JPH03120601A - 光磁気ディスク装置の外部磁界発生装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、レーザ光による光磁気ディスク上への情報の
記録および記録された情報を消去する際に用いて好適な
光磁気ディスク装置の外部磁界発生装置に関する。

［従来の技術］ レーザ光による光磁気ディスクへの磁気光学的情報の記
録は、予め垂直方向に向きを揃えて磁化されている磁化
膜に、その磁化方向とは反対方向の直流バイアス磁界を
外部磁界発生装置によって印加しておき、情報信号によ
ってデジタル的に変調されたレーザ光を磁化膜に照射し
て垂直磁化膜の温度をキュリー点以上に加熱し、その冷
却時に直流バイアス磁界により、磁化方向を周囲とは逆
にして再び磁化することで、情報に応じた記録ビット列
を光磁気ディスク上に形成している。一方、記録ビット
を消去する場合は、無変調レーザ光を記録ビットに照射
してキュリー点以上に加熱し、その冷却時に直流バイア
ス磁界により、再び垂直磁化膜の磁化方向を周囲と揃え
るようにしている。

つまり、垂直磁化膜の温度をキュリー点以上にしてビー
ム照射される部分の磁化方向を無くし、冷却時に直流バ
イアス磁界の方向に磁化方向を周囲と逆もし、くは同方
向にして再び磁化することにより、情報の記録、消去を
行うものである。したがって、記録時と消去時とでは直
流バイアス磁界の方向が反対方向とされる。

ところで、情報の記録、消去に際しては、一定角速度で
回転する光磁気ディスクにレーザ光をその径方向に連続
的もしくはステップ状に徐々に移動させているため、レ
ーザ光が光磁気ディスクの外周部を走査する場合と内周
部を走査する場合とでは単位時間当たりのビーム照射に
対する磁化膜の光エネルギ吸収量が異なり、内、外周均
一、適正な記録、消去が行えないと云う問題が生じる。

そこで従来はこのような問題を解決するために、外部磁
界の強度は一定で、レーザ光の強度を照射位置に応じて
変化させる、つまり光磁気ディスクの外周にいくにした
がって徐々に増大させなり、レーザ光の強度は変えず、
外部磁界の強度をレーザ光の照射位置に応じて変化（例
特開昭６０−１４７９４８号公報）させていた、このう
ち、前者の方法はレーザ光の強度を一定に保つことが難
しく、また制御回路が複雑化する等の欠点を有するため
、通常後者の方法を採用している。

第７図は後者の方法による外部磁界発生装置の従来例を
示す図で、これを概略説明すると、外部磁界発生装置１
は、主ヨーク２と、主ヨーク２に巻回された励磁コイル
３等で構成され、光磁気ディスク４のレーザ光５が照射
される面とは反対側の面が、主ヨーク２の長手方向が光
磁気ディスク４の半径方向と一致するように近接対向し
て配設されている。また、外部磁界発生装置１は磁界強
度が第８図に実線６で示すように光磁気ディスク４の半
径方向外周にいくにしたがって徐々に増加するよう適宜
角度θをもって傾斜配置されることにより、主ヨーク２
の外端ａとディスク面との間隔が内端す側より小さく設
定されている。

なお、レーザ光５の強度を変化させる上述した前者の方
法を採用する場合は、外部磁界発生装置１をディスク面
と平行になるように配置し、第８図破線７で示す磁界強
度を得るようにすればよい。

［発明が解決しようとする課Ｍ］ しかしながら、このような従来の外部磁界発生装置１に
おいては装置自体を光磁気ディスク４に対して傾斜配置
する必要があるため、その取り付け、調整作業が平行に
配置する場合に比べて面倒で、時間を要するという欠点
があった。また取り付いたとしても、ディスク外周側は
ディスク中央部のデイスタンスより近接させる必要があ
る。フラットな磁界を得る場合でもディスク面に対して
、１〜１．５報の間隔で取り付ける必要があり、あまり
近接させることは、ディスク面ブレ等も考慮すると限界
である。

また、特に外部磁界の強度に着目すると、第８図に示す
ようにエツジ効果により両端部ａ、ｂの磁界強度が平坦
な中央部より釣り鐘状に高くなるため、光磁気ディスク
４の記録領域Ａ全体に亙ってリニアな勾配をもった磁界
強度が得られず、中央部のリニアな勾配をもった磁界強
度領域Ｂのみを使用しようとすると、第９図に示すよう
に外部磁界発生装置１自体の長さを長くし、第１０図に
示すようにエツジ効果による磁界部分Ｃをカットする必
要があるが、そうすると装置自体が大型化すると云う欠
点があった。

