JPH03120247A - α・β―不飽和ニトリルの製造装置 - Google Patents
α・β―不飽和ニトリルの製造装置Info
- Publication number
- JPH03120247A JPH03120247A JP1257899A JP25789989A JPH03120247A JP H03120247 A JPH03120247 A JP H03120247A JP 1257899 A JP1257899 A JP 1257899A JP 25789989 A JP25789989 A JP 25789989A JP H03120247 A JPH03120247 A JP H03120247A
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- JP
- Japan
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- gas
- reactor
- dispersion
- dispersion tube
- oxygen
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/18—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles
- B01J8/1818—Feeding of the fluidising gas
- B01J8/1827—Feeding of the fluidising gas the fluidising gas being a reactant
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はプロピレン又はイソブチレン又は第３ブチルア
ルコールをアンモキシデーシランによって原料オレフィ
ン又は第３級アルコールと同じ炭素数を有するα・β−
不飽和ニトリルを高収率で製造する装置に関するもので
ある。更に詳しくは流動層でアンモニア、酸素含有ガス
、およびオレフィン又は第３級アルコールを気相反応さ
せて不飽和ニトリル例えばアクリロニトリルやメタクリ
ロニトリルを製造するに際し、酸素含有ガス分散板ある
いは分数管、オレフィン又は第３級アルコールとアンモ
ニアの混合ガス（以後この混合ガスを「オレフィン混合
ガス」と略記する）分散管を有する反応器の改良に関す
るものである。
ルコールをアンモキシデーシランによって原料オレフィ
ン又は第３級アルコールと同じ炭素数を有するα・β−
不飽和ニトリルを高収率で製造する装置に関するもので
ある。更に詳しくは流動層でアンモニア、酸素含有ガス
、およびオレフィン又は第３級アルコールを気相反応さ
せて不飽和ニトリル例えばアクリロニトリルやメタクリ
ロニトリルを製造するに際し、酸素含有ガス分散板ある
いは分数管、オレフィン又は第３級アルコールとアンモ
ニアの混合ガス（以後この混合ガスを「オレフィン混合
ガス」と略記する）分散管を有する反応器の改良に関す
るものである。
従来より気相接触反応によってアンモニ乙 酸素（多く
の場合、空気が用いられる）、およびオレフィン又は第
３級アルコールを反応させて不飽和ニトリルを製造する
場合はは流動層が広く用いられている。しかし、流動層
反応器では流動触媒が反応器中心部で上昇し、反応器本
体壁付近で下降するいわゆる粒子循環流を形成するため
、ガスの逆混合、吹抜けなど触媒との接触効率が低下し
て反応率の低下を招来し、触媒の能力を充分に発揮させ
ることができないという重大な欠点を有する。そのため
従来から流動改善の目的で流動層内部に多孔［等の構造
物を設は気泡の再分散化を行ってきた。しかし、気泡の
再分散を行うとこの部分における圧損の増大、あるいは
粒子の落下不足等により内部ａｎ物の下部に反応ガス滞
留部が生じ目的生成物の収車低下を招来するため適切で
ない。
の場合、空気が用いられる）、およびオレフィン又は第
３級アルコールを反応させて不飽和ニトリルを製造する
場合はは流動層が広く用いられている。しかし、流動層
反応器では流動触媒が反応器中心部で上昇し、反応器本
体壁付近で下降するいわゆる粒子循環流を形成するため
、ガスの逆混合、吹抜けなど触媒との接触効率が低下し
て反応率の低下を招来し、触媒の能力を充分に発揮させ
ることができないという重大な欠点を有する。そのため
従来から流動改善の目的で流動層内部に多孔［等の構造
