JPH03123765A - 4―アミノ―3―ヒドロキシペンタン酸誘導体の製造法 - Google Patents
4―アミノ―3―ヒドロキシペンタン酸誘導体の製造法Info
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は一般式
4の直鎖もしくは分枝アルキル基または置換もしくは無
置換アリール基を表す)で表されるケテンシリルアセタ
ールとルイス酸存在下反応させることを特徴とする、一
般式 (式中、R1は炭素数1〜4の直鎖もしくは分枝アルキ
ル基、炭素数5〜8の置換もしくは無置換のシクロアル
キル基を表し、また、R富はアミノ基の保!!基を表す
)で表される2−アミノプロパナール誘導体を、一般式 (式中、R3、R4、R1,Rhは各々独立に、炭素数
1〜(式中、R1、R8およびR3は前記と同じ意味を
表す)で表される4−アミノ−3−ヒドロキシペンタン
酸誘導体の製造法に関する0本発明によれば、(S)−
配置を有する一般式(1)で表される2−アミノプロパ
ナール誘導体から、(33,4S)−配置を有する一般
式(f[[)で表される4−アミノ−3−ヒドロキシペ
ンタン酸誘導体を高立体選択的に製造することができ、
例えば、R1としてイソプロピル基またはシクロヘキシ
ル基を有する一般式(1)で表される(S)−2−アミ
ノプロパナール誘導体から、Illとしてイソプロピル
基またはシクロヘキシル基を有する一般式(II[)で
表される(33.43)−4−アミノ−3−ヒドロキシ
ペンタン酸誘導体を高立体選択的に製造することができ
る。
置換アリール基を表す)で表されるケテンシリルアセタ
ールとルイス酸存在下反応させることを特徴とする、一
般式 (式中、R1は炭素数1〜4の直鎖もしくは分枝アルキ
ル基、炭素数5〜8の置換もしくは無置換のシクロアル
キル基を表し、また、R富はアミノ基の保!!基を表す
)で表される2−アミノプロパナール誘導体を、一般式 (式中、R3、R4、R1,Rhは各々独立に、炭素数
1〜(式中、R1、R8およびR3は前記と同じ意味を
表す)で表される4−アミノ−3−ヒドロキシペンタン
酸誘導体の製造法に関する0本発明によれば、(S)−
配置を有する一般式(1)で表される2−アミノプロパ
ナール誘導体から、(33,4S)−配置を有する一般
式(f[[)で表される4−アミノ−3−ヒドロキシペ
ンタン酸誘導体を高立体選択的に製造することができ、
例えば、R1としてイソプロピル基またはシクロヘキシ
ル基を有する一般式(1)で表される(S)−2−アミ
ノプロパナール誘導体から、Illとしてイソプロピル
基またはシクロヘキシル基を有する一般式(II[)で
表される(33.43)−4−アミノ−3−ヒドロキシ
ペンタン酸誘導体を高立体選択的に製造することができ
る。
本発明によって製造される一般式(l[[)で表される
4−アミノ−3−ヒドロキシペンタン酸誘導体は、医薬
品の合成原料としての用途を有する。
4−アミノ−3−ヒドロキシペンタン酸誘導体は、医薬
品の合成原料としての用途を有する。
例えば、一般式(III)において、R1がイソプロピ
ル基、3位不斉炭素が(S)−配置および4位不斉炭素
が(S)−配置である化合物は、ヒトレニン阻害作用に
より高血圧症治療剤として有用なペプチド様化合物の製
造中間体(J、Bogsr+et al、+^nnJe
p、in Med、Ches、+Academlc
Press、1985+Vo1.20.pp257−
226. J、Boger、et al、、J、M
ed、Chew、。
ル基、3位不斉炭素が(S)−配置および4位不斉炭素
が(S)−配置である化合物は、ヒトレニン阻害作用に
より高血圧症治療剤として有用なペプチド様化合物の製
造中間体(J、Bogsr+et al、+^nnJe
p、in Med、Ches、+Academlc
Press、1985+Vo1.20.pp257−
226. J、Boger、et al、、J、M
ed、Chew、。
2旦+1779(1985)、 R,Matiued
a、 eL al、、Ches+、Lstt、。
a、 eL al、、Ches+、Lstt、。
1985.1041.M、G、Bock、et al
、、J、Med、Chem、、31.1918(198
8)、に、l1zuka、at al、+Ches、
Pharm、Bull。 1旦。
、、J、Med、Chem、、31.1918(198
8)、に、l1zuka、at al、+Ches、
Pharm、Bull。 1旦。
2278(1988)、特開昭61−236770.特
開昭64−26596゜特開平1−143898.特開
平1−143899)として用いられる。また、一般式
(1)において、R1がシクロヘキシル基、3位不斉炭
素が(S)−配置および4位不斉炭素が(S)−配置で
ある化合物は、より強力なヒトレニン阻害作用により高
血圧症治療剤として有用なペプチド様化合物の製造中間
体(J、Boger、at al、、J、Med、Ch
em、、28.1779(1985)、森沢ら、日本薬
学会第109年会、名古屋、1989年、講演要旨集I
Lp6.にJiwada、et al、+Hypert
enslon。
開昭64−26596゜特開平1−143898.特開
平1−143899)として用いられる。また、一般式
(1)において、R1がシクロヘキシル基、3位不斉炭
素が(S)−配置および4位不斉炭素が(S)−配置で
ある化合物は、より強力なヒトレニン阻害作用により高
血圧症治療剤として有用なペプチド様化合物の製造中間
体(J、Boger、at al、、J、Med、Ch
em、、28.1779(1985)、森沢ら、日本薬
学会第109年会、名古屋、1989年、講演要旨集I
Lp6.にJiwada、et al、+Hypert
enslon。
■、70B(198B) 、特開昭62−33141.
特開昭64−26596)として使用できる。
特開昭64−26596)として使用できる。
有用な医薬品の製造中間体である4−アミノ−3−ヒド
ロキシペンタン酸誘導体は、従来(1)(S)−α−ア
ミノ酸から合成した(S)−α−アミノプロパナール誘
導体へ酢酸エチルから偶製した金属エノラートを反応さ
せる方法(J、Bogeret al、、J、Med
、Chea、、 28.1779(1985)、D、
H,Rlch。
ロキシペンタン酸誘導体は、従来(1)(S)−α−ア
ミノ酸から合成した(S)−α−アミノプロパナール誘
導体へ酢酸エチルから偶製した金属エノラートを反応さ
せる方法(J、Bogeret al、、J、Med
、Chea、、 28.1779(1985)、D、
H,Rlch。
et al、、J、 Org、Chea、、43.36
24(1978)、Wルlu et al、。
24(1978)、Wルlu et al、。
J、 Org、Chem、、43,754(197B
)、M、T、Reetz、et al、。
)、M、T、Reetz、et al、。
Angew、Chea、Int、Ed、Engl、、2
5.1)41(1987)、) 。
5.1)41(1987)、) 。
(21(S)−α−アミノ酸から合成した(S)−α−
アミノプロパナール誘導体に酢酸と光学活性アルコール
のエステルから調製したリチウムエノラートを反応させ
る方法(R,M、Devant、et al、+Tet
rahedron Lett、、29.2307(19
8B)、) (31(S)−α−アミノ酸から合成した
(S)−α−アミノプロパナール誘導体に光学活性3−
(メチルチオアセチル)−2−オキサゾリドン誘導体を
反応し、さらに脱硫反応を行う方法(J、5avrda
、5ynth、Commun、。
アミノプロパナール誘導体に酢酸と光学活性アルコール
のエステルから調製したリチウムエノラートを反応させ
る方法(R,M、Devant、et al、+Tet
rahedron Lett、、29.2307(19
8B)、) (31(S)−α−アミノ酸から合成した
(S)−α−アミノプロパナール誘導体に光学活性3−
(メチルチオアセチル)−2−オキサゾリドン誘導体を
反応し、さらに脱硫反応を行う方法(J、5avrda
、5ynth、Commun、。
17、1901(19B?) 、) 、 +41 (S
)−α−アミノ酸から合成した(S)−α−アミノプ
ロパナール誘導体を光学活性ジオールと反応して光学活
性アセタール誘導体とし、このものをアリルシランで開
環する方法(W、S、Johnson、 et al、
、Tetrahedron Lett1堕、 6535
(1987)、)、 (51(S)−α−アミノ酸から
合成した(S)−α−アミノプロパナール誘導体と1.
