおよび＊は上記定義のものと同
じ意味を有し、Ｒ１はアルキル基またはアラルキル基、
Ｎ２はハロゲン原子またはスルホニルオキシ基、Ｙｏは
０Ｃ３２Ｒ１をそれぞれ意味する）で示されるキサンテート化合物を得、ついで同化合物［
ＸＸ［］を脱離反応に付する方法、（１１）ヒドロキシ
ピロリジン化合物［：ＸＸｌ　］を酸処理する方法、（
１１１）ヒドロキシピロリジン化合物［Ｘｒｌ　］の水
酸基をハロゲン、ｐ−トルエンスルホン酸エステル基ま
たはアセチルオキシ基で置換し、得られた化合物を脱離
反応に付する方法などがある。

本発明方法の出発原料であるｌ−アリール−２，３−エ
ポキシプロパン化合物［Ｘ］の調製方法を反応経路２に
示し、また上述した本発明によるヒドロキシピロリジン
化合物［１：ＸＩ　］さらには］光学活性３．４−デヒ
ドロピロリジン化合の製造方法を反応経路３に示す。

（以下余白）個ｋ］Ｘ−ペンジルオキシアリルオキシ〔■ａ〕Ｘ−ハロゲン反応経路２（ｃｃｂコ〔ゐ〕ｒＸ］ｌ〔−〕Ｘ−スルホニルオキシｃｘｎｒ、１本発明において、上記一般式で示される各化合物の定義
について上記反応経路３の反応順に説明する。

エポキシプロパン化合物［Ｘ］のアリール基Ａ「として
は、フェニル、ナフチル、インドリル、ビフェニルなど
の無置換アリール基、および芳香環にフッ素、塩素、臭
素、ヨウ素などのハロゲン原子や、メチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、ブチルなどの炭素数１〜４のア
ルキル基、メトキシ、エトキシなどの炭素数１〜４のア
ルコキシ基、ベンジルオキシ基などのアラルキルオキシ
基、シアノ基、トリフルオロメチル基などの置換基を有
するフェニル、ナフチル、インドリル、ビフェニルなど
の置換アリール基が例示される。また、同化合物［Ｘ］
の＊は光学活性炭素を示す。

アリルアルコール化合物［ＸＶ］から含窒素化合物［Ｘ
■］を得る反応で使用するジアゾカルボン酸ジアルキル
Ｒ２０□ＣＮ−ＮＣＯ２Ｒ２のアルキル基としては、メ
チル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチルなどの
炭素数１〜４のアルキル基が例示され、三級ホスフィン
Ｐ（Ｒ３）のＲ３基としてはフェニルのようなアリール
、ｎ−ブチルのようなアルキル基が例示される。

アリルアミン化合物［Ｘ■］のアミド化試剤Ａｒ’ＣＯ
Ｘ’またはＡｒ’　Ｃｏ２Ｃ０Ａｒにおけるアリール基
Ａｒ”としては、フェニル、ナフチルなどの無置換アリ
ール基、および芳香環にフッ素、塩素、臭素、ヨウ素な
どのハロゲン原子や、メチル、エチル、プロピル、イソ
プロピル、ブチルなどの炭素数１〜４のアルキル基、メ
トキシ、エトキシなどの炭素数１〜４のアルコキシ基、
シアノ基、ニトロ基、アセチル基、ベンゾイル基などの
置換基を有するフェニル、ナフチルなどの置換アリール
基が例示される。また、同アミド化試剤におけるハロゲ
ンＸ１としては塩素、臭素などが例示される。

アシルオキシピロリジン化合物［ｒｌＫ］のアミノ基保
護のためのカルバメート化またはアミド化に使用される
保護試剤としては、クロロ炭酸エチル、クロロ炭酸ベン
ジル、クロロ炭酸ｔ−ブチルなどのクロロ炭酸アルキル
、クロロ炭酸アラルキル、ハロゲン化アセチル、無水酢
酸、ハロゲン化ベンゾイル、無水安息香酸などが例示さ
れる。したがって、アミノ基の保護基としてのＺは、ベ
ンジルオキシカルボニル、ｔ−ブチルオキシカルボニル
などのオキシカルボニル基、アセチル、゛ベンゾイルな
どのアシル基のように容易に除去可能な置換基である。

キサンテート化合物［ＨＩ　］のＹ′が０Ｃ３２Ｒ１で
ある場合、Ｒ’としては、メチル、エチルなどのアルキ
ル基、ベンジルなどのアラルキル基が例示される。

つぎに、上記反応経路２および３の各反応の条件につい
て反応順に説明する。

（Ａ）まず、本発明方法の出発原料であるエポキシプロ
パン化合物［Ｘ］の製造について上記反応経路２に従っ
て説明する。

反応経路２の出発原料である２、３−エポキシプロパン
誘導体［■］において、Ｘはフッ素、塩素、臭素、ヨウ
素などのハロゲン、またはメタンスルホニルオキシ、ト
リフルオロメタンスルホニルオキシ、ベンゼンスルホニ
ルオキシ、ｐ−）ルエンスルホニルオキシ、３−ニトロ
ベンゼンスルホニルオキシなどのスルホニルオキシ基、
ベンジルオキシ、ジフェニルメチルオキシ、トリチルオ
キシなどのアラルキルオキシ基、アリルオキシ基などの
容易に脱離可能な置換基を示す。

まず、２，３−エポキシプロパン誘導体［■］を不活性
溶媒中で一り００℃〜−１Ｏ℃の低温下で一価の銅塩０
．００５〜２．０モル当量の存在下にアリールリチウム
と反応させる。不活性溶媒としては、例えばヘキサン、
ペンタン、ヘプタン、トルエンなどの炭化水素、エーテ
ル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチル
エーテルなどのエーテル類あるいはこれらの混合溶媒が
使用される。銅塩としてはＣｕ２　（ＣＮ）　２、Ｃｕ２１２などを用いることが
できる。アリールリチウムとしては、先に定義したアリ
ール基（Ａｒ）を有するものが適宜選択されて使用され
る。通常はリチウムキュープレート試剤を用いる。この
際、（１）化合物［■］の置換基Ｘがハロゲンである時
は、化合物［■１］からハロヒドリン［■１］が得られ
、（ｉｌ）Ｘがトルエンスルホニルオキシなどのスルホ
ニルオキシ基である時は、化合物［Ｗｂｌからエポキシ
プロパン化合物［Ｘ］が得られ、（ＩＩＩ）　Ｘがアラ
ルキルオキシやアリルオキシなどである場合は、化合物
［１１ｃ］から化合物［ＩＫｂ］が得られる。

