JPH0312949A - ウエハキャリア保持装置 - Google Patents
ウエハキャリア保持装置Info
- Publication number
- JPH0312949A JPH0312949A JP1148703A JP14870389A JPH0312949A JP H0312949 A JPH0312949 A JP H0312949A JP 1148703 A JP1148703 A JP 1148703A JP 14870389 A JP14870389 A JP 14870389A JP H0312949 A JPH0312949 A JP H0312949A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- wafer carrier
- carrier
- holding device
- static electricity
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（概 要）
ウェハキャリア保持装置に関し、
ウェハキャリアに積載したウェハを保管する際、ウェハ
キャリアの材料によらずウェハの帯電を防止することが
できるウェハキャリア保持装置を提供することを目的と
し、 ウェハキャリアを８２するウェハキャリア保持装置にお
いて、前記ウェハキャリアの載置時に該ウェハキャリア
内のウェハの少なくとも一端が接触するようにウェハ接
触部が設けられていることを含み構成する。
キャリアの材料によらずウェハの帯電を防止することが
できるウェハキャリア保持装置を提供することを目的と
し、 ウェハキャリアを８２するウェハキャリア保持装置にお
いて、前記ウェハキャリアの載置時に該ウェハキャリア
内のウェハの少なくとも一端が接触するようにウェハ接
触部が設けられていることを含み構成する。
〔産業上の利用分野］
本発明は、ウェハキャリア保持装置に関する。
近年、半導体装置は微細化が一層進んでおり、ウェハへ
の塵の付着によって歩留りが左右される場合が多くなっ
ている。
の塵の付着によって歩留りが左右される場合が多くなっ
ている。
ウェハへの塵の付着は、ウェハの処理中或いはウェハの
保管中に起こる。特に、処理工程と処理工程との間にお
いてはウェハを長時間保管する必要があり、この場合ウ
ェハ表面に塵が付着する機会が多くなる。従って、歩留
り向上のためには、ウェハ保管中に塵の付着を防止する
ことが重要である。
保管中に起こる。特に、処理工程と処理工程との間にお
いてはウェハを長時間保管する必要があり、この場合ウ
ェハ表面に塵が付着する機会が多くなる。従って、歩留
り向上のためには、ウェハ保管中に塵の付着を防止する
ことが重要である。
従来、ウェハを保管する場合、そのまま薬液処理できる
テフロン製のウェハキャリアにウェハを積載して保管箱
に入れ、清浄な環境を維持したまま保管していた。
テフロン製のウェハキャリアにウェハを積載して保管箱
に入れ、清浄な環境を維持したまま保管していた。
ところで、ウェハキャリアは絶縁物でできているため、
ウェハキャリアには処理工程中に容易に静電気が誘起さ
れ、そのまま残存することになる。
ウェハキャリアには処理工程中に容易に静電気が誘起さ
れ、そのまま残存することになる。
従って、処理後ウェハを移し替えずにそのまま保管する
場合、積載されたウェハには静電気が誘起されることに
なる。
場合、積載されたウェハには静電気が誘起されることに
なる。
このため、長時間保管することによってウェハ表面には
保管箱中の塵がイ」着する。例えば、クラス１０程度の
清浄な雰囲気に保たれた保管箱中においても２０時間放
置すると、ウェハ表面には大きさが０．２μｍ以上の約
１００個の塵が付着することがレーザを用いた塵検出装
置で確認された。
保管箱中の塵がイ」着する。例えば、クラス１０程度の
清浄な雰囲気に保たれた保管箱中においても２０時間放
置すると、ウェハ表面には大きさが０．２μｍ以上の約
１００個の塵が付着することがレーザを用いた塵検出装
置で確認された。
このため、特に、パターンを微細化した場合には歩留り
の低下が著しくなるという問題がある。
の低下が著しくなるという問題がある。
これを解決するため、ウェハキャリアのテフロン材料に
炭素等の導電性物質を混合したり、ウェハキャリア表面
