JPH0312043A - 円盤型光情報記録媒体とその製造方法 - Google Patents
円盤型光情報記録媒体とその製造方法Info
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- JPH0312043A JPH0312043A JP14299589A JP14299589A JPH0312043A JP H0312043 A JPH0312043 A JP H0312043A JP 14299589 A JP14299589 A JP 14299589A JP 14299589 A JP14299589 A JP 14299589A JP H0312043 A JPH0312043 A JP H0312043A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はレーザ光線等の光熱を用いて垂直磁化膜の光磁
気特性を変化させることによって、高密度かつ高速に情
報信号を記録、再生、消去することが可能な光情報記録
媒体に関するものである。
気特性を変化させることによって、高密度かつ高速に情
報信号を記録、再生、消去することが可能な光情報記録
媒体に関するものである。
従来からレーザ光を用いて情報を高密度に記録する光磁
気記録媒体への記録方式として、光変調方式と磁場変調
方式が知られている。光変調方式の記録では、記録前に
消去を行わなければならないためシステム全体としての
記録速度が遅くなるという問題があった。
気記録媒体への記録方式として、光変調方式と磁場変調
方式が知られている。光変調方式の記録では、記録前に
消去を行わなければならないためシステム全体としての
記録速度が遅くなるという問題があった。
一方第4図は従来の磁場変調式の光磁気記録方式を示す
概念図である。変調用の磁界を加えるための電磁石10
は、基体13a上に垂直磁化膜13bが積層された記録
媒体13に対して垂直方向に磁力線9を加えるために、
レーザ光1)を照射する光ヘッドの対物レンズ12と対
向する側に配置されている。
概念図である。変調用の磁界を加えるための電磁石10
は、基体13a上に垂直磁化膜13bが積層された記録
媒体13に対して垂直方向に磁力線9を加えるために、
レーザ光1)を照射する光ヘッドの対物レンズ12と対
向する側に配置されている。
しかしこのような構成では、電磁石10に対して対向!
■極が近接配置されていないため、記録媒体13のレー
ザ光1)が照射された部分における磁束密度が少なく、
磁界強度が弱い、従って磁界強度を強めるためには電磁
石lOのコイルの巻き数を多くしたり、電磁石10と記
録媒体13の距離を数8票に近づけたりしなくてはなら
なかった。
■極が近接配置されていないため、記録媒体13のレー
ザ光1)が照射された部分における磁束密度が少なく、
磁界強度が弱い、従って磁界強度を強めるためには電磁
石lOのコイルの巻き数を多くしたり、電磁石10と記
録媒体13の距離を数8票に近づけたりしなくてはなら
なかった。
しかし、コイルの巻き数を多くすると周波数特性が悪く
なり、そのため高速度の記録が困鐘であるという欠点が
あった。
なり、そのため高速度の記録が困鐘であるという欠点が
あった。
本発明は、上述の欠点を解決するために成されたもので
あり、高速高密度に記録を行える光磁気記録方式を提供
することを目的とする。
あり、高速高密度に記録を行える光磁気記録方式を提供
することを目的とする。
本発明の光磁気記録媒体は、ランド記録の場合はランド
部、グループ記録の場合はグループ部に透磁率の高い材
料を用いることにより、記録部位の磁束密度を高くする
様にしたものである。
部、グループ記録の場合はグループ部に透磁率の高い材
料を用いることにより、記録部位の磁束密度を高くする
様にしたものである。
〔作用〕
この様に記録を行うべき部分に高透磁率層が設けられて
いるので、この部分に磁束が集中し、安定な記録を行う
ことが出来る。
いるので、この部分に磁束が集中し、安定な記録を行う
ことが出来る。
第1図は本発明の光磁気記録媒体の一実施例を模式的に
示す概略図であり、グループ部7が形成されたガラス、
プラスチック等から成る基板1上に、中間層2.垂直磁
化膜3.超高透磁率層4゜フォトレジスト層5.保護層
6が順に積層されている。フォトレジスト層5はグルー
プ部7の超高透磁率層4を除去する際に塗布したもので
ある。
示す概略図であり、グループ部7が形成されたガラス、
プラスチック等から成る基板1上に、中間層2.垂直磁
化膜3.超高透磁率層4゜フォトレジスト層5.保護層
6が順に積層されている。フォトレジスト層5はグルー
プ部7の超高透磁率層4を除去する際に塗布したもので
ある。
第2図(al〜(d)は本実施例の光磁気記録媒体の製
造方法の流れ図である。
造方法の流れ図である。
まず基板1上にスパッタリングにより、中間層2、垂直
磁化膜3.超高透磁率層4を順次積層する(a)。次に
スピンナー等で塗布してフォトレジスト層5を形成しく
b)、グループ部7に沿ってレンズ12で集光したレー
ザ光1)でカッティングを行い[0)、感光した部分の
フォトレジスト層5と超高透磁率層4をドライエツチン
グにより除去する(d)。
磁化膜3.超高透磁率層4を順次積層する(a)。次に
スピンナー等で塗布してフォトレジスト層5を形成しく
b)、グループ部7に沿ってレンズ12で集光したレー
ザ光1)でカッティングを行い[0)、感光した部分の
フォトレジスト層5と超高透磁率層4をドライエツチン
グにより除去する(d)。
この上にUV樹脂等の保護層6をスピンナー等で塗布す
る。
る。
以上の様にして作成したディスクの記録原理について第
3図に説明する。電磁石10から出た磁力線9は透磁率
の高い部分へ収束するので、超高’l1Kl率層4が設
けられているランド部へ集まる。
3図に説明する。電磁石10から出た磁力線9は透磁率
の高い部分へ収束するので、超高’l1Kl率層4が設
けられているランド部へ集まる。
この様に磁力線がランド部へ収束するため従来の2倍程
