JPH0311679B2 - - Google Patents

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JPH0311679B2
JPH0311679B2 JP59114724A JP11472484A JPH0311679B2 JP H0311679 B2 JPH0311679 B2 JP H0311679B2 JP 59114724 A JP59114724 A JP 59114724A JP 11472484 A JP11472484 A JP 11472484A JP H0311679 B2 JPH0311679 B2 JP H0311679B2
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steam generator
decontamination solution
water chamber
water
tube
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JP59114724A
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JPS608796A (ja
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Debitsudo Buratsuku Robaato
Jeimuzu Furiidoritsuhi Oogasuto
Josefu Deiitoritsuhi Arubaato
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Westinghouse Electric Corp
Original Assignee
Westinghouse Electric Corp
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Publication date
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Publication of JPH0311679B2 publication Critical patent/JPH0311679B2/ja
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    • GPHYSICS
    • G21NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21FPROTECTION AGAINST X-RADIATION, GAMMA RADIATION, CORPUSCULAR RADIATION OR PARTICLE BOMBARDMENT; TREATING RADIOACTIVELY CONTAMINATED MATERIAL; DECONTAMINATION ARRANGEMENTS THEREFOR
    • G21F9/00Treating radioactively contaminated material; Decontamination arrangements therefor
    • G21F9/04Treating liquids
    • G21F9/06Processing
    • GPHYSICS
    • G21NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21FPROTECTION AGAINST X-RADIATION, GAMMA RADIATION, CORPUSCULAR RADIATION OR PARTICLE BOMBARDMENT; TREATING RADIOACTIVELY CONTAMINATED MATERIAL; DECONTAMINATION ARRANGEMENTS THEREFOR
    • G21F9/00Treating radioactively contaminated material; Decontamination arrangements therefor
    • G21F9/001Decontamination of contaminated objects, apparatus, clothes, food; Preventing contamination thereof
    • G21F9/002Decontamination of the surface of objects with chemical or electrochemical processes
