JPH03126644A - 反射鏡の製造方法 - Google Patents
反射鏡の製造方法Info
- Publication number
- JPH03126644A JPH03126644A JP26721889A JP26721889A JPH03126644A JP H03126644 A JPH03126644 A JP H03126644A JP 26721889 A JP26721889 A JP 26721889A JP 26721889 A JP26721889 A JP 26721889A JP H03126644 A JPH03126644 A JP H03126644A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating
- aluminum
- glass substrate
- reflecting mirror
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、ガラス基板の表面に、アルミニウムの全反
射膜をコーティングする反射鏡の製造方法に関する。
射膜をコーティングする反射鏡の製造方法に関する。
なお、以下の本明細書中において、二酸化ケイ素は５ｉ
ｎ２と元素記号で表現し、その他の物質も、特段の注記
をせずに適宜元素記号で表現するものとする。
ｎ２と元素記号で表現し、その他の物質も、特段の注記
をせずに適宜元素記号で表現するものとする。
従来、ガラス基板にアルミニウムの不透明膜をコーティ
ングする際には、ガラス基板にアルミニウムのみを直接
コーティングしていた。
ングする際には、ガラス基板にアルミニウムのみを直接
コーティングしていた。
従来ガラス基板の表面にアルミニウムをコーティングす
る前には、当然のことながら、ガラス基板の表面は充分
に清浄している。しかし、それでもガラス基板表面とア
ルミニウム層との付着が完全に行われず、美しい反射面
が得られないことが少なくなかった。
る前には、当然のことながら、ガラス基板の表面は充分
に清浄している。しかし、それでもガラス基板表面とア
ルミニウム層との付着が完全に行われず、美しい反射面
が得られないことが少なくなかった。
また、従来の反射鏡には、多数の微細な光る点（以下「
光点」という）ができることが少なくなかった。光点に
は、顕微鏡で２０倍程度の倍率で容易に観察できる大き
さのものから非常に微細な、ものまで、さまざまな大き
さのものがあり、光点が存在すると、きれいな反射面を
得ることができない。
光点」という）ができることが少なくなかった。光点に
は、顕微鏡で２０倍程度の倍率で容易に観察できる大き
さのものから非常に微細な、ものまで、さまざまな大き
さのものがあり、光点が存在すると、きれいな反射面を
得ることができない。
本発明は、従来のそのような欠点を解消し、ガラス基板
に対するコーティング層の付着状態が良く、光点などの
ない美しい反射面を得ることができる反射鏡の製造方法
を提供することを目的とする。
に対するコーティング層の付着状態が良く、光点などの
ない美しい反射面を得ることができる反射鏡の製造方法
を提供することを目的とする。
上記の目的を達成するため、本発明の反射鏡の製造方法
は、ガラス基板の表面に、まず、下地層として二酸化ケ
イ素層をコーティングし、その表面にアルミニウム層を
コーティングすることを特徴とする。
は、ガラス基板の表面に、まず、下地層として二酸化ケ
イ素層をコーティングし、その表面にアルミニウム層を
コーティングすることを特徴とする。
なお、上記二酸化ケイ素層の幾何学的膜厚を常温で２５
ないし３０ｎｍとして、そのコーティングを行う際に、
終盤で漸次コーティング速度を遅くして４０ないし６０
秒間でコーティングを行い、その後のアルミニウム層の
コーティングは、常温ないし５０℃の温度で３ないし６
分間で全反射をするまで行うのがよい。
ないし３０ｎｍとして、そのコーティングを行う際に、
終盤で漸次コーティング速度を遅くして４０ないし６０
秒間でコーティングを行い、その後のアルミニウム層の
コーティングは、常温ないし５０℃の温度で３ないし６
分間で全反射をするまで行うのがよい。
下地層の５ｉ０２はガラス基板の主成分と同じなので、
下地層とガラス基板表面とは良好に付着する。
下地層とガラス基板表面とは良好に付着する。
そして、ＳｉＯ２をコーティングした後その表面にアル
ミニウム層をコーティングすることにより、アルミニウ
ムは、清浄なＳｉＯ２層に良好に付着すると共に、適当
なコーティング速度を選択することにより、光点の発生
のない反射面を得ることができる。
ミニウム層をコーティングすることにより、アルミニウ
ムは、清浄なＳｉＯ２層に良好に付着すると共に、適当
なコーティング速度を選択することにより、光点の発生
のない反射面を得ることができる。
光点の発生原因について、発明者は種々の分析を行い、
室内環境に浮遊する有機物がガラス基板表面に付着し、
その上にアルミニウムがコーティングされることによっ
て光点が発生することをつきとめた。
室内環境に浮遊する有機物がガラス基板表面に付着し、
その上にアルミニウムがコーティングされることによっ