（１）の方法では、ハロヒドリン［■１］に極性溶媒中
で塩基を反応させるか、あるいは非極性溶媒と上記塩基
の水溶液との二層系で相間移動触媒を用いて化合物［■
１］と塩基を反応させることによって、上記化合物［Ｘ
］を得ることができる。塩基としては、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムな
どが使用され、極性溶媒としては、水、メタノール、ア
セトン、エーテルなどが使用され、非極性溶媒としては
へキサン、エーテル、ジクロロメタンなどが使用される
。

また（ｉｌｉ）の方法では、化合物［Ｗｂｌから公知の
方法、例えばパラジウム触媒を用いた水素化分解あるい
はオレフィンの異性化を伴う酸分解により保護基を除き
、化合物［Ｗｂｌをジオール［ｘ１］とし、さらにこれ
を本発明者らにより開発された方法、即ち、１）−）ル
エンスルホン酸などの酸触媒存在下ベンズアルデヒドで
アセタール化して化合物［ＩＩＩとした後、これを臭素
あるいはＮ−ブロモコハク酸イミドを用いてブロモヒド
リンのベンゾイルエステルし、さらにこれを塩基で処理してエポキシプロパン化合
物［Ｘ］を得ることができる（Ｓｙｎｔｈｅｓｌｓ．１９８５，５０３参照）。ここ
で塩基としては、やはり水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどが使用される
。

（Ｂ）つぎに、本発明によるヒドロキシピロリジン化合
物［ＸＸｌ　］の製造について上記反応経路３に従って
さらに詳しく説明する。

ａ）まず、反応経路２を経て製造されたエポキシプロパ
ン化合物［Ｘｌを不活性溶媒中でリチウムアセチリドと
反応させて、エチニルアルコール化合物［Ｉｆｆ］を得
る。リチウムアセチリドとしては市販のりチウムアセチ
リドのエチレンジアミン錯体を用いるか、またはブチル
リチウム、フェニルリチウムなどのリチオ化試剤の不活
性溶媒中にアセチレンガスを導入して調整したものを用
いる。不活性溶媒はエーテル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサンなどのエーテル類、トルエン、ヘキサンなどの
炭化水素、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホ
アミドなどの非プロトン系極性溶媒およびこれらの混合
物から適宜選んで使用する。リチウムアセチリドはエポ
キシプロパン化合物［Ｘｌに対して１〜５モル当量用い
られ、同化合物［Ｘｌに一７０℃〜８０℃の温度範囲で
反応させられる。

ｂ）エチニルアルコール化合物［ＩＮ］を部分還元して
アリルアルコール化合物［ＸＶ］を得る。

この部分還元はリンドラ−触媒を用い、１〜５気圧の水
素雰囲気でアセトン、メタノール、クロロホルム、酢酸
エチル、酢酸などの溶媒中で反応を行なうことにより達
成できる。

Ｃ）アリルアルコール化合物［ＭＹ］を光延反応（旧ｔ
ｓｕｎｏｂｕ、５ｙｎｔｈｅｓｌｓ、１９８１．１参照
）により、ジアゾカルボン酸ジアルキル（Ｒ２０２ＣＮ−ＮＣＯ□Ｒ２）および三級ホスフィン
化合物Ｐ（Ｒ’）３の存在下、一般弐ＹＨで示される化
合物と反応させて、アリルアルコール化合物［ＸＶ］と
は立体配置が反転した含窒素化合物［ＸＸｌを得る。ア
リルアルコール化合物［ｒＶ］に反応させられる化合物
ＹＨとしては、上記定義の基Ｙを有するものが適宜使用
される。ただし、ＹがＮ、である含窒素化合物［ＸＶＩ
Ｉを得るにはＹＨの代わりにＣＣｂ　Ｈｓ　Ｏ）２　ＰＯＮｓを用いる。光延反応は
、基質であるアリルアルコール化合物［ＸＶ］に、基質
に対してＹＨまたは（Ｃ６Ｈ，０）　２ＰＯＮ、　、ジアゾカルボン酸ジア
ルキルおよび三級ホスフィンを各々１〜５モル当量反応
させることにより達成できる。ここでジアゾカルボン酸
ジアルキルとしては上記定義のアルキル基Ｒ２を有する
ものが適宜使用され、三級ホスフィンとしては上記定義
の基Ｒ３を有するものが適宜使用される。反応溶媒とし
てはエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテルなどのエーテル類を
用いることができる。反応温度は一り８℃〜室温の範囲
である。

ｄ）含窒素化合物［ＸＶＩＩを水酸化カリウム、水酸化
ナトリウム、ヒドラジンなどの塩基で処理してアリルア
ミン化合物［Ｘ■］とする。ただし含窒素化合物［Ｘ’
ＶＩＩ中のＹがＮ、であるときは、パラジウム、白金な
どを用いる水素化反応で含窒素化合物［ＸＶＩＩをアリ
ルアミン化合物［Ｘｌコ　とする。

ｅ）　アリルアミン化合物［Ｘｌコを一般式％式％（式中、Ａｒ’は先に定義した意味を有し、Ｘｌは塩素
、臭素のようなハロゲン原子を意味する）で示されるア
ミド化試剤と反応させて、ベンズアミド化合物［Ｘｌコ
とする。

ｒ）ベンズアミド化合物［Ｘｌコを含水溶媒たとえば水
−アセトリニトリル混合溶媒中で環化試剤で処理して、
Ｃ−４位のエピマー混合物としてアシルオキシピロリジ
ン化合物［ＸＸｌを得る。環化試剤としては、先に定義
したものから適当なものを選んで使用する。同環化試剤
としてヨウ素を使用する場合には、これをベンズアミド
化合物［ＸｖＡ］に１〜３当量反応させる。

ｇ）アシルオキシピロリジン化合物［ＸＸｌのアシルオ
キシ基を直接加水分解すか、または同化合物［１’ｆｆ
ｌのアミノ基を塩基の存在下に一般式ＺＨで示される化
合物と反応させてＮ−置換ピロリジン化合物［ＸＸｌを
得た後、これを加水分解してヒドロキシピロリジン化合
物［ＸＸｌ　１とする。一般式ＺＨで示される化合物と
しては、先に定義したＺを有するものが適宜使用される
。

塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化
カリウム、水酸化ナトリウムなどの無機塩基、トリエチ
ルアミン、ピリジンなどの有機塩基が適宜使用される。

Ｎ−置換ピロリジン化合物［ＸＸＩのベンゾイル基の加
水分解は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの塩
基の存在下に行なう。

