JPH03163402A - 反射鏡 - Google Patents
反射鏡Info
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- JPH03163402A JPH03163402A JP1301910A JP30191089A JPH03163402A JP H03163402 A JPH03163402 A JP H03163402A JP 1301910 A JP1301910 A JP 1301910A JP 30191089 A JP30191089 A JP 30191089A JP H03163402 A JPH03163402 A JP H03163402A
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- Japan
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- optical
- silicon
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はレーザ応用の製造装置、測定装置や、光通信や
光情報処理用の光学機器、ＯＡ機器、カメラなどの光学
応用機器などに用いられる反射鏡に関する。
光情報処理用の光学機器、ＯＡ機器、カメラなどの光学
応用機器などに用いられる反射鏡に関する。
レーザ応用機器や光学応用機器などにおいて、光学系を
構戒する部品として反射鏡が多用されているが、かかる
反射鏡としては、鏡面研摩した硝子基板あるいは金属基
板の表面にアルミニウム、銀、金、銅、クロムなどの金
属からなる反射膜を形成し、その上に機械的及び化学的
な耐久性を与えるための保護膜として一酸化珪素、弗化
マグネシウムなどの薄層を、あるいは更に反射率特性の
向上効果を兼ね備えるために二酸化ジルコニウム、二酸
化チタニウム、二酸化セリウムなどの薄層をそれぞれ単
層とレてまたは組み合わせて多層構威として設けたもの
が用いられていた。
構戒する部品として反射鏡が多用されているが、かかる
反射鏡としては、鏡面研摩した硝子基板あるいは金属基
板の表面にアルミニウム、銀、金、銅、クロムなどの金
属からなる反射膜を形成し、その上に機械的及び化学的
な耐久性を与えるための保護膜として一酸化珪素、弗化
マグネシウムなどの薄層を、あるいは更に反射率特性の
向上効果を兼ね備えるために二酸化ジルコニウム、二酸
化チタニウム、二酸化セリウムなどの薄層をそれぞれ単
層とレてまたは組み合わせて多層構威として設けたもの
が用いられていた。
このような従来の反射鏡は、各種装置に組み込んで使用
されているが、その表面にはホコリ、ゴミ、水分、ある
いは薬品などによる汚れが付くために、時々清拭用の布
や紙などを用いて洗浄液でクリーニングする必要がある
．しかしこのようなクリーニングを行なうと反射面に傷
や剥離が発生しやすいという欠点があり、また温度の変
化や湿度によって剥離や曇りなどが発生し、耐久性がよ
くないという問題もあった． そこで本発明は、上記の問題を解決して耐久性が優れて
いてクリーニングにも耐え、かつ光学特性も良好な反射
鏡を提供することを目的とした。
されているが、その表面にはホコリ、ゴミ、水分、ある
いは薬品などによる汚れが付くために、時々清拭用の布
や紙などを用いて洗浄液でクリーニングする必要がある
．しかしこのようなクリーニングを行なうと反射面に傷
や剥離が発生しやすいという欠点があり、また温度の変
化や湿度によって剥離や曇りなどが発生し、耐久性がよ
くないという問題もあった． そこで本発明は、上記の問題を解決して耐久性が優れて
いてクリーニングにも耐え、かつ光学特性も良好な反射
鏡を提供することを目的とした。
かかる本発明の目的は、光学素子の基材面上に、金属層
または金属層と誘電体材料層とからなる反射膜層と、窒
化珪素と二酸化珪素との混合物からなる表面保護層とを
順に積層してなることを特徴とする反射鏡によって達戒
することができ、更に基材面と反射膜層との間に炭化珪