て光点が発生することをつきとめた。
第３図は、各コーティングを室温で行ったガラス／銀／
銅／空気／の多層コーチ゛イング膜断面の正常部分の元
素分析結果を示しており、各層が明瞭に分解して積層し
ている。これに対して、異常部分、即ち光点の部分は、
第４図に示されるように多層の明瞭な積層がなく、銀と
銅とが混在している。さらに、ガラス基板面付近にまで
炭素が検出されており、有機物の存在が明らかになった
。
銅／空気／の多層コーチ゛イング膜断面の正常部分の元
素分析結果を示しており、各層が明瞭に分解して積層し
ている。これに対して、異常部分、即ち光点の部分は、
第４図に示されるように多層の明瞭な積層がなく、銀と
銅とが混在している。さらに、ガラス基板面付近にまで
炭素が検出されており、有機物の存在が明らかになった
。
第５図及び第６図は、ガラス／５ｉＯｚ／ＡＩ／ＭｇＦ
２／ＴｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３／空気からなるアルミニウム
増反射鏡の正常部分と光点部分の元素分析結果を示して
おり、やはり、正常部分（第５図）では積層がみられ、
光点部分（第６図）では各物質が混在している。なお、
このコーティングは、ガラス基板から第３層のＭｇＦ２
から後のコーティングは２４０℃の加熱コートであり、
その部分では有機物が外界に放出される結果、ガラス基
板面付近にはＣが現れていない。
２／ＴｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３／空気からなるアルミニウム
増反射鏡の正常部分と光点部分の元素分析結果を示して
おり、やはり、正常部分（第５図）では積層がみられ、
光点部分（第６図）では各物質が混在している。なお、
このコーティングは、ガラス基板から第３層のＭｇＦ２
から後のコーティングは２４０℃の加熱コートであり、
その部分では有機物が外界に放出される結果、ガラス基
板面付近にはＣが現れていない。
また、５ｔｏ２は水と化学的に結び易いので、水が存在
する可能性もあるが、発明者が用いたオージェ分析等で
は検出はできないので現れていない。
する可能性もあるが、発明者が用いたオージェ分析等で
は検出はできないので現れていない。
次に、第１図は本発明の反射鏡の製造方法の一実施例の
工程を示しており、第２図はそれによって形成される反
射鏡の断面を示している。
工程を示しており、第２図はそれによって形成される反
射鏡の断面を示している。
ここでは、まず最初にガラス基板ｌの処理を行う。即ち
、軽いバニッシングによって有機物を浮かした後、もの
によってはアルカリ処理をして、一般的な超音波洗浄を
行う。そして、次の蒸着工程に移るまでの間、クリーン
ベンチで保管する。
、軽いバニッシングによって有機物を浮かした後、もの
によってはアルカリ処理をして、一般的な超音波洗浄を
行う。そして、次の蒸着工程に移るまでの間、クリーン
ベンチで保管する。
次に゛、真空蒸着器内に、蒸着材料であるＳｉＯ２、ア
ルミニウムと被蒸着光学部品であるガラス部品とをセッ
トし、その真空蒸着器内を１．５×１０−’ｔｏｒｒ、
程度迄排気する。真空度が到達したならば、下地層であ
るＳｉＯ□を常温のままコーティングする。
ルミニウムと被蒸着光学部品であるガラス部品とをセッ
トし、その真空蒸着器内を１．５×１０−’ｔｏｒｒ、
程度迄排気する。真空度が到達したならば、下地層であ
るＳｉＯ□を常温のままコーティングする。
５ｉｎ２被膜２は幾何学的膜厚で約２７ｎｍとなってい
て、最初に３５秒位で約２０ｎｍ、その後、徐々にコー
トスピードを遅くしながら１５秒間位で約７ｎｍと、速
度を変えてコーティングする。
て、最初に３５秒位で約２０ｎｍ、その後、徐々にコー
トスピードを遅くしながら１５秒間位で約７ｎｍと、速
度を変えてコーティングする。
次にアルミニウム２をコーティングする。５ｉ（１゜コ
ーティング中に真空蒸着器内の温度が上昇するので、温
度が下がるのを待って、５０’Ｃを越えない様にコーテ
ィングを行う。コーティングスピードは、アルミニウム
が３〜６分で全反射となるようにする。
ーティング中に真空蒸着器内の温度が上昇するので、温
度が下がるのを待って、５０’Ｃを越えない様にコーテ
ィングを行う。コーティングスピードは、アルミニウム
が３〜６分で全反射となるようにする。
次に、上記実施例の作用についてさらに詳しく説明する
。
。
最初のガラス基板処理については、処理後直ちに５ｉｎ
２をコーティングしたものには光点が現れず、処理後時
間を置いてコーティングしたものには光点が現れること
から、その後の保管状態の時に有機物の付着があること
がわかる。
２をコーティングしたものには光点が現れず、処理後時
間を置いてコーティングしたものには光点が現れること
から、その後の保管状態の時に有機物の付着があること
がわかる。
次に下地材料の選択についてであるが、下地材料ＳｉＯ
２を用いて、ガラス／下地材料／アルミニウム／空気の
順にコーティングした時の膜面ば、他の下地材料として
Ｃｒ、Ｎ＋、Ｇｅ、ＴｉＯ２，Ａｌ□（Ｌ＋を用いたも
のと比較して、最良であった。Ｎｉ、Ａｌ□ｏ３には曇
