JPH03115592A - 溶融塩電解槽 - Google Patents
溶融塩電解槽Info
- Publication number
- JPH03115592A JPH03115592A JP25277289A JP25277289A JPH03115592A JP H03115592 A JPH03115592 A JP H03115592A JP 25277289 A JP25277289 A JP 25277289A JP 25277289 A JP25277289 A JP 25277289A JP H03115592 A JPH03115592 A JP H03115592A
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- JP
- Japan
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- bath
- cathode
- diaphragm
- anode
- chamber
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- Pending
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- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、溶融塩中に含まれる異なるイオン価を有する
金属イオンを電解析出させる場合、特に、塩化物含有浴
塩中に含まれる不純物金属を電解析出させることにより
除去する場合に用いる溶融塩電解槽に関する。
金属イオンを電解析出させる場合、特に、塩化物含有浴
塩中に含まれる不純物金属を電解析出させることにより
除去する場合に用いる溶融塩電解槽に関する。
(従来の技術)
溶融塩電解において、例えば鉄イオン(Fe”。
Fe”)のように、異なるイオン価を有する金属イオン
を含む浴温を電解すると、陰極で還元された金属イオン
(Fe”″)が浴温中を移動して陽極でより高いイオン
価を有する金属イオン(Fe”)に酸化され、この酸化
された金属イオンは再度陰極側へ移動して低いイオン価
を有する金属イオン(Fe”″)に還元される。このよ
うな還元、酸化を繰り返すので、電気エネルギーは有効
に利用されず、電流効率は低下する。
を含む浴温を電解すると、陰極で還元された金属イオン
(Fe”″)が浴温中を移動して陽極でより高いイオン
価を有する金属イオン(Fe”)に酸化され、この酸化
された金属イオンは再度陰極側へ移動して低いイオン価
を有する金属イオン(Fe”″)に還元される。このよ
うな還元、酸化を繰り返すので、電気エネルギーは有効
に利用されず、電流効率は低下する。
このような問題に対し、水溶液系の場合には、イオン交
換膜の選択透過性を利用して、上記のような金属イオン
の移動を防ぐ方法が広く一般に用いられているが、溶融
塩系ではそのような適切な材料が無(、従来は隔膜材と
して素焼板のようなセラミックス類や石綿加工品などが
使用されてきた。
換膜の選択透過性を利用して、上記のような金属イオン
の移動を防ぐ方法が広く一般に用いられているが、溶融
塩系ではそのような適切な材料が無(、従来は隔膜材と
して素焼板のようなセラミックス類や石綿加工品などが
使用されてきた。
(発明が解決しようとする課題)
しかし、前記のような隔膜材を使用しても、上記の金属
イオンの移動を完全に抑えることはできず、電流効率の
著しい低下を招くことが往々にしてあった。
イオンの移動を完全に抑えることはできず、電流効率の
著しい低下を招くことが往々にしてあった。
本発明は、溶融塩電解において、上記のような金属イオ
ンの移動を防止し、高い電流効率で電解可能な電解槽を
提供することを目的とする。
ンの移動を防止し、高い電流効率で電解可能な電解槽を
提供することを目的とする。
(課題を解決するための手段)
本発明者等は、上記目的を達成するため電解槽の隔膜に
ついて検討を重ねた結果、隔膜の材質及び細孔の直径を
適当に選ぶことにより金属イオンの隔膜を通しての移動
を防止できることを知った。
ついて検討を重ねた結果、隔膜の材質及び細孔の直径を
適当に選ぶことにより金属イオンの隔膜を通しての移動
を防止できることを知った。
本発明は、上記知見に基づくものであって、下記i)お