に導電性物質を塗布したりして、ウェハ接触部が設けら
れていることを特徴とするウェハキャリア保持装置によ
って達成される。
炭素等の導電性物質を混合したり、ウェハキャリア表面
に導電性物質を塗布したりして、ウェハ接触部が設けら
れていることを特徴とするウェハキャリア保持装置によ
って達成される。
本発明のウェハキャリア保持装置においては、ウェハキ
ャリアに積載されたウェハの一端がウェハキャリアと接
触するように導電性又は半導電性のウェハ接触部が設け
られている。
ャリアに積載されたウェハの一端がウェハキャリアと接
触するように導電性又は半導電性のウェハ接触部が設け
られている。
このため、ウェハキャリアが処理後静電気を帯びており
、その結果、ウェハに静電気が誘起されていても、ウェ
ハが積載されたウェハキャリアをウェハキャリア保持装
置に載置した場合、ウェハ接触部を接地することにより
、ウェハ接触部を介してウェハの静電気を除去できる。
、その結果、ウェハに静電気が誘起されていても、ウェ
ハが積載されたウェハキャリアをウェハキャリア保持装
置に載置した場合、ウェハ接触部を接地することにより
、ウェハ接触部を介してウェハの静電気を除去できる。
これにより、ウェハキャリアの材料が帯電しやすい絶縁
物質、例えばテフロンなどであっても、その材料によら
ず、保管中のウェハの帯電を防止することができる。
物質、例えばテフロンなどであっても、その材料によら
ず、保管中のウェハの帯電を防止することができる。
静電気が誘起するのを防止することが考えられる。
しかし、このウェハキャリアを用いて薬液処理を行うと
、ウェハキャリア表面の導電性物質が薬液におかされ、
ウェハキャリアが使用できなくなるという問題がある。
、ウェハキャリア表面の導電性物質が薬液におかされ、
ウェハキャリアが使用できなくなるという問題がある。
従って、薬液処理を行う場合、テフロン製のウェハキャ
リアに移し替えることが必要になる。しかし、ウェハを
移し替える際、塵が発生する機会を更に増やすことにな
り問題がある。
リアに移し替えることが必要になる。しかし、ウェハを
移し替える際、塵が発生する機会を更に増やすことにな
り問題がある。
本発明は、かかる従来の問題に鑑みてなされたもので、
ウェハキャリアに積載してウェハを保管する際、ウェハ
キャリアの材料によらずウェハの帯電を防止することが
できるウェハキャリア保持装置を提供することを目的と
するものである。
ウェハキャリアに積載してウェハを保管する際、ウェハ
キャリアの材料によらずウェハの帯電を防止することが
できるウェハキャリア保持装置を提供することを目的と
するものである。
（課題を解決するための手段〕
上記課題は、ウェハキャリアを載置するウェハキャリア
保持装置において、前記ウェハキャリアの載置時に該ウ
ェハキャリア内のウェハの少なくとも一端が接触するよ
うに導電性又は半導電性の〔実施例〕 次に、本発明の実施例について図を参照しながら説明す
る。
保持装置において、前記ウェハキャリアの載置時に該ウ
ェハキャリア内のウェハの少なくとも一端が接触するよ
うに導電性又は半導電性の〔実施例〕 次に、本発明の実施例について図を参照しながら説明す
る。
第１図は、本発明の実施例のウェハキャリア保持装置を
示す斜視図である。
示す斜視図である。
同図において、１は不図示のウェハキャリアを載置する
ためのステンレスからなる保持台、２はウェハキャリア
を所定の位置に固定するするため、保持台１の上の四隅
に設けられたステンレスからなるガイド、３は保持台１
のほぼ中央に設けられた幅約２ｃｍ、高さ約１ ｃｍ、
長さがウェハキャリアの長さ程度のウェハ接触部で、抵
抗率が１０５Ωｃｍのカーボン入りのテフロンからなり
、ウェハを積載したウェハキャリアが載置されるとき、
ウェハの一端が接触するように設けられている。そして
、少なくともウェハキャリアが載置されている間は接地
される。
ためのステンレスからなる保持台、２はウェハキャリア
を所定の位置に固定するするため、保持台１の上の四隅
に設けられたステンレスからなるガイド、３は保持台１
のほぼ中央に設けられた幅約２ｃｍ、高さ約１ ｃｍ、
長さがウェハキャリアの長さ程度のウェハ接触部で、抵
抗率が１０５Ωｃｍのカーボン入りのテフロンからなり
、ウェハを積載したウェハキャリアが載置されるとき、