素からなる下層を設けることによって、より信頼性の優
れた反射鏡を提供することができる。
または金属層と誘電体材料層とからなる反射膜層と、窒
化珪素と二酸化珪素との混合物からなる表面保護層とを
順に積層してなることを特徴とする反射鏡によって達戒
することができ、更に基材面と反射膜層との間に炭化珪
素からなる下層を設けることによって、より信頼性の優
れた反射鏡を提供することができる。
本発明の反射鏡を構或する基材は、表面を鏡面研摩した
硝子基板、金属基板などのほか合威樹脂などであっても
よい．かかる基材の面上には直接に反射膜層を設けても
よいが、炭化珪素からなる下層を例えば真空蒸着法、ス
パッタリング法、イオンブレーティング法などの薄膜形
戒法によって設けることができる．このような炭化珪素
からなる下層の存在により反射膜層の耐久性はさらに向
上する。この場合、下層の厚さは４００〜６００人の範
囲内にあることが好ましい。
硝子基板、金属基板などのほか合威樹脂などであっても
よい．かかる基材の面上には直接に反射膜層を設けても
よいが、炭化珪素からなる下層を例えば真空蒸着法、ス
パッタリング法、イオンブレーティング法などの薄膜形
戒法によって設けることができる．このような炭化珪素
からなる下層の存在により反射膜層の耐久性はさらに向
上する。この場合、下層の厚さは４００〜６００人の範
囲内にあることが好ましい。
本発明の反射鏡の反射膜層を構戒する金属は従来から反
射膜を形或するに用いられている公知の金属、例えばア
ルミニウム、銀、金、銅、クロムなどであってよく、か
かる金属層は前記の下層と同様の薄膜形戒法などによっ
て形戊することができ、その厚さは１０００〜２０００
人の範囲内にあることが好ましい．また、同じく反射膜
層の一部を構戒する誘電体材料層は、例えば二酸化ジル
コニウム、二酸化チタニウム、二酸化セリウ．ムなどや
二酸化珪素、弗化マグネシウムなどの薄層を単層として
、あるいは二酸化ジルコニウム、二酸化チタニウム、二
酸化セリウムなどの薄層と二酸化珪素、弗化マグネシウ
ムなどの薄層とを積層した複合層として形威したもので
あってよい．かかる誘電体材料層は、前記と同様の薄膜
形戒法などによって前記の金属層の上に積層して形威さ
れるが、その厚さは使用する光の波長の１／４または１
／２程度であることが好ましい。
射膜を形或するに用いられている公知の金属、例えばア
ルミニウム、銀、金、銅、クロムなどであってよく、か
かる金属層は前記の下層と同様の薄膜形戒法などによっ
て形戊することができ、その厚さは１０００〜２０００
人の範囲内にあることが好ましい．また、同じく反射膜
層の一部を構戒する誘電体材料層は、例えば二酸化ジル
コニウム、二酸化チタニウム、二酸化セリウ．ムなどや
二酸化珪素、弗化マグネシウムなどの薄層を単層として
、あるいは二酸化ジルコニウム、二酸化チタニウム、二
酸化セリウムなどの薄層と二酸化珪素、弗化マグネシウ
ムなどの薄層とを積層した複合層として形威したもので
あってよい．かかる誘電体材料層は、前記と同様の薄膜
形戒法などによって前記の金属層の上に積層して形威さ
れるが、その厚さは使用する光の波長の１／４または１
／２程度であることが好ましい。
更に、本発明の反射鏡の表面保護層となる窒化珪素と二
酸化珪素との混合物は、優位量の窒化珪素と劣位量の二
酸化珪素との混合物がよく、例えば９０〜７０％の窒化
珪素と３０〜ｌＯ％の二酸化珪素との混合物が好ましく
用いられる．かかる表面保護層は前記と同様の薄膜形或
法によって形成することができるが、その厚さは使用す
る光の波長の１／４または１／２程度であることが好ま
しい。
酸化珪素との混合物は、優位量の窒化珪素と劣位量の二
酸化珪素との混合物がよく、例えば９０〜７０％の窒化
珪素と３０〜ｌＯ％の二酸化珪素との混合物が好ましく
用いられる．かかる表面保護層は前記と同様の薄膜形或
法によって形成することができるが、その厚さは使用す
る光の波長の１／４または１／２程度であることが好ま
しい。