よびii)の溶融塩電解槽を要旨とする。
よびii)の溶融塩電解槽を要旨とする。
i)陽極と陰極の間に直径200μ翔以下の細孔を有す
るセラミックス製隔膜を設けたことを特徴とする溶融塩
電解槽。
るセラミックス製隔膜を設けたことを特徴とする溶融塩
電解槽。
ii)陽極と陰極の間に直径500μm以下の細孔を有
する石英製隔膜を設けたことを特徴とする溶融塩電解槽
。
する石英製隔膜を設けたことを特徴とする溶融塩電解槽
。
前記のセラミックスとしてはアルミナ焼結晶が好適であ
るが、他にムライト製、コーディエライト製あるいはジ
ルコニア製等のセラミックスや、炭化けい素、グラファ
イト、窒化けい素等の非酸化物系のセラミックスなど、
電解対象溶融塩の侵食に耐え、直径が本発明の範囲にあ
る細孔を有するセラミックスはいずれも使用可能である
。
るが、他にムライト製、コーディエライト製あるいはジ
ルコニア製等のセラミックスや、炭化けい素、グラファ
イト、窒化けい素等の非酸化物系のセラミックスなど、
電解対象溶融塩の侵食に耐え、直径が本発明の範囲にあ
る細孔を有するセラミックスはいずれも使用可能である
。
また、前記の石英は、石英粒子を焼結し板状としたもの
が好適であるが、細孔の直径が本発明の範囲にある細孔
を有する石英板であれば焼結体に限らず使用可能である
。
が好適であるが、細孔の直径が本発明の範囲にある細孔
を有する石英板であれば焼結体に限らず使用可能である
。
第1図は本発明の溶融塩電解槽の一例を示す概略断面図
で、塩化マグネシウムを電解してマグネシウムを製造す
るに際し、塩化マグネシウムを主成分とする浴温中に不
純物として含まれているFeやMnを除去するための電
解浴塩純化槽である。同図において、lは電解槽の外枠
、2は蓋、3は陽極、4は陰極、5は塩化マグネシウム
を主成分とする浴場、6は細孔を有する隔膜、7は電解
槽ライニングである。陽極3には通常グラファイトを用
い、陰極4には鉄を用いる。また、隔膜6を境にして陽
極3を取り付けた部分は陽極室8、陰極4を取り付けた
部分は陰極室9である。なお、陰極4は通常は浴場5の
上には出さず、電解槽の側方からライニング7を貫通し
て浴場5中に挿入される。
で、塩化マグネシウムを電解してマグネシウムを製造す
るに際し、塩化マグネシウムを主成分とする浴温中に不
純物として含まれているFeやMnを除去するための電
解浴塩純化槽である。同図において、lは電解槽の外枠
、2は蓋、3は陽極、4は陰極、5は塩化マグネシウム
を主成分とする浴場、6は細孔を有する隔膜、7は電解
槽ライニングである。陽極3には通常グラファイトを用
い、陰極4には鉄を用いる。また、隔膜6を境にして陽
極3を取り付けた部分は陽極室8、陰極4を取り付けた
部分は陰極室9である。なお、陰極4は通常は浴場5の
上には出さず、電解槽の側方からライニング7を貫通し
て浴場5中に挿入される。
(作用)
上記第1図に示した電解槽を用いて浴温中の不純物であ
るFeやMnを除去するには、電解槽に浴場を導入し、
陽極、陰極間に所定の電圧を印加して電解すればよい、
Fe、 Mnは陰極に析出し、浴場から除去される。
るFeやMnを除去するには、電解槽に浴場を導入し、
陽極、陰極間に所定の電圧を印加して電解すればよい、
Fe、 Mnは陰極に析出し、浴場から除去される。
具体的な例について述べると、第1図において、電解槽
に不純物としてPeを含有する混合浴塩5(MgCl
t : 20%、CaCj! x : 30%、NaC
Q:50%)を入れ、陽極3、陰極4間に塩化マグネシ
ウムの分解電圧より低い2.0〜2.4vの電圧を印加
する。reは浴温中でFe1あるいはFe”のFeイオ
ンとして存在しているが、陰極室9内の浴場5中に含ま
れるFeイオンは電解によりFe3°−* p e”
’″→Fe’(金属Fe)と還元されて、陰極4上に析
出する。この間、Fe”、 Fe’+は隔膜6の細孔を
通過することができないので、Pe”が陽極室8へ移動
して酸化されることもなく、陽極室8のFeイオンが陰
極室9に流入することもない、従って、陰極室9中のF
eイオンは除去され、浴場は浄化されると共に、画電極
3.4間に流れる電流は減少する。浄化された浴場は陰
極室9から取り出され、マグネシウム製造用の電解槽に
送給される。なお、陽極室8の浴場はそのままであるが
、必要に応じ陰極室9へ移され、上記のように浄化され