ウェハの一端が接触するように設けられている。そして
、少なくともウェハキャリアが載置されている間は接地
される。
次に、このウェハキャリア保持装置を用いてウェハキャ
リアを保管する場合について第２図を参照しながら説明
する。同図はウェハキャリアがすでにウェハキャリア保
持装置に載置されている状態を示している。
リアを保管する場合について第２図を参照しながら説明
する。同図はウェハキャリアがすでにウェハキャリア保
持装置に載置されている状態を示している。
同図において、第１図の符号と同一の符号は第１図と同
一のものを示し、他の符号４はウェハキャリア保持装置
の保持台１上に載置されたテフロンからなるウェハキャ
リア、５はウェハキャリア４に積載された直径が４イン
チのＳｉウェハである。
一のものを示し、他の符号４はウェハキャリア保持装置
の保持台１上に載置されたテフロンからなるウェハキャ
リア、５はウェハキャリア４に積載された直径が４イン
チのＳｉウェハである。
まず、Ｓｉウェハ５上に残存するレジスト膜その他の有
機物を除去するため、Ｓｉウェハ５が積載されたウェハ
キャリア４を１１゜ｓ０４ ／ １１２０２の混合液に
浸漬した後、洗浄・乾燥する。このとき、ウェハキャリ
ア４はテフロンからなっているので、薬液にはおかされ
ない。しかし、薬液との摩擦によりウェハキャリア４に
は静電気が誘起され、ウェハキャリア４は帯電する。こ
の帯電電圧は約−１０，０ＯＯＶにもなる場合がある。
機物を除去するため、Ｓｉウェハ５が積載されたウェハ
キャリア４を１１゜ｓ０４ ／ １１２０２の混合液に
浸漬した後、洗浄・乾燥する。このとき、ウェハキャリ
ア４はテフロンからなっているので、薬液にはおかされ
ない。しかし、薬液との摩擦によりウェハキャリア４に
は静電気が誘起され、ウェハキャリア４は帯電する。こ
の帯電電圧は約−１０，０ＯＯＶにもなる場合がある。
従って、Ｓｉウェハ５にも同じくらいの静電気が誘起す
る。
る。
次に、Ｓｉウェハ５を保管するため、不図示の保管箱中
のウェハキャリア保持装置の保持台１上に乾燥の終わっ
たウェハキャリア４を載置する。このとき、Ｓｉウェハ
５の下部の一端が前もって接地されているウェハ接触部
３と接触する。その結果、Ｓｉウェハ５に誘起されてい
る静電気はこの半導電性のウェハ接触部３を介して接地
電極に逃げ始める。
のウェハキャリア保持装置の保持台１上に乾燥の終わっ
たウェハキャリア４を載置する。このとき、Ｓｉウェハ
５の下部の一端が前もって接地されているウェハ接触部
３と接触する。その結果、Ｓｉウェハ５に誘起されてい
る静電気はこの半導電性のウェハ接触部３を介して接地
電極に逃げ始める。
そして、この状態で２０時間放置した後、次の工程に入
るため保管箱から取り出す。
るため保管箱から取り出す。
ここで、Ｓｉウェハ５の表面に付着した大きさが０．２
μｍ以上の塵の個数をレーザ光を用いた塵の検出装置に
より測定してみると、塵の個数は約１０個で、従来の場
合の１／１０に相当するものであった。このようにＳｉ
ウェハ５の表面の塵が大幅に減少していることは、Ｓｉ
ウェハ５の静電気が十分に除去されていることを示して
いる。
μｍ以上の塵の個数をレーザ光を用いた塵の検出装置に
より測定してみると、塵の個数は約１０個で、従来の場
合の１／１０に相当するものであった。このようにＳｉ
ウェハ５の表面の塵が大幅に減少していることは、Ｓｉ
ウェハ５の静電気が十分に除去されていることを示して
いる。
このように、本発明のウェハキャリア保持装置によれば
、ウェハキャリア４の材料が静電気を誘起し易い絶縁材
料であっても、Ｓｉウェハ５の保管中、Ｓｉウェハ５ム
こ誘起される静電気を除去してＳｉウェハ５が帯電する
のを防止できるので、Ｓｉウェハ５表面に付着する塵を
大幅に減少させることができる。
、ウェハキャリア４の材料が静電気を誘起し易い絶縁材
料であっても、Ｓｉウェハ５の保管中、Ｓｉウェハ５ム
こ誘起される静電気を除去してＳｉウェハ５が帯電する
のを防止できるので、Ｓｉウェハ５表面に付着する塵を
大幅に減少させることができる。
これにより、半導体装置の歩留りを向−トさせることが
できる。また、ウェハキャリアは耐薬品性を有する材料
で製作できるので、薬液で処理する際にもＳｉウェハ５
を移し替える必要がない。従って、移し替えの際の塵の
発生を防止できるので、半導体装置の歩留りは更に向上
