JPH03114830A - 積層フィルム - Google Patents
積層フィルムInfo
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- JPH03114830A JPH03114830A JP25618489A JP25618489A JPH03114830A JP H03114830 A JPH03114830 A JP H03114830A JP 25618489 A JP25618489 A JP 25618489A JP 25618489 A JP25618489 A JP 25618489A JP H03114830 A JPH03114830 A JP H03114830A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は芳香族ポリアミドあるいは芳香族ポリイミドか
ら成る積層フィルムに関するものである。
ら成る積層フィルムに関するものである。
[従来の技術]
粒子を含有した芳香族ポリアミドあるいは芳香族ポリイ
ミドフィルムとしては、たとえば特開昭60−1275
23号のフィルムが知られている。
ミドフィルムとしては、たとえば特開昭60−1275
23号のフィルムが知られている。
[発明が解決しようとする課題]
しかし、従来の芳香族ポリアミドあるいは芳香族ポリイ
ミドフィルムは、フィルムの加工工程、たとえば包装用
途における印刷工程、磁気媒体用途における磁性層塗布
や蒸着工程、あるいは感熱転写用途における感熱転写層
塗布などの工程速度の増大にともない、接触するロール
によってフィルム表面に傷がつくという欠点が最近、問
題となってきている。また、高温・高湿下で、フィルム
を取り扱う時に摩擦係数が高くなり、ハンドリング性が
不良になるという問題点も出てきている。
ミドフィルムは、フィルムの加工工程、たとえば包装用
途における印刷工程、磁気媒体用途における磁性層塗布
や蒸着工程、あるいは感熱転写用途における感熱転写層
塗布などの工程速度の増大にともない、接触するロール
によってフィルム表面に傷がつくという欠点が最近、問
題となってきている。また、高温・高湿下で、フィルム
を取り扱う時に摩擦係数が高くなり、ハンドリング性が
不良になるという問題点も出てきている。
さらに、フィルムの主要な用途であるビデオテープは、
ソフト用(制作された映像作品をパッケージ媒体に記録
固定、複製・増製したもの)に用いられるケースが多く
、この場合、従来のビデオテープではマスターからの高
速でダビングするときのS/Nの低下が大きく、画質が
悪くなるという問題点もある。
ソフト用(制作された映像作品をパッケージ媒体に記録
固定、複製・増製したもの)に用いられるケースが多く
、この場合、従来のビデオテープではマスターからの高
速でダビングするときのS/Nの低下が大きく、画質が
悪くなるという問題点もある。
本発明はかかる問題点を改善し、表面が傷つきに<<(
以下耐久性という)、高温・高湿下での走行性、ハンド
リング性の良好なフィルムを提供することを目的とする
。
以下耐久性という)、高温・高湿下での走行性、ハンド
リング性の良好なフィルムを提供することを目的とする
。
[課題を解決するための手段]
本発明は、芳香族ポリアミドあるいは芳香族ポリイミド
から成る積層フィルムであって、該フィルムはB層の少
なくとも片面に不活性粒子を含有するA層が積層されて
おり、A層に含有される不活性粒子の平均粒径がA層厚
さの0.1〜10倍、該粒子のA層における含有量が0
.5〜50wt%、A層の厚さが0.005〜3μmで
あることを特徴とする積層フィルムである。
から成る積層フィルムであって、該フィルムはB層の少
なくとも片面に不活性粒子を含有するA層が積層されて
おり、A層に含有される不活性粒子の平均粒径がA層厚
さの0.1〜10倍、該粒子のA層における含有量が0
.5〜50wt%、A層の厚さが0.005〜3μmで
あることを特徴とする積層フィルムである。
本発明の芳香族ポリアミドとは一般式
%式%)
で示される繰り返し単位を50モル%以上含む重合体か
ら成るものが好ましく、より好ましくは、70モル%以
上である。
ら成るものが好ましく、より好ましくは、70モル%以
上である。
ここでAr、 、Ar2は少なくとも1個の芳香環を含
み、同一でも異なっていてもよく、これらの代表例とし
ては次のものがあげられる。
み、同一でも異なっていてもよく、これらの代表例とし
ては次のものがあげられる。
また、これらの芳香環の環上の水素の一部が、ハロゲン
基(特に塩素)、ニトロ基、01〜C3のアルキル基(
特にメチル基)、01〜C3のアルコキシ基などの置換
基で置換されているものも含む。また、Xは一〇−−C
)T2−1−SO2−−5−1−CO−などである。こ
れらは単独または共重合の形で含まれる。
基(特に塩素)、ニトロ基、01〜C3のアルキル基(
特にメチル基)、01〜C3のアルコキシ基などの置換
基で置換されているものも含む。また、Xは一〇−−C
)T2−1−SO2−−5−1−CO−などである。こ
れらは単独または共重合の形で含まれる。
特に薄物の磁気テープ用途などには、機械特性、環境変
化(温度、湿度)に対する寸法安定性などの点から、パ
ラ結合を主体としたものが好ましく、さらに芳香環に塩
素を導入したものがより好ましい。
化(温度、湿度)に対する寸法安定性などの点から、パ
ラ結合を主体としたものが好ましく、さらに芳香環に塩
素を導入したものがより好ましい。
(ここでp、 qはO〜3でp+q≧1)を50モル%
以上含むもの′が挙げられる。
以上含むもの′が挙げられる。
本発明における芳香族ポリイミドとは、重合体の繰り返
し単位の中に芳香環とイミド環を各々1つ以上含むもの