また、エツジ効果の発生を防止するため、主ヨークのデ
ィスク対向面の内、外端部を傾斜させ均一な磁界を得る
方法も提案（例特開昭６２−６５２０２号公報）されて
いるが、これではディスク面に対して傾斜させて配置す
る必要があり、取り付けにくいという欠点を有する。ま
た、エツジ効果の発生を防止することは、強い磁界を無
駄にするため効率的でない。

したがって、本発明は上述したような従来の問題点に鑑
みてなされたもので、その目的とするところは、本来的
には不適とされているエツジ効果による強い磁界領域を
有効に利用することにより装置自体を大型化させること
なく強い磁界を得ることができ、またリニアな勾配の磁
界強度領域を拡大させることができ、しかも光磁気ディ
スクに対する装置の取り付け、調整作業を容易に行い得
るようにした外部磁界発生装置を提供することにある。

［課題を解決するための手段］ 本発明は上記目的を達成するために、光磁気ディスクに
外部磁界を印加する外部磁界発生手段を、その長手方向
が前記光磁気ディスクの半径方向と一致するように近接
配設してなり、この外部磁界発生手段の光磁気ディスク
とは反対側の面はディスク面と略平行な面を構成し、デ
ィスク面と対向する面は、その内端から外端近傍位置ま
で外端にいくにしたがって磁界強度を増すよう傾斜され
ているものである。

［作用］ 本発明において、外部磁界発生手段はディスク面側とは
反対側の面がディスク面と平行になるよう収り付けられ
、光磁気ディスクに対して傾けられない。

ディスク面と対向する面は、その内端から外端近傍位置
まで外端にいくにしたがって磁界強度を増すよう傾斜さ
れているため、外端側の磁界強度がエツジ効果により高
くなるが、その内側の立ち上がり部分の勾配と、中央部
分のリニアな勾配の磁界強度領域の勾配とが略一致する
よう前記外端近傍位置を決定すると、エツジ効果部分を
も含むリニアな勾配の磁界強度領域が拡大される。

［実施例］ 以下、本発明を図面に示す実施例に基づいて詳細に説明
する。

第１図は本発明に係る光磁気ディスク装置の外部磁界発
生装置の一実施例を示す側面図である。

なお、図中第７図〜第１０図と同一構成部品、部分等に
ついては同一符号を以て示す、同図において、外部磁界
発生手段を構成する主ヨーク２は、光磁気ディスク４の
記録領域Ａと略同−長さを有し、その長手方向が光磁気
ディスク４の半径方向と一致するように光磁気ディスク
４に対して近接対向して配設されている。また、主ヨー
ク２は光磁気ディスク４と反対側の面１０が光磁気ディ
スク４と平行になるように配設されている。一方、光磁
気ディスク４と対向する面１１は、ディスク内周側端（
内端）ｂよりディスク外周端近傍位置Ｃの範囲において
肉厚が徐々に減少するよう適宜角度で傾斜する斜面１２
と、残りの部分、すなわち外周端近傍位置Ｃよ、り外周
側端（外端）ａまでのディスク面と平行な面１３とで構
成されている。

つまり、本発明は主ヨーク２の厚みを変えることにより
第２図に示すように磁界強度を内端すから外端ａに至る
にしたがって徐々に増加させるようにしたものである。

ここで、外端近傍位ｉｃは、外端ａ側におけるエツジ効
果による磁界強度Ｃを考慮して最適位置に決定される。

すなわち、外端近傍位ｉ１ｃを主ヨーク２の長手方向に
ずらすと、これに伴って斜面１３によるリニアな勾配の
磁界強度領域Ｂが増減すると同時に斜面１３の角度変化
により磁界強度領域Ｂの勾配が変化する。そこで、外周
端近傍位置Ｃを外端ａ側に適当距離近ずけると、外端ａ
（１％のエツジ効果による磁界強度Ｃとリニアな勾配の
磁界強度Ｂが相互に作用し合うようになり、エツジ効果
による磁界強度Ｃの内側立ち上がり部分Ｄ１とリニアな
勾配の磁界強度領域Ｂの強度を破線示の値から実線示の
値に引き上げる。この結果、リニアな磁界強度領域Ｂは
前記立ち上がり部分Ｄ１にまで拡大したことになる。

この場合、外端近傍位置Ｃを外端ａに一致させ、ディス
ク面と対向する面１１全体を斜面に形成することも考え
られるが、そうすると平行面１２による磁界引き上げ効
果が失われるため、望ましくない。

