JPH0312663B2 - - Google Patents
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- JPH0312663B2 JPH0312663B2 JP3534184A JP3534184A JPH0312663B2 JP H0312663 B2 JPH0312663 B2 JP H0312663B2 JP 3534184 A JP3534184 A JP 3534184A JP 3534184 A JP3534184 A JP 3534184A JP H0312663 B2 JPH0312663 B2 JP H0312663B2
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F02—COMBUSTION ENGINES; HOT-GAS OR COMBUSTION-PRODUCT ENGINE PLANTS
- F02M—SUPPLYING COMBUSTION ENGINES IN GENERAL WITH COMBUSTIBLE MIXTURES OR CONSTITUENTS THEREOF
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- F02—COMBUSTION ENGINES; HOT-GAS OR COMBUSTION-PRODUCT ENGINE PLANTS
- F02D—CONTROLLING COMBUSTION ENGINES
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、弁体と弁座とによつて構成されるオ
ン、オフスイツチを備えたスイツチ付弁装置に関
するものである。
ン、オフスイツチを備えたスイツチ付弁装置に関
するものである。
一般に、弁装置の開閉状態に応じた電気信号を
得るため、弁体と弁座とによつてスイツチを構成
したものが知られている。このようなスイツチ付
の弁装置は、内燃機関用燃料噴射弁、或るいは、
弁体の開閉タイミングを検出してフイードバツク
し、電磁弁に印加する駆動パルスを補正して、電
磁弁の開閉タイミングを目標タイミングに一致さ
せるようにした電磁弁駆動回路を構成するのに使
用される電磁弁として利用されている。
得るため、弁体と弁座とによつてスイツチを構成
したものが知られている。このようなスイツチ付
の弁装置は、内燃機関用燃料噴射弁、或るいは、
弁体の開閉タイミングを検出してフイードバツク
し、電磁弁に印加する駆動パルスを補正して、電
磁弁の開閉タイミングを目標タイミングに一致さ
せるようにした電磁弁駆動回路を構成するのに使
用される電磁弁として利用されている。
この種の弁装置としては、例えば、燃料噴射開
始のタイミング及び噴射終了のタイミングを示す
電気信号を針弁の動きに応じて取り出す目的で、
針弁とノズルボデイとによつて機械的スイツチを
構成するようにした燃料噴射ノズルが公知である
（特開昭57−52672号公報）。この燃料噴射ノズル
では、ノズルボデイ及び該ノズルボデイの案内孔
内で滑動する針弁を導電性材料を用いて形成する
と共に、表面に陽極酸化処理（アルマイト処理）
が施されたアルミニウムスリーブを針弁に固定
し、これにより針弁とノズルボデイとの間の絶縁
性を保つように構成されている。しかしながら、
絶縁層を陽極酸化処理によつて形成する場合に
は、耐摩耗性が充分でなく、酸化膜がアルミニウ
ムスリーブより剥離しやすいという欠点を有して
いる。更に、この燃料噴射弁では、スリーブの母
材がアルミニウムであるから、機械的強度も充分
でなく、耐久性にも問題があつた。
始のタイミング及び噴射終了のタイミングを示す
電気信号を針弁の動きに応じて取り出す目的で、
針弁とノズルボデイとによつて機械的スイツチを
構成するようにした燃料噴射ノズルが公知である
（特開昭57−52672号公報）。この燃料噴射ノズル
では、ノズルボデイ及び該ノズルボデイの案内孔
内で滑動する針弁を導電性材料を用いて形成する
と共に、表面に陽極酸化処理（アルマイト処理）
が施されたアルミニウムスリーブを針弁に固定
し、これにより針弁とノズルボデイとの間の絶縁
性を保つように構成されている。しかしながら、
絶縁層を陽極酸化処理によつて形成する場合に
は、耐摩耗性が充分でなく、酸化膜がアルミニウ
ムスリーブより剥離しやすいという欠点を有して
いる。更に、この燃料噴射弁では、スリーブの母
材がアルミニウムであるから、機械的強度も充分
でなく、耐久性にも問題があつた。
本発明の目的は、従つて、弁体と該弁体を案内
する部材の案内摺動面との間の電気的絶縁状態を
長期間に亘つて安定に保持することができる耐久
性に優れたスイツチ付弁装置を提供することにあ
る。
する部材の案内摺動面との間の電気的絶縁状態を
長期間に亘つて安定に保持することができる耐久
性に優れたスイツチ付弁装置を提供することにあ
る。
本発明の構成は、本体内に形成された案内孔内
で滑動する弁体を導電性材料を用いて形成すると
共に上記弁体の外周面上に上記弁体と上記本体と