3−ジメトキシ−1−トリメチルシリル−1,3−ブタ
ジェンとのDlels−Alder反応による方法(M
、M、Midland、et al、、J、A−、Ch
em、Sac、、旦L436B(1989)、)。
)−α−アミノ酸から合成した(S)−α−アミノプ
ロパナール誘導体を光学活性ジオールと反応して光学活
性アセタール誘導体とし、このものをアリルシランで開
環する方法(W、S、Johnson、 et al、
、Tetrahedron Lett1堕、 6535
(1987)、)、 (51(S)−α−アミノ酸から
合成した(S)−α−アミノプロパナール誘導体と1.
3−ジメトキシ−1−トリメチルシリル−1,3−ブタ
ジェンとのDlels−Alder反応による方法(M
、M、Midland、et al、、J、A−、Ch
em、Sac、、旦L436B(1989)、)。
+61(S)−α−アミノ酸から合成した(S)−4−
アミノ−3−オキソペンタン#I誘導体の3位カルボニ
ル基を還元する方法(R,Noyor14etrahe
dronLett、、29.6327(1988)、J
jouin、 et al、+J、org。
アミノ−3−オキソペンタン#I誘導体の3位カルボニ
ル基を還元する方法(R,Noyor14etrahe
dronLett、、29.6327(1988)、J
jouin、 et al、+J、org。
Chea、、54,627(1989)、D、H,RI
ch、et al、、J、Org、Chem、。
ch、et al、、J、Org、Chem、。
53.869(198B)、門、M、5chaldt、
et al、+Tetrahedron。
et al、+Tetrahedron。
44.3489(1988)、P、F、5chuda、
at al、、Eur、Pat、Appl、。
at al、、Eur、Pat、Appl、。
0306143 A1.)、 (71(S ) −cx
−7ミノ酸から合成した(S)−4−アミノ−2(Z
)−ペンテン1−オール誘導体のエポキシ化による方法
(H,Kogen。
−7ミノ酸から合成した(S)−4−アミノ−2(Z
)−ペンテン1−オール誘導体のエポキシ化による方法
(H,Kogen。
at al、+ J、Chea、Soc、Ches
、Commun、、1987+3比)。
、Commun、、1987+3比)。
(81(S)−α−アミノ酸がら合成した光学活性2−
アミドアルコール誘導体の2−オキサゾリドン誘導体へ
の閉環反応による方法<S、Kano+et al、+
Tetrahedron Lett、+28.6331
(1987)、)、 +91 (S) −α−アミノ酸
から合成した光学活性ピロール−2(5H)−オン誘導
体の還元による方法(P、Jouln+et al、
、J、Ches、Soc、Perkin L 19
8ヱ、1)7?、)。
アミドアルコール誘導体の2−オキサゾリドン誘導体へ
の閉環反応による方法<S、Kano+et al、+
Tetrahedron Lett、+28.6331
(1987)、)、 +91 (S) −α−アミノ酸
から合成した光学活性ピロール−2(5H)−オン誘導
体の還元による方法(P、Jouln+et al、
、J、Ches、Soc、Perkin L 19
8ヱ、1)7?、)。
αl光学活性2−オキソ−3−オキサプリン誘導体から
製造する方法(T、Kumeda、et al、+J、
org、ches、+53.3381(1988)、)
、Qll (R) −2,3−イソプロピリデングリセ
ルアルデヒド、1,2,5.6−ジー0−イソプロピリ
デン−D−グルコースなどのw誘導体から製造する方法
(MJinoshlta at al、。
製造する方法(T、Kumeda、et al、+J、
org、ches、+53.3381(1988)、)
、Qll (R) −2,3−イソプロピリデングリセ
ルアルデヒド、1,2,5.6−ジー0−イソプロピリ
デン−D−グルコースなどのw誘導体から製造する方法
(MJinoshlta at al、。
Bull、Chew、Soc、Jpn、、 48,57
0(1975)、J、Mulzer、atal、、Li
ebigs Ann、Chem、、1988+445.
およびH,Yanagisawa+et al、+ch
em、Lett、+ 1989+687.)などによっ
て合成されていた。しかしながら、これらの製造法のう
ち(υの方法では3位水酸基の生成における立体選択性
あるいは反応の収率が低く、反応成績体の分離精製が大
きな障害であり、(2)、(3ン、(4ンの方法は(S
)−α−アミノ酸由来の不斉中心に加えて、いま一つの
不斉源を用いるので、経済性および不斉源の除去や回収
の点で工業的に実施するのは困難である。(5)−〇〇
の方法は、3位水酸基の生成における立体選択性は高い
ものの多段階を必要とする製造法であり、工業的に実施
するのは多大な困難が伴うものである。
0(1975)、J、Mulzer、atal、、Li
ebigs Ann、Chem、、1988+445.
およびH,Yanagisawa+et al、+ch
em、Lett、+ 1989+687.)などによっ
て合成されていた。しかしながら、これらの製造法のう
ち(υの方法では3位水酸基の生成における立体選択性
あるいは反応の収率が低く、反応成績体の分離精製が大
きな障害であり、(2)、(3ン、(4ンの方法は(S
)−α−アミノ酸由来の不斉中心に加えて、いま一つの
不斉源を用いるので、経済性および不斉源の除去や回収
の点で工業的に実施するのは困難である。(5)−〇〇
の方法は、3位水酸基の生成における立体選択性は高い
ものの多段階を必要とする製造法であり、工業的に実施
するのは多大な困難が伴うものである。
本発明者らは、医薬品製造中間体である前記−般式(I
ll)で表される4−アミノ−3〜ヒドロキシペンタン
酸誘導体を前記一般式(1)で表される2−アミノプロ
パナール誘導体から、(1)が有する唯一の不斉源を利
用して高立体選択的に効率良く製造する方法、すなわち
、(S)−配置を有する一般式(りで表される2−アミ
ノプロパナール誘導体から(3S、4S)−4−アミノ
−3−ヒドロキシペンタン酸誘導体を高立体選択的に効
率良く製造する方法を探索した結果、本発明の製造法を
見出し、本発明を完成した。
ll)で表される4−アミノ−3〜ヒドロキシペンタン
酸誘導体を前記一般式(1)で表される2−アミノプロ
パナール誘導体から、(1)が有する唯一の不斉源を利
用して高立体選択的に効率良く製造する方法、すなわち
、(S)−配置を有する一般式(りで表される2−アミ
ノプロパナール誘導体から(3S、4S)−4−アミノ
−3−ヒドロキシペンタン酸誘導体を高立体選択的に効
率良く製造する方法を探索した結果、本発明の製造法を
見出し、本発明を完成した。
本発明に用いられる前記一般式(1)で表される2−ア
ミノプロパナール誘導体は下記の反応式に従い容易に製
造できる。
ミノプロパナール誘導体は下記の反応式に従い容易に製
造できる。
(式中、「およびR諺は前記と同じ意味を表し、Rtは
炭素数1〜4の直鎖または分枝低級アルキル基を表す、
) 〔第1工程〕 本工程は、一般式(IV)で表される2−アミノプロピ
オン酸エステル誘導体に7ミノ基の保護基を導入後エス
テル基を還元し、さらに必要に応じて3位フェニル基な
どの還元を行い、一般式(V)で表される2−アミノ−
プロパツール誘導体を製造するものである(参考側参照
)。
炭素数1〜4の直鎖または分枝低級アルキル基を表す、
) 〔第1工程〕 本工程は、一般式(IV)で表される2−アミノプロピ
オン酸エステル誘導体に7ミノ基の保護基を導入後エス
テル基を還元し、さらに必要に応じて3位フェニル基な
どの還元を行い、一般式(V)で表される2−アミノ−
プロパツール誘導体を製造するものである(参考側参照
)。
2−アミノプロピオン酸エステル誘導体としては、2−
アミノプロピオン酸メチル誘導体、2−アミノプロピオ
ン酸エチル誘導体、2−アミノプロピオン酸イソプロピ
ル誘導体などが例示でき、これらのものは公知の方法に
よって製造できる()1.5ekl at al、+c
hes+、Phar鱈、Bu1).+ 13+ 995
(1965)、、およびS、R,5andler an
d W、Karo+”Functional Grou
p Preparations”、Academic
Press+New York、1968.pP245
〜265.参照)。