    • G21F9/004Decontamination of the surface of objects with chemical or electrochemical processes of metallic surfaces
    • GPHYSICS
    • G21NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21FPROTECTION AGAINST X-RADIATION, GAMMA RADIATION, CORPUSCULAR RADIATION OR PARTICLE BOMBARDMENT; TREATING RADIOACTIVELY CONTAMINATED MATERIAL; DECONTAMINATION ARRANGEMENTS THEREFOR
    • G21F9/00Treating radioactively contaminated material; Decontamination arrangements therefor
    • G21F9/001Decontamination of contaminated objects, apparatus, clothes, food; Preventing contamination thereof

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  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
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  • Monitoring And Testing Of Nuclear Reactors (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Apparatus For Disinfection Or Sterilisation (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は放射能汚染方法に関し、特に、原子力
蒸気発生器から放射能汚染を除去する流量制御式
の除染方法に関するものである。
原子力発電所施設の保守を行う際の重大な問題
は保守作業員の放射線被曝である。原子炉系を循
環する冷却材は放射線にさらされているので、こ
の冷却材は原子炉系の大抵の機器の至る所に放射
能を運んでいる。従つて、原子炉系を通る冷却材
の循環によつて、原子炉系の諸機器の大部分が放
射性になる。原子力発電所が寿命になる間、原子
炉系の諸機器のあるものに対して保守を行う必要
がしばしば生ずる。これ等の諸機器を保守する必
要がある時、保守作業員が該機器にいずれは接近
しなければならない。該機器は放射性であるか
ら、作業員が放射線で過剰に被曝しないように注
意が肝要である。該機器に対してなすべき作業が
長時間を要する場合、作業員が機器のそばにいて
よい時間は限られているので、この汚染した機器
に関連する放射線の場は作業の遂行を非常に困難
なものにする。ある状況の下では、機器の放射線
の場は保守遂行に要する時間を極端に長くするか
も知れないし、又、作業員の各々が機器の側にい
てよい時間は限られているので、作業を遂行する
のに必要な作業員数が非常に増加する。従つて、
これ等の機器に関係した放射線の場を弱める技術
を開発して、作業員が長時間機器の側に居る事が
できるようにし、保守作業を適切な方法で遂行し
うるようにする必要がある。
これ等の機器に関係した放射線の場は、機器内
面に付着することになつた薄い酸化膜の放射能に
よつて生ずることが分かつた。該機器に関係した
放射線の場を弱める種々の方法は、機器を損傷す
ることなく放射性の金属酸化膜を除去することに
焦点を当てていた。この金属酸化膜を除去するの
に試みられた方法には、グリツトブラスト(grit
blasting)、溶液による機器の洗浄、表面のぬぐ
い作業等が含まれる。これ等の方法のあるもので
生ずる問題は、ある種の機器の粗表面を容易に清
浄にし得ないこと、グリツトブラスト等における
酸化膜の除去によつて生ずる気中放射線、及びこ
れ等の方法から生ずる残留物質による一次側又は
二次側冷却水の汚染可能性である。
従つて、本発明の主な目的は、原子力発電所の
機器を損傷したり、汚染物を原子炉系に拡散した
りすることなく該機器に対して保守を遂行しうる
ように、該機器を放射能除染する方法を提供する
ことである。
この目的から、本発明は、除染溶液供給系から
の除染溶液を原子力蒸気発生器の水室に導入する