物を設は気泡の再分散化を行ってきた。しかし、気泡の
再分散を行うとこの部分における圧損の増大、あるいは
粒子の落下不足等により内部ａｎ物の下部に反応ガス滞
留部が生じ目的生成物の収車低下を招来するため適切で
ない。
一方、反応器内に供給されるガスの組成は爆発範凹内に
ある高濃度オレフィン又は第３級アルコールであるから
ｒオレフィン混合ガス」は酸素含有ガスの供給口とは別
個の供給口から供給される必要がある。すなわち、反応
器内では「オレフィン混合ガスノは分散管から噴出され
均一に分散される。また酸素含有ガスも同様に分散板ま
たは分散管から均一に分散される。流動層による不飽和
ニトリルの製造に際して、 「オレフィン混合ガスＪと
Ｗ１素含有ガスを速やかに混合させて均一な混合ガスと
してから反応させることはきわめて重要であり、例えば
ＵＳＰ−４８０１７３１にみられるようにｉｔ素含有ガ
ス分肚板または分散管のノズルと「オレフィン混合ガス
」分散管のノズルを直孫上に配置させることにより「オ
レフィン混合ガスＪとＭ素含有ガスを流動層反応器内で
向流接触させて混合させる提案がなされている。
ある高濃度オレフィン又は第３級アルコールであるから
ｒオレフィン混合ガス」は酸素含有ガスの供給口とは別
個の供給口から供給される必要がある。すなわち、反応
器内では「オレフィン混合ガスノは分散管から噴出され
均一に分散される。また酸素含有ガスも同様に分散板ま
たは分散管から均一に分散される。流動層による不飽和
ニトリルの製造に際して、 「オレフィン混合ガスＪと
Ｗ１素含有ガスを速やかに混合させて均一な混合ガスと
してから反応させることはきわめて重要であり、例えば
ＵＳＰ−４８０１７３１にみられるようにｉｔ素含有ガ
ス分肚板または分散管のノズルと「オレフィン混合ガス
」分散管のノズルを直孫上に配置させることにより「オ
レフィン混合ガスＪとＭ素含有ガスを流動層反応器内で
向流接触させて混合させる提案がなされている。
しかしながら上記粒子循環流の存在下においては反応器
本体壁付近の下降流の影響により外周部での酸素含有ガ
スジェットが反応器中心ｙ／Ｉハ曲げられるためυ５Ｐ
−４８０１７３１の方法では外周部でのｒオレフィン混
合ガス」と［素含有ガスの混合が不十分であるという欠
点がなお残っている。
本体壁付近の下降流の影響により外周部での酸素含有ガ
スジェットが反応器中心ｙ／Ｉハ曲げられるためυ５Ｐ
−４８０１７３１の方法では外周部でのｒオレフィン混
合ガス」と［素含有ガスの混合が不十分であるという欠
点がなお残っている。
以下、本発明を説明するに、反応器中心からの距離と反
応器半径との比（以下ｒ ／ Ｒと略記する）が０．８
−１．０の範囲を外周部と定義する。
応器半径との比（以下ｒ ／ Ｒと略記する）が０．８
−１．０の範囲を外周部と定義する。
本究明者らは流動層による不飽和ニトリルの製造装置に
ついて鋭！研究を重ねた結果、粒子循環流を抑制し且つ
ｒオレフィン混合ガス」と酸素含有ガスの外周部番：お
ける混合を十分は行うためには、上記分散板あるいは分
散管の最外周部ノズルと反応器本体壁との距離及び外周
部のノズル相互の位置関係がｍ＊であることを知得した
。
ついて鋭！研究を重ねた結果、粒子循環流を抑制し且つ
ｒオレフィン混合ガス」と酸素含有ガスの外周部番：お
ける混合を十分は行うためには、上記分散板あるいは分
散管の最外周部ノズルと反応器本体壁との距離及び外周
部のノズル相互の位置関係がｍ＊であることを知得した
。
すなわち、酸素含有ガス分散板あ６いは分散管およびｒ
オレフィン混合ガスＪ分散管の最外周部ノズルと反応器
本体壁との距離を３００ｍｍ以下とする事により反応器
本体・壁付近の流動触媒の下降流を抑制し、さらに反応
器本体Ｗ付近の下降流の影響により外周部での酸素含有
ガスジェットが反応器中心側に曲げられるのを考慮して
「オレフィン混合ガス」分散管の外周部ノズルを上記混
合ガス分散管の下部に配置される酸素含有ガス分散板ま
たは分散管の外１１１部ノズルより反応器中心側に配置
させる方法である。
オレフィン混合ガスＪ分散管の最外周部ノズルと反応器
本体壁との距離を３００ｍｍ以下とする事により反応器
本体・壁付近の流動触媒の下降流を抑制し、さらに反応
器本体Ｗ付近の下降流の影響により外周部での酸素含有
ガスジェットが反応器中心側に曲げられるのを考慮して
「オレフィン混合ガス」分散管の外周部ノズルを上記混