の間の電気的絶縁性を保つための薄膜層を設け、
これにより弁体が本体に形成された弁座に着座し
た時に本体と弁体とが電気的に接続されるスイツ
チが構成されたスイツチ付弁装置において、上記
薄膜層が所要の金属と反応ガスとの化合物から成
り、上記薄膜層が上記金属から成る金属層を介し
て上記弁体の外周面に被着されており、且つ、上
記薄膜層はその絶縁度が上記弁体の表面側から上
記案内孔の壁面側に向けて連続的に高くなるよ
う、イオンプレーテイング法等の物理蒸着法によ
り形成されている点に特徴を有する。
で滑動する弁体を導電性材料を用いて形成すると
共に上記弁体の外周面上に上記弁体と上記本体と
の間の電気的絶縁性を保つための薄膜層を設け、
これにより弁体が本体に形成された弁座に着座し
た時に本体と弁体とが電気的に接続されるスイツ
チが構成されたスイツチ付弁装置において、上記
薄膜層が所要の金属と反応ガスとの化合物から成
り、上記薄膜層が上記金属から成る金属層を介し
て上記弁体の外周面に被着されており、且つ、上
記薄膜層はその絶縁度が上記弁体の表面側から上
記案内孔の壁面側に向けて連続的に高くなるよ
う、イオンプレーテイング法等の物理蒸着法によ
り形成されている点に特徴を有する。
上述の薄膜層は、蒸発源から蒸発したイオン化
金属、例えばZr，Cr，Al等と反応ガス、例えば
O2，N2，C2H2等を反応させつつ物理蒸着法（例
えばイオンプレーテイング法）によりその化合物
を弁体の所要の周囲に被着せしめて絶縁層を形成
する場合に、反応ガスの濃度を徐々に高めるよ
う、反応ガス濃度の制御を行なうことにより簡単
に得られるものである。この場合、薄膜層と金属
層とは、次のようにして連続的に形成することが
できる。例えば蒸発物質としてZrを選択し、反
応ガスとしてO2を選択する場合、上記両層の形
成に際し、先ず容器内を真空とし、次に、Zrイ
オンのみの雰囲気でZrを弁体の表面にイオンプ
レーテイング法により被着せしめて先ず金属層を
形成し、しかる後、時間の経過と共にO2の濃度
を所定の比率で上昇せしめ、ZrO2-Xなる不定比
性化合物の状態で更に薄膜層の形成を行ない、最
終的に、薄膜層の表面付近をZrO2とする。この
結果、得られた薄膜層は、弁体側（内周面）から
案内孔側（外周面）に向けて酸素量が上昇する特
性となる。このように薄膜層の弁体側の部分は金
属との密着性が良好な低酸素量状態又は金属その
ものであり、この薄膜層が金属（Zr）から成る
金属層を介して弁体に被着されるので、絶縁層と
して作用する薄膜層と弁体との間の密着性が極め
て良好である。一方、薄膜層の外表面は硬い絶縁
物となつているので、この薄膜層により、本体と
弁体との間の電気的絶縁を充分に保つことがで
き、耐摩耗性及び耐剥離性が著しく向上する。
金属、例えばZr，Cr，Al等と反応ガス、例えば
O2，N2，C2H2等を反応させつつ物理蒸着法（例
えばイオンプレーテイング法）によりその化合物
を弁体の所要の周囲に被着せしめて絶縁層を形成
する場合に、反応ガスの濃度を徐々に高めるよ
う、反応ガス濃度の制御を行なうことにより簡単
に得られるものである。この場合、薄膜層と金属
層とは、次のようにして連続的に形成することが
できる。例えば蒸発物質としてZrを選択し、反
応ガスとしてO2を選択する場合、上記両層の形
成に際し、先ず容器内を真空とし、次に、Zrイ
オンのみの雰囲気でZrを弁体の表面にイオンプ
レーテイング法により被着せしめて先ず金属層を
形成し、しかる後、時間の経過と共にO2の濃度
を所定の比率で上昇せしめ、ZrO2-Xなる不定比
性化合物の状態で更に薄膜層の形成を行ない、最
終的に、薄膜層の表面付近をZrO2とする。この
結果、得られた薄膜層は、弁体側（内周面）から
案内孔側（外周面）に向けて酸素量が上昇する特
性となる。このように薄膜層の弁体側の部分は金
属との密着性が良好な低酸素量状態又は金属その
ものであり、この薄膜層が金属（Zr）から成る
金属層を介して弁体に被着されるので、絶縁層と
して作用する薄膜層と弁体との間の密着性が極め
て良好である。一方、薄膜層の外表面は硬い絶縁
物となつているので、この薄膜層により、本体と
弁体との間の電気的絶縁を充分に保つことがで
き、耐摩耗性及び耐剥離性が著しく向上する。
この薄膜層は反応ガスの濃度を調節するほか
は、従来のイオンプレーテイング法の手法そのま
までよく、製造が簡単で、堅牢且つ耐久性の富む
という優れた特性を有している。
は、従来のイオンプレーテイング法の手法そのま
までよく、製造が簡単で、堅牢且つ耐久性の富む
という優れた特性を有している。
以下、図示の実施例により本発明を詳細に説明
する。
する。
第１図には、本発明による燃料噴射弁の一実施
例が一部断面して示されている。内燃機関用の燃
料噴射弁１は、ノズルホルダ２、中間プレート３
及びノズル４を備え、これらはすべてリテイニン
グナツト５にねじ込まれている。ノズル４は、ノ
ズルボデイ６と該ノズルボデイ６内に形成された
案内孔７に滑動自在に設けられた針弁８とから成
つている。針弁８の先端には弁体として働く円錐