と共に、該水室とその近傍の熱交換管の一部分と
を所定レベルまで前記除染溶液で充填し、次いで
該除染溶液を前記熱交換管から排出して、前記水
室及び前記熱交換管の表面から放射能汚染物質を
除去する、原子力蒸気発生器の放射能除染方法に
おいて、前記熱交換管の充填及び排出を交互に行
つている間、前記除染溶液を、同除染溶液が前記
水室に戻される前に粒状物質を除去するためのフ
イルタを含む前記除染溶液供給系と前記水室との
間で、前記熱交換管内の除染溶液レベルの上昇及
び下降とは別個に且つ該上昇及び下降に加えて、
前記除染溶液供給系に循環させる、ことを特徴と
するものである。
本発明は、添付図面に例示したその好適な実施
例に関する下記の記載から一層容易に明らかとな
ろう。
原子力発電所の種々の系統においては、その諸
機器を点検或は修理する必要がしばしば生ずる。
点検或は修理を行う前に、機器を放射能除染して
該機器に関係した放射線の場を弱めておいたほう
が良い場合がある。本発明の方法では、原子力蒸
気発生器に関係した放射線レベルを減少させるた
めに、放射能除染溶液を原子力蒸気発生器に循環
させている。
第1図において、原子力蒸気発生器20の外筒
22は、一次流体入口ノズル24と、下端近くに
取着された一次流体出口ノズル26とを有する。
管穴30を有するほぼ円筒形の管板28も外筒2
2にその下端近くで取着されている。管板28及
び外筒22の双方に取り付けられた分割板32
は、当該技術で周知のように、蒸気発生器の下端
に一次流体入口プレナム、即ち第一水室34と、
一次流体出口プレナム、即ち第二水室36とを画
成する。U字形の熱交換管である管38は、外筒
22内に配設され、管板28に管穴30で取り付
けられている。約3500本になる管38は管束40
を形成する。また、水のような二次流体を供給す
るために二次流体入口ノズル42が外筒22に設
けられており、蒸気出口ノズル44は外筒22の
頂部に取り付けられている。
当該技術で周知のように、原子炉冷却材(一次
流体)が流れる蒸気発生器20の部分は蒸気発生
器の一次側と一般に呼ばれている。同様に、二次
流体(蒸気化される水)が流れる蒸気発生器の部
分は蒸気発生器の二次側と呼ばれている。
運転中、原子炉の炉心を循環し加熱された水で
よい一次流体は一次流体入口ノズル24から蒸気
発生器20に入り、第一水室34に流入する。こ
の第一水室34からの一次流体は、管板28を通
り抜け、管38内を上方へ流れ、該管38のU字
部を上方へ通り抜け、管38を下方へ流れて第二
水室36に流入し、一次流体出口ノズル26から
蒸気発生器外へ出る。管38を流れながら、熱は
一次流体から該管を囲む二次流体に伝達され、二
次流体を蒸気化する。その結果生ずる蒸気は蒸気
出口ノズル44を通つて蒸気発生器から出る。放
射性粒子を含むかも知れない一次流体を二次流体
から確実に分離させておくために、管38又は該
管38と管板28との間の溶接部を点検又は修理
する必要がしばしばある。従つて、マンホール4
6が外筒22に設けられていて、第一水室34及
び第二水室36の双方に対するアクセスを可能に
し、管板28の全体に接近できる。
蒸気発生器20を点検又は修理することが必要
になつた場合には、蒸気発生器20の作動を停止
し、そして一次流体をドレンする。一次流体をド
レンすると、一次水室34、二次水室36及び管
38からも原子炉冷却材がドレンされるので、作
業員は第一水室34及び第二水室36に入ること
ができる。しかし、作業員が第一水室34及び第
二水室36に入る前に、これ等の領域を先ず放射
能除染して、作業員が点検又は修理作業を行うた
めにこれ等の領域に長時間留まつていられるよう
にすることが望ましい。第一水室34、第二水室
36及び少なくとも管38の一部を放射能除染す
るために、それ等から放射能汚染物を除去すると
共に該汚染物に関連した放射線の場を弱める目的
で、除染溶液を第一水室34、第二水室36及び
管38に導入するとよい。原子力蒸気発生器20
のこれ等の部分を放射能除染するのに使用しうる
除染溶液及び方法の一つは本願と同一の出願人に
よる特開昭60−8799号公報に記載されている。即
ち、この特開昭60−8799号公報には、0.02〜0.5
%の有機酸と、0.01〜0.4%のキレートと、水と
からなる除染溶液(重量%)が記載されており、
本発明ではこの除染溶液を好適に使用でき、ま
た、その他の市販の除染溶液(例えば、エチレ
ン・ジアミン・チトラ酢酸45%、クエン酸25%、
修酸30%と思われる)を使用することもできる、
有機酸には、クエン酸、酒石酸、修酸、ピコリン
酸、グルコン酸があるが、クエン酸が安価、無
害、入手容易性、放射安定性等のために好適であ
り、適当なキレートには、ニトリロトリ酢酸、オ