であり、一般式 で示される繰り返し単位を50モル%以上含むものが好
ましく、より好ましくは70モル%以上である。
し単位の中に芳香環とイミド環を各々1つ以上含むもの
であり、一般式 で示される繰り返し単位を50モル%以上含むものが好
ましく、より好ましくは70モル%以上である。
ここでA r 3 、A r 5は少なくとも1個の芳
香環を含み、イミド環を形成する2つのカルボニル基は
芳香環上の隣接する炭素原子に結合している。
香環を含み、イミド環を形成する2つのカルボニル基は
芳香環上の隣接する炭素原子に結合している。
このAr3は、芳香族テトラカルボン酸あるいはこの無
水物に由来する。代表例としては、次のようなものが挙
げられる。
水物に由来する。代表例としては、次のようなものが挙
げられる。
傘、砲口欲 すY−■
ここで、Yは一〇−−CO−−CH2−−5−−5O2
−などである。
−などである。
また、Ar、は、無水トリカルボン酸、あるいはこのハ
ライドに由来する。
ライドに由来する。
Ar4、Ar6は少なくとも1個の芳香環を含み、芳香
族ジアミン、芳香族ジイソシアネートに由来する。また
、アミド結合、ウレタン結合等を含んでいてもよい。A
r4 、 A r6の代表例としては、次のようなも
のが挙げられる。
族ジアミン、芳香族ジイソシアネートに由来する。また
、アミド結合、ウレタン結合等を含んでいてもよい。A
r4 、 A r6の代表例としては、次のようなも
のが挙げられる。
ここで、これらの芳香環の環上の水素の一部が、ハロゲ
ン基、ニトロ基、01〜C3のアルキル基、01〜C1
のアルコキシ基などの置換基で置換されたものも含む。
ン基、ニトロ基、01〜C3のアルキル基、01〜C1
のアルコキシ基などの置換基で置換されたものも含む。
Zは、−〇−1−CH□−−S−15O2−1−CO−
などである。これらは単独または共重合の形で含まれる
。
などである。これらは単独または共重合の形で含まれる
。
また、本発明の芳香族ポリアミド、芳香族ポリイミドに
は本発明を阻害しない範囲内で、AXB各層に、滑剤、
酸化防止剤、その他の添加剤等や他のポリマーがブレン
ドされてもよい。
は本発明を阻害しない範囲内で、AXB各層に、滑剤、
酸化防止剤、その他の添加剤等や他のポリマーがブレン
ドされてもよい。
また本発明のA、B各層のポリマ組成は同じでも異なる
種類のものでもよい。
種類のものでもよい。
本発明のA層中の不活性粒子は、フィルム中での粒径比
(粒子の長径/短径)が1.0〜1.3の粒子、特に、
球形状の粒子の場合に耐久性、走行性がより一層良好と
なるので望ましい。
(粒子の長径/短径)が1.0〜1.3の粒子、特に、
球形状の粒子の場合に耐久性、走行性がより一層良好と
なるので望ましい。
また、本発明のA層中の不活性粒子は単一粒子指数が0
.5以上、好ましくは0.7以上である場合に耐久性、
走行性がより一層良好となるので特に望ましい。
.5以上、好ましくは0.7以上である場合に耐久性、
走行性がより一層良好となるので特に望ましい。
本発明のA層中の不活性粒子の種類は特に限定されない
が、上記の好ましい粒子特性を満足するにはアルミナ珪
酸塩、1次粒子が凝集した状態のシリカなどは好ましく
なく、コロイダルシリカに起因する実質的に球形のシリ
カ粒子、架橋高分子による粒子(たとえば架橋ポリスチ
レン)などがよい。またその他の粒子、例えば炭酸カル
シウム、二酸化チタン、アルミナ等の粒子でも層厚さと
平均粒径の適切なコントロールにより十分使いこなせる
ものである。
が、上記の好ましい粒子特性を満足するにはアルミナ珪
酸塩、1次粒子が凝集した状態のシリカなどは好ましく
なく、コロイダルシリカに起因する実質的に球形のシリ
カ粒子、架橋高分子による粒子(たとえば架橋ポリスチ
レン)などがよい。またその他の粒子、例えば炭酸カル
シウム、二酸化チタン、アルミナ等の粒子でも層厚さと
平均粒径の適切なコントロールにより十分使いこなせる
ものである。
不活性粒子の大きさは、A層中での平均粒径がフィルム
厚さの0. 1〜10倍が必要であり、好ましくは0.
5〜5倍、さらに好ましくは1.1〜3倍の範囲である
。平均粒径/A層厚さの比が上記の範囲より小さいと耐
久性、走行性が不良となり、逆に大きくても耐久性、走
行性、摩擦係数が不良となるので好ましくない。
厚さの0. 1〜10倍が必要であり、好ましくは0.
5〜5倍、さらに好ましくは1.1〜3倍の範囲である
。平均粒径/A層厚さの比が上記の範囲より小さいと耐
久性、走行性が不良となり、逆に大きくても耐久性、走
行性、摩擦係数が不良となるので好ましくない。
またA層中の不活性粒子は平均粒径が0.005〜0.
5μmが好ましく、より好ましくは0゜02〜0.45
μmの範囲である場合に、耐久性、走行性、摩擦係数が
より一層良好となるので望ましい。
5μmが好ましく、より好ましくは0゜02〜0.45
μmの範囲である場合に、耐久性、走行性、摩擦係数が
より一層良好となるので望ましい。
本発明のA層中の不活性粒子の含有量は0.5〜50
w t%が必要であり、好ましくは1〜30wt%、さ
らに好ましくは2〜15wt%である。
w t%が必要であり、好ましくは1〜30wt%、さ
らに好ましくは2〜15wt%である。
不活性粒子の含有量が上記の範囲より少なくても、逆に
大きくても耐久性が不良となるので好ましくない。
大きくても耐久性が不良となるので好ましくない。
本発明のA層の厚さは0.005〜3μmが必要であり
、好ましくは0.01〜1μm1さらに好ましくは0.
03〜0.5μmである。A層の厚さが上記の範囲より
小さいと耐久性、摩擦係数が不良となり逆に大きいと耐
久性が不良となるので好ましくない。
、好ましくは0.01〜1μm1さらに好ましくは0.