合ガス分散管の下部に配置される酸素含有ガス分散板ま
たは分散管の外１１１部ノズルより反応器中心側に配置
させる方法である。
本発明方法に使用し得る触媒としてはオレフィンのアン
モキシデージョン用触媒として公知の流動層反応触媒は
すべて使用できる。
モキシデージョン用触媒として公知の流動層反応触媒は
すべて使用できる。
本発明において反応器に供給する濃霧空気はオレフィン
又は第３級アルコールに対して５−１９モル地 好まし
くは７−１４モル比であり、供給アンモニアはオレフィ
ン又は第３級アルコールに対し１−２モル瓜 好ましく
は１−１．５モル比の範囲である。
又は第３級アルコールに対して５−１９モル地 好まし
くは７−１４モル比であり、供給アンモニアはオレフィ
ン又は第３級アルコールに対し１−２モル瓜 好ましく
は１−１．５モル比の範囲である。
なお反応温度は３５０℃−６００℃、好ましくは４００
℃−５００″Ｃ，圧力は３ ｋｇ ／ ｅ１１’以下、
好ましくは０．２−１．５ ｋｇ／ ｃｓ’、接触時間
は１−１０秒、好ましくは２−６秒の条件下で行われる
。
℃−５００″Ｃ，圧力は３ ｋｇ ／ ｅ１１’以下、
好ましくは０．２−１．５ ｋｇ／ ｃｓ’、接触時間
は１−１０秒、好ましくは２−６秒の条件下で行われる
。
本発明方法によると、最外周部ノズルと反応器本体壁間
の距離が長い場合と比較して流動層触媒の流動状態が飛
躍的に改讐される。 また、外周部の酸素含有ガス分散
板あるいは分散管のノズルとｒオレフィン混合がス」分
散管のノズルを反応器本体中心側にずらさない場合と比
較して外周部の反応率が飛躍的に向上する。
の距離が長い場合と比較して流動層触媒の流動状態が飛
躍的に改讐される。 また、外周部の酸素含有ガス分散
板あるいは分散管のノズルとｒオレフィン混合がス」分
散管のノズルを反応器本体中心側にずらさない場合と比
較して外周部の反応率が飛躍的に向上する。
次に、木兄ＷＡＲＩＩの一例を第１図、第２■を用いて
説明する。第１図は本発明方法によって用いられる流動
層反応器の一区であり、図中１は流動層反応器本体、
２は除熱コイル、 ３は「オレフィン混合ガス」分散管
、４は酸素含有ガス分散板を示す、第２図は本究明を特
徴づけている各ノズルの位置関係、および粒子層ＩＩ流
の流れの損金の一例を示しており、図中５は「オレフィ
ン混合ガス」分散管のノズル、 ６は酸素含有ガス分散
板のノズル、 ７はＩ！素含有ガス分分散のノズルによ
って形成されるジェット、 ８は粒子循環流を示す０本
発明方法においては、ｓ２素含有ガス分数板あるいは分
散管を流動！！１蝮層の下部に、上記分散板あるいは分
散管の上方にｒオレフィン混合ガス」分散管を、さらに
上記酸素含有ガス分ｔ［あるいは分散管ノズルにより形
成される酸素含有ガスジェットあるいは気泡の内部に上
記「オレフィン混合ガスＪ分敢菅ノズルを投置した構造
を有する流動層Ｅｉｚ器を使用し、酸素含有ガス分散板
又は分散管の最外周部ノズルと反応器本体壁との路肩を
３００＋ｎｍ以下、好ましくは５０ｍｍ−２００ｍｍの
範囲内になるように上記最外周部のノズルを設置する。
説明する。第１図は本発明方法によって用いられる流動
層反応器の一区であり、図中１は流動層反応器本体、
２は除熱コイル、 ３は「オレフィン混合ガス」分散管
、４は酸素含有ガス分散板を示す、第２図は本究明を特
徴づけている各ノズルの位置関係、および粒子層ＩＩ流
の流れの損金の一例を示しており、図中５は「オレフィ
ン混合ガス」分散管のノズル、 ６は酸素含有ガス分散
板のノズル、 ７はＩ！素含有ガス分分散のノズルによ
って形成されるジェット、 ８は粒子循環流を示す０本
発明方法においては、ｓ２素含有ガス分数板あるいは分
散管を流動！！１蝮層の下部に、上記分散板あるいは分
散管の上方にｒオレフィン混合ガス」分散管を、さらに
上記酸素含有ガス分ｔ［あるいは分散管ノズルにより形
成される酸素含有ガスジェットあるいは気泡の内部に上
記「オレフィン混合ガスＪ分敢菅ノズルを投置した構造
を有する流動層Ｅｉｚ器を使用し、酸素含有ガス分散板
又は分散管の最外周部ノズルと反応器本体壁との路肩を
３００＋ｎｍ以下、好ましくは５０ｍｍ−２００ｍｍの
範囲内になるように上記最外周部のノズルを設置する。
また、外Ｊａｉ１部のｒオレフィン混合ガス」分散管の
ノズルと酸素含有ガス分散板あるいは分散管のノズルと
の位置関係は粒子循環流あるいは各々の分散管ノズルの
距＃＃によって左右されるため限定されるものではない