キシエチレン・ジアミン・トリ酢酸がある。
適切な除染溶液を選択してこの溶液を第一水室
34及び第二水室36の諸表面との接触状態に循
環させる他に必要なことは、第一水室34及び第
二水室36における放射線の場の約20%は管板2
8の直ぐ近くの管38の最初の30cmにある放射能
汚染に関係していることが分かつてきたので、除
染溶液を循環して少なくとも管38の一部に流入
させうることである。又、除染溶液を管38の最
初の1.2m−1.8mに循環流入させることによつて、
スリーブ継手付けのような診断又は修理行為を容
易にするのに十分な量の酸化膜を除去することが
できる。このように酸化膜を除去することによつ
て放射線の場を弱めることができるだけでなく、
腐食生成物も除去され、そのため該表面の機械的
性質が改良される。従つて、第一水室34及び第
二水室36から延びる管38のうち約1.2m−
1.8mを除染出来ることも重要である。
更に、除染溶液を管38の一部に導入するほか
に重要なことは、管38内にある除染溶液の温度
を適切なレベルに維持すること、及び管38内の
除染溶液が適切な温度及び濃度であるように、除
染溶液を管38からドレンすると共に再生するこ
とである。本発明は、好適な実施例によると、管
38内の除染溶液の適切な温度及び組成を維持し
ながら、蒸気発生器の水室及び管38の一部に除
染溶液を循環流入させる方法を提供するものであ
る。
第2図において、符号50で総括的に示された
流体制御系は流体循環系(除染溶液供給系)でぜ
あり、これはトレーラのように遠隔移動できるプ
ラツトフオームに装着可能であり、第2図に示す
ように蒸気発生器20に遠隔接続される。流体制
御系50は、蒸気発生器20内の除染溶液の適切
な流量、圧力、温度及び組成を維持しながら、除
染すべき蒸気発生器20の一部に除染溶液を循環
させる手段を提供する。
流体制御系50は、タンクトラツク又はトレー
ラに装着される11500のタンク52を備える。
このタンクには電気加熱装置が接続されていて内
部の流体を80−120℃の間、好ましくは約95
℃に加熱する。タンク52は遠心ポンプでよい第
一ポンプ54に適当な導管によつて接続されてお
り、該ポンプ54は、毎分約0から400の間及
び約8.44Kg/cm2の圧力で作動可能である。該第一
ポンプ54は導管によつて流量制御弁56に接続
され、該弁は第二水室36のような蒸気発生器の
水室に接続される。第一ポンプ54及び流量制御
弁56に接続された再循環のための導管58は第
2図に示すようにタンク52へ延びている。この
導管58は、第一ポンプ54からの流れを流量制
御弁56に通すのではなく、再循環させてタンク
52に戻す手段となつている。この様にして、蒸
気発生器20に流入する流体の量を制御しうる。
勿論、同じ結果を得るのに弁及び導管のその他の
配列を採用しうる。
圧力変換器でよい流体レベル検出器60は第二
水室36内に配置され、該検出器60に接続され
た電気ラインは第二水室36から延びて、第二水
室36及び管38における流体のレベルを決定す
るためのコントローラ62に接続されている。マ
イクロプロセツサ又はアナログコントローラでよ
いこのコントローラ62は、流量制御弁56を流
れる流量を自動的に調節するために、該制御弁5
6にも電気的に接続されている。コントローラ6
2に対する流体レベル検出器60の電気的接続及
び流量制御弁56に対するコントローラ62の電
気的接続は、蒸気発生器20における流体レベル
に応じて流量制御弁56を通る流量を旡るように
流量制御弁56を自動的に調節する手段となる。
この様にして、蒸気発生器20における流体のレ
ベルを自動的に調節することができる。
最初、第一ポンプ54及び流量制御弁56を通
るタンク52からの流体の流量は、第二水室36
及び管38内の流体レベルが希望の所定レベルに
達するまで、毎分約400の割合である。希望の
所定レベルとは管38内に約1.8m入つた位置で
あり、この位置は管板28より約1.2m上方であ
る。流体のレベルが所定レベルに達すると電気信
号がコントローラ62及び流量制御弁56に送ら
れるので、流量制御弁56が閉じ、そこを通る流
量は減少してゼロになる。第一ポンプ54は毎分
約400の割合で通常作動しているので、流量制
御弁56が閉じるときに、毎分約400の流体が
自動的に流れを変え再循環用の導管58を通つて
タンク52に戻る。
屈曲可能な導管でよい戻し管64は第二水室3
6及び第二ポンプ66に接続されており、該第二
ポンプ66により第二水室36からの流体はフイ
ルタ68に圧送される。第二ポンプ66は、蒸気
発生器20内の流体レベルが上昇しているときに
毎分約200で作動可能であり且つ蒸気発生器2