体９が形成されており、この円錐体９に対応した
形状に形成された弁座１０がノズルボデイ６に形
成されている。弁座１０の上側に形成された油溜
り１１は、燃料通路１２に連通している。針弁８
の上端に設けられている加圧ピン１３は噴射弁の
不作用状態でばね受け皿１４に接触している。
例が一部断面して示されている。内燃機関用の燃
料噴射弁１は、ノズルホルダ２、中間プレート３
及びノズル４を備え、これらはすべてリテイニン
グナツト５にねじ込まれている。ノズル４は、ノ
ズルボデイ６と該ノズルボデイ６内に形成された
案内孔７に滑動自在に設けられた針弁８とから成
つている。針弁８の先端には弁体として働く円錐
体９が形成されており、この円錐体９に対応した
形状に形成された弁座１０がノズルボデイ６に形
成されている。弁座１０の上側に形成された油溜
り１１は、燃料通路１２に連通している。針弁８
の上端に設けられている加圧ピン１３は噴射弁の
不作用状態でばね受け皿１４に接触している。
ノズルホルダ２内のばね室１５内には加圧コイ
ルばね１６が収納されており、このコイルばね１
６の一端は、絶縁スリーブ１７に嵌め込まれた電
極１８の下端円板部１９を介してばね室１５の肩
部２０に支えられており、その他端は、ばね受け
皿１４に支えられている。絶縁スリーブ１７は、
電極１８と導電性材料から成るノズルホルダ２と
の間の電気的絶縁を保つためのものであり、ノズ
ルホルダ２の孔２１に圧入されていてもよいし、
孔２１内に遊嵌状態に挿入されていてもよい。符
号２２，２３で示されるのは液密状態を保つため
のＯリングである。
ルばね１６が収納されており、このコイルばね１
６の一端は、絶縁スリーブ１７に嵌め込まれた電
極１８の下端円板部１９を介してばね室１５の肩
部２０に支えられており、その他端は、ばね受け
皿１４に支えられている。絶縁スリーブ１７は、
電極１８と導電性材料から成るノズルホルダ２と
の間の電気的絶縁を保つためのものであり、ノズ
ルホルダ２の孔２１に圧入されていてもよいし、
孔２１内に遊嵌状態に挿入されていてもよい。符
号２２，２３で示されるのは液密状態を保つため
のＯリングである。
加圧コイルばね１６、加圧ピン１３、ばね受け
皿１４及び針弁８は導電性材料から成つており、
従つて、電極１８と針弁８とは、加圧ピン１３、
ばね受け皿１４及び加圧コイルばね１６を介して
導電状態にある。尚、符号２４で示されるのは、
加圧コイルばね１６がノズルホルダ２と電気的接
触状態となるのを防止するための絶縁スリーブで
あり、特に小型の燃料噴射弁では加圧コイルばね
１６とばね室１５の壁面との間がせまいため必要
となる。一方、ノズルボデイ６、中間プレート
３、リテイニングナツト５及びノズルホルダ２も
また全て導電性材料から作られている。
皿１４及び針弁８は導電性材料から成つており、
従つて、電極１８と針弁８とは、加圧ピン１３、
ばね受け皿１４及び加圧コイルばね１６を介して
導電状態にある。尚、符号２４で示されるのは、
加圧コイルばね１６がノズルホルダ２と電気的接
触状態となるのを防止するための絶縁スリーブで
あり、特に小型の燃料噴射弁では加圧コイルばね
１６とばね室１５の壁面との間がせまいため必要
となる。一方、ノズルボデイ６、中間プレート
３、リテイニングナツト５及びノズルホルダ２も
また全て導電性材料から作られている。
針弁８の太径部外周面８ａ（第２図参照）とノ
ズルボデイ６の案内孔７の内周面との間の電気的
絶縁性を保つため、針弁８の外周面８ａには、イ
オンプレーテイング法により形成される被着層２
６が設けられている。
ズルボデイ６の案内孔７の内周面との間の電気的
絶縁性を保つため、針弁８の外周面８ａには、イ
オンプレーテイング法により形成される被着層２
６が設けられている。
本実施例では、この被着層２６の表面付近は酸
化ジルコン（ZrO2）から成つているが、その内
部状態は第２図に示されるように、弁体８の表面
に近づくにつれて被着層２６内の酸素量θが小さ
くなり、弁体８の表面ではZrだけとなる断面構
造を有している。即ち、弁体８の表面であるｔ＝
０からｔ＝t1までの領域においては被着層２６
の組成はZrのみの金属層であり、被着層２６の
外面であるｔ＝t0からｔ＝t2までの領域におい
ては絶縁層２６の組成は絶縁性のZrO2となつて
いる。そしてt1＜ｔ＜t2の遷移領域においては、
被着層２６の組成はZrO２−ｘなる不足比性化合
物領域となつている。この結果、所要の金属と反
応ガスとの化合物から成る部分の絶縁度は、弁体
８の表面側から案内孔７の壁面側に向けて連続的
に高くなつている。
化ジルコン（ZrO2）から成つているが、その内
部状態は第２図に示されるように、弁体８の表面
に近づくにつれて被着層２６内の酸素量θが小さ
くなり、弁体８の表面ではZrだけとなる断面構
造を有している。即ち、弁体８の表面であるｔ＝
０からｔ＝t1までの領域においては被着層２６
の組成はZrのみの金属層であり、被着層２６の
外面であるｔ＝t0からｔ＝t2までの領域におい
ては絶縁層２６の組成は絶縁性のZrO2となつて
いる。そしてt1＜ｔ＜t2の遷移領域においては、