アミノプロピオン酸メチル誘導体、2−アミノプロピオ
ン酸エチル誘導体、2−アミノプロピオン酸イソプロピ
ル誘導体などが例示でき、これらのものは公知の方法に
よって製造できる()1.5ekl at al、+c
hes+、Phar鱈、Bu1).+ 13+ 995
(1965)、、およびS、R,5andler an
d W、Karo+”Functional Grou
p Preparations”、Academic
Press+New York、1968.pP245
〜265.参照)。
2−アミノプロピオン酸エステル誘導体に導入されるア
ミノ基の保!!基としては、酸性条件下、加水分解する
ことによって除去できるものならばいかなるものも使用
できるが、好適にはホルミル基、アセチル基、プロピオ
ニル基、ブチリル基、イソブチリル基などの炭素数1〜
4の直鎖あるいは分枝アルカノイル基、ベンゾイル基、
p−クロロベンゾイル基、p−メトキシベンゾイル基な
どの無置換あるいは置換アロイル基、メトキシカルボニ
ル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシhルボニ
ル基、t−ブチルオキシカルボニル基などの炭素数1〜
5の直鎖あるいは分枝アルコキシカルボニル基、ベンジ
ルオキシカルボニル基、p−/)ロロベンジルオキシ力
ルボニル基、p−)トキシベンジルオキシ力ルボニル基
などの無置換あるいは置換アラルコキシカルボニル基が
用いられる。これらの保護基は公知の方法によって導入
できる(T、W、Greene、”Protectiv
e [;roups in OrganicSynth
esig”、John−Wlley & 5ons、N
ew York、1980゜pp218−287参照)
。
ミノ基の保!!基としては、酸性条件下、加水分解する
ことによって除去できるものならばいかなるものも使用
できるが、好適にはホルミル基、アセチル基、プロピオ
ニル基、ブチリル基、イソブチリル基などの炭素数1〜
4の直鎖あるいは分枝アルカノイル基、ベンゾイル基、
p−クロロベンゾイル基、p−メトキシベンゾイル基な
どの無置換あるいは置換アロイル基、メトキシカルボニ
ル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシhルボニ
ル基、t−ブチルオキシカルボニル基などの炭素数1〜
5の直鎖あるいは分枝アルコキシカルボニル基、ベンジ
ルオキシカルボニル基、p−/)ロロベンジルオキシ力
ルボニル基、p−)トキシベンジルオキシ力ルボニル基
などの無置換あるいは置換アラルコキシカルボニル基が
用いられる。これらの保護基は公知の方法によって導入
できる(T、W、Greene、”Protectiv
e [;roups in OrganicSynth
esig”、John−Wlley & 5ons、N
ew York、1980゜pp218−287参照)
。
アミノ基が保護された2−アミノプロピオン酸エステル
誘導体のエステル基の還元は、適当な還元剤、例えば塩
化リチウムまたは臭化リチウム存在下、水素化ホウ素ナ
トリウムを用いて行われる(参考側参照)。
誘導体のエステル基の還元は、適当な還元剤、例えば塩
化リチウムまたは臭化リチウム存在下、水素化ホウ素ナ
トリウムを用いて行われる(参考側参照)。
なお、一般式(V)で表される2−アミノプロパツール
誘導体の3位にシクロヘキシル基が存在する化合物は、
対応する2−アミノ−3−フェニルプロパツール誘導体
の3位フェニル基を適当な触媒、例えば、5%ロジウム
−アルミナの存在下に水添することにより得ることもで
きる。
誘導体の3位にシクロヘキシル基が存在する化合物は、
対応する2−アミノ−3−フェニルプロパツール誘導体
の3位フェニル基を適当な触媒、例えば、5%ロジウム
−アルミナの存在下に水添することにより得ることもで
きる。
本工程において、(S)−配置を有する一般式(TV)
で表される2−アミノプロピオン酸エステル誘導体を用
いた場合には、(S)−配置を有する一般式(V)で表
される2−アミノプロパツール誘導体をラセミ化するこ
となく得ることができる。
で表される2−アミノプロピオン酸エステル誘導体を用
いた場合には、(S)−配置を有する一般式(V)で表
される2−アミノプロパツール誘導体をラセミ化するこ
となく得ることができる。
本工程において、一般式(IV)で表される2−アミノ
プロピオン酸エステル誘導体として(S)−ロイシンメ
チルエステルおよび(S)−フェニルアラニンメチルエ
ステルを用いた場合には、一般式(V)で表さる(S)
−ロイシノール誘導体および(S)−シクロへキシルア
ラニノール誘導体をラセミ化することなく得ることがで
きる(参考側参照)。
プロピオン酸エステル誘導体として(S)−ロイシンメ
チルエステルおよび(S)−フェニルアラニンメチルエ
ステルを用いた場合には、一般式(V)で表さる(S)
−ロイシノール誘導体および(S)−シクロへキシルア
ラニノール誘導体をラセミ化することなく得ることがで
きる(参考側参照)。
〔第2工程〕
本工程は、一般式(V)で表される2−アミノプロパツ
ール誘導体を酸化し、一般式(+)で表される2−アミ
ノプロパナール誘導体を製造するものである。好適な酸
化方法としては、ジメチルスルホキシド中二酸化イオウ
−ピリジン錯体−トリエチルアミンを用いる方法が例示
できる(参考側参照)。
ール誘導体を酸化し、一般式(+)で表される2−アミ
ノプロパナール誘導体を製造するものである。好適な酸
化方法としては、ジメチルスルホキシド中二酸化イオウ
−ピリジン錯体−トリエチルアミンを用いる方法が例示
できる(参考側参照)。
本工程において、(S)−配置を有する一般式(V)で
表される2−アミノプロパツール誘導体を用いた場合に
は、(S)−配置を有する一般式(1)で表される2−
アミノプロパナール誘導体をラセミ化することなく得る
ことができる。
表される2−アミノプロパツール誘導体を用いた場合に
は、(S)−配置を有する一般式(1)で表される2−
アミノプロパナール誘導体をラセミ化することなく得る
ことができる。
本工程において、−i式(V)で表される2アミノプロ
パツ一ル誘導体として(S)−ロイシノール誘導体およ
び(S)−シクロへキシルアラニノール誘導体を用いた
場合には、一般式(+)で表される(S)−ロイシナー
ル誘導体および(S)−シクロへキシルアラニナール誘
導体をラセミ化することなく得ることができる(参考側
参照)。
パツ一ル誘導体として(S)−ロイシノール誘導体およ
び(S)−シクロへキシルアラニノール誘導体を用いた
場合には、一般式(+)で表される(S)−ロイシナー
ル誘導体および(S)−シクロへキシルアラニナール誘
導体をラセミ化することなく得ることができる(参考側
参照)。
上記の合成工程によって製造される一般式(1)で表さ
れる2−アミノプロパナール誘導体から本発明の下記の
製造法により、一般式(Ill)で表される4−アミノ
−3−ヒドロキシペンタン酸誘導体を高立体選択的に効
率よく製造することができる。
れる2−アミノプロパナール誘導体から本発明の下記の
製造法により、一般式(Ill)で表される4−アミノ
−3−ヒドロキシペンタン酸誘導体を高立体選択的に効
率よく製造することができる。
H
(式中、171%R1、R1、R4
RゝおよびR−は前記と同
じ意味を表す)。
〔第3工程〕
−a式(II)で表されるケテンアセタールとしては、
0−メチル−〇−トリメチルシリルケテンアセタール、
0−エチル−〇−)リメチルシリルケテンアセタール、
0−メチル−〇−1−ブチルジメチルシリルケテンアセ
クール、0−エチル−〇−【−ブチルジメチルシリルケ
テンアセタール、0−メチル−〇−1−ブチルジフェニ
ルシリルケテンアセタール、0−1−ブチル−0−1−
ブチルジメチルシリルケテンアセクール、0−フェニル
−0−トリメチルシリルケテンアセタールなどが例示で
きるが、好適には、0−メチル−o−トリメチルシリル
ケテンアセタールが用いられる。
0−メチル−〇−トリメチルシリルケテンアセタール、
0−エチル−〇−)リメチルシリルケテンアセタール、
0−メチル−〇−1−ブチルジメチルシリルケテンアセ
クール、0−エチル−〇−【−ブチルジメチルシリルケ
テンアセタール、0−メチル−〇−1−ブチルジフェニ
ルシリルケテンアセタール、0−1−ブチル−0−1−
ブチルジメチルシリルケテンアセクール、0−フェニル
−0−トリメチルシリルケテンアセタールなどが例示で