本発明の反射鏡は、高湿度下でも反射膜の剥離や腐食を
起こすことなく、また溶剤などの清浄液を含ませた布や
紙などで摩擦しても傷などが発生する恐れがない． 〔実施例１〕 フロート硝子（ＦＬ−５）からなる基板を充分に精密洗
浄し乾燥したのち保持具に取り付けて真空蒸着装置にセ
ットし、基板温度が１８０゜Ｃ、真空度がＩ Ｘ １
０−’〜３ Ｘ １ ０−’Ｔｏｒｒの戒膜条件でアル
ミニウムを蒸着し、厚さ１５００人の反射膜層を形威し
た。
起こすことなく、また溶剤などの清浄液を含ませた布や
紙などで摩擦しても傷などが発生する恐れがない． 〔実施例１〕 フロート硝子（ＦＬ−５）からなる基板を充分に精密洗
浄し乾燥したのち保持具に取り付けて真空蒸着装置にセ
ットし、基板温度が１８０゜Ｃ、真空度がＩ Ｘ １
０−’〜３ Ｘ １ ０−’Ｔｏｒｒの戒膜条件でアル
ミニウムを蒸着し、厚さ１５００人の反射膜層を形威し
た。
次に、窒化珪素と二酸化珪素との重量比８５：１５の混
合物のターゲットを用い、基板温度を１８０“Ｃとして
電子ビーム加熱により反射膜層の上に蒸着して、光学的
膜厚が使用波長の１／４に相当する表面保［！ｉを形威
した． こうして得た反射鏡Ａの断面構戒は第１図に示すとおり
である．ここで、１は基板、３は反射膜層、４は表面保
護層である． この反射鏡Ａについて５０゜Ｃ，ＲＨ９０％の雰囲気下
で７２時間の耐湿性試験を行なったが何らの変化も認め
られず、またエタノール・エーテル混合洗浄液を含ませ
た布で摩擦するクリーニング試験を行なったが、傷や剥
離などは発生しなかった。
合物のターゲットを用い、基板温度を１８０“Ｃとして
電子ビーム加熱により反射膜層の上に蒸着して、光学的
膜厚が使用波長の１／４に相当する表面保［！ｉを形威
した． こうして得た反射鏡Ａの断面構戒は第１図に示すとおり
である．ここで、１は基板、３は反射膜層、４は表面保
護層である． この反射鏡Ａについて５０゜Ｃ，ＲＨ９０％の雰囲気下
で７２時間の耐湿性試験を行なったが何らの変化も認め
られず、またエタノール・エーテル混合洗浄液を含ませ
た布で摩擦するクリーニング試験を行なったが、傷や剥
離などは発生しなかった。
なお反射鏡八の光学特性を第３図に示した。
〔実施例２〕
実施例１と同様な基板を用い、実施例１と同様の方法に
よって、まず厚さ１２００人のアル主ニウムの反射膜層
を形威した。次いで基板の温度を２７０゜Ｃとして、ア
ルミニウム層の上に光学的膜厚が使用波長の１／４に相
当する弗化マグネシウム膜を形威した。
よって、まず厚さ１２００人のアル主ニウムの反射膜層
を形威した。次いで基板の温度を２７０゜Ｃとして、ア
ルミニウム層の上に光学的膜厚が使用波長の１／４に相
当する弗化マグネシウム膜を形威した。
次に実施例１と同様の方法によって、窒化珪素と二酸化
珪素との重量比８０ ： ２０の混合物のターゲットを
用い、電子ビーム加熱により反射膜層の上に蒸着して、
光学的膜厚が使用波長の１／４に相当する表面保護層を
形戒した。
珪素との重量比８０ ： ２０の混合物のターゲットを
用い、電子ビーム加熱により反射膜層の上に蒸着して、
光学的膜厚が使用波長の１／４に相当する表面保護層を
形戒した。
こうして得た反射鏡Ｂについて実施例１と同様に耐湿性
試験及びクリーニング試験を行なったところ、反射鏡Ａ
とほぼ同等の結果が得られた．なお反射鏡Ｂの光学特性
を第４図に示した。
試験及びクリーニング試験を行なったところ、反射鏡Ａ
とほぼ同等の結果が得られた．なお反射鏡Ｂの光学特性
を第４図に示した。
〔実施例３〕
光学硝子（ＢＫ７）からなる基板を充分に精密洗浄し乾
燥したのち保持具に取り付けて真空蒸着装置にセットし
、基板温度が２５０゜Ｃ、真空度がＩ Ｘ １ ０−’
〜３ Ｘ １ ０−’Ｔｏｒｒの成膜条件で炭化珪素を
蒸着し、厚さ５００人の下層を形威した．続いて基板温
度を２００゜Ｃとして金を蒸着し、厚さ２０００人の反
射膜層を形威した．次に実施例１と同様の方法によって
、窒化珪素と二酸化珪素との重量比８０ ： ２０の混
合物のターゲットを用い、電子ビーム加熱により反射膜