03〜0.5μmである。A層の厚さが上記の範囲より
小さいと耐久性、摩擦係数が不良となり逆に大きいと耐
久性が不良となるので好ましくない。
本発明のA層の表面の平均突起高さは5〜50Qnm、
好ましくは10〜300nm、さらに好ましくは15〜
200nmの範囲である場合に耐久性、摩擦係数がより
一層良好となるので特に望ましい。
好ましくは10〜300nm、さらに好ましくは15〜
200nmの範囲である場合に耐久性、摩擦係数がより
一層良好となるので特に望ましい。
本発明のA層の表面の中心線深さRpは特に限定されな
いが、Rpが200nm以下、特に15Qnm以下の場
合に出力特性がより一層良好どなるので特に望ましい。
いが、Rpが200nm以下、特に15Qnm以下の場
合に出力特性がより一層良好どなるので特に望ましい。
一方、B層には不活性粒子を含有している必要は特にな
いが、平均粒径が0.005〜2μm1特に0.02〜
0.45μmの不活性粒子が0゜001〜0.2wt%
、特に0.005〜0.15wt%含有されていると、
摩擦係数、耐久性がより一層良好となるのみならず、フ
ィルムの巻姿が良好となるのできわめて望ましい。含有
する不活性粒子はA層に用いられるものと種類、大きさ
は同じでも異なっていても良い。
いが、平均粒径が0.005〜2μm1特に0.02〜
0.45μmの不活性粒子が0゜001〜0.2wt%
、特に0.005〜0.15wt%含有されていると、
摩擦係数、耐久性がより一層良好となるのみならず、フ
ィルムの巻姿が良好となるのできわめて望ましい。含有
する不活性粒子はA層に用いられるものと種類、大きさ
は同じでも異なっていても良い。
上記の積層構成はA/B、あるいはA/B/Aなどがあ
るが、もちろんA層と異なる表面状態を有する0層をA
層と反対面に設けたA/B/Cでも、あるいはそれ以上
の多層構成でもよい。
るが、もちろんA層と異なる表面状態を有する0層をA
層と反対面に設けたA/B/Cでも、あるいはそれ以上
の多層構成でもよい。
本発明の積層フィルムの厚みは0.5〜50μm1より
好ましくは1〜20μm1さらに好ましくは2〜10μ
mである。
好ましくは1〜20μm1さらに好ましくは2〜10μ
mである。
本発明の積層フィルムは、少なくとも一方向のヤング率
が40 Qkg/nun2以上、より好ましくは700
kg/mm2以上である。また縦方向と横方向のヤング
率比は0.3〜3、より好ましくは0゜5〜2の範囲に
ある場合に耐久性、出力特性が良好であり望ましい。
が40 Qkg/nun2以上、より好ましくは700
kg/mm2以上である。また縦方向と横方向のヤング
率比は0.3〜3、より好ましくは0゜5〜2の範囲に
ある場合に耐久性、出力特性が良好であり望ましい。
本発明の積層フィルムは、屈曲試験後の強度保持率が7
0%以上であることが好ましい。より好ましくは80%
以上である。
0%以上であることが好ましい。より好ましくは80%
以上である。
さらにA層の表面硬度は10以上、より好ましくは20
以上の場合、耐久性、走行性がいっそう向上するので望
ましい。
以上の場合、耐久性、走行性がいっそう向上するので望
ましい。
また熱収縮率は、250℃(10分間の測定)で10%
以下、より好ましくは5%以下である。
以下、より好ましくは5%以下である。
次に本発明の製造法について説明するが、これに限定さ
れるものではない。
れるものではない。
まず、芳香族ポリアミドであるが、酸クロリドとジアミ
ンとからの場合は、N−メチルピロリドン(NMP)
、ジメチルアセトアミド(DMAc)、ジメチルホルム
アミド(DMF)などの非プロトン性有機極性溶媒中で
、溶液重合したり、水系媒体を使用する界面重合などで
合成される。ポリマ溶液は、単量体として酸クロリドと
ジアミンを使用すると塩化水素が副生ずるため、これを
中和するために水酸化カルシウム、炭酸カルシウム、炭
酸リチウムなどの無機の中和剤、またエチレンオキサイ
ド、プロピレンオキサイド、アンモニア、トリエチルア
ミン、トリエタノールアミン、ジェタノールアミンなど
の有機の中和剤を添加する。
ンとからの場合は、N−メチルピロリドン(NMP)
、ジメチルアセトアミド(DMAc)、ジメチルホルム
アミド(DMF)などの非プロトン性有機極性溶媒中で
、溶液重合したり、水系媒体を使用する界面重合などで
合成される。ポリマ溶液は、単量体として酸クロリドと
ジアミンを使用すると塩化水素が副生ずるため、これを
中和するために水酸化カルシウム、炭酸カルシウム、炭
酸リチウムなどの無機の中和剤、またエチレンオキサイ
ド、プロピレンオキサイド、アンモニア、トリエチルア
ミン、トリエタノールアミン、ジェタノールアミンなど
の有機の中和剤を添加する。
また、イソシアネートとカルボン酸との反応は、非プロ
トン性有機極性溶媒中、触媒の存在下で行なわれる。
トン性有機極性溶媒中、触媒の存在下で行なわれる。
これらのポリマ溶液はそのままフィルムを形成する製膜
原液にしてもよく、ポリマを一度単離してから上記の溶
媒に再溶解して製膜原液を調製してもよい。また有機の
中和剤を使用した場合には、加熱や減圧下にポリマ溶液
を放置して中和物の一部または全部を蒸発させてから製
膜に供することもできる。
原液にしてもよく、ポリマを一度単離してから上記の溶
媒に再溶解して製膜原液を調製してもよい。また有機の
中和剤を使用した場合には、加熱や減圧下にポリマ溶液
を放置して中和物の一部または全部を蒸発させてから製
膜に供することもできる。
製膜原液には溶解助剤として無機塩、例えば塩化カルシ
ウム、塩化マグネシム、塩化リチウム、硝酸リチウムな
どを添加する場合もある。製膜原液中のポリマ濃度は2
〜40wt%程度が好ましい。
ウム、塩化マグネシム、塩化リチウム、硝酸リチウムな
どを添加する場合もある。製膜原液中のポリマ濃度は2
〜40wt%程度が好ましい。
一方、芳香族ポリイミドあるいはポリアミド酸の溶液は