る。
に不純物としてPeを含有する混合浴塩5(MgCl
t : 20%、CaCj! x : 30%、NaC
Q:50%)を入れ、陽極3、陰極4間に塩化マグネシ
ウムの分解電圧より低い2.0〜2.4vの電圧を印加
する。reは浴温中でFe1あるいはFe”のFeイオ
ンとして存在しているが、陰極室9内の浴場5中に含ま
れるFeイオンは電解によりFe3°−* p e”
’″→Fe’(金属Fe)と還元されて、陰極4上に析
出する。この間、Fe”、 Fe’+は隔膜6の細孔を
通過することができないので、Pe”が陽極室8へ移動
して酸化されることもなく、陽極室8のFeイオンが陰
極室9に流入することもない、従って、陰極室9中のF
eイオンは除去され、浴場は浄化されると共に、画電極
3.4間に流れる電流は減少する。浄化された浴場は陰
極室9から取り出され、マグネシウム製造用の電解槽に
送給される。なお、陽極室8の浴場はそのままであるが
、必要に応じ陰極室9へ移され、上記のように浄化され
る。
Feイオンが上記の隔膜の細孔を通過できないのは、F
eイオンが単独で存在しているのではなく、いくつかの
Clイオン<cp、−>と弱く結合し、そのイオン半径
が大きくなっているためと考えられる。
eイオンが単独で存在しているのではなく、いくつかの
Clイオン<cp、−>と弱く結合し、そのイオン半径
が大きくなっているためと考えられる。
後述の実施例から判断して、細孔の直径がセラミックス
製の隔膜の場合は200μm以下、石英製の隔膜の場合
は500μm以下であると、Feイオンの通過は阻止さ
れる。材質によりFeイオンの通過が阻止される細孔の
直径(上限)が異なる理由は明らかではないが、電圧の
印加により生じる隔膜表面の静電気が関与していること
が推測される。
製の隔膜の場合は200μm以下、石英製の隔膜の場合
は500μm以下であると、Feイオンの通過は阻止さ
れる。材質によりFeイオンの通過が阻止される細孔の
直径(上限)が異なる理由は明らかではないが、電圧の
印加により生じる隔膜表面の静電気が関与していること
が推測される。
なお、細孔の直径の下限は特に定めないが、画電極3.
4間に電圧を加えたとき電流が流れること、すなわち、
イオンが隔膜を通過して一方の電極から他方の電極へ移
動することが必要で、上記の塩化物系の混合浴塩の電解
においては、Cj2−がその役割を果たしていると考え
られ、従って、細孔は少なくともC1−が通過できる程
度の大きさを有していることが必要である。
4間に電圧を加えたとき電流が流れること、すなわち、
イオンが隔膜を通過して一方の電極から他方の電極へ移
動することが必要で、上記の塩化物系の混合浴塩の電解
においては、Cj2−がその役割を果たしていると考え
られ、従って、細孔は少なくともC1−が通過できる程
度の大きさを有していることが必要である。
細孔の数については、極端に少ないとイオンの隔膜の通
過に遅れが生じ、抵抗が増大して通電困難となるので、
抵抗の著しい増大が生じない程度の孔数は必要である。
過に遅れが生じ、抵抗が増大して通電困難となるので、
抵抗の著しい増大が生じない程度の孔数は必要である。
焼結体であれば、通常、必要な孔数は十分確保される。
(実施例1)
隔膜として孔の直径が200μmの石英粒子焼結板(1
00an+X100mm、厚さ51 なお、以下の実施
例および比較例において、隔膜の寸法はいずれも前記寸
法に同じである)を使用し、第1図に示した構成を有す
る石英製の電解槽(縦100s+ai、横100+m、
高さ150mm)を作成した。この電解槽の陽極室及び
陰極室9に、合わせて1.2kgの溶融塩(MgCl
z : 20%、CaC1z:30%、NaCl :5
0%)を入れ、更に各電極室8.9に不純物としてFe
Cff1sおよびMnCl tを加え、電解槽の外側か
ら電気ヒーター(図示せず)で加熱して浴場の温度を7
00°Cに保持した。陽極室8ではRe濃度およびMn
濃度はそれぞれ0.90%、0.72%であり、陰極室
9ではそれぞれ0.80%、0.39%であった。
00an+X100mm、厚さ51 なお、以下の実施
例および比較例において、隔膜の寸法はいずれも前記寸
法に同じである)を使用し、第1図に示した構成を有す
る石英製の電解槽(縦100s+ai、横100+m、
高さ150mm)を作成した。この電解槽の陽極室及び