が、本５！明者らの観察によると上記反応条件下の一般
的な商業用規模の流動層反応器において上記ノズル相互
の好ましい位置関係は酸素含有ガス分散板あるいは分散
管ノズルのガス吹き出し口中心と「オレフィン混合がス
」分散管ノズルのガス吹き出し口中心を結んだ綿と酸素
含有ガス分散板あるいは分散管ノズルのガス吹き出し口
の鉛直線が交わる角度（以下、 リズル角度ｊと略す）
が４０°以下、さらに好ましい上記「ノズル角度」は３
０＠以下であった。
ノズルと酸素含有ガス分散板あるいは分散管のノズルと
の位置関係は粒子循環流あるいは各々の分散管ノズルの
距＃＃によって左右されるため限定されるものではない
が、本５！明者らの観察によると上記反応条件下の一般
的な商業用規模の流動層反応器において上記ノズル相互
の好ましい位置関係は酸素含有ガス分散板あるいは分散
管ノズルのガス吹き出し口中心と「オレフィン混合がス
」分散管ノズルのガス吹き出し口中心を結んだ綿と酸素
含有ガス分散板あるいは分散管ノズルのガス吹き出し口
の鉛直線が交わる角度（以下、 リズル角度ｊと略す）
が４０°以下、さらに好ましい上記「ノズル角度」は３
０＠以下であった。
次に本発明方法を比較例および実施例によりさらに説明
するが、本発明はその要旨を越えない限り、下記の実施
側番；限定されるものではない、流動触媒層密度は酸素
含有ガス分散板からあるいは分散管ノズルのガス吹き出
し口から上７５０ｍｍおよび１２５０ｍｍの位置の静圧
差を測定する圧力タップを流動層反応器の中心部でｒ／
Ｒ＝０．０の位置および外Ｊ１１部でｒ／Ｒ＝０．９の
位置に設置し、一般的に知られている圧力差を眉いて密
度を算出する手法を使用した。ここで、粒子循環流が形
成されるドライビングフォースは流動層の半径方向密度
差テアル（ｒＦｌ、ｔｌＩ［１ＩＺＡＴＩＯＮ ＥＮＧ
ＩＮＥＥＲＩＮＧＪ（０，にｕｎｉｔ、０．Ｌｅｖｅｎ
ｓｐｉｅｌｉＦ ）） Ｐ ３５４ ＊ 照）、よって
流動触媒層密度の半径方向分布が均一であれば粒子循環
流が形成されていないことは自明である。また、未反応
オレフィンは高さ９ｍの中心部でｒ ／ Ｐ、 ＝ Ｏ
、Ｏおよび同一高さの外周部でｒ／Ｒ＝０．９の位置に
ガスサンプリングノズルを設け、当該ノズルからでるガ
スを水で洗浄して取り出し、ガスクロマトグラフを用い
て分析した。計器その他相ＭＨＩ備は通常使用されるも
のであり、通常の誤差［匣内のものである。
するが、本発明はその要旨を越えない限り、下記の実施
側番；限定されるものではない、流動触媒層密度は酸素
含有ガス分散板からあるいは分散管ノズルのガス吹き出
し口から上７５０ｍｍおよび１２５０ｍｍの位置の静圧
差を測定する圧力タップを流動層反応器の中心部でｒ／
Ｒ＝０．０の位置および外Ｊ１１部でｒ／Ｒ＝０．９の
位置に設置し、一般的に知られている圧力差を眉いて密
度を算出する手法を使用した。ここで、粒子循環流が形
成されるドライビングフォースは流動層の半径方向密度
差テアル（ｒＦｌ、ｔｌＩ［１ＩＺＡＴＩＯＮ ＥＮＧ
ＩＮＥＥＲＩＮＧＪ（０，にｕｎｉｔ、０．Ｌｅｖｅｎ
ｓｐｉｅｌｉＦ ）） Ｐ ３５４ ＊ 照）、よって
流動触媒層密度の半径方向分布が均一であれば粒子循環
流が形成されていないことは自明である。また、未反応
オレフィンは高さ９ｍの中心部でｒ ／ Ｐ、 ＝ Ｏ
、Ｏおよび同一高さの外周部でｒ／Ｒ＝０．９の位置に
ガスサンプリングノズルを設け、当該ノズルからでるガ
スを水で洗浄して取り出し、ガスクロマトグラフを用い
て分析した。計器その他相ＭＨＩ備は通常使用されるも
のであり、通常の誤差［匣内のものである。
比較例
使用した反応器はｌ［径７．８ｍで、触媒は粒径１０−
１００μｍ、平均な径５０μｍのモリブデン−ビスマス
−鉄系シリカ担持触媒である。上記触媒を静止層高３ｍ
となるように充填した。
１００μｍ、平均な径５０μｍのモリブデン−ビスマス
−鉄系シリカ担持触媒である。上記触媒を静止層高３ｍ
となるように充填した。
最外周部ノズルと反応器本体壁間距趨が４５０ｍｍ、外
周部の「ノズル角度」が０°の分散板および分散管を使
用し、流動層下部より空気を４１００ＯＮＭ３／Ｈ，プ
ロピレンを４００ＯＮＭ’／Ｈ１７ンモ：−７ヲ４８０
０ Ｎ Ｍ ３／ Ｈ供ｍ シ、反Ｅ温度４５０℃、圧
力１ｋｇ ／ ｃｍ ’で反応させたところ、次のｕ１
４を得た。
周部の「ノズル角度」が０°の分散板および分散管を使