層の上に蒸着して、光学的膜厚が使用波長の１／２に相
当する表面保護層を形威した。
燥したのち保持具に取り付けて真空蒸着装置にセットし
、基板温度が２５０゜Ｃ、真空度がＩ Ｘ １ ０−’
〜３ Ｘ １ ０−’Ｔｏｒｒの成膜条件で炭化珪素を
蒸着し、厚さ５００人の下層を形威した．続いて基板温
度を２００゜Ｃとして金を蒸着し、厚さ２０００人の反
射膜層を形威した．次に実施例１と同様の方法によって
、窒化珪素と二酸化珪素との重量比８０ ： ２０の混
合物のターゲットを用い、電子ビーム加熱により反射膜
層の上に蒸着して、光学的膜厚が使用波長の１／２に相
当する表面保護層を形威した。
こうして得た反射鏡Ｃの断面構或は第２図に示すとおり
である．ここで、１は基板、２は下層、３は反射ＷＡ層
、４は表面保護層である．この反射鏡Ｃについて耐湿性
試験及びクリ一二ング試験を行なったところ、反射鏡Ａ
に優るとも劣らない結果が得られた。また、粘着テープ
を用いた膜の密着性試験を行なったが、剥離は全く認め
られなかった。
である．ここで、１は基板、２は下層、３は反射ＷＡ層
、４は表面保護層である．この反射鏡Ｃについて耐湿性
試験及びクリ一二ング試験を行なったところ、反射鏡Ａ
に優るとも劣らない結果が得られた。また、粘着テープ
を用いた膜の密着性試験を行なったが、剥離は全く認め
られなかった。
なお反射鏡Ｃの光学特性を第５図に示した。
〔実施例４〕
パイレックス硝子からなる基板を用いて実施例３と同様
の方法によって、まず厚さ４００人の炭化珪素の下層を
形威した。
の方法によって、まず厚さ４００人の炭化珪素の下層を
形威した。
続いて温度を２００″Ｃとして銅を蒸着し、厚さ１８０
０人の反射膜層を形威した。
０人の反射膜層を形威した。
次に実施例１と同様の方法によって、窒化珪素と二酸化
珪素との重量比８５ ： １５の混合物のターゲットを
用い、電子ビーム加熱により反射膜層の上に蒸着して、
光学的膜厚が使用波長の１７２に相当する表面保Ｓｔ層
を形戒した。
珪素との重量比８５ ： １５の混合物のターゲットを
用い、電子ビーム加熱により反射膜層の上に蒸着して、
光学的膜厚が使用波長の１７２に相当する表面保Ｓｔ層
を形戒した。
こうして得た反射鏡Ｄについて耐湿性試験及びクリーニ
ング試験を行なったところ、反射鏡Ｃとほぼ同等の結果
が得られた。
ング試験を行なったところ、反射鏡Ｃとほぼ同等の結果
が得られた。
なお反射鏡Ｄの光学特性を第６図に示した。
〔実施例５〕
表面を研摩した銅、タングステン、モリブデン、珪素の
基板を用いた他は、実施例１と同様にしてそれぞれ反射
鏡Ｅ，Ｆ，Ｇ，Ｈを作威した。
基板を用いた他は、実施例１と同様にしてそれぞれ反射
鏡Ｅ，Ｆ，Ｇ，Ｈを作威した。
これらの反射鏡Ｅ，Ｆ，Ｇ，Ｈについて耐湿性試験及び
クリーニング試験を行なったところ、反射鏡Ａとほぼ同
等の結果が得られた。
クリーニング試験を行なったところ、反射鏡Ａとほぼ同
等の結果が得られた。
窒化珪素と二酸化珪素とからなる表面保護層の代わりに
光学的膜厚が使用波長の１／２に相当する酸化珪素から
なる表面保護層を積層して設けたほかは実施例１と全く
同様にして、反射鏡ａを作威した． この反射鏡ａについて耐湿性試験を行なったところ腐食
によって曇りが発生した．またクリーニング試験を行な
ったところ傷や剥離が発生した．なお反射鏡ａの光学特
性を第７図に示した．〔比較例２〕 窒化珪素と二酸化珪素とからなる表面保護層の代わりに
光学的膜厚が使用波長の１／４に相当する酸化珪素から
なる表面保護層を積層して設けたほかは実施例２と全く
同様にして、反射ｉｂを作成した． この反射鏡ｂについて耐湿性試験を行なったところ腐食
の発生が認められた。またクリーニング試験では傷が発
生した． 〔比較例３〕 光学硝子（ＢＫ７）からなる基板を用いて実施例１と同
様の方法によって、まず厚さ８０人のクロムの反射膜層
を形成し、更に厚さ２０００人の金の薄ｌｐＪ層を形威
して、反射鏡Ｃを作威した。
光学的膜厚が使用波長の１／２に相当する酸化珪素から