陰極室9に、合わせて1.2kgの溶融塩(MgCl
z : 20%、CaC1z:30%、NaCl :5
0%)を入れ、更に各電極室8.9に不純物としてFe
Cff1sおよびMnCl tを加え、電解槽の外側か
ら電気ヒーター(図示せず)で加熱して浴場の温度を7
00°Cに保持した。陽極室8ではRe濃度およびMn
濃度はそれぞれ0.90%、0.72%であり、陰極室
9ではそれぞれ0.80%、0.39%であった。
次いで、陽極3と陰極4との間に、塩化マグネシウムの
分解電圧より低い2.5■の電圧をかけ、一定時間毎に
浴場をサンプリングしながら3.5時間電解を続けた。
分解電圧より低い2.5■の電圧をかけ、一定時間毎に
浴場をサンプリングしながら3.5時間電解を続けた。
その間、陰極4では金属(FeおよびMn)が析出し、
陽極3では塩素が発生した。
陽極3では塩素が発生した。
浴温中のFelJ度およびMn濃度の測定結果を第2図
に示す、同図から、Fe濃度およびMnlJ度は陰極室
9でいずれも0.004%に低下し、浴場は透明で、電
解処理により不純物が除去されていることがわかる。な
お、陽極室8ではFe濃度、Mn濃度は若干減少しただ
けで、浴場も赤茶色を呈し電解前の状態と大差なかった
。
に示す、同図から、Fe濃度およびMnlJ度は陰極室
9でいずれも0.004%に低下し、浴場は透明で、電
解処理により不純物が除去されていることがわかる。な
お、陽極室8ではFe濃度、Mn濃度は若干減少しただ
けで、浴場も赤茶色を呈し電解前の状態と大差なかった
。
(実施例2)
隔膜として孔の直径が500μ餓の石英焼結体を使用し
、実施例1と同じ装置および浴場を用い、同じ条件で電
解処理を行った。不純物として添加したPaおよびMn
の濃度は、陽極室ではそれぞれ0.018%、0.01
9%、陰極室ではそれぞれ0.021%、0.019%
であった。
、実施例1と同じ装置および浴場を用い、同じ条件で電
解処理を行った。不純物として添加したPaおよびMn
の濃度は、陽極室ではそれぞれ0.018%、0.01
9%、陰極室ではそれぞれ0.021%、0.019%
であった。
3時間電解後の浴温中のFelfi度およびMn濃度の
測定結果を第3図に示す、 Fe濃度および■口濃度は
陰極室ではそれぞれo、oos%、0.002%に減少
した。
測定結果を第3図に示す、 Fe濃度および■口濃度は
陰極室ではそれぞれo、oos%、0.002%に減少
した。
なお、陽極室ではFe濃度、Mn濃度のいずれも電解の
前後で差はなかった。
前後で差はなかった。
(実施例3)
隔膜として孔の直径が200 p m以下のアルミナ焼
結晶を使用し、実施例1と同じ装置および浴場を用い、
同じ条件で電解処理を行った。不純物として添加したP
eおよびMllの濃度は、陽極室ではそれぞれ0.02
1%、0.014%、陰極室ではそれぞれ0.019%
、0.015%であった。
結晶を使用し、実施例1と同じ装置および浴場を用い、
同じ条件で電解処理を行った。不純物として添加したP
eおよびMllの濃度は、陽極室ではそれぞれ0.02
1%、0.014%、陰極室ではそれぞれ0.019%
、0.015%であった。
3時間電解後の浴温中のFe濃度およびMnfi度の測
定結果を第4図に示す、Fe1度およびMn11度は陰
極室ではそれぞれ0.004%、0.001%に減少し
た。
定結果を第4図に示す、Fe1度およびMn11度は陰
極室ではそれぞれ0.004%、0.001%に減少し
た。
なお、陽極室ではFefi度は若干低下したが、Mnl
d度は電解の前後で差はなかった。
d度は電解の前後で差はなかった。
(比較例1)
隔膜として孔の直径が1mmの石英板を使用し、実施例
1と同じ装置および浴場を用い、同じ条件で電解処理を
行った。
1と同じ装置および浴場を用い、同じ条件で電解処理を
行った。
3時間電解後の浴温中のFe1度およびMn濃度の測定
結果を第5図に示す、陰極室のFefA度およびMn濃
度はいずれも0.005%以下には下がらず、電流効率
は実施例1における電流効率の16.0%にすぎなかっ
た。
結果を第5図に示す、陰極室のFefA度およびMn濃
度はいずれも0.005%以下には下がらず、電流効率
は実施例1における電流効率の16.0%にすぎなかっ
た。
(比較例2)
隔膜として孔の直径が1mmのセラミックフィルター(