りが発生している。５ｉｎ２を選んだのは、他の下地材
料に比べて融点が高い割に、基板温度が余り上昇しない
こともその理由である。
２を用いて、ガラス／下地材料／アルミニウム／空気の
順にコーティングした時の膜面ば、他の下地材料として
Ｃｒ、Ｎ＋、Ｇｅ、ＴｉＯ２，Ａｌ□（Ｌ＋を用いたも
のと比較して、最良であった。Ｎｉ、Ａｌ□ｏ３には曇
りが発生している。５ｉｎ２を選んだのは、他の下地材
料に比べて融点が高い割に、基板温度が余り上昇しない
こともその理由である。
次に、５ｉＯ７のコーティングスピード及び膜厚は、常
温のもとで次の５種類のコーティングを行って検討した
。
温のもとで次の５種類のコーティングを行って検討した
。
その結果は次のとおりであった。
実験の結果では、Ｎｏ、５が最も美しい反射面が得られ
た。Ｎｏ、Ｉも比較的美しい反射面が得られた。
た。Ｎｏ、Ｉも比較的美しい反射面が得られた。
Ｎｏ、１とＮｏ、５とは、コーティング時間及び幾何学
的膜厚ともほぼ同じである。しかし、Ｎｏ−１は０．
５ｉｍ／秒の一定速度でコーティングを行ったのに対し
、Ｎｏ、５は膜厚２０ｎｍまでは０．５ｉｍ／秒の一定
速度でコーティングを行い、その後徐々にコーティング
速度を遅くして２７ｉｍでコーティングを終了したもの
である。
的膜厚ともほぼ同じである。しかし、Ｎｏ−１は０．
５ｉｍ／秒の一定速度でコーティングを行ったのに対し
、Ｎｏ、５は膜厚２０ｎｍまでは０．５ｉｍ／秒の一定
速度でコーティングを行い、その後徐々にコーティング
速度を遅くして２７ｉｍでコーティングを終了したもの
である。
なお、Ｎ００５については、幾何学的膜厚が２５ｉｍか
ら３０ｉｍの範囲において非常に美しい反射面が得られ
た。
ら３０ｉｍの範囲において非常に美しい反射面が得られ
た。
さらにアルミニウムコーティング速度を次の３種類で検
討した。評価は、ガラス／ Ｓ ｉ Ｏ□／アルミニウ
ム／空気による反射面を観察することにより行った。
討した。評価は、ガラス／ Ｓ ｉ Ｏ□／アルミニウ
ム／空気による反射面を観察することにより行った。
その結果は次のとおりであった。
このように、アルミニウムは、３ないし６分で全反射と
なる速度でコーティングすれば非常に美しい反射面が得
られる。これは、金属膜ではコーティング速度が速いと
凝集効果が小さく隙間のない連続膜となるので、有機物
またはその他の異物が蒸発する経路を失い、アルミニウ
ム膜をふくらませるか或いは破壊することによって光点
を発生させ、コーティング速度が遅いと凝集効果が大き
く、大きなブレーンサイズの低密度膜となる傾向が強い
ので、残留している有機物その他の異物は蒸発或いは飛
散してしまい、光点のない美しい膜になるものと考えら
れる。
なる速度でコーティングすれば非常に美しい反射面が得
られる。これは、金属膜ではコーティング速度が速いと
凝集効果が小さく隙間のない連続膜となるので、有機物
またはその他の異物が蒸発する経路を失い、アルミニウ
ム膜をふくらませるか或いは破壊することによって光点
を発生させ、コーティング速度が遅いと凝集効果が大き
く、大きなブレーンサイズの低密度膜となる傾向が強い
ので、残留している有機物その他の異物は蒸発或いは飛
散してしまい、光点のない美しい膜になるものと考えら
れる。
下地層としてガラス基板の主成分と同じＳｉＯ２を用い
たので、下地層がガラス基板表面と良好に付着し、さら
にアルミニウムが、清浄なＳｉＯ２層に良好に付着する
ので、適当なコーティング速度を選択することにより、
光点の発生のない美しい反射面を得ることができる。
たので、下地層がガラス基板表面と良好に付着し、さら
にアルミニウムが、清浄なＳｉＯ２層に良好に付着する
ので、適当なコーティング速度を選択することにより、
光点の発生のない美しい反射面を得ることができる。
本発明は特に、薄い下地層コーティングを必要とする常
温コーティングに対して有効であり、アルミニウム反射
面だけでなく全誘電体構成の膜にも適用することができ
る。
温コーティングに対して有効であり、アルミニウム反射
面だけでなく全誘電体構成の膜にも適用することができ
る。
第１図は、本発明の製造方法の一実施例を示すフロー図
、 第２図はその実施例により製造される反射鏡の断面図、 第３図ないし第６図は、実験による反射鏡の断１ 面方向成分の分析結果を示す線図である。 ｌ・・・ガラス基板、 ２・・・ＳｉＯ２層、 ３・・・アルミニウム層。
、 第２図はその実施例により製造される反射鏡の断面図、 第３図ないし第６図は、実験による反射鏡の断１ 面方向成分の分析結果を示す線図である。 ｌ・・・ガラス基板、 ２・・・ＳｉＯ２層、 ３・・・アルミニウム層。
Claims (2)
- （１）ガラス基板の表面に、まず、下地層として二酸化
ケイ素層をコーティングし、その表面にアルミニウム層
をコーティングすることを特徴とする反射鏡の製造方法
。 - （２）上記二酸化ケイ素層の幾何学的膜厚を常温で２５
ないし３０ｎｍとして、そのコーティングを行う際に、
終盤で漸次コーティング速度を遅くして４０ないし６０
秒間でコーティングを行い、その後のアルミニウム層の
コーティングは、常温ないし５０℃の温度で３ないし６