0内のレベルを下げたいときには毎分約300の
割合で作動可能である。第二ポンプ66もコント
ローラ62に電気的に接続されているので、コン
トローラ62は蒸気発生器20における流体レベ
ルに応じて第二ポンプ66を通る流量を自動的に
調節することができる。第二水室36及び管38
における流体のレベルを上昇させたいときには、
流量制御弁56を調節して毎分約400が流量制
御弁56を通つて蒸気発生器20に流入するよう
にする。同時に、第二ポンプ66を毎分約200
の割合で作動させることにより、毎分200の流
体を第二水室36から取り出す。かくして、第二
水室36及び管38における流体のレベルは毎分
約200の割合で上昇する。しかし、第二水室3
6及び管38における流体のレベルを下げたいと
きには、第二ポンプ66を毎分約300の割合で
作動させると共に流量制御弁56から全流量を再
循環用の導管58に転向させ、蒸気発生器20に
流れが入らないようにする。従つて、蒸気発生器
20内の流体レベルを下げたい場合には、これ等
のポンプ圧送動作の組み合わせによつて蒸気発生
器20における流体のレベルが毎分約300の割
合で減少する。
一般的に、蒸気発生器20においては、第二水
室36又は第一水室34は約4500の水を保持す
ることができる。又、蒸気発生器20の片側のみ
の管束レツグについて、管38内の約1.8mまで
の管内の水量は約1300である。即ち、蒸気発生
器20内の水レベルを管板28の若干下方から管
38内の約1.8m(管板28の上方約1.2m)まで上
昇させる水量は約1300である。従つて、毎分
400が第二水室36に導入され、そして毎分約
200が第二水室36から取り出されれば、毎分
約200の流体レベルの正味増加は、蒸気発生器
20内の流体レベルを管板28の若干下方から管
38の約1.8mまで上昇させるのに、約7−8分
を要するであろう。逆に、第一ポンプ54からの
全流量が流量制御弁56から転向して再循環用の
導管58を通り、そして第二ポンプ66が毎分約
300の割合で流体を排出していれば、流体の正
味減少は毎分約300であり、これは下位レベルに
達するのに約4−5分を必要とする。
更に第2図を参照して、圧送される流体から粒
状物質を除去するカートリツジ式フイルタでよい
フイルタ68は、該フイルタ68を通る流量の変
動に適応するためのサージタンク70に接続され
ている。サージタンク70は、毎分200−300の
間で作動可能なキヤンド遠心ポンプでよい第三ポ
ンプ72に接続され、該第三ポンプ72は、流体
から放射能汚染物を除去すると共に除染溶液をそ
れが再びタンク52に導入される前に再生するの
に使用するイオン交換装置74に接続される。イ
オン交換装置74は当該技術で既知のものから選
択しうる。
再び第2図において、管38内の除染溶液の温
度を維持するために蒸気発生器20の二次側に水
のような流体を循環させるべく、温度制御装置7
8が蒸気発生器20の二次側に接続されている。
この水は、約75−150ppmのヒドラジンを有する
脱塩水でよく、ヒドラジンは酸素含有量を軽減す
ると共に腐食を可能な限り減らすために添加され
ている。温度制御装置78は、管板28の上方で
外筒22に設けられた手穴80によつて蒸気発生
器20の二次側に接続されている。この様にし
て、水を管38の回り及び管板28の上方に循環
させて管38の温度を適切なレベルに維持し、以
て管38内の除染溶液の温度を希望のレベルに維
持することができる。温度制御装置78は約9000
の水を保持できるヒータタンク82を含む。複
数のヒータ84が該ヒータタンクに配置されると
共に電源86に接続され、ヒータタンク82内の
水を加熱する。このヒータ84は二つの100Kw
電気ヒータであり、ヒータタンク82内の水の温
度を80−120℃の間、好ましくは約95℃まで上昇
させる。電源86は公共用の電源に直結してよ
い。
ヒータタンク82内には、その中の水の温度を
検出するために温度センサ88も配置されてい
る。該温度センサ88は、ヒータタンク内の水温
を監視するため温度モニタ90に接続されている。
ヒータタンク82は、毎分100の遠心ポンプ
でよい給送ポンプ92に断熱管によつて接続しう
る。給送ポンプ92から圧送される水は第二制御
弁94を通つて蒸気発生器20の二次側に流入す
る。感圧式検出器でよい二次側の水位センサ96
は、蒸気発生器20の二次側における水の高さを
測定するため、手穴80から蒸気発生器20内に
配置できる。該水位センサ96は、蒸気発生器2
0の二次側における水位を管板28上方の約
1.2mに調節するため、第二制御弁94に電気的
に接続される。この様にして、第二制御弁94