アルミナ系)を使用し、実施例1と同じ装置および浴場
を用い、同じ条件で電解処理を行った。
アルミナ系)を使用し、実施例1と同じ装置および浴場
を用い、同じ条件で電解処理を行った。
4時間電解後の浴温中のFefi度およびMnlJ度の
測定結果を第6図に示す、陰極室のFeIA度およびM
nfi度はいずれも0.005%以下には下がらず、電
流効率は実施例1における電流効率の15.5%であっ
た。
測定結果を第6図に示す、陰極室のFeIA度およびM
nfi度はいずれも0.005%以下には下がらず、電
流効率は実施例1における電流効率の15.5%であっ
た。
(比較例3)
隔膜として孔の直径がll1mのジルコニア質のセラミ
ックフィルターを使用し、実施例1と同し装置および浴
場を用い、同じ条件で電解処理を行った。
ックフィルターを使用し、実施例1と同し装置および浴
場を用い、同じ条件で電解処理を行った。
3時間電解後の浴温中のFe濃度およびMn濃度の測定
結果を第7図に示す、陰極室のFefi度およびMn濃
度はいずれも0.015%程度、電流効率は実施例1に
おける電流効率の12.0%であった。
結果を第7図に示す、陰極室のFefi度およびMn濃
度はいずれも0.015%程度、電流効率は実施例1に
おける電流効率の12.0%であった。
(比較例4)
隔膜として孔の直径がIonのジルコニア−ムライト質
のセラミックフィルターを使用し、実施例1と同じ装置
および浴場を用い、同じ条件で電解処理を行った。
のセラミックフィルターを使用し、実施例1と同じ装置
および浴場を用い、同じ条件で電解処理を行った。
3時間電解後の浴温中のFelJ度およびMn濃度の測
定結果を第8図に示す。陰極室のFe4度およびMnf
A度は0.015%、0.006%と高く、電流効率は
実施例1における電流効率の27.0%であった。
定結果を第8図に示す。陰極室のFe4度およびMnf
A度は0.015%、0.006%と高く、電流効率は
実施例1における電流効率の27.0%であった。
(比較例5)
隔膜として孔の直径が500μ輪の炭化けい素−ムライ
ト質のセラミックフィルターを使用し、実施例1と同じ
装置および浴場を用い、同じ条件で電解処理を行った。
ト質のセラミックフィルターを使用し、実施例1と同じ
装置および浴場を用い、同じ条件で電解処理を行った。
3時間電解後の浴温中のPelli度およびMn濃度の
測定結果を第9図に示す、陰極室のFe′a度およびM
n濃度はいずれも0.005%以下には下がらず、電流
効率は実施例1における電流効率の30.4%であつた
。
測定結果を第9図に示す、陰極室のFe′a度およびM
n濃度はいずれも0.005%以下には下がらず、電流
効率は実施例1における電流効率の30.4%であつた
。
(比較例6)
隔膜として孔の直径が500μ槃のコージェライト質の
セラミックフィルターを使用し、実施例1と同じ装置お
よび浴場を用い、同じ条件で電解処理を行った。
セラミックフィルターを使用し、実施例1と同じ装置お
よび浴場を用い、同じ条件で電解処理を行った。
3時間電解後の浴温中のFelli度およびMn1度の
測定結果を第10図に示す、陰極室のFe濃度および1
1+J1度はいずれも0.012%以下には下がらず、
電流効率は実施例1における電流効率の24.0%であ
った。
測定結果を第10図に示す、陰極室のFe濃度および1
1+J1度はいずれも0.012%以下には下がらず、
電流効率は実施例1における電流効率の24.0%であ
った。
(発明の効果)
本発明の溶融塩電解槽を用いると、浴温中に例えばFe
イオンやMnイオンのような金属イオンが含有されてい
てもそれらの金属イオンの隔膜を通しての移動は妨げら
れる。従って、陰極で還元された金属イオンが陽極で酸
化され、再度陰櫓で還元をうける、というような電気エ
ネルギーの無駄な消費がなく、高い電流効率を維持しつ
つ電解を行うことが可能で、浴場の精製純化、さらには
、金属の電解採取を効率よく行うことができる。
イオンやMnイオンのような金属イオンが含有されてい
てもそれらの金属イオンの隔膜を通しての移動は妨げら
れる。従って、陰極で還元された金属イオンが陽極で酸
化され、再度陰櫓で還元をうける、というような電気エ
ネルギーの無駄な消費がなく、高い電流効率を維持しつ
つ電解を行うことが可能で、浴場の精製純化、さらには
、金属の電解採取を効率よく行うことができる。