被着層２６の組成はZrO２−ｘなる不足比性化合
物領域となつている。この結果、所要の金属と反
応ガスとの化合物から成る部分の絶縁度は、弁体
８の表面側から案内孔７の壁面側に向けて連続的
に高くなつている。
被着層２６を第２図に示す如き構造とすると、
金属層である領域は金属である弁体８に非常に
強度の密着性をもつて被着し且つ領域は弁体８
とノズルボデイ６との間の絶縁性を確保し、且つ
対摩耗性をも確保することができる。そして、遷
移領域により、性質が異なる領域，を強固
に結びつけることができるので、結局、耐剥離性
及び耐摩耗性に富む被着層２６を形成することが
でき、耐久性に優れたスイツチ付燃料噴射弁を構
成することができる。
金属層である領域は金属である弁体８に非常に
強度の密着性をもつて被着し且つ領域は弁体８
とノズルボデイ６との間の絶縁性を確保し、且つ
対摩耗性をも確保することができる。そして、遷
移領域により、性質が異なる領域，を強固
に結びつけることができるので、結局、耐剥離性
及び耐摩耗性に富む被着層２６を形成することが
でき、耐久性に優れたスイツチ付燃料噴射弁を構
成することができる。
次に、第２図に示される如き断面構造を有する
被着層２６を弁体８の表面に形成する具体的方法
について第３図を参照しながら説明する。
被着層２６を弁体８の表面に形成する具体的方法
について第３図を参照しながら説明する。
真空容器３１内に配置された弁体８は直流高圧
源３２の負極に接続されており、真空容器３１内
の仕切板３３に設けられている蒸発源３４が直流
高圧源３２の正極に接続されている。蒸発源３４
内には、Zrが載置されており、電子銃３５から
の電子により蒸発源３４内のZrを溶融、蒸発さ
せる構成となつている。真空容器３１内は真空ポ
ンプ３６により真空引きされ、所要の真空度が保
たれるようになつている。
源３２の負極に接続されており、真空容器３１内
の仕切板３３に設けられている蒸発源３４が直流
高圧源３２の正極に接続されている。蒸発源３４
内には、Zrが載置されており、電子銃３５から
の電子により蒸発源３４内のZrを溶融、蒸発さ
せる構成となつている。真空容器３１内は真空ポ
ンプ３６により真空引きされ、所要の真空度が保
たれるようになつている。
真空容器３１内が所要の真空度となると、コツ
ク３９を開いてボンベ４０からArガスを導入し、
弁体８と蒸発源３４との間に直流電圧を印加しグ
ロー放電を生ぜしめることにより容器内の清浄化
を行なつた後、Zrを蒸発せしめ、このとき弁体
８に印加される負の高圧によりイオン化したZr
が弁体８の表面にプレーテイングされ、これによ
り、領域の形成が行なわれる。尚、図示してい
ないが、Zrのイオン化を促進するために、高周
波法又は熱電子法が行なわれる。
ク３９を開いてボンベ４０からArガスを導入し、
弁体８と蒸発源３４との間に直流電圧を印加しグ
ロー放電を生ぜしめることにより容器内の清浄化
を行なつた後、Zrを蒸発せしめ、このとき弁体
８に印加される負の高圧によりイオン化したZr
が弁体８の表面にプレーテイングされ、これによ
り、領域の形成が行なわれる。尚、図示してい
ないが、Zrのイオン化を促進するために、高周
波法又は熱電子法が行なわれる。
領域の厚みが所定値まで達したならば、コツ
ク３７を開き、反応ガスである酸素をボンベ３８
から真空容器３１内に徐々に流入せしめる。これ
により、領域の上には、ZrO2-xで示される遷
移領域が形成されはじめる。真空容器３１内の
反応ガスの分圧が時間の経過に従つて徐々に上昇
するように制御を行ない、第２図に示す酸素量勾
配を有する遷移領域の形成を行なう。最終的に
はZrO2が生成される状態とし、遷移領域の上
にZrO2から成る絶縁性の領域を所定の厚さだ
け形成する。
ク３７を開き、反応ガスである酸素をボンベ３８
から真空容器３１内に徐々に流入せしめる。これ
により、領域の上には、ZrO2-xで示される遷
移領域が形成されはじめる。真空容器３１内の
反応ガスの分圧が時間の経過に従つて徐々に上昇
するように制御を行ない、第２図に示す酸素量勾
配を有する遷移領域の形成を行なう。最終的に
はZrO2が生成される状態とし、遷移領域の上
にZrO2から成る絶縁性の領域を所定の厚さだ
け形成する。
このように、従来のイオンプレーテイングの方
法を用い、反応ガスの分圧を制御するだけで、第
２図に示した構造の被着層２６を容易に形成する
ことができる。
法を用い、反応ガスの分圧を制御するだけで、第
２図に示した構造の被着層２６を容易に形成する
ことができる。
尚、上記実施例では、蒸発物質としてZrを用
い、反応ガスとしてはO2を用いたが、この被着
層の材質はこれに限定されるものではなく、他の
無機絶縁物とすることができる。従つて、蒸発物
質として、Al，Cr，Si等を用い、一方、反応ガ
スとしてN2，C2H2等を用いることができる。
い、反応ガスとしてはO2を用いたが、この被着
層の材質はこれに限定されるものではなく、他の
無機絶縁物とすることができる。従つて、蒸発物
質として、Al，Cr，Si等を用い、一方、反応ガ