分間で全反射をするまで行う請求項１記載の反射鏡の製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1267218A JPH0613418B2 (ja) | 1989-10-12 | 1989-10-12 | 反射鏡の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1267218A JPH0613418B2 (ja) | 1989-10-12 | 1989-10-12 | 反射鏡の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03126644A true JPH03126644A (ja) | 1991-05-29 |
| JPH0613418B2 JPH0613418B2 (ja) | 1994-02-23 |
Family
ID=17441779
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1267218A Expired - Lifetime JPH0613418B2 (ja) | 1989-10-12 | 1989-10-12 | 反射鏡の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0613418B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04285034A (ja) * | 1991-03-14 | 1992-10-09 | Tokai Rika Co Ltd | ブロンズ色ミラー |
| WO1996021631A1 (en) * | 1995-01-09 | 1996-07-18 | Pilkington Plc | Coatings on glass |
| WO1996021630A1 (en) * | 1995-01-09 | 1996-07-18 | Pilkington Plc | Coatings on glass |
| WO2000032530A1 (en) * | 1998-12-01 | 2000-06-08 | Pilkington Plc | Improvements in coating glass |
| JP2022096744A (ja) * | 2020-12-18 | 2022-06-30 | 日本電気硝子株式会社 | 反射膜付きガラス基板、ガラス積層体及び光学結像部材 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5489866A (en) * | 1977-12-27 | 1979-07-17 | Asahi Glass Co Ltd | Colored mirror |
-
1989
- 1989-10-12 JP JP1267218A patent/JPH0613418B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5489866A (en) * | 1977-12-27 | 1979-07-17 | Asahi Glass Co Ltd | Colored mirror |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04285034A (ja) * | 1991-03-14 | 1992-10-09 | Tokai Rika Co Ltd | ブロンズ色ミラー |
| WO1996021631A1 (en) * | 1995-01-09 | 1996-07-18 | Pilkington Plc | Coatings on glass |
| WO1996021630A1 (en) * | 1995-01-09 | 1996-07-18 | Pilkington Plc | Coatings on glass |
| US5861189A (en) * | 1995-01-09 | 1999-01-19 | Pilkington Plc | Method for producing mirrors by surface activation and pyrolytic deposition |
| WO2000032530A1 (en) * | 1998-12-01 | 2000-06-08 | Pilkington Plc | Improvements in coating glass |
| US6955833B1 (en) | 1998-12-01 | 2005-10-18 | Pilkington Plc | Coating glass |
| JP2022096744A (ja) * | 2020-12-18 | 2022-06-30 | 日本電気硝子株式会社 | 反射膜付きガラス基板、ガラス積層体及び光学結像部材 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0613418B2 (ja) | 1994-02-23 |
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