次のようにして得られる。即ち、ポリアミド酸はN−メ
チルピロリドン(NMP) 、ジメチルアセトアミド(
DMAc)、ジメチルホルムアミド(DMF)などの非
プロトン性有機極性溶媒中で、テトラカルボン酸二無水
物と芳香族ジアミンを反応させて、調製することができ
る。また、芳香族ポリイミドは前記のポリアミド酸を含
有する溶液を加熱したり、ピリジンなどのイミド化剤を
添加してポリイミドの固体を得、これを再度溶媒に溶解
して調製できる。製膜原液中のポリマ濃度は5〜40W
1%程度が好ましい。
次のようにして得られる。即ち、ポリアミド酸はN−メ
チルピロリドン(NMP) 、ジメチルアセトアミド(
DMAc)、ジメチルホルムアミド(DMF)などの非
プロトン性有機極性溶媒中で、テトラカルボン酸二無水
物と芳香族ジアミンを反応させて、調製することができ
る。また、芳香族ポリイミドは前記のポリアミド酸を含
有する溶液を加熱したり、ピリジンなどのイミド化剤を
添加してポリイミドの固体を得、これを再度溶媒に溶解
して調製できる。製膜原液中のポリマ濃度は5〜40W
1%程度が好ましい。
上記のように調製された製膜原液は、いわゆる溶液製膜
法によりフィルム化が行なわれる。溶液製膜法には乾湿
式法、乾式法、湿式法などがあるが、乾湿式法、乾式法
が表面性のよいフィルムを得るには好ましい。
法によりフィルム化が行なわれる。溶液製膜法には乾湿
式法、乾式法、湿式法などがあるが、乾湿式法、乾式法
が表面性のよいフィルムを得るには好ましい。
なお芳香族ポリアミドあるいは芳香族ポリイミドの製膜
原液中に不活性粒子を含有せしめる方法としては、重合
前に粒子を添加しておく方法、重合後に添加する方法、
製膜直前に製膜原液に混練する方法などを採用できる。
原液中に不活性粒子を含有せしめる方法としては、重合
前に粒子を添加しておく方法、重合後に添加する方法、
製膜直前に製膜原液に混練する方法などを採用できる。
湿式法で製膜する場合には該原液を口金から直接製膜用
浴中に押し出すか、又は−旦ドラム等の支持体上に押し
出し、支持体ごと湿式浴中に導入する方法が採用される
。この浴は一般に水系媒体からなるものであり、水の他
に有機溶媒や無機塩等を含有していてもよい。湿式浴を
通すことでフィルム中に含有された塩類、有機溶媒やイ
ミド化剤等の抽出が行なわれるが、これら湿式浴全体を
通過する時間はフィルムの厚みにもよるが10秒〜30
分である。さらにフィルムの長手方向に延伸が行なわれ
る。次いで乾燥、横延伸、熱処理が行なわれるがこれら
の処理は一般に200〜500℃で、合計で1秒〜30
分である。
浴中に押し出すか、又は−旦ドラム等の支持体上に押し
出し、支持体ごと湿式浴中に導入する方法が採用される
。この浴は一般に水系媒体からなるものであり、水の他
に有機溶媒や無機塩等を含有していてもよい。湿式浴を
通すことでフィルム中に含有された塩類、有機溶媒やイ
ミド化剤等の抽出が行なわれるが、これら湿式浴全体を
通過する時間はフィルムの厚みにもよるが10秒〜30
分である。さらにフィルムの長手方向に延伸が行なわれ
る。次いで乾燥、横延伸、熱処理が行なわれるがこれら
の処理は一般に200〜500℃で、合計で1秒〜30
分である。
乾湿式法で製膜する場合は該原液を口金からドラム、エ
ンドレスベルト等の支持体上に押し出して薄膜とし、次
いでかかる薄膜層から溶媒を飛散させ薄膜が自己保持性
をもつまで乾燥する。乾燥条件は室温〜300℃、60
分以内の範囲である。
ンドレスベルト等の支持体上に押し出して薄膜とし、次
いでかかる薄膜層から溶媒を飛散させ薄膜が自己保持性
をもつまで乾燥する。乾燥条件は室温〜300℃、60
分以内の範囲である。
乾式1程を終えたフィルムは支持体から剥離されて湿式
1程に導入され、上記の湿式法と同様に脱塩、脱溶媒な
どが行なわれ、さらに延伸、乾燥、熱処理が行なわれて
フィルムとなる。
1程に導入され、上記の湿式法と同様に脱塩、脱溶媒な
どが行なわれ、さらに延伸、乾燥、熱処理が行なわれて
フィルムとなる。
乾式法のプロセスを採用した場合には、ドラム、あるい
はエンドレスベルト等の上で乾燥され、自己保持性をも
ったフィルムを、これら支持体から剥離し、フィルムの
長手方向に延伸を行なう。さらに残存溶媒を除去するた
めの乾燥や、延伸、熱処理が行なわれるが、これらの処
理は200〜500℃で1秒〜30分である。
はエンドレスベルト等の上で乾燥され、自己保持性をも
ったフィルムを、これら支持体から剥離し、フィルムの
長手方向に延伸を行なう。さらに残存溶媒を除去するた
めの乾燥や、延伸、熱処理が行なわれるが、これらの処
理は200〜500℃で1秒〜30分である。
以上のように形成されるフィルムはその製膜工程中で延
伸が行なわれるが、延伸倍率は面倍率で0.8〜5.0
(面倍率とは延伸後のフィルム面積を延伸前のフィルム
の面積で除した値で定義する。1以下はリラックスを意
味する。)の範囲内にあることが好ましく、より好まし
くは1.1〜3.0である。
伸が行なわれるが、延伸倍率は面倍率で0.8〜5.0
(面倍率とは延伸後のフィルム面積を延伸前のフィルム
の面積で除した値で定義する。1以下はリラックスを意
味する。)の範囲内にあることが好ましく、より好まし
くは1.1〜3.0である。
また本発明の積層フィルムの屈曲試験後の強度保持率を
高く維持するには延伸あるいは熱処理後のフィルムを除
冷することか有効であり、100℃〜200℃の条件で
1秒以上保持することが有効である。
高く維持するには延伸あるいは熱処理後のフィルムを除
冷することか有効であり、100℃〜200℃の条件で
1秒以上保持することが有効である。
本発明の積層フィルムを形成するには、A層側に相当す
る製膜原液と、B層側に相当する製膜原液の2種類を公
知の方法例えば特開昭56−162617のように合流
管で積層したり、口金内で積層して形成することができ