スとしてN2，C2H2等を用いることができる。
このようなイオンプレーテイング法により被着
層を形成すると、処理中の温度が低くて済むので
（550℃以下）、熱処理をすでに施してある弁体８
に材料歪が生じ、或るいは焼戻しが行なわれる必
要がなく、更に密閉容器内でのドライシステムで
あるため公害の心配もないという優れた利点を有
している。
層を形成すると、処理中の温度が低くて済むので
（550℃以下）、熱処理をすでに施してある弁体８
に材料歪が生じ、或るいは焼戻しが行なわれる必
要がなく、更に密閉容器内でのドライシステムで
あるため公害の心配もないという優れた利点を有
している。
本発明によるスイツチ付弁装置は第１図の実施
例の場合に限定されるものではなく、電磁弁の場
合にも同様にして適用できるものである。
例の場合に限定されるものではなく、電磁弁の場
合にも同様にして適用できるものである。
第４図には、本発明の電磁弁に適用した場合の
実施例が示されている。電磁弁６１は、本体ケー
ス６２と、該本体ケース６２に固着される電磁駆
動部６３と、該電磁駆動部６３により駆動される
弁体６４とを備えている。本体ケース６２は導電
性材料から成り、弁体６４の先端部６４ａが着座
する弁座６５と、弁座６５を介して本体ケース６
２内の室６６に連通するアウトレツトポート６７
と、室６６に連通しているインレツトポート６８
とが形成されている。
実施例が示されている。電磁弁６１は、本体ケー
ス６２と、該本体ケース６２に固着される電磁駆
動部６３と、該電磁駆動部６３により駆動される
弁体６４とを備えている。本体ケース６２は導電
性材料から成り、弁体６４の先端部６４ａが着座
する弁座６５と、弁座６５を介して本体ケース６
２内の室６６に連通するアウトレツトポート６７
と、室６６に連通しているインレツトポート６８
とが形成されている。
電磁駆動部６３のケーシング６９は、図示しな
い適宜の手段による本体ケース６２に固着されて
おり、ケーシング６９と本体ケース６２との間に
設けられたＯリング７０によりケーシング６９と
本体ケース６２との間の液密状態が保持されるよ
うになつている。ケーシング６９内には、巻枠７
１に捲回された電磁コイル７２が装着されてお
り、巻枠７１の中心部に設けられた非磁性金属材
料、例えばしんちゆう、から成る円筒状の案内部
材７３によつて弁体６４が滑動自在に支持、案内
されている。
い適宜の手段による本体ケース６２に固着されて
おり、ケーシング６９と本体ケース６２との間に
設けられたＯリング７０によりケーシング６９と
本体ケース６２との間の液密状態が保持されるよ
うになつている。ケーシング６９内には、巻枠７
１に捲回された電磁コイル７２が装着されてお
り、巻枠７１の中心部に設けられた非磁性金属材
料、例えばしんちゆう、から成る円筒状の案内部
材７３によつて弁体６４が滑動自在に支持、案内
されている。
ケーシング６９の上端部には、絶縁スリーブ７
４を介して電極７５が嵌め込まれており、電極７
５の一端はリード線７６に接続され、電極７５の
他端は、弁体６４の凹み６４ｂ内に収納されてい
る弾発コイルばね７７に接触しており、この弾発
コイルばね７７により弁体６４が下方にばね付勢
され、電磁コイル７２に駆動電流が流れていない
場合には、弁座６５の形状に相応した形状の先端
部６４ａが弁座６５に押圧され、電磁弁６１は閉
状態となる。一方、電磁コイル７２に駆動電流が
流れて、電磁コイル７２が付勢されると、弁体６
４には電磁力が働き、弾発コイルばね７７のばね
力に抗して弁体６４は上方に移動し、先端部６４
ａが弁座６５から離反し、この電磁弁６１は開状
態となる。
４を介して電極７５が嵌め込まれており、電極７
５の一端はリード線７６に接続され、電極７５の
他端は、弁体６４の凹み６４ｂ内に収納されてい
る弾発コイルばね７７に接触しており、この弾発
コイルばね７７により弁体６４が下方にばね付勢
され、電磁コイル７２に駆動電流が流れていない
場合には、弁座６５の形状に相応した形状の先端
部６４ａが弁座６５に押圧され、電磁弁６１は閉
状態となる。一方、電磁コイル７２に駆動電流が
流れて、電磁コイル７２が付勢されると、弁体６
４には電磁力が働き、弾発コイルばね７７のばね
力に抗して弁体６４は上方に移動し、先端部６４
ａが弁座６５から離反し、この電磁弁６１は開状
態となる。
弁体６４及び弾発コイルばね７７は共に導電性
材料から成り、従つて、弁体６４と電極７５とは
コイルばね７７により常時電気的接触状態を保つ
ている。
材料から成り、従つて、弁体６４と電極７５とは
コイルばね７７により常時電気的接触状態を保つ
ている。
電磁弁６１が界閉することにより弁体６４と弁
座６５とが接触、離反することを利用して、弁体
６４と弁座６５とにより構成されるスイツチを構
成するため、弁体６４の摺動面には、案内部材７
３の案内面７３ａと弁体６４との間の電気的絶縁
を保つための被着層７８が形成されている。
座６５とが接触、離反することを利用して、弁体
６４と弁座６５とにより構成されるスイツチを構
成するため、弁体６４の摺動面には、案内部材７
３の案内面７３ａと弁体６４との間の電気的絶縁