きるが、好適には、0−メチル−o−トリメチルシリル
ケテンアセタールが用いられる。
用いられるシリルケテンアセタールは酢酸メチルから常
法に従い合成し、精製することなくそのまま反応に用い
ることができ、当量は2〜3当量用いて行う(H,W、
Rathke et al、+5ynth、Commu
n、、 3+67(1973)、 ) 、本反応には
ルイス酸の存在が必要であり、用いられるルイス酸とし
ては、四塩化チタン、三フッ化ホウ素・エーテル錯体、
四塩化スズ、塩化亜鉛、ヨウ化亜鉛、臭化マグネシウム
、トリス〔2,2−ビス(トリ重水素メチル)−1),
1−)り重水素−6,6,7,7,8,8゜8−へブタ
フルオロオクタンジオネイト−(3゜5)〕−ユーロピ
ウム(I[[) (Eu(fad)s)などが例示される。ルイス酸は2
いられる。
法に従い合成し、精製することなくそのまま反応に用い
ることができ、当量は2〜3当量用いて行う(H,W、
Rathke et al、+5ynth、Commu
n、、 3+67(1973)、 ) 、本反応には
ルイス酸の存在が必要であり、用いられるルイス酸とし
ては、四塩化チタン、三フッ化ホウ素・エーテル錯体、
四塩化スズ、塩化亜鉛、ヨウ化亜鉛、臭化マグネシウム
、トリス〔2,2−ビス(トリ重水素メチル)−1),
1−)り重水素−6,6,7,7,8,8゜8−へブタ
フルオロオクタンジオネイト−(3゜5)〕−ユーロピ
ウム(I[[) (Eu(fad)s)などが例示される。ルイス酸は2
いられる。
本反応は溶媒中で行われ、用いられる溶媒としては、ジ
クロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、1.2−ジ
クロロエタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、トルエ
ン、キシレンなどの炭化水素系溶媒、エーテル、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル系溶媒、アセ
トニトリル、ジメチルホルムアミドなどが例示できるが
、好適には、ジクロロメタンが用いられる。
クロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、1.2−ジ
クロロエタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、トルエ
ン、キシレンなどの炭化水素系溶媒、エーテル、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル系溶媒、アセ
トニトリル、ジメチルホルムアミドなどが例示できるが
、好適には、ジクロロメタンが用いられる。
6本反応は、−100℃〜50℃で行われるが、四塩化
チタンなどの弱いルイス酸では一100℃〜−40℃が
好適であり、またヨウ化亜鉛などの弱いルイス酸では0
℃〜50℃が最も好ましい結果を与える。
チタンなどの弱いルイス酸では一100℃〜−40℃が
好適であり、またヨウ化亜鉛などの弱いルイス酸では0
℃〜50℃が最も好ましい結果を与える。
本反応において(S)−配置を有する2−アミノプロパ
ナール誘導体を用いた場合、(33,43)−配置を有
する4−アミノ−3−ヒドロキシペンタン酸誘導体が、
(3R,4R)−配置を有する誘導体に対して高立体選
択的に生成する。
ナール誘導体を用いた場合、(33,43)−配置を有
する4−アミノ−3−ヒドロキシペンタン酸誘導体が、
(3R,4R)−配置を有する誘導体に対して高立体選
択的に生成する。
本反応において、(S)−ロイシナール誘導体および(
S)−シクロヘキシルアラニナールm1体を一般式(1
)で表される2−アミノプロパナール誘導体として用い
た場合には、(3S。
S)−シクロヘキシルアラニナールm1体を一般式(1
)で表される2−アミノプロパナール誘導体として用い
た場合には、(3S。
4S)−4−アミノ−3−ヒドロキシ−6−メチルへブ
タン酸誘導体および(3S、4S)−4アミノ−5−シ
クロへキシル−3−ヒドロキシペンタン酸誘導体が(3
R,43)−配置を有する誘導体に対してそれぞれ高立
体選択的(I&大94:6および95:5)に生成する
。
タン酸誘導体および(3S、4S)−4アミノ−5−シ
クロへキシル−3−ヒドロキシペンタン酸誘導体が(3
R,43)−配置を有する誘導体に対してそれぞれ高立
体選択的(I&大94:6および95:5)に生成する
。
上記の合成工程によって得られた一般式(+)で表され
る4−アミノ−3−ヒドロキシペンタン酸誘導体を、酸
性条件下、加水分解反応に付することにより4位アミノ
基と1位カルボン酸基の脱保護を同時に行い、一般式 (式中、R1は前記と同じ意味を表す)で表される医薬
品合成中間体として有用な4−アミノ−3−ヒドロキシ
ペンタン酸が得られた0本加水分解反応を(3S、4S
)−4−アミノ−3−ヒドロキシ−6−メチルへブタン
酸誘導体および(3S。
る4−アミノ−3−ヒドロキシペンタン酸誘導体を、酸
性条件下、加水分解反応に付することにより4位アミノ
基と1位カルボン酸基の脱保護を同時に行い、一般式 (式中、R1は前記と同じ意味を表す)で表される医薬
品合成中間体として有用な4−アミノ−3−ヒドロキシ
ペンタン酸が得られた0本加水分解反応を(3S、4S
)−4−アミノ−3−ヒドロキシ−6−メチルへブタン
酸誘導体および(3S。
4S)−4−アミノ−5−シクロへキシル−3−ヒドロ
キシペンタン酸誘導体に対して行った場合には、ヒトレ
ニン阻害作用により高血圧症の治療剤として有用なアミ
ノ酸誘導体の製造中間体として用いられる光学活性(3
3,43)−4−アミノ−3−ヒドロキシ−6−メチル
へブタン酸((35,43)−スタチン〕および(3S
。
キシペンタン酸誘導体に対して行った場合には、ヒトレ
ニン阻害作用により高血圧症の治療剤として有用なアミ
ノ酸誘導体の製造中間体として用いられる光学活性(3
3,43)−4−アミノ−3−ヒドロキシ−6−メチル
へブタン酸((35,43)−スタチン〕および(3S
。
4S)−4−アミノ−5−シクロへキシル−3−ヒドロ
キシペンタン酸[(33,4S)−シクロへキシルスタ
チン]がそれぞれ得られる。
キシペンタン酸[(33,4S)−シクロへキシルスタ
チン]がそれぞれ得られる。
以下、本発明の内容を実施例、参考例を用いて詳細に説
明するが、本発明はこれらによって何ら限定されるもの
ではない。
明するが、本発明はこれらによって何ら限定されるもの
ではない。
参考例1
(S)−ロイシンメチルエステル239■(1,65m
mol)を無水塩化メチレン5 m lに溶解し、水冷
上炭酸カリウム228■(1,65mmol)を添加後
、クロロ炭酸イソプロピル0.23m1 (1,98
mmo l)をゆっくりと滴下した。水冷下、1時間撹
拌後、飽和*’e水を加えエーテル抽出した。抽出液は
無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧上濃縮し、残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィ−(ヘキサン:酢酸エ
チル=4:1)により精製し、N−(イソプロポキシカ
ルボニル)−(S)−ロイシンメチルエステルを無色オ
イル状化合物として333■(87%)得た。
mol)を無水塩化メチレン5 m lに溶解し、水冷
上炭酸カリウム228■(1,65mmol)を添加後
、クロロ炭酸イソプロピル0.23m1 (1,98
mmo l)をゆっくりと滴下した。水冷下、1時間撹
拌後、飽和*’e水を加えエーテル抽出した。抽出液は
無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧上濃縮し、残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィ−(ヘキサン:酢酸エ
チル=4:1)により精製し、N−(イソプロポキシカ
ルボニル)−(S)−ロイシンメチルエステルを無色オ
イル状化合物として333■(87%)得た。
(α)i、0 4JQ°(c 1.53. CHC
l3)’H−NMR(CDCI 3) δ:4.90
(2H,m and 5ept、J=6.2Hz)。
l3)’H−NMR(CDCI 3) δ:4.90
(2H,m and 5ept、J=6.2Hz)。
4.40(IH,s+)、3.73(38,s)、1.