る。またいずれか一種の製膜原液でフィルムを形成して
おき、その上に他の製膜原液を流延して脱溶媒を行ない
、積層フィルムとすることもできる。特に合流管や、口
金内で積層する場合は、原液の粘度が100〜1ooo
。
る製膜原液と、B層側に相当する製膜原液の2種類を公
知の方法例えば特開昭56−162617のように合流
管で積層したり、口金内で積層して形成することができ
る。またいずれか一種の製膜原液でフィルムを形成して
おき、その上に他の製膜原液を流延して脱溶媒を行ない
、積層フィルムとすることもできる。特に合流管や、口
金内で積層する場合は、原液の粘度が100〜1ooo
。
ポイズになるように調節することが好ましい。この範囲
より小さいと原液が口金から出る前に液どうしが混合し
やすくなり好ましくない。また各層の液の粘度は同じこ
とが好ましいが、多少の粘度差があってもよく、粘度差
は50%以内を目標とするとよい。
より小さいと原液が口金から出る前に液どうしが混合し
やすくなり好ましくない。また各層の液の粘度は同じこ
とが好ましいが、多少の粘度差があってもよく、粘度差
は50%以内を目標とするとよい。
さらに乾式法、乾湿式法を採用する場合、乾燥工程中で
菌液が混合することがある。支持体上ヘキャストされた
原液は加熱されると一旦粘度が低下し、その後溶媒の蒸
発に伴なって再び粘度が上昇するが、粘度が10ポイズ
より下がると菌液が混合しやすくなるので、10ポイズ
好ましくは50ポイズより粘度が下がらないよう乾燥条
件を十分調節する必要がある。例えば乾燥温度を少なく
とも2段階に分けて上げていく方法が採用できる。
菌液が混合することがある。支持体上ヘキャストされた
原液は加熱されると一旦粘度が低下し、その後溶媒の蒸
発に伴なって再び粘度が上昇するが、粘度が10ポイズ
より下がると菌液が混合しやすくなるので、10ポイズ
好ましくは50ポイズより粘度が下がらないよう乾燥条
件を十分調節する必要がある。例えば乾燥温度を少なく
とも2段階に分けて上げていく方法が採用できる。
以上のようにして本発明の積層フィルムは製造されるが
、さらに磁性層やコーティング層などを付着させる前に
前処理として、グロー放電処理やコロナ放電処理を施す
と磁性層やコーティング層の密着性、耐久性が向上しよ
り好ましい。
、さらに磁性層やコーティング層などを付着させる前に
前処理として、グロー放電処理やコロナ放電処理を施す
と磁性層やコーティング層の密着性、耐久性が向上しよ
り好ましい。
[効果]
本発明は、芳香族ポリアミドあるいは芳香族ポリイミド
フィルム中に不活性粒子を含有せしめ、粒子の大きさと
A層の関係、含有量、層厚さを特定範囲としたため、耐
久性や走行性が非常に優れたものとなる。本発明の積層
フィルムの用途は特に限定はないが、磁気記録媒体、感
熱転写リボンやその他印刷を施して使用する用途などが
あり、耐久性や走行性の向上にその効果は大きい。また
優れた耐熱性を有しているが、高温で使用したり加工す
る際にもこの効果は維持できる。特に、加工工程でフィ
ルム表面の傷が製品の性能上特に問題になる磁気記録媒
体では、この積層フィルムをベースフィルムとして使用
するとその効果は顕著である。
フィルム中に不活性粒子を含有せしめ、粒子の大きさと
A層の関係、含有量、層厚さを特定範囲としたため、耐
久性や走行性が非常に優れたものとなる。本発明の積層
フィルムの用途は特に限定はないが、磁気記録媒体、感
熱転写リボンやその他印刷を施して使用する用途などが
あり、耐久性や走行性の向上にその効果は大きい。また
優れた耐熱性を有しているが、高温で使用したり加工す
る際にもこの効果は維持できる。特に、加工工程でフィ
ルム表面の傷が製品の性能上特に問題になる磁気記録媒
体では、この積層フィルムをベースフィルムとして使用
するとその効果は顕著である。
[物性の測定方法ならびに効果の評価方法]本発明の特
性値の測定方法並びに効果の評価方法は次の通りである
。
性値の測定方法並びに効果の評価方法は次の通りである
。
(1)粒子の平均粒径
フィルムの断面を透過型電子顕微鏡(TEM)で写真観
察し、粒子を検知する。この写真をイメージアナライザ
ーで、粒子数100個以上について数値処理し、数平均
径りを平均粒径とする。
察し、粒子を検知する。この写真をイメージアナライザ
ーで、粒子数100個以上について数値処理し、数平均
径りを平均粒径とする。
D=ΣDi/N
(ここで、Diは粒子の円相当径、Nは粒子数)(2)
粒径比 上記(1)の測定において、粒子の(長径の平均値)/
(短径の平均値)の比で表わし、下式で計算される。
粒径比 上記(1)の測定において、粒子の(長径の平均値)/
(短径の平均値)の比で表わし、下式で計算される。
長径=ΣI)11/N 1短径=ΣD2i/N(ここで
、Dl 11D21はそれぞれ個々の粒子の長径(最大
径)と短径(最短径)、Nは粒子数)(3)単一粒子指
数 上記(1)の測定において、粒子の占める全面積をA1
そのうち2個以上の粒子が凝集している凝集体の占める
面積をBとしたとき、(A−B)/Aをもって単一粒子
指数とする。
、Dl 11D21はそれぞれ個々の粒子の長径(最大
径)と短径(最短径)、Nは粒子数)(3)単一粒子指
数 上記(1)の測定において、粒子の占める全面積をA1
そのうち2個以上の粒子が凝集している凝集体の占める
面積をBとしたとき、(A−B)/Aをもって単一粒子
指数とする。
(4)Ra (中心線平均粗さ)、Rp(中心線深さ)
小板研究所製の薄膜段差測定器(ET−10)を用い、
触針先端半径0.5μm1触針荷重5■カットオフ値0
.008mm、測定長0. 5mmの条件で10回測定
し、その平均値でRa、Rpを表わした。
触針先端半径0.5μm1触針荷重5■カットオフ値0
.008mm、測定長0. 5mmの条件で10回測定
し、その平均値でRa、Rpを表わした。
なお、Ra、Rpの定義は、たとえば奈良治部著「表面
