JPH03116565A - 光磁気記録媒体 - Google Patents
光磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPH03116565A JPH03116565A JP25597789A JP25597789A JPH03116565A JP H03116565 A JPH03116565 A JP H03116565A JP 25597789 A JP25597789 A JP 25597789A JP 25597789 A JP25597789 A JP 25597789A JP H03116565 A JPH03116565 A JP H03116565A
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- Japan
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- film
- magneto
- recording
- optical recording
- recording medium
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は光磁気記録媒体に関する。
［従来の技術］
情報の消去および書き換えが可能な光磁気記録媒体は、
一般には、透明基板上に保護膜、垂直磁気異方性を有す
る磁性膜および保護膜をこの順に積層した構造を有する
か、または上記の保護膜上にさらに反射膜を積層した構
造を有している。上記の磁性膜としては、希土類元素と
遷移金属とのアモルファス合金が好ましく、たとえばＴ
ｂＦｅＣｏ。
一般には、透明基板上に保護膜、垂直磁気異方性を有す
る磁性膜および保護膜をこの順に積層した構造を有する
か、または上記の保護膜上にさらに反射膜を積層した構
造を有している。上記の磁性膜としては、希土類元素と
遷移金属とのアモルファス合金が好ましく、たとえばＴ
ｂＦｅＣｏ。
ＮｄＤｙＦｅＣｏ５ＧｄＴｂＦｅなどの合金が用いられ
ている。
ている。
これらの合金には、非常に酸化し易いこと、磁気光学効
果が小さいことなどの問題点がある。この磁性膜の問題
点を補うために、上記の上層および下層の保護膜を形成
する材料が酸素および水の侵入を防ぐ特性を有している
必要があり、また保護膜と反射膜とは干渉効果を高める
ような膜厚および屈折率を有している必要がある。
果が小さいことなどの問題点がある。この磁性膜の問題
点を補うために、上記の上層および下層の保護膜を形成
する材料が酸素および水の侵入を防ぐ特性を有している
必要があり、また保護膜と反射膜とは干渉効果を高める
ような膜厚および屈折率を有している必要がある。
保護膜を形成する材料としてはＳｉＯｘ ５ｉＯｔ、Ｓ
ｉＮ。
ｉＮ。
Ａｌ２５ｉＮ、 ＡｌＮなどの高屈折率を有する材料が
用いられている。また反射膜を形成する材料としては、
＾ｕ、 Ａ（！、Ｃｕ５Ａ１２ １’＋合金、Ａｌ−Ｃ
ｒ合金などが用いられている。
用いられている。また反射膜を形成する材料としては、
＾ｕ、 Ａ（！、Ｃｕ５Ａ１２ １’＋合金、Ａｌ−Ｃ
ｒ合金などが用いられている。
保護膜および反射膜が熱伝導率の低い材料によって形成
されている場合には、高い記録感度が得られることか知
られている。上記の保護膜材料の中ではＳｉＮが熱伝導
率が低く、反射膜材料の中ではＡｌ−Ｔｉ合金および人
（！ −Ｃｒ合金が熱伝導率が低いことから、これらの
材料を用いて形成された光磁気記録媒体は高い記録感度
を有する。また、磁性膜が低いキュリー温度を有する場
合にも、光磁気記録媒体は高い記録感度を有する。
されている場合には、高い記録感度が得られることか知
られている。上記の保護膜材料の中ではＳｉＮが熱伝導
率が低く、反射膜材料の中ではＡｌ−Ｔｉ合金および人
（！ −Ｃｒ合金が熱伝導率が低いことから、これらの
材料を用いて形成された光磁気記録媒体は高い記録感度
を有する。また、磁性膜が低いキュリー温度を有する場
合にも、光磁気記録媒体は高い記録感度を有する。
［発明が解決しようとする課題］
保護膜を形成する材料の熱伝導率が低い場合には、情報
を記録するために光磁気記録媒体にレーザ光を照射する
ことに上って発生する熱が磁性膜内に残留し易い。この
熱によって記録エラーが生じることがあることから、上
記のレーザ光の出力を大きくすることができず、また情