を保つための被着層７８が形成されている。
このように、弁体６４の摺動面に被着層７８を
形成し、案内部材７３との電気的絶縁を保つよう
に構成すると、弁体６４とケーシング６９との間
の電気的絶縁も確保され、電磁弁６１が開かれて
いて弁体６４が弁座６５から離反している場合に
は本体ケース６２とリード線７６とはオフ状態と
なり電磁弁６１が閉じられていて弁体６４が弁座
６５に着座している場合には本体ケース６２とリ
ード線７６とはオン状態となる。即ち、弁体６４
と弁座６５とにより、電磁弁６１の開閉に応じて
オン、オフするスイツチが構成される。
形成し、案内部材７３との電気的絶縁を保つよう
に構成すると、弁体６４とケーシング６９との間
の電気的絶縁も確保され、電磁弁６１が開かれて
いて弁体６４が弁座６５から離反している場合に
は本体ケース６２とリード線７６とはオフ状態と
なり電磁弁６１が閉じられていて弁体６４が弁座
６５に着座している場合には本体ケース６２とリ
ード線７６とはオン状態となる。即ち、弁体６４
と弁座６５とにより、電磁弁６１の開閉に応じて
オン、オフするスイツチが構成される。
尚、絶縁スリーブ７４の下端部にはフランジ部
７４ａが形成されていて、弁体６４が電磁コイル
ばね７２の付勢時に上昇したときに弁体６４の上
端面がケーシング６９と接触することがない構成
となつているが、弁体６４の上端面にも被着層を
設けてよいことは勿論である。
７４ａが形成されていて、弁体６４が電磁コイル
ばね７２の付勢時に上昇したときに弁体６４の上
端面がケーシング６９と接触することがない構成
となつているが、弁体６４の上端面にも被着層を
設けてよいことは勿論である。
弁体６４に設けられる被着層７８は、イオンプ
レーテイング法により、第１図に示した被着層２
６と全く同様にして被着することができるもので
あり、この実施例の場合においても、耐剥離性及
び耐摩耗性の向上を図ることができ、絶縁性被着
層の耐久性を著しく改善することができるもので
ある。
レーテイング法により、第１図に示した被着層２
６と全く同様にして被着することができるもので
あり、この実施例の場合においても、耐剥離性及
び耐摩耗性の向上を図ることができ、絶縁性被着
層の耐久性を著しく改善することができるもので
ある。
本発明によれば、弁体の図面に形成する被着層
を、上述の如く、所要の金属と反応ガスとの化合
物から成る薄膜層を、所要の金属から成る金属層
を介して弁体の外周面に物理蒸着法によつて被着
せしめる構成とし、且つ、薄膜層はその絶縁度が
連続的に変化するように構成されるので、絶縁部
として働く薄膜層の外側部分は耐摩耗性に優れた
堅固な絶縁層として形成され、薄膜層の内側部分
は、その組成が金属層に向つて連続的に変化し、
最も内側において金属層とほぼ同一の組成になる
ため、薄膜層は金属層を介して弁体にしつかりと
密着せしめられ、耐摩耗性、耐剥離性に優れた被
着層を得ることができる。また上述の被着層は物
理蒸着法によつて簡単に形成することができるの
で、製造コストが低くて済み、経済性に優れた、
耐摩耗性、耐剥離性に富むスイツチ付弁装置を得
ることができる。
を、上述の如く、所要の金属と反応ガスとの化合
物から成る薄膜層を、所要の金属から成る金属層
を介して弁体の外周面に物理蒸着法によつて被着
せしめる構成とし、且つ、薄膜層はその絶縁度が
連続的に変化するように構成されるので、絶縁部
として働く薄膜層の外側部分は耐摩耗性に優れた
堅固な絶縁層として形成され、薄膜層の内側部分
は、その組成が金属層に向つて連続的に変化し、
最も内側において金属層とほぼ同一の組成になる
ため、薄膜層は金属層を介して弁体にしつかりと
密着せしめられ、耐摩耗性、耐剥離性に優れた被
着層を得ることができる。また上述の被着層は物
理蒸着法によつて簡単に形成することができるの
で、製造コストが低くて済み、経済性に優れた、
耐摩耗性、耐剥離性に富むスイツチ付弁装置を得
ることができる。
第１図は本発明の一実施例の断面図、第２図は
第１図に示した弁体の絶縁層の組成構造を示すグ
ラフ、第３図は第１図に示した絶縁層を形成する
ためのイオンプレーテイング装置の構成図、第４
図は本発明の他の実施例の断面図である。 １……燃料噴射弁、６……ノズルボデイ、７…
…案内孔、８……針弁、１０……弁座、２６……
被着層、６１……電磁弁、６４……弁体、６５…
…弁座、７８……被着層。
第１図に示した弁体の絶縁層の組成構造を示すグ
ラフ、第３図は第１図に示した絶縁層を形成する
ためのイオンプレーテイング装置の構成図、第４
図は本発明の他の実施例の断面図である。 １……燃料噴射弁、６……ノズルボデイ、７…
…案内孔、８……針弁、１０……弁座、２６……
被着層、６１……電磁弁、６４……弁体、６５…
…弁座、７８……被着層。
Claims (1)
- １ 弁装置の本体内に形成された案内孔内で滑動
する本体を導電性材料を用いて形成すると共に前
記弁体の外周面上に前記弁体と前記本体との間の
電気的絶縁性を保つための薄膜層を設け、これに
より前記弁体が前記本体に形成された弁座に着座