粗さの測定、評価法」 (総合技術センター、1983
)に示されているものである。
粗さの測定、評価法」 (総合技術センター、1983
)に示されているものである。
(5)屈曲試験後の強度保持率
JPCA規格(J PCA−FCO1−1986)の耐
屈曲性試験機にフィルム単体をセットしくここでループ
の内径は5mmとする)、毎分120回程度の速度で往
復運動を繰り返す。10000回往復させた後のフィル
ムを引っ張り試験機で強度を測定し、屈曲試験を行なわ
ないフィルムの強度と比較して強度保持率を求める。
屈曲性試験機にフィルム単体をセットしくここでループ
の内径は5mmとする)、毎分120回程度の速度で往
復運動を繰り返す。10000回往復させた後のフィル
ムを引っ張り試験機で強度を測定し、屈曲試験を行なわ
ないフィルムの強度と比較して強度保持率を求める。
(6)耐久性
フィルムを幅1/2インチのテープ状にスリットしたも
のをテープ走行性試験機を使用して、ガイドピン(表面
粗度:Raで10100n上を走行させる(走行速度L
oom/分、走行回数10パス、巻き付は角二60°、
走行張カニ20g)。
のをテープ走行性試験機を使用して、ガイドピン(表面
粗度:Raで10100n上を走行させる(走行速度L
oom/分、走行回数10パス、巻き付は角二60°、
走行張カニ20g)。
ここでA層をガイドピン側にして走行させる。
試験後、テープのA層側に入った傷を顕微鏡で観察し、
幅2.5μm以上の傷がテープ幅あたり10本未満は○
、10本以上は×と判定した。
幅2.5μm以上の傷がテープ幅あたり10本未満は○
、10本以上は×と判定した。
(7)走行性
フィルムを幅1/2インチのテープ状にスリットしたも
のをテープ走行性試験機を使用して、ガイドピン(表面
粗度:Raで10100n上を走行させる(走行速度1
00m/分、走行回数10パス、巻き付は角=60°、
走行張カニ65g)。
のをテープ走行性試験機を使用して、ガイドピン(表面
粗度:Raで10100n上を走行させる(走行速度1
00m/分、走行回数10パス、巻き付は角=60°、
走行張カニ65g)。
ここでA層をガイドピン側にして走行させる。この時、
動摩擦係数の変動を測定し、変動値が20%以内のもの
は○、これをこえるものは×とした。
動摩擦係数の変動を測定し、変動値が20%以内のもの
は○、これをこえるものは×とした。
測定雰囲気は60℃、80%RHである。
(8)A層の厚さ
2次イオン質量分析装置(S IMS)を用いて、フィ
ルム中の粒子の内最も高濃度の粒子に起因する元素と芳
香族ポリアミドあるいは芳香族ポリイミドの炭素元素の
濃度比(M+/C” )を粒子濃度とし、A層の表面か
ら深さ(厚さ)方向の分析を行なう。表層では表面とい
う界面のために粒子濃度は低く表面から遠ざかるにつれ
て粒子濃度は高くなる。本発明フィルムの場合は深さ[
1]でいったん極大値となった粒子濃度がまた減少し始
める。この濃度分布曲線をもとに極大値の粒子濃度の1
/2になる深さ[■] (ここでn>I)を積層厚さと
した。
ルム中の粒子の内最も高濃度の粒子に起因する元素と芳
香族ポリアミドあるいは芳香族ポリイミドの炭素元素の
濃度比(M+/C” )を粒子濃度とし、A層の表面か
ら深さ(厚さ)方向の分析を行なう。表層では表面とい
う界面のために粒子濃度は低く表面から遠ざかるにつれ
て粒子濃度は高くなる。本発明フィルムの場合は深さ[
1]でいったん極大値となった粒子濃度がまた減少し始
める。この濃度分布曲線をもとに極大値の粒子濃度の1
/2になる深さ[■] (ここでn>I)を積層厚さと
した。
なお、フィルム中にもつとも多く含有する粒子が有機高
分子粒子の場合はSIMSでは測定が難しいので、表面
からエツチングしながらXPS(X線光電子分光法)、
IR(赤外分光法)あるいはコンフォーカル顕微鏡など
で、その粒子濃度のデプスプロファイルを測定し、上記
同様の手法から積層厚さを求めても良い。
分子粒子の場合はSIMSでは測定が難しいので、表面
からエツチングしながらXPS(X線光電子分光法)、
IR(赤外分光法)あるいはコンフォーカル顕微鏡など
で、その粒子濃度のデプスプロファイルを測定し、上記
同様の手法から積層厚さを求めても良い。
さらに、上述した粒子濃度のデプスプロファイルからで
はなく、フィルムの断面観察あるいは薄膜段差測定機等
によってA層の積層厚さを求めてもよい。
はなく、フィルムの断面観察あるいは薄膜段差測定機等
によってA層の積層厚さを求めてもよい。
[実施例]
以下に実施例に基づいて本発明を説明する。ただし本発
明はこれらの実施例に限定されるものではない。
明はこれらの実施例に限定されるものではない。
実施例I
NMPを溶媒としてこの中に2−クロルパラフェニレン
ジアミン80モル%、4.4’−ジアミノジフェニルエ
ーテル20モル%のアミン成分と、2−クロルテレフタ
ル酸クロリド100モル%の酸成分を添加して重合し、
さらに炭酸リチウムで中和した。さらにこの中にNMP
中に分散した平均粒径0.25μmのコロイダルシリカ
を添加し十分撹拌してAJI用のポリマ溶液を得た。コ
ロイダルシリカの含有量は15W1%(コロイダルシリ
カ/(コロイダルシリカ+芳香族ポリアミド))である
。同様の方法で平均粒径0.1μmのコロイダルシリカ
を0.05WI%含有するB層用のポリマ溶液を製造し
た。いずれのポリマ溶液も、ポリマ濃度11wj%、溶
液粘度を30℃で3000ポイズに調整して製膜原液と
した。
ジアミン80モル%、4.4’−ジアミノジフェニルエ
ーテル20モル%のアミン成分と、2−クロルテレフタ
ル酸クロリド100モル%の酸成分を添加して重合し、
さらに炭酸リチウムで中和した。さらにこの中にNMP
中に分散した平均粒径0.25μmのコロイダルシリカ
を添加し十分撹拌してAJI用のポリマ溶液を得た。コ
ロイダルシリカの含有量は15W1%(コロイダルシリ