報を高い密度で記録することができない。ポリカーボネ
ート樹脂基板上に、ＳｉＮからなる下層保護膜（膜厚：
１１００人） 、ＴｂＦｅＣｏからなる磁性膜（膜厚、
２５０人）、の組成がそれぞれＡ１２１Ａｄｓ−Ｔｉｔ
（原子数比）、＾ｆ！、、Ｔｉ、 （原子数比）であ
る光磁気記録媒体（ａ）、（ｂ）および（ｃ）における
、記録のために照射するレーザ光の出力と記録感度（Ｒ
Ｆ振幅）との関係を第４図に示す。ただし、光磁気記録
媒体（ａ）、（ｂ）および（ｃ）におけるＴｉ含有量は
それぞれ８％、２％および０％である。第４図から明ら
かなように、Ｔｉ元素を添加することによって反射膜の
熱伝導率を小さくした場合には、該レーザ光の出力を大
きくすることができず、レーザ光の出力の許容範囲が狭
くなる。
を記録するために光磁気記録媒体にレーザ光を照射する
ことに上って発生する熱が磁性膜内に残留し易い。この
熱によって記録エラーが生じることがあることから、上
記のレーザ光の出力を大きくすることができず、また情
報を高い密度で記録することができない。ポリカーボネ
ート樹脂基板上に、ＳｉＮからなる下層保護膜（膜厚：
１１００人） 、ＴｂＦｅＣｏからなる磁性膜（膜厚、
２５０人）、の組成がそれぞれＡ１２１Ａｄｓ−Ｔｉｔ
（原子数比）、＾ｆ！、、Ｔｉ、 （原子数比）であ
る光磁気記録媒体（ａ）、（ｂ）および（ｃ）における
、記録のために照射するレーザ光の出力と記録感度（Ｒ
Ｆ振幅）との関係を第４図に示す。ただし、光磁気記録
媒体（ａ）、（ｂ）および（ｃ）におけるＴｉ含有量は
それぞれ８％、２％および０％である。第４図から明ら
かなように、Ｔｉ元素を添加することによって反射膜の
熱伝導率を小さくした場合には、該レーザ光の出力を大
きくすることができず、レーザ光の出力の許容範囲が狭
くなる。
磁性膜が低いキ↓り一温度を有する場合には、磁性膜が
有する磁気光学効果は小さく、情報を記録する際に得ら
れる信号の強度が小さくなる欠点がある。磁性膜の組成
がそれぞれＴｂｔ＋Ｆｅ７ｔＣＯｔ（原子数比） ｓ
Ｔｂｔ＋Ｆｅ７４ＣＯｓ （原子数比）およびＴｂｔ＋
Ｆｅ７１ｃＯｓ （原子数比）である他は上記の光磁気
記録媒体（ａ）と同一の構造を有している光磁気記録媒
体（ｄ）、（ｅ）および（ｆ）における、記録のために
照射するレーザ光の出力と記録感度（ＲＦ振幅）との関
係を第５図に示す。ただし光磁気記録媒体（ｄ）、（ｅ
）および（ｆ）における磁性膜のキュリー温度はそれぞ
れ１６０℃、１８０℃および２００℃である。第５図か
ら明らかなように、磁性膜のキュリー温度が低い場合に
は、光磁気記録媒体の記録感度が低下する。
有する磁気光学効果は小さく、情報を記録する際に得ら
れる信号の強度が小さくなる欠点がある。磁性膜の組成
がそれぞれＴｂｔ＋Ｆｅ７ｔＣＯｔ（原子数比） ｓ
Ｔｂｔ＋Ｆｅ７４ＣＯｓ （原子数比）およびＴｂｔ＋
Ｆｅ７１ｃＯｓ （原子数比）である他は上記の光磁気
記録媒体（ａ）と同一の構造を有している光磁気記録媒
体（ｄ）、（ｅ）および（ｆ）における、記録のために
照射するレーザ光の出力と記録感度（ＲＦ振幅）との関
係を第５図に示す。ただし光磁気記録媒体（ｄ）、（ｅ
）および（ｆ）における磁性膜のキュリー温度はそれぞ
れ１６０℃、１８０℃および２００℃である。第５図か
ら明らかなように、磁性膜のキュリー温度が低い場合に
は、光磁気記録媒体の記録感度が低下する。
本発明の目的は、高い記録感度を有し、記録時にレーザ
光を照射することによって発生する熱の影響で記録エラ
ーの生じることがない光磁気記録媒体を提供することに
ある。
光を照射することによって発生する熱の影響で記録エラ
ーの生じることがない光磁気記録媒体を提供することに
ある。
膜、磁性膜、保護膜および反射膜が順次積層されてなる
光磁気記録媒体において、該反射膜がＡＣ合金からなり
、その熱伝導率が保護膜側から膜厚方向に徐々に低下し
ていることを特徴とする光磁気記録媒体を提供すること
によって達成される。
光磁気記録媒体において、該反射膜がＡＣ合金からなり
、その熱伝導率が保護膜側から膜厚方向に徐々に低下し
ていることを特徴とする光磁気記録媒体を提供すること
によって達成される。
上記のＡＣ合金がＡＣとＣｒ、 Ｔｉ、 Ｐｔ、 ＶＳ
Ｇｅおよび６毛 Ｓｉからなる群から選ばれた少なく ’ＥＥｉ−１元素
とからなり、Ａｌの含有量を保護膜側から膜厚方向に徐
々に低下させることによって、情報を記録するために光
磁気記録媒体にレーザ光を照射することにより発生する