した時に前記本体と前記弁体とが電気的に接続さ
れるスイツチが構成されたスイツチ付弁装置にお
いて、前記薄膜層が所要の金属と反応ガスとの化
合物から成り、前記薄膜層が前記金属から成る金
属層を介して前記弁体の前記外周面に被着されて
おり、且つ、前記薄膜層はその絶縁度が前記弁体
の表面側から前記案内孔の壁面側に向けて連続的
に高くなるよう物理蒸着法により形成されている
ことを特徴とするスイツチ付弁装置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59035341A JPS60182351A (ja) | 1984-02-28 | 1984-02-28 | スイツチ付弁装置 |
| DE3506978A DE3506978C2 (de) | 1984-02-28 | 1985-02-27 | Ventileinheit mit einem Schalter |
| GB8505041A GB2154658B (en) | 1984-02-28 | 1985-02-27 | Valve unit including a switch |
| KR1019850001232A KR900008966B1 (ko) | 1984-02-28 | 1985-02-27 | 밸브 장치 |
| US06/948,437 US4784178A (en) | 1984-02-28 | 1986-12-31 | Valve unit |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59035341A JPS60182351A (ja) | 1984-02-28 | 1984-02-28 | スイツチ付弁装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60182351A JPS60182351A (ja) | 1985-09-17 |
| JPH0312663B2 true JPH0312663B2 (ja) | 1991-02-20 |
Family
ID=12439150
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59035341A Granted JPS60182351A (ja) | 1984-02-28 | 1984-02-28 | スイツチ付弁装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4784178A (ja) |
| JP (1) | JPS60182351A (ja) |
| KR (1) | KR900008966B1 (ja) |
| DE (1) | DE3506978C2 (ja) |
| GB (1) | GB2154658B (ja) |
Families Citing this family (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0237339Y2 (ja) * | 1985-01-22 | 1990-10-09 | ||
| CH664163A5 (de) * | 1985-03-01 | 1988-02-15 | Balzers Hochvakuum | Verfahren zum reaktiven aufdampfen von schichten aus oxiden, nitriden, oxynitriden und karbiden. |
| DE3606529A1 (de) * | 1986-02-28 | 1987-09-03 | Glyco Metall Werke | Verfahren zur herstellung von schichtwerkstoff oder schichtwerkstuecken durch aufdampfen mindestens eines metallischen werkstoffes auf ein metallisches substrat |
| AU5270490A (en) * | 1989-03-07 | 1990-10-09 | Karl Holm | An atomizing nozzle device for atomizing a fluid and an inhaler |
| GB2248088A (en) * | 1990-09-18 | 1992-03-25 | Lucas Ind Plc | I.C. Engine fuel injection nozzle |
| US5143118A (en) * | 1991-02-14 | 1992-09-01 | Akos Sule | Solenoid control valve |
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| WO2017167627A1 (fr) | 2016-04-01 | 2017-10-05 | Delphi International Operations Luxembourg S.À R.L. | Injecteur de carburant |