用し、流動層下部より空気を４１００ＯＮＭ３／Ｈ，プ
ロピレンを４００ＯＮＭ’／Ｈ１７ンモ：−７ヲ４８０
０ Ｎ Ｍ ３／ Ｈ供ｍ シ、反Ｅ温度４５０℃、圧
力１ｋｇ ／ ｃｍ ’で反応させたところ、次のｕ１
４を得た。
中心部 外周部
流動態ＩＩＪＡ密度 （ｋｇ／＠３） ４８０ ７
３０未圧応プロピレン （ｖｏ１４） ０．１７ １
．０５実施灘 １ 比較例と同一の友応ト二本５ｅ明方法により、最外周部
ノズルと反応器本体壁間距盾が１５０ｍｍ、外周部の「
ノズル角度」が１５＠の分散板および分散管を使用し、
同一の条件下で反応を行ったところ、次のように粒子循
環流および外周部未反応プロピレンの著しい減少がみら
れた。
３０未圧応プロピレン （ｖｏ１４） ０．１７ １
．０５実施灘 １ 比較例と同一の友応ト二本５ｅ明方法により、最外周部
ノズルと反応器本体壁間距盾が１５０ｍｍ、外周部の「
ノズル角度」が１５＠の分散板および分散管を使用し、
同一の条件下で反応を行ったところ、次のように粒子循
環流および外周部未反応プロピレンの著しい減少がみら
れた。
中心部 外周部
流動触媒密度 （ｋｇ／鳳り ５７０ ５９０未反
応プロピレン（ｖａｌ、χ）０．０９ ０．１１実施例
２−３ 実施例１ζ準じて、最外周部ノズルと反応器本体壁間距
離および外周部の「ノズル角度」を表１に示すように変
化させて反応を行わせた結果を表１に示す。
応プロピレン（ｖａｌ、χ）０．０９ ０．１１実施例
２−３ 実施例１ζ準じて、最外周部ノズルと反応器本体壁間距
離および外周部の「ノズル角度」を表１に示すように変
化させて反応を行わせた結果を表１に示す。
０ＯＮＭ３／Ｈ，アンモニアを３００ＯＮＭ’／Ｈ供給
し、反応濃度４３０″Ｃ，圧力１ｋｇ／口２で反応させ
たところ、次の結果を停妃 中心部 外周部 流動触媒密度 （ｋｇ ／ ｍ’） 未反応イソブチレン （ｖａｌ、χ） ５６０ ５７０ ０．０７ ０．０８ （双下奈白） 実施例 ４ 使用した反応器は＋１！径５．３ｍで、触媒は粒径１０
−１００μｍ、平均ＦＲｆｆｉ５０．ｕｍのモリブデン
−ビスマス−鉄系シリカｔｌ持ＭａＩである。上記触媒
を静止層高３ｍとなるように充填した。
し、反応濃度４３０″Ｃ，圧力１ｋｇ／口２で反応させ
たところ、次の結果を停妃 中心部 外周部 流動触媒密度 （ｋｇ ／ ｍ’） 未反応イソブチレン （ｖａｌ、χ） ５６０ ５７０ ０．０７ ０．０８ （双下奈白） 実施例 ４ 使用した反応器は＋１！径５．３ｍで、触媒は粒径１０
−１００μｍ、平均ＦＲｆｆｉ５０．ｕｍのモリブデン
−ビスマス−鉄系シリカｔｌ持ＭａＩである。上記触媒
を静止層高３ｍとなるように充填した。
最外周部ノズルと反応器本体壁間距離が１２０ｍｍ、外
周部の「ノズル角度ｊが１５６の分数板および分散管を
使用し、流動層下部より空気を２
周部の「ノズル角度ｊが１５６の分数板および分散管を
使用し、流動層下部より空気を２
第１図は本発明を説明するための一実施例を示す流動層
反応器の断面図であり、第２図は同実施例でガス分散板
および分散管付近のノズルのα１および粒子と！２素含
有ガスの流れの模式図である。
反応器の断面図であり、第２図は同実施例でガス分散板
および分散管付近のノズルのα１および粒子と！２素含
有ガスの流れの模式図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）プロピレン又はイソブチレン又は第３ブチルアルコ
ールをアンモニアと酸素含有ガスと共に高温かつ気相で
流動層反応触媒によって接触反応させて原料オレフィン
又は第３級アルコールと同じ炭素数を有する、α・β−
不飽和ニトリルを製造する際に使用する反応器において
、下部より酸素含有ガス分散板または分散管、オレフィ
ン又は第３級アルコールとアンモニアの混合ガス分散管
を配置させて、且つ上記分散板および分散管の最外周部
ノズルと反応器本体壁との距離を３００ｍｍ以下とする
ことを特徴とするα・β−不飽和ニトリルの製造装置。 ２）オレフィン又は第３級アルコールとアンモニアの混
合ガス分散管の外周部ノズルを、当該混合ガス分散管の
下部に配置される酸素含有ガス分散板または分散管の外
周部ノズルより反応器中心側に寄せて配置させることを
特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の製造装置。