（Ｃ）　ｈ）　　こうして得られた本発明のヒドロキシ
ピロリジン化合物［Ｘｒｌ　］を脱水処理してデヒドロ
ピロリジン化合物［１］に導く。ヒドロキシピロリジン
化合物［Ｈｌ　］の脱水方法としては、（１）同化合物
［ＸＸｌ　］をキサンテート化合物［ＸＸＩ　］に変換
し、ついで同化合物［ＸＸＩ　］を脱離反応に付する方
法、（Ｉｆ）ヒドロキシピロリジン化合物［ＸＸｌ　１
を硫酸、ｐ−トルエンスルホン酸、リン酸などの酸で処
理する方法、（１１１）ヒドロキシピロリジン化合物［
ＸＸＩ　１の水酸基を塩素、臭素、ヨウ素などのハロゲ
ン原子、ｐ−トルエンスルホン酸エステル基、アセチル
オキシ基などに変換した後、得られた化合物を塩基の存
在下に脱離反応に付する方法などがある。

一例としてキサンテート化合物［ＸＸＩ　］を経由する
方法（１）をさらに詳しく説明する。ヒドロキシピロリ
ジン化合物［ＸＸＩ　］を水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウムなどの無機塩基の存在下に二硫化炭素と反応させ
て、ジチオカルボン酸塩とし、これを一般式ＲＩＸ２（
式中、Ｒ１は先の定義と同じ意味を有し、Ｘ２は塩素、
臭素、ヨウ素などのハロゲン原子またはｐ−トルエンス
ルホニルオキシ、ベンゼンスルホニルオキシ、メタンス
ルホニルオキシ、トリフルオロメタンスルホニルオキシ
などのスルホニルオキシ基を意味する）で示されるアル
キル化もしくはアラルキル化試剤と反応させて、キサン
テート化合物［ＸＸＩ　］、を得る。このキサンテート
化合物［ＸＸＩ　］を］０−ジクロルベンゼンニトロベ
ンゼン、メシチレン、キシレンなどの高沸点溶媒中で加
熱還流すると、３，４−デヒドロピロリジン化合物［１
１（Ｚは先に定義したもののうち水素以外の基）と４．
５−デヒドロピロリジン化合物［ＸＸＩ］の混合物が得
られる。この反応において例えば２がベンジルオキシカ
ルボニル基であり、Ｒ１がメチル基であるキサンテート
化合物［１１１］を］０−ジクロルベンゼンで加熱還流
すると、化合物ＣＩ］と化合物［ＸＨ］が８．２：１の
混合物として得られる。３．４−デヒドロピロリジン化
合物［Ｉ］はシリカゲルなどを用いてクロマトグラフィ
ーで混合物から分離することができる。

［）　　３．４−デヒドロピロリジン化合物［Ｉ］はそ
れ自体マニソマイシン合成に有用な中間体であるが、必
要に応じて、アルカリ加水分解、あるいはパラジウムを
用いる水素化分解などそれ自体公知の方法により、３．
４−デヒドロピロリジン化合物［１］の保護基２を除去
して、Ｎ−遊離の３．４−デヒドロピロリジン［：ＸＸ
ｆｆ］　として用いることもできる。

上記一連の反応によってそれぞれ中間的に得られる化合
物は、通常は単離した後つぎの工程に使用するが、必ず
しも単離を行なわなくてもよい。

［発明の効果］本発明は以上の通り構成されているので、本書冒頭で述
べた従来法のように中間体がラセミ化しやすく、そのた
め最終製品である光学活性化合物の光学純度が低いとい
った問題を生じることなく、高純度の光学活性物質を製
造することができる。また、本発明によって、一般式［
ＸＸｌ　］で示されるヒドロキシピロリジン化合物に属
する種々の同族体、ひいては一般式［Ｉ］で示される３
、４−デヒドロピロリジン化合物に属する種々の同族体
を得ることができる。

（以下余白）［実　施　例］本発明の技術的特徴を例証するために、以下に実施例お
よび参考例をいくつか挙げる。ただし、これらは本発明
を限定するものではない。

これら実施例および参考例において、上述説明でローマ
数字［１］〜［ＸＸｆｆ　］で示した化合物群にそれぞ
れ属する具体的化合物を、上記ローマ数字に対応するア
ラビア数字［１］〜［２４］で示す。また、割合を示す
％はすべて重量９６を示す。

まず、本発明方法の出発原料［Ｘ］の１つであるＳ−（
＋）−１−（４−メトキシフェニル）−２，３−エポキ
シプロパン［１０］の合成について参考例として説明す
る。

参考例ＩＲ−１−ベンジルオキシ−２，３−エポキシプロパン［
８ｃ］からの上記［１０］の合成ａ）４−ブロモアニソール３．０３が（２４，２ｍＭ）のテ
トラヒドロフラン１０カ溶液をアルゴン気流下−７８℃
に冷却し、ｎ−ブチルリチウム１５％ヘキサン溶液１４
．８が（２３，１１ｎＭ）を滴下し、混合液を３０分攪
拌し、反応を遂行させた。この反応液を一７８℃でシア
ン化第−銅り、０３　ｇ　（１１，５＋Ｍ）のテトラヒ
ドロフラン１０層懸濁液にキヤスクを用いて加え、同温
度でさらに３０分間攪拌を行なった。

こうしてリチウムキュープレート試剤の懸濁液を調製し
た。

別途に、特開昭６１−１３２１９６号公報記載の方法に
よって得られた光学純度の高いＲ−（−）−エピクロル
ヒドリン［８ａ］を原料として光学純度の高いＲ−（−
）−１−ベンジルオキシ−２，３−エポキシプロパン［
８ｃコ　（９６９６ｅｅ）を合成した。

上記リチウムキュープレート試剤の懸濁液に、−７８℃
でＲ−（−）−ベンジルオキシ−２，３エポキシプロパ
ン［８ｃｌ　１．２０ｇ　（７，３ｍＭ　）のテトラヒ
ドロフラン溶液を滴下し、゛混合液を３時間同温度で攪
拌した後、さらに−２５℃で１時間攪拌した。反応液に
飽和食塩水２０扉およびエーテル１００ｗ１を加えて抽
出を行ない、エーテル層を飽和食塩水２０１１１で洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留
去した。得られた残渣をシリカゲル１２０ｇでカラムク
ロマトグラフィーに付し、エーテル：ヘキサン−１＝２
の溶媒によるフラクションより無色油状のＳ−（＋）−
アルコール［９ｂｌ　　１．９７　ｇ　（収率９８％）
を得た。