は、蒸気発生器20の二次側における水位を適切
なレベルに維持するよう、給送ポンプ92からの
流量を絞ることがでかる。
第五ポンプ98は、蒸気発生器20の二次側か
ら水を除去するため、適切な導管によつて手穴8
0に接続されている。第五ポンプ98は毎分約
100の水を給送できる空気ポンプでよく、そし
て適切な導管によつてヒータタンクに接続されて
いて水を該ヒータタンク82に戻す。ヒータタン
ク82からの水を蒸気発生器20に通し、再びヒ
ータタンク82に戻すように循環させることによ
つて、蒸気発生器20の二次側における水の温度
を約93℃に維持することができる。これは、配管
中の水を約95℃に維持しながら温度制御装置78
に水を毎分約100で流すことによつて達成され
る。
蒸気発生器20を放射能除染したいときには、
蒸気発生器20の作動を停止すると共に、一次冷
却材及び二次側の水をドレンする。次に、流量制
御装置50を第二水室36のような蒸気発生器2
0の一方の水室に接続し、そして温度制御装置7
8を蒸気発生器20の二次側の手穴80に接続す
る。
温度制御装置78を蒸気発生器20の二次側に
接続したら、該温度制御装置78を作動し、ヒー
タ84に通電してヒータタンク82内の水を約95
℃まで加熱する。ヒータタンク82内の水が温度
センサ88及び温度モニタ90によつて測定され
る約95℃に達すると、給送ポンプ92が作動さ
れ、水はヒータタンク82から第二制御弁94を
通つて蒸気発生器20の二次側に圧送される。こ
の圧送は、蒸気発生器20の二次側における水位
が管板28の上方約1.2mであることを二次側水
位センンサ96が指示するまで、続けられる。こ
の状態で、蒸気発生器20の二次側の水は蒸気発
生器20のホツトレツグ及びコールドレツグの双
方の管38を囲んでいる。蒸気発生器20の二次
側の水位が希望のレベルに達したら、第五ポンプ
98を作動させると、水は蒸気発生器20から毎
分約100の割合でくみ出されヒータタンク82
に戻される。この工程は、蒸気発生器20の二次
側の水が約93−95℃になる定常状態に至るまで、
続けられる。温度制御装置78がこの定常状態を
検出したときには、管板28の上方に延在する管
38の約1.2mも約93℃になるので、前述した水
位で管38内に導入された除染溶液も約93℃に維
持される。
又、第一ポンプ54を作動することによつて流
体制御装置50が作動され、毎分約400の除染
溶液がタンク52から流量制御弁56を通つて第
二水室36に圧送される。第一ポンプ54は毎分
約400の割合で除染溶液を第二水室36に導入
しているので、また、第二水室36の流体容量は
約4500であるので、第二水室36を毎分約400
の割合で満杯にするのに要する時間は12分に近
い。又、第二水室36に直結された管38の
1.8mの容量は約1300であるので、管38を更
に約1.8mの高さ(管板28の上方1.2m)まで満
たすのに要する時間は約4分である。従つて、第
二水室36と管38の希望部分との双方を満たす
のに要する時間は、毎分400の増加割合で約16
分である。除染溶液のレベルが流体レベル検出器
60によつて測定される管38内の適切なレベル
に達すると、該流体レベル検出器60がコントロ
ーラ62に信号を送り、コントローラ62が流量
制御弁56に信号を送つて、該流量制御弁56を
絞り、毎分約200が該流量制御弁56を通つて
蒸気発生器20に流入しうるようにする。この状
態のとき、毎分約200の除染溶液が流量制御弁
56を通つて流れており、又、毎分約200の除
染溶液が導管58を通つて再循環している。コン
トローラ62も第二ポンプ66に信号を送つて、
毎分約200の割合で第二水室36から除染溶液
を排出するように該第二ポンプ66を作動させ
る。この定常常態において、蒸気発生器20内に
おける除染溶液のレベルは高レベルに維持でき
る。コントローラ62はこの高レベル状態を15分
まで維持するようにプログラム可能であり、或は
トレンサイクルを直ぐ開始するようにプログラム
可能である。
トレンサイクルにおいては、コントローラ62
は流量制御弁56を完全に閉じて、第一ポンプ5
4を通る除染溶液の全量を導管58に再循環させ
タンク52に戻す。同時に、コントローラ62は
第二ポンプ66を通る流量を毎分200から毎分
300に増加させる。このドレンサイクルにおい
て、毎分300が第二水室36から圧送されてい
るが、そこに除染溶液は何等加えられていない。
従つて、この毎分約300の割合では、管38か
らは約4−5分のうちに除染溶液がドレンされ
る。管38から完全に除染溶液がドレンされてし
まつたら、流体レベル検出器60は、第二水室3
6内の流体レベルが管板28の直ぐ下のレベルに