熱が磁性膜内に残留して記録エラーが生じることがなく
、かつ熱が磁性膜から放出されることにより記録感度が
低下することがないように、反射膜の熱伝導率を適宜調
節することが好ましい。
Ｇｅおよび６毛 Ｓｉからなる群から選ばれた少なく ’ＥＥｉ−１元素
とからなり、Ａｌの含有量を保護膜側から膜厚方向に徐
々に低下させることによって、情報を記録するために光
磁気記録媒体にレーザ光を照射することにより発生する
熱が磁性膜内に残留して記録エラーが生じることがなく
、かつ熱が磁性膜から放出されることにより記録感度が
低下することがないように、反射膜の熱伝導率を適宜調
節することが好ましい。
［実施例コ
以下、実施例により本発明を具体的に説明する。
実施例１
本発明の光磁気記録媒体の一例の概略部分断面図を第１
図に示す。この光磁気記録媒体はポリカーボネート樹脂
基板１の上に、５１５１Ｎ４１１ （原子数比）からな
る保護膜２と、Ｔｔ＋２＋ＦｅｔｓＣＯａ （原子数比
）からなる磁性膜３（キュリー温度＝１７０℃）と、Ｓ
ｉ、、Ｎ、−（原子数比）からなる保護膜４と、Ａ（１
−Ｔｉ合金からなる反射膜５とが順次積層されてなり、
各膜厚は下層の保護膜か１１００人、磁性膜が２５０人
、上層の保護膜が３５０人、反射膜が７００人である。
図に示す。この光磁気記録媒体はポリカーボネート樹脂
基板１の上に、５１５１Ｎ４１１ （原子数比）からな
る保護膜２と、Ｔｔ＋２＋ＦｅｔｓＣＯａ （原子数比
）からなる磁性膜３（キュリー温度＝１７０℃）と、Ｓ
ｉ、、Ｎ、−（原子数比）からなる保護膜４と、Ａ（１
−Ｔｉ合金からなる反射膜５とが順次積層されてなり、
各膜厚は下層の保護膜か１１００人、磁性膜が２５０人
、上層の保護膜が３５０人、反射膜が７００人である。
反射膜５におけるＴｉ含有量を第２図に示す。反射膜５
のＴｉ含有量（原子数比）は上層保護膜から膜厚２００
人の範囲においては０％であり、膜厚２００人から７０
０人の範囲においては徐々に増加し、表面側（膜厚７０
０人）でのＴｉ含有量は５％である。このような構成に
することによって、反射膜の熱伝導率は上層保護膜側か
ら膜厚方向に徐々に低下する。
のＴｉ含有量（原子数比）は上層保護膜から膜厚２００
人の範囲においては０％であり、膜厚２００人から７０
０人の範囲においては徐々に増加し、表面側（膜厚７０
０人）でのＴｉ含有量は５％である。このような構成に
することによって、反射膜の熱伝導率は上層保護膜側か
ら膜厚方向に徐々に低下する。
第３図に上記の光磁気記録媒体に記録のために照射する
レーザ光の出力と記録感度との関係を示す。
レーザ光の出力と記録感度との関係を示す。
第３図と第４図および第５図とを比較することより上記
の光磁気記録媒体は高い記録感度を有し、かつ記録のた
めに照射するレーザ光の出力の許容範囲が広いことが明
らかである。
の光磁気記録媒体は高い記録感度を有し、かつ記録のた
めに照射するレーザ光の出力の許容範囲が広いことが明
らかである。
本発明における反射膜はＣｒ、 Ｔｉ５Ｐｔ１Ｖ、Ｇｅ
およびＳｉからなる群から選ばれた少なくとも１元素と
人Ｑとの合金からなることが好ましく、組成比および組
成分布は保護膜および磁性膜の熱特性に応じて適宜設定
すればよい。
およびＳｉからなる群から選ばれた少なくとも１元素と
人Ｑとの合金からなることが好ましく、組成比および組
成分布は保護膜および磁性膜の熱特性に応じて適宜設定
すればよい。
上記の基板としてはポリカーボネート樹脂の他にポリメ
チルメタクリレート樹脂、エポキシ樹脂、ガラスなどを
用いることができる。また磁性膜を形成する材料として
は、ＴｂＦｅＣｏの他にＮｄＤｙＦｅＣｏ。
チルメタクリレート樹脂、エポキシ樹脂、ガラスなどを
用いることができる。また磁性膜を形成する材料として
は、ＴｂＦｅＣｏの他にＮｄＤｙＦｅＣｏ。
ＧｄＴｂＦｅなどの希土類元素と遷移金属とのアモルフ
ァス合金材料を用いることができる。保護膜、磁性膜な
どの膜厚はこれらの光学的特性に応じて決めることがで
きるが、通常、それぞれ下層の保護膜が８００〜１６０
０人、磁性膜が２ｏＯ〜４ｏｏ人、上層の保護膜が３０
０〜８００人、反射膜が３００〜７００人の範囲である
ことが好ましい。
ァス合金材料を用いることができる。保護膜、磁性膜な
どの膜厚はこれらの光学的特性に応じて決めることがで
きるが、通常、それぞれ下層の保護膜が８００〜１６０
０人、磁性膜が２ｏＯ〜４ｏｏ人、上層の保護膜が３０