カ/(コロイダルシリカ+芳香族ポリアミド))である
。同様の方法で平均粒径0.1μmのコロイダルシリカ
を0.05WI%含有するB層用のポリマ溶液を製造し
た。いずれのポリマ溶液も、ポリマ濃度11wj%、溶
液粘度を30℃で3000ポイズに調整して製膜原液と
した。
これらの原液を2台の押出機で合流管に供給し、この中
で積層して金属ベルト上へ流延した。押出量を調節する
ことで最終の積層フィルムのA層の厚さを0,2μmに
なるように、また積層フィルムの厚みを10μmになる
ように条件を決めた。
で積層して金属ベルト上へ流延した。押出量を調節する
ことで最終の積層フィルムのA層の厚さを0,2μmに
なるように、また積層フィルムの厚みを10μmになる
ように条件を決めた。
この流延されたフィルムを、まず100℃で乾燥し次い
で140℃で自己保持性を持つまで乾燥後、ベルトから
剥離して水槽中に導入し、脱溶媒と脱塩を行ない、次い
でテンター内で水分の乾燥と熱処理、冷却を行なって最
終フィルムを得た。この間でフィルムは水槽中で長手方
向(MD力方向に1.3倍、テンター内で幅方向(TD
力方向に1゜3倍延伸された。また熱処理は310℃で
5分、冷却は150℃で5秒保持した。
で140℃で自己保持性を持つまで乾燥後、ベルトから
剥離して水槽中に導入し、脱溶媒と脱塩を行ない、次い
でテンター内で水分の乾燥と熱処理、冷却を行なって最
終フィルムを得た。この間でフィルムは水槽中で長手方
向(MD力方向に1.3倍、テンター内で幅方向(TD
力方向に1゜3倍延伸された。また熱処理は310℃で
5分、冷却は150℃で5秒保持した。
得られた10μm厚みの芳香族ポリアミドフィルムは、
MD、TD力方向もヤング率は1,200kg/順2、
強度56kg/M2、伸度48%と機械特性のすぐれた
ものであった。
MD、TD力方向もヤング率は1,200kg/順2、
強度56kg/M2、伸度48%と機械特性のすぐれた
ものであった。
次いでこのフィルムをスリットし耐久性、走行性を評価
したが非常に優れたものであった。なおこのフィルムの
屈曲試験を行なったところ強度保持率は95%と良好な
ものであった。
したが非常に優れたものであった。なおこのフィルムの
屈曲試験を行なったところ強度保持率は95%と良好な
ものであった。
実施例2
実施例1と同じポリマを用い、コロイダルシリカの平均
粒径、添加量、及びA層の厚みを第1表の条件になるよ
うに製膜して10μmのフィルムを得た。このフィルム
をテープ状にスリットし評価を行なったところ、耐久性
、走行性とも良好なものであった。
粒径、添加量、及びA層の厚みを第1表の条件になるよ
うに製膜して10μmのフィルムを得た。このフィルム
をテープ状にスリットし評価を行なったところ、耐久性
、走行性とも良好なものであった。
実施例3
2−クロルパラフェニレンジアミン85モル%と44′
−ジアミノジフェニルスルホン15モル%をアミン成分
とし、2−クロルテレフタル酸クロリド100モル%を
酸成分としてN M 、P中で重合し、さらに水酸化リ
チウムで中和してポリマ溶液を得た。なおコロイダルシ
リカは第1表の条件になるように重合前に添加しておい
て、A層、B層の各々を形成する2種のポリマ溶液を作
製した。これを2台の押出機を用いて口金に供給し、口
金内で積層した。次いで実施例1と同様の工程で製膜し
、さらにこのフィ′ルムをスリットして評価を行なった
ところ、耐久性、走行性とも非常に良好であった。
−ジアミノジフェニルスルホン15モル%をアミン成分
とし、2−クロルテレフタル酸クロリド100モル%を
酸成分としてN M 、P中で重合し、さらに水酸化リ
チウムで中和してポリマ溶液を得た。なおコロイダルシ
リカは第1表の条件になるように重合前に添加しておい
て、A層、B層の各々を形成する2種のポリマ溶液を作
製した。これを2台の押出機を用いて口金に供給し、口
金内で積層した。次いで実施例1と同様の工程で製膜し
、さらにこのフィ′ルムをスリットして評価を行なった
ところ、耐久性、走行性とも非常に良好であった。
この芳香族ポリアミドフィルムの機械特性は、ヤング率
1,200kg/[l1m2、強度52kg/mm2伸
度53%であった。また熱収縮率を250℃、10分の
条件で測定したところ、0.8%であった。
1,200kg/[l1m2、強度52kg/mm2伸
度53%であった。また熱収縮率を250℃、10分の
条件で測定したところ、0.8%であった。
実施例4
4.4′−ジアミノジフェニルエーテル75モル%と、
パラフェニレンジアミン25モル%をアミン成分とし、
無水ピロメリット酸100モル%とをDMAc中で重合
してポリアミド酸溶液を得た。
パラフェニレンジアミン25モル%をアミン成分とし、
無水ピロメリット酸100モル%とをDMAc中で重合
してポリアミド酸溶液を得た。
この重合に先立ち、第1表に示すようなコロイダルシリ
カを前もってDMAc中に分散させておいた。
カを前もってDMAc中に分散させておいた。
得られた2種類のポリマ溶液を2台の押出機で合流管へ
送液して積層し、口金から金属ベルト上へ流延した。ま
ず120℃で乾燥し、次いで150℃の熱風で自己保持
性を持つまで乾燥し、さらにベルトから剥離して400
℃のテンターへ導入して熱処理を行なった後、200℃
、150℃で各々2秒ずつ保持して冷却し25μmの積
層フィルムを得た。なお延伸倍率はMD、TDとも1゜
0倍で、この芳香族ポリイミドフィルムの機械特性はヤ
ング率410kg/mm2、強度25kg/mm2伸度
68%であった。
送液して積層し、口金から金属ベルト上へ流延した。ま
ず120℃で乾燥し、次いで150℃の熱風で自己保持
性を持つまで乾燥し、さらにベルトから剥離して400
℃のテンターへ導入して熱処理を行なった後、200℃
、150℃で各々2秒ずつ保持して冷却し25μmの積
層フィルムを得た。なお延伸倍率はMD、TDとも1゜