3 〜1.8(31),m)。
3 〜1.8(31),m)。
1.23(6)1.d、J−6,1Hz)、0.95(
6H,m)。
6H,m)。
IR(CllCl3) : 3460.2970.1
730.1710.1510.1)10C1)−’MS
(m/z): 231(Mつ、 172.8G、 43
゜参考例2 N−(イソプロポキシカルボニル)−(S)−ロイシン
メチルエステル333■(0,144mmol)を無水
テトラヒドロフラン4mlに溶解し、塩化リチウム18
31g (4,32mmo l)、水素化ホウ素ナトリ
ウム163g (4,32mmol)無水エタノール6
mlを順次加え、室温下5時間攪拌した0反応液を減圧
上濃縮後、IMa!酸を加え(pH2〜3)酢酸エチル
で抽出した。抽出液は硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を
減圧留去した。得られた粗成績体は、シリカゲルカラム
クロマトグラフィーにより精製して(ヘキサン:酢酸エ
チル■2 : 1) 、N−(イソプロポキシカルボニ
ル)(S)−ロイシノール292■(定量的収率)を得
た。
730.1710.1510.1)10C1)−’MS
(m/z): 231(Mつ、 172.8G、 43
゜参考例2 N−(イソプロポキシカルボニル)−(S)−ロイシン
メチルエステル333■(0,144mmol)を無水
テトラヒドロフラン4mlに溶解し、塩化リチウム18
31g (4,32mmo l)、水素化ホウ素ナトリ
ウム163g (4,32mmol)無水エタノール6
mlを順次加え、室温下5時間攪拌した0反応液を減圧
上濃縮後、IMa!酸を加え(pH2〜3)酢酸エチル
で抽出した。抽出液は硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を
減圧留去した。得られた粗成績体は、シリカゲルカラム
クロマトグラフィーにより精製して(ヘキサン:酢酸エ
チル■2 : 1) 、N−(イソプロポキシカルボニ
ル)(S)−ロイシノール292■(定量的収率)を得
た。
(α) i’ −30,9” (C1,05,Cll
Cl、)’If−+iMR(CDCIs) δ;4.
90(IH,5ept、J・6.2Hz)、4.70(
1)1,m)、3.65(31),m)、2.45(1
B、brs)、1.3〜2.0(3H,m)、1.23
(68,d、J=6.2Hz)、0.93(6H,d。
Cl、)’If−+iMR(CDCIs) δ;4.
90(IH,5ept、J・6.2Hz)、4.70(
1)1,m)、3.65(31),m)、2.45(1
B、brs)、1.3〜2.0(3H,m)、1.23
(68,d、J=6.2Hz)、0.93(6H,d。
JJ、 4Hz) 。
IR(CICI=) :3460,2970.1700
,1510.1)10cm−’MS(m/z): 2
04(M’+1)、 172. 130. 86.
43参考例3 N−(イソプロポキシカルボニル’I −(S)ロイシ
ノール281g (1,38mmo 1) 、トルエン
1ml、ジメチルスルホキシド1.8m l(25,4
mmo l)およびトリエチルアミン1.16m1
(1),30mmo l)の混合溶液に二酸化イオウ−
ピリジン錯塩1.321X(3,30mmo l)を加
え、室温で30分間攪拌した0反応液に氷水を加え、酢
酸エチルで抽出し、抽出液を乾燥後、溶媒を減圧留去し
た。この粗成績体は、シリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(ヘキサン:酢酸エチル−8=1)により精製し、
N−(イソプロポキシカルボニル)−(S)−ロイシナ
ール219ftM(79%)を無色油状物として甫た。
,1510.1)10cm−’MS(m/z): 2
04(M’+1)、 172. 130. 86.
43参考例3 N−(イソプロポキシカルボニル’I −(S)ロイシ
ノール281g (1,38mmo 1) 、トルエン
1ml、ジメチルスルホキシド1.8m l(25,4
mmo l)およびトリエチルアミン1.16m1
(1),30mmo l)の混合溶液に二酸化イオウ−
ピリジン錯塩1.321X(3,30mmo l)を加
え、室温で30分間攪拌した0反応液に氷水を加え、酢
酸エチルで抽出し、抽出液を乾燥後、溶媒を減圧留去し
た。この粗成績体は、シリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(ヘキサン:酢酸エチル−8=1)により精製し、
N−(イソプロポキシカルボニル)−(S)−ロイシナ
ール219ftM(79%)を無色油状物として甫た。
(ff)3” +34.4°(CO,964,Cll
Clり’H−NMR(CDCIs) δ:9.59
(1B、s)、4.92(2H,m andsI!p
t、 J−6,2Hz) 、 4.25(ill、 w
) 、 1.3〜! 、9. (31),@) 。
Clり’H−NMR(CDCIs) δ:9.59
(1B、s)、4.92(2H,m andsI!p
t、 J−6,2Hz) 、 4.25(ill、 w
) 、 1.3〜! 、9. (31),@) 。
1.24(6H,d、J−6,2Hz) 、O’、97
(61),a) 。
(61),a) 。
IR(CHCIs) :3460,29B0.2720
.1720. 、1710.15001380.1)1
0cm−’ MS(m/z): 172.130.86.43゜参考
例4 (S)−フェニルアラニンメチルエステル塩酸塩3.9
0 g (1i3mmo 1)を無水テトラヒドロフラ
ン20m1に懸濁し、水冷下トリエチルアミン5.5m
l (39mmo +) 、りoロ炭酸イソプロピル
2.3ml (20mmol)を加えて同温度で1時
間攪拌した0反応液を減圧上濃縮し残渣に酢酸エチルを
加え、1M塩酸、飽和食塩水、飽和重曹水、および飽和
食塩水で順次洗浄した。無水硫酸マグネシウム上で乾燥
後、減圧下に濃縮し、残渣をカラムクロマトグラフィー
(シリカゲル、ヘキサン−酢酸エチル10:l)で精製
し、白色固体のN−(イソプロポキシカルボニル”I
−(S)−フェニルアラニンメチルエステル4.35g
(91%)を得た。
.1720. 、1710.15001380.1)1
0cm−’ MS(m/z): 172.130.86.43゜参考
例4 (S)−フェニルアラニンメチルエステル塩酸塩3.9
0 g (1i3mmo 1)を無水テトラヒドロフラ
ン20m1に懸濁し、水冷下トリエチルアミン5.5m
l (39mmo +) 、りoロ炭酸イソプロピル
2.3ml (20mmol)を加えて同温度で1時
間攪拌した0反応液を減圧上濃縮し残渣に酢酸エチルを
加え、1M塩酸、飽和食塩水、飽和重曹水、および飽和
食塩水で順次洗浄した。無水硫酸マグネシウム上で乾燥
後、減圧下に濃縮し、残渣をカラムクロマトグラフィー
(シリカゲル、ヘキサン−酢酸エチル10:l)で精製
し、白色固体のN−(イソプロポキシカルボニル”I
−(S)−フェニルアラニンメチルエステル4.35g
(91%)を得た。
136〜37℃。
lINMR(CDCI*) δ:1.21([i)I
、d、J−6Hz、CIIMer)。
、d、J−6Hz、CIIMer)。
3.1)(21),d、J−6Hz、r’l+c1)g
)、3.72(31),S、OMe)4.50〜5.2
0(2JI、m、CtII and NH)、4.92
(LH。
)、3.72(31),S、OMe)4.50〜5.2
0(2JI、m、CtII and NH)、4.92
(LH。
quir!tet、 J−6Hz、CHMst)+7
−04〜7.48(5H1a+Ph) 。
−04〜7.48(5H1a+Ph) 。
TR(KBr):1740.1685cn−’MS(m
/z): 266 (CM”++1 ’ )、20
6,162.131,120゜参考例5 N−(イソプロポキシカルボニル)−(S)フェニルア
ラニンメチルエステル2.52g (9,5mmol)
を無水テトラヒドロフランに溶解し、塩化リチウム1.
22g (29mmol)、水素化ホウ素ナトリウム1
.09 g (’、! 9mmo り 、無水エタノ
ール25m1を順次加え室温で16.5時間攪拌した0
反応液を減圧上濃縮し、残渣に1M塩酸を加えてp +
+ 2〜3に!1!整した後、酢酸エチルで抽出した。
/z): 266 (CM”++1 ’ )、20
6,162.131,120゜参考例5 N−(イソプロポキシカルボニル)−(S)フェニルア
ラニンメチルエステル2.52g (9,5mmol)
を無水テトラヒドロフランに溶解し、塩化リチウム1.