０〜８００人、反射膜が３００〜７００人の範囲である
ことが好ましい。
上記の６膜はスパッタリング法によって形成することが
できる。また反射膜の製膜時にターゲットに印加する電
力を調節することによって所望の熱伝導率を与える組成
分布が得られる。
できる。また反射膜の製膜時にターゲットに印加する電
力を調節することによって所望の熱伝導率を与える組成
分布が得られる。
［発明の効果コ
本発明によれば、高い記録感度を有し、記録時に照射す
るレーザ光によって発生する熱の影響で記録エラーの生
じることがない光磁気記録媒体が得られる。
るレーザ光によって発生する熱の影響で記録エラーの生
じることがない光磁気記録媒体が得られる。
第１図は本発明の光磁気記録媒体の一例の概略部分断面
図、第２図は実施例１の反射膜におけるＴｉ含有量を示
す図、第３図は実施例１の光磁気記録媒体に照射するレ
ーザ光の出力と記録感度との関係を示す特性図、第４図
はＴｉ含有量と記録感度との関係を示す特性図、第５図
は磁性膜が有するキュリー温度と記録感度との関係を示
す特性図である。 １・・・基 板、 ２・・・保護膜、３・・・磁性膜
、 ４・・・保護膜、５・・・反射膜。
図、第２図は実施例１の反射膜におけるＴｉ含有量を示
す図、第３図は実施例１の光磁気記録媒体に照射するレ
ーザ光の出力と記録感度との関係を示す特性図、第４図
はＴｉ含有量と記録感度との関係を示す特性図、第５図
は磁性膜が有するキュリー温度と記録感度との関係を示
す特性図である。 １・・・基 板、 ２・・・保護膜、３・・・磁性膜
、 ４・・・保護膜、５・・・反射膜。
Claims (2)
- １．基板上に保護膜、磁性膜、保護膜および反射膜が順
次積層されてなる光磁気記録媒体において、該反射膜が
Ａｌ合金からなり、その熱伝導率が保護膜側から膜厚方
向に徐々に低下していることを特徴とする光磁気記録媒
体。 - ２．Ａｌ合金がＡｌとＣｒ、Ｔｉ、Ｐｔ、Ｖ、Ｇｅおよ
びＳｉからなる群から選ばれた少なくとも１元素とから
なり、Ａｌの含有量が保護膜側から膜厚方向に徐々に低
下していることを特徴とする請求項１記載の光磁気記録
媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25597789A JPH03116565A (ja) | 1989-09-29 | 1989-09-29 | 光磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25597789A JPH03116565A (ja) | 1989-09-29 | 1989-09-29 | 光磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03116565A true JPH03116565A (ja) | 1991-05-17 |
Family
ID=17286195
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25597789A Pending JPH03116565A (ja) | 1989-09-29 | 1989-09-29 | 光磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03116565A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5352545A (en) * | 1992-01-31 | 1994-10-04 | Yuasa Corporation | Battery containing foam polyurethane resin and method of making |
-
1989
- 1989-09-29 JP JP25597789A patent/JPH03116565A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5352545A (en) * | 1992-01-31 | 1994-10-04 | Yuasa Corporation | Battery containing foam polyurethane resin and method of making |
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