なる表面保護層を積層して設けたほかは実施例１と全く
同様にして、反射鏡ａを作威した． この反射鏡ａについて耐湿性試験を行なったところ腐食
によって曇りが発生した．またクリーニング試験を行な
ったところ傷や剥離が発生した．なお反射鏡ａの光学特
性を第７図に示した．〔比較例２〕 窒化珪素と二酸化珪素とからなる表面保護層の代わりに
光学的膜厚が使用波長の１／４に相当する酸化珪素から
なる表面保護層を積層して設けたほかは実施例２と全く
同様にして、反射ｉｂを作成した． この反射鏡ｂについて耐湿性試験を行なったところ腐食
の発生が認められた。またクリーニング試験では傷が発
生した． 〔比較例３〕 光学硝子（ＢＫ７）からなる基板を用いて実施例１と同
様の方法によって、まず厚さ８０人のクロムの反射膜層
を形成し、更に厚さ２０００人の金の薄ｌｐＪ層を形威
して、反射鏡Ｃを作威した。
この反射鏡Ｃは、耐湿性試験及び膜の密着性試験では合
格であったが、クリーニング試験では傷と部分的な剥離
が発生した． 〔比較例４〕 パイレックス硝子からなる基板を用いて実施例ｌと同様
の方法によって、まず厚さ１８００人の銅の反射膜層を
形成し、次いでその上に光学的膜厚が使用波長の１／４
に相当する二酸化珪素からなる表面保護層を積層して設
けて、反射鏡ｄを作威した。
格であったが、クリーニング試験では傷と部分的な剥離
が発生した． 〔比較例４〕 パイレックス硝子からなる基板を用いて実施例ｌと同様
の方法によって、まず厚さ１８００人の銅の反射膜層を
形成し、次いでその上に光学的膜厚が使用波長の１／４
に相当する二酸化珪素からなる表面保護層を積層して設
けて、反射鏡ｄを作威した。
この反射鏡ｄは、耐湿性試験では膜の腐食の発生が認め
られ、またクリーニング試験では傷が発生した。
られ、またクリーニング試験では傷が発生した。
本発明の反射鏡は、光学的特性がよく、膜の密着性、耐
湿性、耐磨耗性、耐薬品性などに優れていて耐久性が高
いので、長期間にわたって安定した使用ができる利点が
ある．
湿性、耐磨耗性、耐薬品性などに優れていて耐久性が高
いので、長期間にわたって安定した使用ができる利点が
ある．
第１図及び第２図は本発明の反射鏡の構威を示す断面図
である。 第３図ないし第６図は本発明の反射鏡の例の光学的特性
を示すグラフであり、 第７図は比較例である従来の反射鏡の光学的特性を示す
グラフである。 １・・・基板、２・・・下層、３・・・反射膜層、４・
・・表面保護層。
である。 第３図ないし第６図は本発明の反射鏡の例の光学的特性
を示すグラフであり、 第７図は比較例である従来の反射鏡の光学的特性を示す
グラフである。 １・・・基板、２・・・下層、３・・・反射膜層、４・
・・表面保護層。
Claims (2)
- （１）光学素子の基材面上に、金属層または金属層と誘
電体材料層とからなる反射膜層と、窒化珪素と二酸化珪
素との混合物からなる表面保護層とを順に積層してなる
ことを特徴とする反射鏡。 - （２）光学素子の基材面上に、炭化珪素からなる下層と
、金属層または金属層と誘電体材料層とからなる反射膜
層と、窒化珪素と二酸化珪素との混合物からなる表面保
護層とを順に積層してなることを特徴とする反射鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1301910A JP2787987B2 (ja) | 1989-11-22 | 1989-11-22 | 反射鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1301910A JP2787987B2 (ja) | 1989-11-22 | 1989-11-22 | 反射鏡 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03163402A true JPH03163402A (ja) | 1991-07-15 |
| JP2787987B2 JP2787987B2 (ja) | 1998-08-20 |