［ｃｒ］　　”　　　：＋７．０　　（Ｃ−３，１１，
ＭｅＯＨ）ＮＭＲ（ＣＤＣ／３　）δ：１．８０（ＩＨ
，ｄ。

Ｊ　＝４．５　Ｈｚ、　Ｄ２０で消失）、２．７５（２
Ｈ。

ｄ、　６．３　Ｈｚ）　、　３．２０−３．６０（２Ｈ
，ｍ）　、　３゜８０（３Ｈ，ｓ）、３．９０−４．１
０（ＩＨ，ｍ）、４゜５５　（２Ｈ，ｓ）　　、　　６
．７０−７．２０　（４Ｈ，ｍ）　　、　　７゜３３（
５Ｈ，Ｓ）Ｉ　Ｒ（ｎｅａｔ）　ｃｍ−’　：　３４５０．１６２
０．１５２０，１２４０Ｍ５　　ｌｌ１ｅ　　：２７３
（Ｍ＋１）　　、　　１２１　　（１００％）。

ｂ）Ｓ−（＋）−アルコールＣ９ｂｌ　　１．７５　ｇ　（
６゜４５　ｄ）のメタノール３０１１１１溶液に活性炭
に担持した２０％水酸化パラジウム５０Ｂを加え、同溶
液を水素ガス１気圧雰囲気下で１６時間攪拌した。反応
液をセライト濾過した後、減圧下で溶媒を留去し、Ｓ−
ジオール［１１１１，１９ｇ　（収率９９％）を得た。

これをエタノール＋ヘキサンの混合液で再結晶して、板
状晶を得た。

ｍｐ　：　７４−７５℃ ＮＭＲ（ＣＤＣ／３　）δ：　２．３０　（２Ｈ，ｂｒ
　ｓ。

Ｄ２０で消失）　、　２．８５　（２Ｈ，ｄ、　　Ｊ　
−６，４Ｈｚ）　、　３．２５−４．０　　（３Ｈ，ｍ
）　、　３．７０（３Ｈ。

ｓ）、８．８０（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝８．８　Ｈｚ）、７．
１０（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝８．６　Ｈｚ）Ｉ　Ｒ（ｎｅａｔ）　ａｍ−’　：　３４００．１６１
０．１５１０．１２４０゜Ｍ５　　　ｔａｌｅ　　：　
　１８２　　（Ｍ”　　）　　、１２１　　（１００％
）。

Ｓ−ジオール［１１コＬ、１７ｇ　（８，４１Ｍ　）の
ベンゼン溶液１０度にベンズアルデヒド０．８５１１１
（８，４ａ＋Ｍ）およびｐ−１ル工ンスルホン酸水和物
３０ｍｇ（２Ｍ％）を加え、反応器にディージ・スター
ク装置を取り付けて５時間加熱還流を行なった。

反応液にエーテル５０／１２／を加えて抽出を行ない、
エーテル層を飽和重曹水２０／ＩＩ／および飽和食塩水
２０１１＋２／で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥した。ついで減圧下溶媒を留去し、得られた残渣を
シリカゲル７０ｇでカラムクロマトグラフィーに付し、
エーテル：ヘキサン−１：１０の溶媒によるフラクショ
ンよりアセタール［１２］　１゜６５ｇ（収率９５．５
％）を得た。

Ｎ〜ＩＲ（ＣＤＣ／ｉ　）δ：　２．８５−３．２５　
（２Ｈ。

ｍ）、３．７５（３Ｈ，ｓ）、３．ＢＯ−４，６０（３
Ｈ。

ｍ）　、　５．７０　（０，８Ｈ，ｓ）　、　５．９５
　（０，４Ｈ，ｓ）６．８０（２Ｈ，ｄ、　　Ｊ　＝８
．８　Ｈｚ）　、　７．１０（２Ｈ１ｄ。

−８，ＢＨｚ）７．３０−７．５０　　（５Ｈ。

ｍ）Ｉ　　Ｒ（ｎｅａｔ）　　Ｃ１１−’　：　　１Ｂ２０
，１５２０．１２５０Ｍ５　　　ｌ１ｌｅ　　：　２７
０　　（Ｍ”　　）　　、　　１４９　　（１００％）
。

ｄ）アセタール［１２］　１．３１ｇ　（４，８５層Ｍ）の
四塩化炭素１５７１２／溶液にＮ−ブロモコノ＼り酸イ
ミド９１７ｍｇ　　（５，０１ＩＩＭ　）を加え、室温
で２０時間攪拌を行なった。生じた沈澱物をセライト濾
過し、濾液を飽和重曹水１０カおよび飽和食塩水１０層
で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。

ついで溶媒を減圧下に留去し、黄色の油状物としてＳ−
ブロモベンゾエート［１３］　１．８７ｇの粗生成物を
得た。

この粗生成物をメタノール１０カ溶液とし、これに炭酸
カリウム８５０ｍｇ　　（８，１５層Ｍ）を加え、５時
間室温で攪拌を行なって、溶媒の大部分を減圧下で留去
した。この残留物にエーテル３０Ｉ１１１を加えて抽出
を行ない、エーテル層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸
マグネシウムで乾燥した。

ついで減圧下で溶媒を留去し、残渣をシリカゲル５０ｇ
でカラムクロマトグラフィーに付し、エーテル：ヘキサ
ン−１：９の溶媒によるフラクションよりＳ−（＋）−
１−（４−メトキシフェニル）−２，３−エポキシプロ
パンＣ１０１５４６ｍｇ　（収率８１．２％）を得た。

［α］　２８Ｄ、　＋　　１．Ｑ。

（Ｃ＝　　１．０．　　ＣＨＣ／　］　）ＮＭＲ（ＣＤ
Ｃ／３　）δ：　　２．５０　　（ＩＨ，ｄｄ　　Ｊ　
−２，４４，４，１１ＩｌｌＨｚ）　、　２．７０−２
．８５　（２Ｈ。

ｍ）　、　３．０−３．２０　（Ｉ　Ｈ，ｍ）　、　３
．８０　（３Ｈ。

ｓ）　、　６．８０　（２Ｈ，ｄ、　　Ｊ　＝８．５５
Ｈｚ）　、　７．１０（２Ｈ，ｄ、８．５５Ｈｚ）Ｉ　Ｒ（ｎｅａｔ）　ｃｍ−’　：　１６１０．１５１
５．１２４０Ｍ５　　ｔａｌｅ　：　１Ｂ４　　（Ｍ”
　）　、　　１２１　（１００％）。

参考例２Ｓ−＜＋＞−エビクロヒドリン［８ａ］からの［１０］
の合成４−ブロモアニソール１．２５１１１（１０ｎ＋Ｍ）の
テトラヒドロフラン５ａ溶液にアルゴン雰囲気下−７８
℃でｎ−ブチルリチウム１５％ヘキサン溶液６゜１　度
（９，５１Ｍ）を滴下し、２０分攪拌を行なった。