22g (29mmol)、水素化ホウ素ナトリウム1
.09 g (’、! 9mmo り 、無水エタノ
ール25m1を順次加え室温で16.5時間攪拌した0
反応液を減圧上濃縮し、残渣に1M塩酸を加えてp +
+ 2〜3に!1!整した後、酢酸エチルで抽出した。
抽出液を水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリ
ウム上で乾燥後、減圧下に濃縮した。残渣をカラムクロ
マトグラフィー(シリカゲル、ヘキサン−酢酸エチル5
; 1−3 : 1)で精製し、白色固体9N−(イ
ソプロポキシカルボニル)−(S)−フェニルアラニノ
ール2.21g(98%)を得た。
ウム上で乾燥後、減圧下に濃縮した。残渣をカラムクロ
マトグラフィー(シリカゲル、ヘキサン−酢酸エチル5
; 1−3 : 1)で精製し、白色固体9N−(イ
ソプロポキシカルボニル)−(S)−フェニルアラニノ
ール2.21g(98%)を得た。
sap 78−81℃。
NMR(CDC1z) : δ1.21(6H,d、
J=6Hz、C)1Met)、1.96〜2.30(I
H,m、OR)、2.88(2H,d、J−7Hz、p
hCHg)、3.44〜4.IG(3)1.m、Ct−
Hand CHxOH)、4.65〜5.13(1)1
.s、NH)、4.92(1)1.quintet J
−61)z、CHMex)+7.05〜7.47(5H
,a+、Ph)。
J=6Hz、C)1Met)、1.96〜2.30(I
H,m、OR)、2.88(2H,d、J−7Hz、p
hCHg)、3.44〜4.IG(3)1.m、Ct−
Hand CHxOH)、4.65〜5.13(1)1
.s、NH)、4.92(1)1.quintet J
−61)z、CHMex)+7.05〜7.47(5H
,a+、Ph)。
+R(KBr):1690cm−’
MS(m/z) :237(M’) 、206.146
.120゜元素分析値: C+sH+vNOsとして計
′lLw: C65,80X; H8,07!; N
5.90!。
.120゜元素分析値: C+sH+vNOsとして計
′lLw: C65,80X; H8,07!; N
5.90!。
分析値: C65,99χ、 H8,03χ; !15
.81χ。
.81χ。
参考例6
N−(イソプロポキシカルボニル)−(S)フェニルア
ラニノール2.05 g (8,6mmo l)をメタ
ノール6mlに熔解し、ロジウノ・−アルミナ触媒40
3■、酢酸0.6mlを加え、水素雰囲気下(4気圧)
、室温で5時間攪拌した。触媒を除去した後、溶媒を減
圧上濃縮し、残渣をカラムクロマトグラフィー(シリカ
ゲル、ヘキサン−酢酸エチル5:l)で精製し、無色オ
イル状のN(イソプロポキシカルボニル)−(S)−シ
クロへキシルアラニノール2.09 g (100%)
を得た。
ラニノール2.05 g (8,6mmo l)をメタ
ノール6mlに熔解し、ロジウノ・−アルミナ触媒40
3■、酢酸0.6mlを加え、水素雰囲気下(4気圧)
、室温で5時間攪拌した。触媒を除去した後、溶媒を減
圧上濃縮し、残渣をカラムクロマトグラフィー(シリカ
ゲル、ヘキサン−酢酸エチル5:l)で精製し、無色オ
イル状のN(イソプロポキシカルボニル)−(S)−シ
クロへキシルアラニノール2.09 g (100%)
を得た。
NMR(CDCI s) : δ1.23(61),
d、J=6)1z、CIIMez) 、0.71〜2.
13(131),s、cycloba*yり 、3.3
6〜4.02(3H。
d、J=6)1z、CIIMez) 、0.71〜2.
13(131),s、cycloba*yり 、3.3
6〜4.02(3H。
m、C1−Hand CHtOH)、4.51〜5.1
5(IH,m、N旧4.93(IH,qulntet
J=6Hz、CHMez)。
5(IH,m、N旧4.93(IH,qulntet
J=6Hz、CHMez)。
1R(neat):1690 am−’MS(m/z)
:244(CM+1) ’ 212,170.12
6元素分析値i C+!HtsNO! ・0.IHI
Oとして計算値: C63,69χ、 H10,36X
: N 5.71!。
:244(CM+1) ’ 212,170.12
6元素分析値i C+!HtsNO! ・0.IHI
Oとして計算値: C63,69χ、 H10,36X
: N 5.71!。
分析+!!; C63,56χi H10,39χ、
N 5.75χ。
N 5.75χ。
参考例7
N−(イソプロポキシカルボニル)−(S)シクロへキ
シルアラニノール138■(0,57mmol)、無水
トルエン0.33m1、無水ジメチルスルホキシド0.
67m1 (9,4mmo l)、およびトリエチル
アミン0.43m l(3,1mmo l)の混合物に
三酸化イオウ−ピリジン錯塩491nr(3,1mmo
l)を加え室温で20分間撹拌した。
シルアラニノール138■(0,57mmol)、無水
トルエン0.33m1、無水ジメチルスルホキシド0.
67m1 (9,4mmo l)、およびトリエチル
アミン0.43m l(3,1mmo l)の混合物に
三酸化イオウ−ピリジン錯塩491nr(3,1mmo
l)を加え室温で20分間撹拌した。
反応液に氷水を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を
水、飽和食塩水で91)次洗浄し、無水硫酸ナトリウム
で乾燥後、減圧下に濃縮した。残渣をカラムクロマトグ
ラフィー(シリカゲル、ヘキサン−酢酸エーテル10:
1−5:1)で精製し、無色オイル状のN−(イソプロ
ポキシカルボニル)−(S)−シクロヘキシルアラニナ
ール107■(78?()を得た。
水、飽和食塩水で91)次洗浄し、無水硫酸ナトリウム
で乾燥後、減圧下に濃縮した。残渣をカラムクロマトグ
ラフィー(シリカゲル、ヘキサン−酢酸エーテル10:
1−5:1)で精製し、無色オイル状のN−(イソプロ
ポキシカルボニル)−(S)−シクロヘキシルアラニナ
ール107■(78?()を得た。
(α)4’ +26.6°(C=0.939. Cl
lCl、) 。
lCl、) 。
NMR(CDCI 、) : δ0.60〜2.06
(131),vcycloheyyl) 。
(131),vcycloheyyl) 。
1.23(6tl、d、J=7Hz、cHMet>、4
.03〜4.43(IH。
.03〜4.43(IH。
m、Cx−H)、4.93(IH,q、J−6Hz、C
)IMez)、5.20〜5.52(LH,m、NH)
、9.56(LH,s、CHO)。
)IMez)、5.20〜5.52(LH,m、NH)
、9.56(LH,s、CHO)。
IR(neat):1730.1690 cm−’MS
(m/z):242 (M+1) ’、212,17
0,126゜実施例1 H N−(−(ソブロボキシカルボニル)−(S)ロイシナ
ール28.9w (0,144mmo 1)とモレキュ
ラシーブ4A(5w)にアルゴン気流下、0−メチル−
〇−)リメチルシリルケテンアセタール63,0曙(0
,431n口に101)の塩化メチレン溶液2mlを加
え、−78℃に冷却後、三フッ素化ホウ素・エーテル錯
体(IM塩化メナレン溶液)O,17m1をゆっくり滴
下した0反応液を1時間攪拌した後、飽和重曹水を加え
酢酸エチルで抽出し、1M塩酸で洗浄、乾燥後、微圧下
溶媒を留去した。この粗成績体はシリカゲルカラムク【
171−グラフィー(ヘキサン:酢酸エチル−4,1)
で精製し、(3S、4S)−3−ヒドロキシ−6−メチ
ル−4−((N−イソプロポキシカルボニル)アミン〕
へブタン酸メチル19.4■とその(3R,43)一体
6.54および両者の混合物2.6躍(全収率72%)
を得た。(33,43)−体と(3R,43)一体との
生成比は、ガスクロマトグラフィー (5XSi1ar
lOC,190℃)から80 : 20と決定した。
(m/z):242 (M+1) ’、212,17
0,126゜実施例1 H N−(−(ソブロボキシカルボニル)−(S)ロイシナ
ール28.9w (0,144mmo 1)とモレキュ
ラシーブ4A(5w)にアルゴン気流下、0−メチル−
〇−)リメチルシリルケテンアセタール63,0曙(0
,431n口に101)の塩化メチレン溶液2mlを加
え、−78℃に冷却後、三フッ素化ホウ素・エーテル錯
体(IM塩化メナレン溶液)O,17m1をゆっくり滴
下した0反応液を1時間攪拌した後、飽和重曹水を加え
酢酸エチルで抽出し、1M塩酸で洗浄、乾燥後、微圧下
溶媒を留去した。この粗成績体はシリカゲルカラムク【
171−グラフィー(ヘキサン:酢酸エチル−4,1)
で精製し、(3S、4S)−3−ヒドロキシ−6−メチ
ル−4−((N−イソプロポキシカルボニル)アミン〕
へブタン酸メチル19.4■とその(3R,43)一体
6.54および両者の混合物2.6躍(全収率72%)
を得た。(33,43)−体と(3R,43)一体との
生成比は、ガスクロマトグラフィー (5XSi1ar
lOC,190℃)から80 : 20と決定した。
(3S、4S)−木
〔α)3’−43,2°(C1,0?、Cl1C13)
’It−NMR(CDCh)δ : 4.98(Hl、