0倍で、この芳香族ポリイミドフィルムの機械特性はヤ
ング率410kg/mm2、強度25kg/mm2伸度
68%であった。
このフィルムをスリットして耐久性、走行性を評価した
ところ良好なものであった。
ところ良好なものであった。
比較例1〜4
実施例1と同じポリマを用い、コロイダルシリカの平均
粒径、添加量、及びA層の厚みを第1表のように本発明
から外れた条件になるように設定して製膜し、10μm
のフィルムを得た。これらの積層フィルムをスリットし
耐久性、走行性を測定したところ、満足できるものはな
かった。
粒径、添加量、及びA層の厚みを第1表のように本発明
から外れた条件になるように設定して製膜し、10μm
のフィルムを得た。これらの積層フィルムをスリットし
耐久性、走行性を測定したところ、満足できるものはな
かった。
Claims (3)
- (1)芳香族ポリアミドあるいは芳香族ポリイミドから
成る積層フィルムであって、該フィルムはB層の少なく
とも片面に不活性粒子を含有するA層が積層されており
、A層に含有される不活性粒子の平均粒径がA層厚さの
0.1〜10倍、該粒子のA層における含有量が0.5
〜50wt%、A層の厚さが0.005〜3μmである
ことを特徴とする積層フィルム。 - (2)B層が実質的に不活性粒子を含有しないことを特
徴とする請求項(1)記載の積層フィルム。 - (3)B層が平均粒径0.005〜2μmの不活性粒子
を0.001〜0.2wt%含有することを特徴とする
請求項(1)記載の積層フィルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1256184A JP2555742B2 (ja) | 1989-09-29 | 1989-09-29 | 積層フィルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1256184A JP2555742B2 (ja) | 1989-09-29 | 1989-09-29 | 積層フィルム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03114830A true JPH03114830A (ja) | 1991-05-16 |
| JP2555742B2 JP2555742B2 (ja) | 1996-11-20 |
Family
ID=17289076
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1256184A Expired - Fee Related JP2555742B2 (ja) | 1989-09-29 | 1989-09-29 | 積層フィルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2555742B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6124021A (en) * | 1997-05-20 | 2000-09-26 | Teijin Limited | Biaxially oriented laminate film of wholly aromatic polyamide and magnetic recording media |
| JP2004160842A (ja) * | 2002-11-13 | 2004-06-10 | Toyobo Co Ltd | ポリアミド系積層フィルム |
| WO2008133082A1 (ja) * | 2007-04-13 | 2008-11-06 | Ube Industries, Ltd. | 片面が平滑性のポリイミドフィルム |
| JP2010076438A (ja) * | 2008-08-27 | 2010-04-08 | Toyobo Co Ltd | 易滑性多層ポリイミドフィルム |
| WO2021256298A1 (ja) * | 2020-06-16 | 2021-12-23 | 東洋紡株式会社 | 無色多層ポリイミドフィルム、積層体、フレキシブル電子デバイスの製造方法 |
Citations (4)
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|---|---|---|---|---|
| JPS63188823A (ja) * | 1987-02-02 | 1988-08-04 | Canon Inc | 磁気記録媒体 |
| JPS63297038A (ja) * | 1987-05-29 | 1988-12-05 | Ube Ind Ltd | 芳香族ポリイミドフィルムの製造方法 |
| JPS6422546A (en) * | 1987-07-20 | 1989-01-25 | Ube Industries | Lowly electrifiable aromatic polyimide film and manufacture thereof |
| JPH0321447A (ja) * | 1989-06-20 | 1991-01-30 | Ube Ind Ltd | 記録媒体用ポリイミドフィルム及びその製造法 |
-
1989
- 1989-09-29 JP JP1256184A patent/JP2555742B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| JPWO2021256298A1 (ja) * | 2020-06-16 | 2021-12-23 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2555742B2 (ja) | 1996-11-20 |
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