Family
ID=17902585
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1301910A Expired - Fee Related JP2787987B2 (ja) | 1989-11-22 | 1989-11-22 | 反射鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2787987B2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000516353A (ja) * | 1996-08-21 | 2000-12-05 | デーウー・エレクトロニクス・カンパニー・リミテッド | 光ピックアップシステム用薄膜アクチュエーテッドミラーアレイ |
| KR100589240B1 (ko) * | 1999-07-02 | 2006-06-14 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | Ｅｕｖ 광학 요소의 캡핑 층 |
| CN102338896A (zh) * | 2010-07-28 | 2012-02-01 | 盛玉林 | 具有光扩散功能的反射片 |
| CN102338898A (zh) * | 2010-07-28 | 2012-02-01 | 盛玉林 | 反射片及其加工工艺 |
| US20170067142A1 (en) * | 2014-01-30 | 2017-03-09 | Shimadzu Corporation | Structure and film formation method |
| CN113249724A (zh) * | 2021-05-11 | 2021-08-13 | 中山大学 | 一种金属膜上沉积二氧化硅膜的方法 |
| CN119001940A (zh) * | 2024-08-15 | 2024-11-22 | 中国科学院半导体研究所 | 薄膜镜面及其制备方法 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104977635A (zh) * | 2014-04-02 | 2015-10-14 | 鸿威光电股份有限公司 | 反射片 |
-
1989
- 1989-11-22 JP JP1301910A patent/JP2787987B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000516353A (ja) * | 1996-08-21 | 2000-12-05 | デーウー・エレクトロニクス・カンパニー・リミテッド | 光ピックアップシステム用薄膜アクチュエーテッドミラーアレイ |
| KR100589240B1 (ko) * | 1999-07-02 | 2006-06-14 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | Ｅｕｖ 광학 요소의 캡핑 층 |
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| CN113249724A (zh) * | 2021-05-11 | 2021-08-13 | 中山大学 | 一种金属膜上沉积二氧化硅膜的方法 |
| CN113249724B (zh) * | 2021-05-11 | 2022-06-21 | 中山大学 | 一种金属膜上沉积二氧化硅膜的方法 |
| CN119001940A (zh) * | 2024-08-15 | 2024-11-22 | 中国科学院半导体研究所 | 薄膜镜面及其制备方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2787987B2 (ja) | 1998-08-20 |
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