まであることを測定でき、そして補給サイクルを
開始する。
補給サイクルにおいては、コントローラ62は
流量制御弁を全開させ、毎分400の除染溶液を
第二水室36に流入させると共に、同時に第二ポ
ンプ66を毎分200の割合まで絞る。従つて、
除染溶液が毎分200の正味増加割合で第二水室
36に導かれているので、第二水室36における
除染溶液のレベルは管板28の直ぐ下のレベルか
ら管38内に約1.8m入つたレベルまで上昇する
ことができる。蒸気発生器20におけるレベルを
管板28の直ぐ下から管38内の1.8mまで上昇
させるのに約1300の除染溶液を必要とするの
で、毎分約200の割合の場合、管38を再び満
たすのに必要な時間は約6−7分である。
バンプサイクル(bump cycle)としばしば呼
ばれる管38のこの水抜き及び補給は管38内に
おける除染溶液の組成を再生する目的を果たす。
即ち、運転状態においては、除染溶液が絶えず水
室を流通しているので、第二水室36における除
染溶液の組成は連続的に再生されている。しか
し、管38内の流体は運転状態において比較的に
澱んでいるので、管38内の除染溶液を再生しう
るように、管38をトレンし、そして再び補給す
る必要がある。従つて、ドレン及び補給サイクル
は、管38内の除染溶液の組成を適切なレベルに
維持する手段になる。
この方法において、除染溶液は、含有している
粒状物質を除去するためにフイルタ68に循環さ
れ、また放射能汚染物を除去すると共に、該溶液
が再使用の目的でタンク52に戻される前に再生
するためイオン交換装置74に循環される。
本発明は蒸気発生器20の一方の側にのみ使用
されるものとして説明してきたが、流量制御装置
50を第一水室34及び第二水室36の双方に接
続して双方の流量を制御することによつて、蒸気
発生器20の双方の側を同時に放射能除去するこ
とができる。一般的には、一方の水室を除染して
いる間、他方の水室は大気に通じている。双方の
水室は管38によつて相互に連絡しているので、
水室の一方が大気に連絡していることは他方の水
室に除染溶液を満たすことを容易にする。この様
な場合、圧送される除染溶液が他方の水室に流入
するのを避けるために、水室における除染溶液の
圧力を約0.7Kg/cm2に制限するのがよい。
又、上述したように除染溶液を使用する方法と
同様に蒸気発生器20のゆすぎを行うことができ
る。
従つて、本発明によれば、温度制御装置78に
よつて管38内の除染溶液の温度を維持しなが
ら、適切に選択された該除染溶液を蒸気発生器2
0の一次側に効果的に循環させ、そこから放射能
汚染を除くことができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は蒸気発生器の縦断面図、第2図は除染
システムのブロツク図である。 20……蒸気発生器、34及び36……水室、
38……熱交換管、50……流体制御系(除染溶
液供給系)、68……フイルタ。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 除染溶液供給系からの除染溶液を原子力蒸気
    発生器の水室に導入すると共に、該水室とその近
    傍の熱交換管の一部分とを所定レベルまで前記除
    染溶液で充填し、次いで該除染溶液を前記熱交換
    管から排出して、前記水室及び前記熱交換管の表
    面から放射能汚染物質を除去する、原子力蒸気発
    生器の放射能除染方法において、前記熱交換管の
    充填及び排出を交互に行つている間、前記除染溶
    液を、同除染溶液が前記水室に戻される前に粒状
    物質を除去するためのフイルタを含む前記除染溶
    液供給系と前記水室との間で、前記熱交換管内の
    除染溶液レベルの上昇及び下降とは別個に且つ該
    上昇及び下降に加えて、前記除染溶液供給系に循
    環させる、ことを特徴とする原子力蒸気発生器の
    放射能除染方法。
JP59114724A 1983-06-07 1984-06-06 原子力蒸気発生器の放射能除染方法 Granted JPS608796A (ja)

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US501979 1983-06-07

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CA (1) CA1220572A (ja)
DE (1) DE3474877D1 (ja)
ES (1) ES8700484A1 (ja)
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