得られた淡黄色溶液を一７８℃でシアン化第−銅４８８
ｍｇ　　（５ａ＋Ｍ）のテトラヒドロフラン１０／７ｉ
／懸濁液にキヤスクを用いて加え、混合液を同温度で３
０分攪拌した後、−４５℃で２０分攪拌した。こうして
リチウムキュープレート試剤の懸濁液を調製した。

この懸濁液に特開昭６２−６６９７号公報記載の方法で
得られた光学純度の高いＳ−（＋）−エピクロルヒドリ
ン［８ａ］　４６３ｍｇ　　（５ｍＭ）のテトラヒドロ
フラン溶液を滴下し、同溶液を室温に戻した後、２．５
時間攪拌した。ついで飽和塩化アンモニウム水溶液１０
Ｉ１１２／およびエーテル３０　ＩＭを加えて抽出を行
ない、エーテル層を飽和重曹水１０カおよび飽和食塩水
１０Ｉｆｌｌで順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。

減圧下で溶媒を留去し、粗Ｓ−（＋）−クロルヒドリン
［９ａ１　１．３８　ｇを得た。これをテトラヒドロフ
ラン１５ＩｒＩｌに溶解し、粉末状水酸化ナトリウム　
８００Ｉ１ｇ　（１５ＩＩＩＭ）を加え、溶液を１１時
間室温で攪拌した。ついでエーテル■５０ＩＩｌｌを加
えて抽出を行ない、エーテル層を飽和食塩水で洗浄液が
中性になるまで洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
、減圧下で溶媒を留去した後、残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーに付し、エーテル：ヘキサン−１：
　１０の溶媒によるフラクションよりＳ−（＋）−１−
（４−メトキシフェニル）−２，３−エポキシプロパン
［１０コロ０９ｍｇ　　（収率７４％）を得た。

つぎに本発明の実施例を示す。

実施例１Ｓ−（＋）−１−（４−メトキシフェニル）−２，３−
エポキシプロパン［１０］　　６１０　ｍｇ　（３，７
２ｍＭ　）のジメチルスルホキシド５が溶液に９０ｗ／
ｖ％のりチウムアセチリド・エチレンジアミン錯体５２
０Ｂ　　（５，、ＬＩｌ＋Ｍ　）を徐々に加えた後、混
合液を１時間室温で攪拌した。

飽和食塩水３Ｍを注意深く加えた後、エーテル５０７ｍ
を加えて抽出を行ない、エーテル層を飽和食塩水で洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧上溶媒を
留去した。得られた残渣をシリカゲル３５ｇでカラムク
ロマトグラフィーに付し、エーテル：ヘキサン−１：３
溶媒によるフラクションよりＲ−（＋）−エチニルアル
コール［１４］　５７８　ｍｇ　（収率８２％）を得た
。

［α］　２３：　＋３．８４゜（Ｃ”１．０４．　　ＣＨＣＩ’　ｉ　）ＮＭＲ（ＣＤ
　Ｃ／　３　）δ：　　２．００　　（ＩＨ，ｂｒｓ）
、　　２．０５　　（ＩＨ，ｔ、　　Ｊ−２，６Ｈｚ）
、　　２．３５　　（２Ｈ，ｄ　ｄ、　　Ｊ　＝２．４
４．５．４　Ｈｚ）　、　　２．８０　　（２Ｈ，ｍ）
、　　３．８０　　（３Ｈ，ｓ）、　　３．８０　−　
４．１０　　（ＩＨ，ｍ）、　　６．８０（２Ｈ，ｄ、
　　Ｊ−８，５Ｈｚ）、　　　７．１０　　（２Ｈ，ｄ
、　　Ｊ＝　　８．５５Ｈｚ）Ｉ　　Ｒ（ｎｅａｔ）ｃｇ−’　：　　３４５０．３３
００．２１５０．１６１５，１５ＭＳ　　　ｌ１ｌｌｅ
　　：　　１９０　（Ｍ”　　）　　。

１２１　　（ｔｏｏ　　％）。

実施例２Ｒ−（＋）−エチニルアルコール［１４コ　４０５ｉｇ
（２，１３ｍＭ）の酢酸エチル１０　が溶液にリンドラ
−触媒（鉛で被毒された５％パラジウム−炭酸カルシウ
ム）６Ｂを加え、混合物を水素雰囲気上室温で１時間攪
拌した。反応液をセライト濾過し、濾液を減圧上溶媒留
去し、残渣をシリカゲル１２ｇでカラムクロマトグラフ
ィーに付し、エーテル：ヘキサン−に３の溶媒によるフ
ラクションよりＲ−（−）−アリルアルコール［１５コ
３８３　ｅｒｇ　（９４％）を得た。

［α］　　２２　　：　　−ｕ、ｔ。

（Ｃ−１，０８，ＣＨＣ／、）ＮＭＲ（ＣＤＣ／ｉ　　）　　δ　：　　１．８５　　
（ＩＨ，ｂｒｓ）、　　　２．０−　２．４０　　（２
Ｈ，ｍ）、　　　２．４５　−２゜９０（２Ｈ，ｍ）、
　　　３．８０　　（３Ｈ，ｓ）、３．７０−４．００
（ＩＨ，ｍ）、　　　５．００　−５．３０　　　（２
Ｈ，ｍ）５．８０　−８．１０（ＬＨ，ｍ）　　、　　
８．８０　　（２Ｈ。

ｄ、　　Ｊ　−８，５５Ｈｚ）　　、　　７．１０　　
（２Ｈ，ｄ、　　Ｊ−８，５５Ｈｚ　）Ｉ　　Ｒ（ｎｅａｔ）ａｍ−’　：　　３４００．１８
１０．１５２Ｇ、１２４０Ｍ５　　ｔｉｌｅ　　：　１
９２　　（Ｍ”　）　　、　　１２１　（１００％）。

実施例３Ｒ−（−）−７す／Ｉｚフルコール［１５］　　２．０
３ｇ　（１０，６ｄ　）　、）リフェニルフォスフィン
　３．３３ｇ　（１２，７ｍＭ）およびフタルイミド１
．８７ｇ　（１２，７ｍＭ　）のテトラヒドロフラン溶
液の混合物を２０℃に冷却し、この混合物に攪拌下ジイ
ソプロピルアゾジカルボン酸エステル２．５／＃　（１
２，７ｏ＋Ｍ）を２０分かけて滴下し、さらに同温で１
２時間攪拌を行なった。反応液を室温に戻し、シリカゲ
ル２０ｇを加え、減圧下溶媒を留去した。残った粉状残
渣をシリカゲル１００ｇでカラムクロマトグラフィーに
付し、エーテル：ヘキサン−１ニアの溶媒によるフラク
ションより無色油状物としてアリルアミンのフタルイミ
ド誘導体Ｓ−（＋）　−［１８１２，８９ｇ　（収率８
５％）を得た。