第1図は、本発明の溶融塩電解槽の一例を示す概略断面
図である。 第2図〜第10図は、浴温中に不純物としてFeおよび
Mnを含有する場合におけるFeおよびMnの濃度と電
解時間との関係を示すグラフで、第2図〜第4図は実施
例、第5図〜第1O図は比較例である。
図である。 第2図〜第10図は、浴温中に不純物としてFeおよび
Mnを含有する場合におけるFeおよびMnの濃度と電
解時間との関係を示すグラフで、第2図〜第4図は実施
例、第5図〜第1O図は比較例である。
Claims (2)
- (1)陽極と陰極の間に直径200μm以下の細孔を有
するセラミックス製隔膜を設けたことを特徴とする溶融
塩電解槽。 - (2)陽極と陰極の間に直径500μm以下の細孔を有
する石英製隔膜を設けたことを特徴とする溶融塩電解槽
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25277289A JPH03115592A (ja) | 1989-09-28 | 1989-09-28 | 溶融塩電解槽 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25277289A JPH03115592A (ja) | 1989-09-28 | 1989-09-28 | 溶融塩電解槽 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03115592A true JPH03115592A (ja) | 1991-05-16 |
Family
ID=17242081
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25277289A Pending JPH03115592A (ja) | 1989-09-28 | 1989-09-28 | 溶融塩電解槽 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03115592A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001508130A (ja) * | 1997-01-06 | 2001-06-19 | トラスティーズ オブ ボストン ユニバーシティー | 金属抽出法及び装置、並びにそれに関連するセンサー装置 |
| JP2005520046A (ja) * | 2002-03-13 | 2005-07-07 | ビーエイチピー ビリトン イノベーション プロプライアタリー リミテッド | 電解槽内の炭素移動の最小化 |
| KR100520272B1 (ko) * | 2002-02-15 | 2005-10-11 | 주식회사 비에스텍 | 전방향 이동 승용완구 |
| WO2006003865A1 (ja) * | 2004-06-30 | 2006-01-12 | Toho Titanium Co., Ltd. | 溶融塩電解による金属の製造方法 |
| CN103911627A (zh) * | 2012-12-31 | 2014-07-09 | 北京有色金属研究总院 | 一种熔盐电解添加剂及其用于制备硅复合材料方法 |
| CN108585883A (zh) * | 2018-05-08 | 2018-09-28 | 南方科技大学 | 微滤陶瓷膜及其制备方法 |
Citations (1)
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| JPS5687685A (en) * | 1979-11-24 | 1981-07-16 | Kernforschungsanlage Juelich | Separation of gas generated in molten salt electrolysis and apparatus therefore |
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1989
- 1989-09-28 JP JP25277289A patent/JPH03115592A/ja active Pending
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