| DE102020108665A1 (de) * | 2020-03-30 | 2021-09-30 | Liebherr-Components Deggendorf Gmbh | Düsennadel für einen Kraftstoffinjektor und Injektorgehäuse für eine Düsennadel |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US3996551A (en) * | 1975-10-20 | 1976-12-07 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Chromium-silicon oxide thin film resistors |
| DE2605174B2 (de) * | 1976-02-10 | 1978-07-27 | Resista Fabrik Elektrischer Widerstaende Gmbh, 8300 Landshut | Verfahren zur Herstellung von Dünnschicht-Widerstandselementen |
| US4111178A (en) * | 1976-11-08 | 1978-09-05 | General Motors Corporation | Ignition system for use with fuel injected-spark ignited internal combustion engines |
| DE2724498C2 (de) * | 1977-05-31 | 1982-06-03 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Elektrischer Schichtwiderstand und Verfahren zu seiner Herstellung |
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| DE3029721A1 (de) * | 1980-08-06 | 1982-03-04 | Robert Bosch Gmbh, 7000 Stuttgart | Kraftstoff-einspritzventil fuer brennkraftmaschinen |
| US4327122A (en) * | 1980-08-13 | 1982-04-27 | General Motors Corporation | Evaporated electrodes for zirconia exhaust gas oxygen sensors |
| DE3117779A1 (de) * | 1981-05-06 | 1982-11-25 | Robert Bosch Gmbh, 7000 Stuttgart | "kraftstoff-einspritzduese fuer brennkraftmaschinen" |
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-
1984
- 1984-02-28 JP JP59035341A patent/JPS60182351A/ja active Granted
-
1985
- 1985-02-27 KR KR1019850001232A patent/KR900008966B1/ko not_active Expired
- 1985-02-27 GB GB8505041A patent/GB2154658B/en not_active Expired
- 1985-02-27 DE DE3506978A patent/DE3506978C2/de not_active Expired
-
1986
- 1986-12-31 US US06/948,437 patent/US4784178A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
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|---|---|
| JPS60182351A (ja) | 1985-09-17 |
| KR900008966B1 (ko) | 1990-12-15 |
| GB2154658A (en) | 1985-09-11 |
| GB8505041D0 (en) | 1985-03-27 |
| DE3506978A1 (de) | 1985-09-12 |
| KR850006598A (ko) | 1985-10-14 |
| DE3506978C2 (de) | 1987-02-12 |
| US4784178A (en) | 1988-11-15 |
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