［α　コ　　２６Ｄ　　：　　＋１４７．７　　＠（Ｃ
−１，０１，ＣＨＣ／　３　）ＮＭＲ（ＣＤＣ／　３　）　δ：　　２．４０−　３．
５０（４Ｈ，ｍ）　、　　３．７１　　（３Ｈ，ｍ）　
、　　４．３０４．７０　（Ｉ　Ｈ，ｍ）　、　４．７
０−５．１５　（２Ｈ，ｍ）　。

５．５０−　６．００　　（ＩＨ，ｍ）　、　　８．８
０　　（２Ｈ，ｄ。

Ｊ−８，５！、Ｈｚ）　、　　７．１０　　（２Ｈ，ｄ
、　　Ｊ　−８，５５Ｈｚ）　、　　７．５５−　７．
８０　　（４Ｈ，ｍ）Ｉ　Ｒ（ｎｅａｔ）　ｃｍ−”　
：　１７８Ｇ、１７１０．１Ｂ２０．１５２０．１４Ｍ
Ｓ　　　ｍ／ｅ　　：　　３２１　（Ｍ”　　）、　　
１７４　　（１００％）。

実施例４アリルアミンのフタルイミド誘導体Ｓ−（＋）［１Ｂ１
　２．８３　ｇ　（８，８ｆｆ１Ｍ）のエタノール１０
０が溶液にヒドラジンの一水和物０．６６ｇ　（１３，
２＋ｕＭ）を加え、５時間加熱還流を行なった。溶媒を
減圧下に留去し、クロロホルムを加え、セライトで濾過
し、濾液を減圧下に溶媒留去し、クーゲロールで蒸留し
て無色油状のＳ−（＋）アリルアミン［１７］　１．５
７ｇ　（収率９３％）を得た。

ｂ　ｐ　：　１４０℃１０．８ｉｏ＋Ｈｇ［α］　”　
　：　＋　２３．１゜（Ｃ−１，０７，ＣＨＣ／　３）ＮＭＲ（ＣＤＣ／　３）δ：　　１．５０　　（２Ｈ，
ｂｒｓ）　、　　１．８０−３．１５　　（５Ｈ，ｍ）
　、　　３．８０（３Ｈ，ｓ）　、　５．００−５．２
０　（２Ｈ，ｍ）　、　５．８０−８．１０（ＩＨ，ｍ
）　、　　８．８０　　（２Ｈ，ｄ、　Ｊ＝８．５５　
　Ｈｚ　）、　　７．１０Ｈｚ）　　。

実施例５（２Ｈ２ｄ。

８．５５Ｓ−（＋）−アリルアミン［１７１５００Ｂ　（２，６
２＋ａＭ　）のジクロルメタ２１０層溶液に０℃でトリ
エチルアミン０．４４　Ｉｌｌ　（３，１ｍＭ　）およ
び塩化ベンゾイル０Ｊ４ＩＩＩｌ（２，８８ＩＩＭ　）
を加え、１時間攪拌を行なった。反応液を室温に戻した
後、ジクロルメタン１０．＠’を加え、有機層を水およ
び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥した。溶媒を減圧下に留去し、５−（−）−ベンズア
ミド［１８］　８８０ｍｇを無色針状晶として得た。エ
タノール＋へキサンの混合液で再結晶を行なって純粋な
Ｓ　−［１８］　　８００ｍｇ　　（収率９４９６）を
得た。

ｍｐ　：　１１０　１１２℃ ［α］　”　　：　−６，８６＠（Ｃ＝０．３８．　　ＣＨＣ／　３　　）ＮＭＲ（ＣＤ
　Ｃ／　ｓ　　）　　δ　：　２．１０−２．５０　（
２Ｈ。

ｍ）、２．９０（２Ｈ，ｄ、　　Ｊ＝６．６　　Ｈｚ）
、　　３．７９（３Ｈ，ｓ）、　　　４．２０　−　４
．６０　　（ＩＨ，ｍ）。

５．００−５．２０　（２Ｈ，ｍ）、　　５．６０−６
．１５　（２Ｈｍ）　、　６．８０（２Ｈ，ｄ、　Ｊ＝
　８．５５　Ｈｚ）　、　　７、ＬＯ（２Ｈ，ｄ、　　
Ｊ　　−８，５５Ｈｚ）、　　７．３５−７゜５５　（
３Ｈ，ｍ）　　、　　７．６０−７．８０　（２Ｈ，ｍ
）Ｉ　　Ｒ（ｎｅａｔ）Ｑｌｌ−’　：　　３３１０．
２９２０．１６３０゜実施例６Ｓ−（−）−ベンズアミド［１８コ　１２０ａ＋ｇ　（
０，４１ｍＭ　）のアセトニトリル：水−１：　１　（
Ｖ／Ｖ）６１１１１溶液にヨウ素３１０　ｍｇ　（１，
２３ｍＭ）を加え、室温で３日間攪拌を行なった。反応
液に飽和重曹水および５％亜硫酸ナトリウム水溶液５麿
を加え、ヨウ素の色が消えたのを確認した後、ジクロル
メタン２Ｃ１’を加えて抽出を行なった。

有機層を飽和食塩水で洗浄した後無水硫酸マグネシウム
で乾燥し、減圧上溶媒を留去し、残渣をシリカゲル５ｇ
でカラムクロマトグラフィーに付し、メタノール：クロ
ロホルム−３＝９７の溶媒によるフラクションより２−
メトキシフェニルメチル−４−ベンゾイルオキシピロリ
ジン［１９］　１１４ｍｇ　　（収率９０％）を得た。

ＮＭＲ（ＣＤ　Ｃ１３）δ：　１．５０−２．５５　（
３Ｈ。

ｍ、ＩＨはＤ２０で消失）、２．８０（２Ｈ，ｔ。

Ｊ　−７，１Ｈｚ）　、　２．９０−３．７０　（３Ｈ
，ｍ）　、　５゜３０−５．６０　（Ｌ　Ｈ，ｍ）　、
　６．８０　（２Ｈ，ｄ、　Ｊ　＝８．５５Ｈｚ）　、
　７．１０　（２Ｈ，ｄ、　　Ｊ　＝８．５５Ｈｚ）　
。