st+pt、J=6.21)z)。
’It−NMR(CDCh)δ : 4.98(Hl、
st+pt、J=6.21)z)。
4.82(ill、 brd、 J=9.71)z)
、 4.03(1B、 brs) 。
、 4.03(1B、 brs) 。
3.72(3H,s)、3.67(IH,m)、3.3
0(III、brs)2.53(2H,m)、1.66
(III、鵬)、1.54(IH,w)。
0(III、brs)2.53(2H,m)、1.66
(III、鵬)、1.54(IH,w)。
1.35(ltl、m)、1.23(6)1.d、J=
6.2Hz)、0.93(6H,m)。
6.2Hz)、0.93(6H,m)。
:R(CtlCIx) :3470.2980.1?1
0.1505.1)10 C1)−’MS(IS/z)
:276.216.1721308643゜(3R,
4S)一体 〔α〕b0−29.8°CC,0,650,C)IC1
,)l1p63〜65℃(fro@EtxO−hexa
ne)。
0.1505.1)10 C1)−’MS(IS/z)
:276.216.1721308643゜(3R,
4S)一体 〔α〕b0−29.8°CC,0,650,C)IC1
,)l1p63〜65℃(fro@EtxO−hexa
ne)。
’H−NM[1(CDCIs) δ : 4.8
9(IH,5ept、J−6,1Hz)。
9(IH,5ept、J−6,1Hz)。
4.62(1)1. brd、 J−7,8)1z)
、 4.02(Ill、 brs) 。
、 4.02(Ill、 brs) 。
3.71(4H,s and s)、3.35(L
H,brs)、2.50(2H,m)、1.68(1)
(、糟)、1.34(2H,m)、1.23(6N。
H,brs)、2.50(2H,m)、1.68(1)
(、糟)、1.34(2H,m)、1.23(6N。
d、 J=6.1Hz) 、 0.94 (6H,d、
J=6.5Hz) 。
J=6.5Hz) 。
IR(CHCI 、) :3460.2970.1?1
0.1505.1)10 値−1MS(m/z) :
316,256,212,170,126,71,43
゜実施例2 0i( N−(イソプロポキシカルボニル)−(S)ロイシナー
ル8.7N (0,0433mmo I)とモレキュラ
シーブ4A 4■にアルゴン気流下、Oメチル−〇−
トリメチルシリルケテンアセクール19mg (0,1
3mmo I)の塩化メナレン溶液0.5mlを加え、
−78℃に冷却後、四塩化チタン(1M塩化メチレン溶
液) 0.065 m lをゆっくり滴下した0反応液
を1時間攪拌したのら、飽和重曹水を少量加え、セライ
ト濾過した。Ill液は減圧上溶媒留去し得られた残渣
は、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:
酢酸エチル=4:l)により精製して、(3S、43)
−3ヒドロキシ−6−メチル−4−((N−イソプロポ
キシカルボニル)アミン〕ヘプタン酸メチルおよびその
(3R,4S)一体の混合物10.6■(89%)を得
た。(3S、4S)一体と(3R24S)一体との生成
比はガスクロマグラフイー(5χ5ilarlOC,1
90℃)から95:5と決定した。
0.1505.1)10 値−1MS(m/z) :
316,256,212,170,126,71,43
゜実施例2 0i( N−(イソプロポキシカルボニル)−(S)ロイシナー
ル8.7N (0,0433mmo I)とモレキュラ
シーブ4A 4■にアルゴン気流下、Oメチル−〇−
トリメチルシリルケテンアセクール19mg (0,1
3mmo I)の塩化メナレン溶液0.5mlを加え、
−78℃に冷却後、四塩化チタン(1M塩化メチレン溶
液) 0.065 m lをゆっくり滴下した0反応液
を1時間攪拌したのら、飽和重曹水を少量加え、セライ
ト濾過した。Ill液は減圧上溶媒留去し得られた残渣
は、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:
酢酸エチル=4:l)により精製して、(3S、43)
−3ヒドロキシ−6−メチル−4−((N−イソプロポ
キシカルボニル)アミン〕ヘプタン酸メチルおよびその
(3R,4S)一体の混合物10.6■(89%)を得
た。(3S、4S)一体と(3R24S)一体との生成
比はガスクロマグラフイー(5χ5ilarlOC,1
90℃)から95:5と決定した。
実施例3〜7
実施例3〜5については実施例2と同様に、また、実施
例6〜7については実施例1と同様に行イTable
1の結果を得た。ただし、ルイス酸、溶媒、および反応
温度はそれぞれ表記の条件を用いた。
例6〜7については実施例1と同様に行イTable
1の結果を得た。ただし、ルイス酸、溶媒、および反応
温度はそれぞれ表記の条件を用いた。
実施例8
0H
N−(イソプロポキシカルボニル)−(S)−シクロへ
キシルアラニナール61.0■(0,253mmol)
とモレキュラシープ4A(30g)にアンボン気流下、
0−メチル−〇−)リメチルシリルケテンアセクール1
)0 w(0,759mm o 1 )の塩化メチレン
溶液3mlを加え、−78°Cに冷却後、四塩化チタン
(1M塩化メチレン溶液)0.25rnlをゆっくり滴
下した0反応液を1時間撹拌した後、飽和重曹水を少量
加え、セライト濾過した。濾液は減圧下に留去し、残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢
酸エチル−4:l)により精製して、原料16.7■(
27%)、(33,43)−5−シクロへキシル−3−
ヒドロキシ−4−((N−イソプロポキシカルボニル)
アミノ〕ペンタン酸メチル50.0■(63%)、その
(3R,43)一体6.0■(7,5%)および両者の
混合物2.8■を得た。
キシルアラニナール61.0■(0,253mmol)
とモレキュラシープ4A(30g)にアンボン気流下、
0−メチル−〇−)リメチルシリルケテンアセクール1
)0 w(0,759mm o 1 )の塩化メチレン
溶液3mlを加え、−78°Cに冷却後、四塩化チタン
(1M塩化メチレン溶液)0.25rnlをゆっくり滴
下した0反応液を1時間撹拌した後、飽和重曹水を少量
加え、セライト濾過した。濾液は減圧下に留去し、残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢
酸エチル−4:l)により精製して、原料16.7■(
27%)、(33,43)−5−シクロへキシル−3−
ヒドロキシ−4−((N−イソプロポキシカルボニル)
アミノ〕ペンタン酸メチル50.0■(63%)、その
(3R,43)一体6.0■(7,5%)および両者の
混合物2.8■を得た。
(33,4S)一体と(3R,43)一体との生成比は
ガスクロマトグラフィー(5χ5ilar l0C19
0℃)から96:4と決定した。
ガスクロマトグラフィー(5χ5ilar l0C19
0℃)から96:4と決定した。
(3S、 4S)一体
(α)p −36,6°(C1,1),cHcI3)H
−NMR(CDC1z)δ : 4.88(1)1,5
ept、J−6,2Hz)4.77(LH,brd、J
=9.8Hz)、4.02(IH,brd、J−6,7
Hz)、3.71(3)1.s)、3.69(IH,m
)、3.24(IH。
−NMR(CDC1z)δ : 4.88(1)1,5
ept、J−6,2Hz)4.77(LH,brd、J
=9.8Hz)、4.02(IH,brd、J−6,7
Hz)、3.71(3)1.s)、3.69(IH,m
)、3.24(IH。
brs)、2.52(2H,m)、1.82(IH,b
rs)、1.66(4H。
rs)、1.66(4H。
s)、1.3〜1.6(2H,m)、1.23(6H,
d、J=6.2Hz)。
d、J=6.2Hz)。
1.1〜1.3(2H,1)1)、0.8〜1.1(2
)1.m)。
)1.m)。
IR(CHCIs) :3470.2940,2870
.1?10.1505.1440゜1)10cm−’ MS(s/z):316,256,212,170,1
26,100.43゜(3R,43)一体 〔α〕 2・ −30,8” (CO,510,CHC
l5)mp 73〜74℃Cfrom hexane)
。
.1?10.1505.1440゜1)10cm−’ MS(s/z):316,256,212,170,1
26,100.43゜(3R,43)一体 〔α〕 2・ −30,8” (CO,510,CHC
l5)mp 73〜74℃Cfrom hexane)
。
’H−NMR(CDCIs)δ : 4.89(IH,
5ept、J−6,01lz)。
5ept、J−6,01lz)。
4.60(IH,brd、J−7,7Hz)、4.02
(IH,W)、3.77(1)1.m)、3.71(3
H,s)、3.38(1M、brs)、2.48(2H
,m)+1.83(IH,brd、J−13,0Hz)
、1.53〜1.76(4H,■)、1.1〜1.5(
5H,m)、1.23(6H,d。
(IH,W)、3.77(1)1.m)、3.71(3