Priority Applications (8)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1257899A JPH03120247A (ja) | 1989-10-04 | 1989-10-04 | α・β―不飽和ニトリルの製造装置 |
| KR1019910700564A KR940007528B1 (ko) | 1989-10-04 | 1990-10-04 | α, β-불포화 니트릴의 제조장치 |
| CA002042584A CA2042584C (en) | 1989-10-04 | 1990-10-04 | .alpha., .beta.-unsaturated nitrile manufacturing apparatus |
| PCT/JP1990/001279 WO1991004961A1 (en) | 1989-10-04 | 1990-10-04 | APPARATUS FOR PRODUCING α,β-UNSATURATED NITRILE |
| ES90914763T ES2051025T3 (es) | 1989-10-04 | 1990-10-04 | Aparato para la fabricacion de nitrilo alfa,beta no saturado. |
| DE69007965T DE69007965T2 (de) | 1989-10-04 | 1990-10-04 | Apparatur zur herstellung von alpha-beta-ungesättigten nitrilen. |
| EP90914763A EP0446379B1 (en) | 1989-10-04 | 1990-10-04 | Apparatus for producing alpha-beta-unsaturated nitrile |
| SU914895746A RU1829957C (ru) | 1989-10-04 | 1991-06-03 | Устройство дл получени @ , @ ненасыщенного нитрила |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1257899A JPH03120247A (ja) | 1989-10-04 | 1989-10-04 | α・β―不飽和ニトリルの製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03120247A true JPH03120247A (ja) | 1991-05-22 |
Family
ID=17312736
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1257899A Pending JPH03120247A (ja) | 1989-10-04 | 1989-10-04 | α・β―不飽和ニトリルの製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03120247A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003002870A (ja) * | 2001-06-21 | 2003-01-08 | Asahi Kasei Corp | 不飽和ニトリル製造時における青酸の併産方法 |
| JP2008080219A (ja) * | 2006-09-27 | 2008-04-10 | Asahi Kasei Chemicals Corp | 流動層反応器の温度制御方法 |
-
1989
- 1989-10-04 JP JP1257899A patent/JPH03120247A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003002870A (ja) * | 2001-06-21 | 2003-01-08 | Asahi Kasei Corp | 不飽和ニトリル製造時における青酸の併産方法 |
| JP2008080219A (ja) * | 2006-09-27 | 2008-04-10 | Asahi Kasei Chemicals Corp | 流動層反応器の温度制御方法 |
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