７．３０−７．７０　（３Ｈ，ｍ）　、　７．９０−８
．１０　（２Ｈ。

ｍ）Ｉ　　Ｒ（ｎｅａｔ）ｃｏ＋−’　：　　３３５０，１
７１０，１２７０．　１２４０゜実施例７ピロリジン［１９］９０１１ｇ（１，２５ｍＭ）のジクロルメタン５麿溶液に０℃でトリエチルアミン０゜２７７
７２／　（１，６３ｍＭ）　、クロロ炭酸ベンジル０．
２１層（１，５ｄ　）を加え、室温で１２時間攪拌を行
なった。減圧工大部分の溶媒を留去した後、残渣にエー
テル５０ｆｆｉ／を加えて抽出を行ない、エーテル層を
飽和重曹水および飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した後、減圧上溶媒を留去し、カルバ
メートすなわち２−メトキシフェニルメチル−４−ベン
ゾイルオキシ−Ｎ−ペンジルオキシ力ルポニルビロリジ
ン［２０］８２ｇＩＩｇを粗生成物として得た。

実施例８上記カルバメート［２０１８２８ｍ　ｇの粗生成物をメ
タノール１０層に溶かし、炭酸カリウム１９０ａ＋ｇ　
　（１，ＨｔｓＭ　）を加え、室温で２時間攪拌を行な
った。ついで、減圧下で大部分の溶媒を留去し、エーテ
ル３０！Ｉｌを加えて抽出を行なった。エーテル層を飽
和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
、減圧上溶媒を留去し、残渣をシリカゲル１２ｇでカラ
ムクロマトグラフィーに付し、エーテル：ヘキサン−４
：１の溶媒によるフラクションよりヒドロキシカルバメ
ートすなわち２−メトキシフェニルメチル−４−ヒドロ
キシ−Ｎ−ペンジルオキシ力ルポニルビロリジン［２１
１３８８１ｇ　　（収率９１％）を得た。

ＮＭＲ（ＣＤ　Ｃ／　３）δ：　１．８０−２．００　
（４Ｈ。

ｍ）　、　２．５０−３．７０　（４Ｈ，ｍ）　、　３
．８０　（３Ｈ。

ｓ　）　、　３．９０−４．５０　（２Ｈ，ｍ）　、　
５．２０　（２Ｈ。

ｂｒ　ｓ）　、　８．８０　（２Ｈ，ｍ）　、　７．１
０　（２Ｈ，ｂｒ　ｄ）７．３５（５Ｈ，ｓ）Ｉ　Ｒ（ｎｅａｔ）　　：　３４００．１Ｂ９０．１５
１５ｃ１１−’参考例３ヒドロキシカルバメート［２１１１４８１ｇ　　（０゜
４３＋ｅＭ）のベンゼン３１１Ｉｌ溶液にテトラブチル
アンモニウムハイドロゲンサルファート１４ｇ１ｇ　　
（０−４３１１Ｍ）および二硫化炭素３４ＩＩｌｌ（０
，５６ＩＩＭ）を加え、１０分間攪拌後、５０に水酸化
ナトリウム水溶液１層を加え、２５分室温で攪拌を続け
た。こうしてジチオカルボン酸塩を生成せしめた後、ヨ
ードメタン３３ＩＩ！ｌ（０，５２層Ｍ）を加え、３時
間激しく攪拌を行なった。反応液にエーテル３０１１１
を加えて抽出を行ない、エーテル層を飽和食塩水で洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧上溶媒を留去
した。得られた残渣１９０Ｂをシリカゲル８ｇでカラム
クロマトグラフィーに付し、エーテル：ヘキサン−１：
２の溶媒によるフラクションよりキサンテート［２２］
　１８２ｍｇ　　（収率９０％）を得た。

ＮＭＲ（ＣＤ　Ｃ／　３　）δ：２．Ｑ　−２，３０＜
２Ｈ。

ｍ）、２．５０（２Ｈ，ｓ）、　　２．６５　　（ＩＨ
，ｓ）。

２．６５−３．５０（４Ｈ，ｍ）　、　３．８０　（３
Ｈ，ｓ）　。

４．００−４．４５　（Ｌ　Ｈ，ｍ）　、　５．２０　
（２Ｈ，ｍ）　。

５．８０−５．８０　（０，８８Ｈ，ｍ）　、　５．８
０−６．１０　（０，３３Ｈ，ｍ）　、　５．７０−７
．２０　（４Ｈ，ｍ）　、　７．４０　（５Ｈ，ｓ）Ｉ　　Ｒ（ｎｅａｔ）ａｍ−’　：５０．１２００．Ｌｌｏｏ。

参考例４１７００．１６０５，１５２０，１４１０．１２牛サン
テート［２２コ　１２３ｍｇ　（０，２６１１Ｍ）の０
−ジクロルベンゼン１０層溶液を２００℃で１．５時間
加熱した。ついで、減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーに付し、エーテル：ヘキ
サン−１ニアの溶媒によるフラクションよりＲ−（−）
−２−メトキシフェニルメチル−Ｎ−ベンジルオキシカ
ルボニル−３，４−デヒドロピロリジン［１］５９．５
ｍｇ　（８６％）を得た。

ｍｐ：４９−５０℃（エーテル＋へキサンの混合液より
再結晶）［α］　２６：−１９０，４゜（Ｃ−１，０，ＣＨＣｌ３　）ＮＭＲ（ＣＤ　Ｃ／　３　　）　　δ　：　　２．８０
−３．３０　（２Ｈ。

ｍ）、　　３．７７　　（３Ｈ，ｓ　）、　　３．８０
−３．９０　　（２Ｈ。

ｍ）、　　４．０５−４．３０　　（Ｉ　　Ｈ，ｍ）、
　　４．６０−４．９０（ＩＨ，ｍ）、　　５．２０（
２Ｈ，ｍ）、　　５．７０（２Ｈ。

ｍ）、　　６．７５−７．ＬＯ（４Ｈ，ｍ）、　　７．
４０　（５Ｈ。

Ｓ）Ｉ　　Ｒ（ｎｅａｔ）　　ｃ＋ａ−’　　二　１７００
．１８００．１５１０，１４１０Ｍ５　　　ａｌｅ　　
：　　３２３　　（Ｍ”　　）、　　１２１　　（１０
０％）。

参考例５Ｒ−（−）−Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−３，４〜
デヒドロピロリジン［１］１１７ｍｇ　　（０゜３８Ｉ
ＩＭ）のエチレングリコール３ＩＩＩ溶液に水酸化ナト
リウム１−０ｇ　（２５ＩＩＩＭ）を加え、１２０℃で
１４時間加熱攪拌を行なった。塩化メチレンを加えて抽
出を行ない、有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫
酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下で留去し、残
渣をシリカゲル５ｇでカラムクロマトグラフィーに付し
、メタノール：クロロホルム−５：９５の溶媒によるフ
ラクションよりＲ−（−）−２−メトキシフェニルメチ
ル−３，４−デヒドロピロリジンＣ２４］　　７２ｍｇ
（収率８９％）を得た。