かくしてこのような構成による外部磁界発生装置１によ
れば、主ヨーク２を光磁気ディスク４に対して平行に配
置すればよいので、主ヨーク２の取り付は調整作業が傾
斜配置する場合と比較して容易で、短時間に行える。ま
た、主ヨーク２の外端ａのエツジ効果による強い磁界を
利用して強い磁界を得るようにしているので、その分生
ヨーク２を光磁気ディスク４から離して配置することが
でき、−層取り付は作業を容易にする上、励磁コイル３
への電流値を上げる必要もない、したがって、小形にし
て磁界強度が大きい少電力型の外部磁界発生装置を得る
ことができる。

第３図は本発明の他の実施例を示す側面図である。この
実施例は主ヨーク２の外端ａと内端すを適宜な半径で円
弧状に面取り加工したものである。

第４図は第３図の実施例構造による磁界強度を示す図で
ある。同図から明らかなように、主ヨーク２の外端ａと
内端すを面取り加工した効果として５両端ａ、ｂにおけ
るエツジ効果による磁界強度Ｃ，Ｅを押さえることがで
きる。したがって、リニアな勾配の磁界強度領域Ｂをよ
り拡大することができる。但し、磁界強度Ｃ，Ｅは完全
に無くなったわけではなく、依然としてその内側立ち上
がり部分Ｄ１．Ｅ、が中央部のリニアな勾配の磁界強度
領域Ｂに取り込まれ、その領域拡大に寄与している。

第５図はさらに本発明の他の実施例を示すもので、主ヨ
ークの外端ａと内端すを大きな半径で面取り加工すると
共に、ディスク面と対向する第１図に示した斜面１２と
平行面１３を適当な曲線で繋ぎ、全体として曲面とした
ものである。

第６図は第５図実施例構造による磁界強度を示すもので
、見掛は上エツジ効果の無い略全域に左ってリニアな勾
配の磁界強度を得ることができる。

但し、エツジ効果による磁界強度の内側立ち上がり部分
は、主ヨーク２のディスク対向面を曲面にした効果とし
て平坦化されており、第３図に示した実施例と同様、リ
ニアな勾配の磁界強度に取り込まれ、その値を引き上げ
ている。

なお、上記実施例はいずれも主ヨーク２、励磁コイル３
等からなる電磁石を外部磁界発生手段として用いたが、
本発明はこれに特定されるものではなく、永久磁石を使
用してもよいことは勿論である。

［発明の効果］ 以上説明したように本発明に係る外部磁界発生装置は、
光磁気ディスクの半径方向に配設される外部磁界発生手
段のディスク面とは反対側の面をディスク面と平行にし
、ディスク面と対向する面にその内端から外端近傍位置
まで外端に至るにしたがって磁界強度が増加するよう傾
斜させて厚みを変えるようにしたので、傾斜配置する場
合と比較して外部磁界発生装置の取り付け、調整作業が
簡単且つ容易で、短時間に行うことができる。また、デ
ィスク対向面の内端から外端近傍位置までを斜面とする
と、エツジ効果による磁界強度を効果的に利用でき、強
い磁界を得ることができる。

したがって電流値を上げたり、ディスク面に近接させた
りする必要がなく、しかもリニアな磁界強度領域が拡大
して、装置の小型化を可能にする等、その効果は大であ
る。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係る外部磁界発生装置の一実施例を示
す側面図、第２図はその磁界強度とディスク半径方向距
離の関係を示す図、第３図は本発明の他の実施例を示す
側面図、第４図はその磁界強度とディスク半径方向距離
の関係を示す図、第５図は本発明のさらに他の実施例を
示す側面図、第６図はその磁界強度とディスク半径方向
距離の関係を示す図、第７図は外部磁界発生装置の従来
例を示す側面図、第８図はその磁界強度とディスク半径
方向距離の関係を示す図、第９図はエツジ効果による影
響をなくすため大きく形成した従来装置の側面図、第１
０図はその磁界強度とディスク半径方向距離の関係を示
す図である。 １・・・外部磁界発生装置、２・・・主ヨーク（外部磁
界発生手段）、３・・・励磁コイル、４・・・光磁気デ
ィスク、５・・・レーザ光、１０・・・ディスク面と反
対側の面。 １１・・・ディスク面と対向する面、１２・・・斜面、
１３・・・平行面、ａ・・・外端、ｂ・・・内端、Ｃ・
・・外端近傍位置。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 光磁気ディスクに外部磁界を印加する外部磁界発生手段
   を、その長手方向が前記光磁気ディスクの半径方向と一
   致するように近接配設してなり、この外部磁界発生手段
   の光磁気ディスクとは反対側の面はディスク面と略平行
   な面を構成し、ディスク面と対向する面は、その内端か
   ら外端近傍位置まで外端にいくにしたがって磁界強度を
   増すよう傾斜されていることを特徴とする光磁気ディス
   ク装置の外部磁界発生装置。