度の磁束密度が得られる。
度の磁束密度が得られる。
上述の光磁気記録媒体の製造方法についてさらに詳細に
説明する。
説明する。
基板1として直径130m、プリグループ付のPC製の
ディスク状基板を用い、その上にrfスパフタによって
、中間層2としてSingを1000人設けた。次に、
垂直磁化膜3としてTbFeC0を1000人設け、更
に超高透磁率層4としてMn−Znフェライトを500
0人設けた。その後、第2図の流れ図に従ってフォトレ
ジスト層5をスピンナーにより塗布し、グループ部7に
沿ってArレーザによりカッティングを行い、感光した
フォトレジスト層5とその下の超高透磁率層4であるM
n−Znフェライト層をドライエツチングにより除去し
た。そして保護層6としてUV樹脂をスピンナにより1
0p1)塗布した。
ディスク状基板を用い、その上にrfスパフタによって
、中間層2としてSingを1000人設けた。次に、
垂直磁化膜3としてTbFeC0を1000人設け、更
に超高透磁率層4としてMn−Znフェライトを500
0人設けた。その後、第2図の流れ図に従ってフォトレ
ジスト層5をスピンナーにより塗布し、グループ部7に
沿ってArレーザによりカッティングを行い、感光した
フォトレジスト層5とその下の超高透磁率層4であるM
n−Znフェライト層をドライエツチングにより除去し
た。そして保護層6としてUV樹脂をスピンナにより1
0p1)塗布した。
この様にして作成した光磁気記録媒体を180Orpm
で回転させながら、この媒体上に6−−のレーザ光を集
光して連続照射し、I Mn2の交流磁場を与えて記録
を行った。このとき磁気ヘッドの先端で発生する磁場の
大きさは2000eであった。
で回転させながら、この媒体上に6−−のレーザ光を集
光して連続照射し、I Mn2の交流磁場を与えて記録
を行った。このとき磁気ヘッドの先端で発生する磁場の
大きさは2000eであった。
この様にして記録した信号を0.6dのレーザ光を照射
してカー効果を用いて読み出したところ、光変調方式で
記録したものと同じCN比が得られた。
してカー効果を用いて読み出したところ、光変調方式で
記録したものと同じCN比が得られた。
以上説明したように本発明によれば、磁気ヘッドからの
磁界が記録媒体へ効率高く加わるために、磁場変調用の
ヘッドの小型化及び媒体との距゛離が大きくとれるよう
になる。従って高密度記録及び変調速度の高速化が容易
になる。
磁界が記録媒体へ効率高く加わるために、磁場変調用の
ヘッドの小型化及び媒体との距゛離が大きくとれるよう
になる。従って高密度記録及び変調速度の高速化が容易
になる。
第1図は本発明の光磁気記録媒体の概略構成図、原理を
示した図、第4図は従来の光磁気記録方式の説明に供す
る概略図である。 l・・・基板 2 3・・・垂直磁化膜 4 5・・・フォトレジスト層 6 9・・・磁力線 1 1)・・・レーザ光 l ・・・中間層 ・・・超高透磁率層 ・・・保護層 0・・・(弧担 2・・・対物レンズ
示した図、第4図は従来の光磁気記録方式の説明に供す
る概略図である。 l・・・基板 2 3・・・垂直磁化膜 4 5・・・フォトレジスト層 6 9・・・磁力線 1 1)・・・レーザ光 l ・・・中間層 ・・・超高透磁率層 ・・・保護層 0・・・(弧担 2・・・対物レンズ
Claims (2)
- (1)基体上に垂直磁気異方性を有する光磁気記録膜と
保護膜を積層した円盤型光情報記録媒体において、ラン
ド部あるいはグループ部のいずれか一方に透磁率の高い
材料を積層することを特徴とする円盤型光情報記録媒体
。 - (2)螺旋状グループもしくはランドを形成した基体上
に、垂直磁気異方性を有する光磁気記録膜及び高透磁率
膜を順次成膜し、さらにフォトレジストを塗布し、前記
グループもしくはランドに沿ってレーザ光を照射し、感
光した部分のフォトレジスト及び高透磁率膜を除去する
ことを特徴とする円盤型光情報記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14299589A JPH0312043A (ja) | 1989-06-07 | 1989-06-07 | 円盤型光情報記録媒体とその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14299589A JPH0312043A (ja) | 1989-06-07 | 1989-06-07 | 円盤型光情報記録媒体とその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0312043A true JPH0312043A (ja) | 1991-01-21 |
Family
ID=15328495
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14299589A Pending JPH0312043A (ja) | 1989-06-07 | 1989-06-07 | 円盤型光情報記録媒体とその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0312043A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004059634A1 (ja) * | 2002-12-24 | 2004-07-15 | Fujitsu Limited | 光磁気記録媒体およびその製造方法 |
-
1989
- 1989-06-07 JP JP14299589A patent/JPH0312043A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004059634A1 (ja) * | 2002-12-24 | 2004-07-15 | Fujitsu Limited | 光磁気記録媒体およびその製造方法 |
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