［α］”　　ニー１０１．２’　　（Ｃ−１，４４，テ
トラヒドロフラン）１文献値［α］　　　ニー８９．３
’（Ｃ−１，２６，テトラヒドロフラン）（前掲のＴｅ
ｔｒａｈｅｄｒｏｎ　　Ｌｅｔｔ、、２９，４４１９．
１９８８）ＮＭＲ（ＣＤＣ／３　　）　　δ　：　　２
．１５　　（Ｉ　Ｈ，ｂｒ　　ｓ。

Ｄ２０で消失＞　、　２．４４（２Ｈ，ｄ、　　Ｊ　−
ｅ、ｇ　Ｈｚ）　、　２．８０−２．９５　（２Ｈ，ｍ
）　、　３．７９　（２Ｈ。

ｓ　）、　　４．００−４．３５　　（Ｉ　　Ｈ，ｍ）
、　　５．８５−５．９５（２Ｈ，ｍ）、８．８０（２
Ｈ，ｄ、Ｊ−８，５５Ｈｚ）７．１０　　（２Ｈ，ｄ、
　　Ｊ　＝８．５５Ｈｚ）　　　Ｉ　Ｒ（ｎｅａｔ）ａ
ｍ−’：　　３３００．　１Ｂ１０．　１５１５．　１
２４０．　１１８０　。

ＮＭＲおよびＩＲの各スペクトル値は文献値と一致した
。

以上

Claims

【特許請求の範囲】

（１）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼［ＸＸ I ］（式中、Ａｒは置換または無置換のアリール基、Ｚはア
ミノ基の保護基または水素原子、＊は光学活性炭素をそ
れぞれ意味する）で示されるヒドロキシピロリジン化合物。
（２）請求項１記載のヒドロキシピロリジン化合物［Ｘ
Ｘ I ］を製造するに当たり、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼［ＸIX］で示されるアシルオキシピロリジン化合物のアシルオキ
シ基を直接加水分解するか、またはアシルオキシピロリ
ジン化合物［ＸIX］のアミノ基を保護試剤で保護して一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼［ＸＸ］（上記各式中、Ａｒ、Ｚおよび＊は請求項１のものと同
じ意味を有し、Ａｒ′は置換または無置換のアリール基
をそれぞれ意味する）で示されるＮ−置換ピロリジン化
合物を得、ついで同化合物［ＸＸ］のアシルオキシ基を
加水分解することを特徴とする方法。
（３）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼［ＸＸ］（式中、ＡｒおよびＡｒ′は同一のまたは異なる置換ま
たは無置換のアリール基、Ｚはアミノ基の保護基、＊は
光学活性炭素をそれぞれ意味する）で示されるＮ−置換ピロリジン化合物。
（４）請求項３記載のＮ−置換ピロリジン化合物［ＸＸ
］を製造するに当たり、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼［ＸIX］（式中、Ａｒ、Ａｒ′および＊は請求項３のものと同じ
意味を有する）で示されるアシルオキシピロリジン化合物のアミノ基を
保護試剤で保護することを特徴とする方法。
（５）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼［ＸIX］（式中、ＡｒおよびＡｒ′は同一のまたは異なる置換ま
たは無置換のアリール基、＊は光学活性炭素をそれぞれ
意味する）で示されるアシルオキシピロリジン化合物。
（６）請求項５記載のアシルオキシピロリジン化合物［
ＸIX］を製造するに当たり、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼［ＸVIII］（式中、Ａｒ、Ａｒ′および＊は請求項５のものと同じ
意味を有する）で示されるベンズアミド化合物を臭素、塩化ヨウ素、ヨ
ウ素、ピリジンのＨＢｒ＿３塩、Ｎ−ブロモコハク酸イ
ミドより成る群から選ばれた環化試剤で処理することを
特徴とする方法。
（７）請求項６記載の方法において、ベンズアミド化合
物［ＸVIII］を製造するに当たり、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼［ＸVII］で示されるアリルアミン化合物を一般式Ａｒ′ＣＯＸ＾１またはＡｒ′ＣＯ＿２ＣＯＡｒ′（上記各式中、Ａｒ、Ａｒ′
および＊は請求項６のものと同じ意味を有し、Ｘ＾１は
ハロゲン原子を意味する）で示されるアミド化試剤で処
理することを特徴とする方法。
（８）請求項７記載の方法において、アリルアミン化合
物［ＸVII］を製造するに当たり、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼［ＸVI］（式中、Ａｒおよび＊は請求項７のものと同じ意味を有
し、ＹはＮＨＣＯ＿２ｔ−Ｂｕ、ＮＨＣＯ＿２Ｂｎ（Ｂ
ｎはベンジル基を意味する）、ＢｎＯＮＣＯ＿２Ｂｎ、ｏ−Ｃ＿６Ｈ＿４（ＣＯ）＿２Ｎ、ＮＣ（Ｃ＿６Ｈ＿４）＿３、ＨＣＯＮＨ、ｐ−Ｍｅ（Ｃ＿６Ｈ＿４）ＳＯ＿２ＮＨまたはＣ＿６Ｈ
＿５ＳＯ＿２ＮＨを意味する）で示される含窒素化合物を塩基で処理するか、または上
記一般式においてＹがＮ＿３である含窒素化合物［ＸV
I］を水素化反応に付することを特徴とする方法。
（９）請求項８記載の方法において、含窒素化合物［Ｘ
VI］を製造するに当たり、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼［ＸＶ］で示されるアリルアルコール化合物を、一般式Ｒ＾２Ｏ
＿２ＣＮ＝ＮＣＯ＿２Ｒ＾２で示されるジアゾカルボン
酸ジアルキルおよび一般式Ｐ（Ｒ＾３）＿３（上記各式中、Ａｒおよび＊は請求項
８のものと同じ意味を有し、Ｒ＾２はアルキル基、Ｒ＾
３はアリール基またはアルキル基をそれぞれ意味する）
で示される三級ホスフィン化合物の存在下、一般式ＹＨ
（Ｙは請求項８の基のうちＮ＿３以外のものを意味する
）で示される化合物と反応させるか、または（Ｃ＿６Ｈ＿５Ｏ）＿２ＰＯＮ＿３と反応させることを
特徴とする方法。
（１０）請求項９項において、アリルアルコール化合物
［ＸＶ］を製造するに当たり、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼［Ｘ］で示されるエポキシプロパン化合物をリチウムアセチリ
ドと反応させて一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼［ＸIV］（上記各式中、Ａｒおよび＊は請求項９のものと同じ意
味を有する）で示されるエチニルアルコールとし、これを部分還元す
ることを特徴とする方法。