H,s)、3.38(1M、brs)、2.48(2H
,m)+1.83(IH,brd、J−13,0Hz)
、1.53〜1.76(4H,■)、1.1〜1.5(
5H,m)、1.23(6H,d。
J−6,0Hz)、0.7〜1.1(2H,m)。
rR(CHCI 、) :3690.3460,293
0.2860.1710.1500゜1430.1)1
0 cm−’ MS(II/Z) :276.216,172,13
0,86,43゜参考例8 H H (33,43)−3−ヒドロキシ−6−メチルを加えて
13時間100℃で加熱した0反応液を減圧下、溶媒留
去後、残渣をイオン変換カラムクロマトグラフ 4−
(Dowex AG50W−X2.pH51)31液(
1Mピリジン−酢酸)〕により精製して(3S。
0.2860.1710.1500゜1430.1)1
0 cm−’ MS(II/Z) :276.216,172,13
0,86,43゜参考例8 H H (33,43)−3−ヒドロキシ−6−メチルを加えて
13時間100℃で加熱した0反応液を減圧下、溶媒留
去後、残渣をイオン変換カラムクロマトグラフ 4−
(Dowex AG50W−X2.pH51)31液(
1Mピリジン−酢酸)〕により精製して(3S。
純品は水−エタノールから再結晶して500■を得た。
〔α〕6・ −20,4°(CO,501,H*0)Q
202〜205℃ 文献値(M、Klnoshita et al、、Bu
ll、Chem、Soc。
202〜205℃ 文献値(M、Klnoshita et al、、Bu
ll、Chem、Soc。
Jpn、、旦、 570 (1975) ) 。
〔α)ダ −20責C0,64+watsr)MP 2
01 〜203 ℃(decomp) 。
01 〜203 ℃(decomp) 。
’H−NMR(D*Q) δ : 4.10(1
)(、論)、3.30(lit、輸)2.53(III
、dd、J−5,1and 15Hz)、2.48(1
8゜dd、J−7,0and 15Hz)、0.94(
6H,d、J−5,7)1z)。
)(、論)、3.30(lit、輸)2.53(III
、dd、J−5,1and 15Hz)、2.48(1
8゜dd、J−7,0and 15Hz)、0.94(
6H,d、J−5,7)1z)。
1.2〜1.9(3H))。
IR(KBr) :3440.3220.2970.2
890.1600.1550.1510゜1430.1
390,1)70.T20備1MS(m/z) +1
76(M’+1)、172,157,140,1)8,
100゜86、40.30゜ 参考例9 OH OH (33,43)−5−シクロへキシル−3−ヒドロキシ
−4 ((N−イソプロボキシ力ルボニ 6NN塩出1を加え、8時間100℃で加熱した0反応
液を減圧上留去後、残渣をイオン交換カーフ ム/)
rl ?トゲラフイー (Dowex AG501)−
X2.pHSll衡液(1Mピリジン−酢酸)により精
製して、純品は、1M塩酸に熔解後、LM NaOH水
t8液でpH5〜6に調節し、析出する結晶を濾取乾燥
して得た。
890.1600.1550.1510゜1430.1
390,1)70.T20備1MS(m/z) +1
76(M’+1)、172,157,140,1)8,
100゜86、40.30゜ 参考例9 OH OH (33,43)−5−シクロへキシル−3−ヒドロキシ
−4 ((N−イソプロボキシ力ルボニ 6NN塩出1を加え、8時間100℃で加熱した0反応
液を減圧上留去後、残渣をイオン交換カーフ ム/)
rl ?トゲラフイー (Dowex AG501)−
X2.pHSll衡液(1Mピリジン−酢酸)により精
製して、純品は、1M塩酸に熔解後、LM NaOH水
t8液でpH5〜6に調節し、析出する結晶を濾取乾燥
して得た。
〔α〕ら・ −25,3責C0,435,1M IIC
I)膳p 213〜216 ℃ 文献値()1.Yanaglsawa et al、c
hem、Lett、、687(1989) 。
I)膳p 213〜216 ℃ 文献値()1.Yanaglsawa et al、c
hem、Lett、、687(1989) 。
@p 230〜231 ℃(dec、)(&)3 −2
6.2° (C1,0、It−1HC,1)處H−N?
IR([1よ0)δ : 4.00(III、■)、3
35(IH,m)。
6.2° (C1,0、It−1HC,1)處H−N?
IR([1よ0)δ : 4.00(III、■)、3
35(IH,m)。
225(2H))、0.8 〜2.0(13H,鑓)。
IR(KBr):3430,3220,2950.28
B0,1610.1550,1510゜1440.13
85,1335.1)15,1070,1035.98
0゜885cm−’
B0,1610.1550,1510゜1440.13
85,1335.1)15,1070,1035.98
0゜885cm−’
Claims (3)
- (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1は炭素数1〜4の直鎖もしくは分枝アル
キル基、炭素数5〜8の置換もしくは無置換のシクロア
ルキル基を表し、また、R^2はアミノ基の保護基を表
す)で表される2−アミノプロパナール誘導体を、一般
式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^3、R^4、R^5、R^6は各々独立に
、炭素数1〜4の直鎖もしくは分枝アルキル基または置
換もしくは無置換アリール基を表す)で表されるケテン
シリルアセタールとルイス酸存在下反応させることを特
徴とする、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2およびR^3は前記と同じ意味
を表す)で表される4−アミノ−3−ヒドロキシペンタ
ン酸誘導体の製造方法。 - (2)3位不斉炭素が(S)−配置、4位不斉炭素が(
S)−配置である請求項(1)記載の4−アミノ−3−
ヒドロキシペンタン酸誘導体の製造方法。 - (3)R^1がイソプロピル基またはシクロヘキシル基
である請求項(2)記載の4−アミノ−3−ヒドロキシ
ペンタン酸誘導体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1259992A JPH0830049B2 (ja) | 1989-10-06 | 1989-10-06 | 4―アミノ―3―ヒドロキシペンタン酸誘導体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1259992A JPH0830049B2 (ja) | 1989-10-06 | 1989-10-06 | 4―アミノ―3―ヒドロキシペンタン酸誘導体の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03123765A true JPH03123765A (ja) | 1991-05-27 |
| JPH0830049B2 JPH0830049B2 (ja) | 1996-03-27 |
Family
ID=17341786
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1259992A Expired - Lifetime JPH0830049B2 (ja) | 1989-10-06 | 1989-10-06 | 4―アミノ―3―ヒドロキシペンタン酸誘導体の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0830049B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001074795A1 (en) * | 2000-04-03 | 2001-10-11 | Ihara Chemical Industry Co., Ltd. | Process for preparing amic acid esters |
-
1989
- 1989-10-06 JP JP1259992A patent/JPH0830049B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001074795A1 (en) * | 2000-04-03 | 2001-10-11 | Ihara Chemical Industry Co., Ltd. | Process for preparing amic acid esters |
| US6576765B2 (en) | 2000-04-03 | 2003-06-10 | Ihara Chemical Industry Co., Ltd. | Process for preparing amic acid esters |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0830049B2 (ja) | 1996-03-27 |
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