する。
できる。また、ウェハキャリアは耐薬品性を有する材料
で製作できるので、薬液で処理する際にもＳｉウェハ５
を移し替える必要がない。従って、移し替えの際の塵の
発生を防止できるので、半導体装置の歩留りは更に向上
する。
［発明の効果］
以上のように、本発明のウェハキャリア保持装置によれ
ば、ウェハキャリアの材料が静電気を誘起し易い絶縁材
料であっても、うエバの保管中、ウェハに誘起される静
電気を除去してウェハが帯電するのを防止できるので、
ウェハ表面に付着する塵を大幅に減少させることができ
る。
ば、ウェハキャリアの材料が静電気を誘起し易い絶縁材
料であっても、うエバの保管中、ウェハに誘起される静
電気を除去してウェハが帯電するのを防止できるので、
ウェハ表面に付着する塵を大幅に減少させることができ
る。
これにより、半導体装置の歩留りを向上させることがで
きる。また、ウェハキャリアは耐薬品性を有する材料で
製作できるので、薬液で処理する際にもウェハを移し替
える必要がない。従って、移し替えの際の塵の発生を防
止できるので、半導体装置の歩留りは更に向上する。
きる。また、ウェハキャリアは耐薬品性を有する材料で
製作できるので、薬液で処理する際にもウェハを移し替
える必要がない。従って、移し替えの際の塵の発生を防
止できるので、半導体装置の歩留りは更に向上する。
第１図は、本発明の実施例のウェハキャリア保持装置を
説明する斜視図、 第２図は、本発明の実施例のウェハキャリア保持装置の
使用方法を説明する斜視図である。 （符号の説明） ■・・・保持台、 ２・・・ガイド、 ３・・・うエバ接触部、 ４・・・ウェハキャリア、 ５・・・Ｓｉウェハ旬
説明する斜視図、 第２図は、本発明の実施例のウェハキャリア保持装置の
使用方法を説明する斜視図である。 （符号の説明） ■・・・保持台、 ２・・・ガイド、 ３・・・うエバ接触部、 ４・・・ウェハキャリア、 ５・・・Ｓｉウェハ旬
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ウェハキャリアを載置するウェハキャリア保持装置にお
いて、 前記ウェハキャリアの載置時に該ウェハキャリア内のウ
ェハの少なくとも一端が接触するように導電性又は半導
電性のウェハ接触部が設けられていることを特徴とする
ウェハキャリア保持装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1148703A JPH0312949A (ja) | 1989-06-12 | 1989-06-12 | ウエハキャリア保持装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1148703A JPH0312949A (ja) | 1989-06-12 | 1989-06-12 | ウエハキャリア保持装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0312949A true JPH0312949A (ja) | 1991-01-21 |
Family
ID=15458709
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1148703A Pending JPH0312949A (ja) | 1989-06-12 | 1989-06-12 | ウエハキャリア保持装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0312949A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4441161B4 (de) * | 1993-11-29 | 2005-12-22 | Sanyo Electric Co., Ltd., Moriguchi | Getränkebehälter |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56134732A (en) * | 1980-03-26 | 1981-10-21 | Hitachi Ltd | Electric charge preventing jig |
| JPS58207651A (ja) * | 1982-05-28 | 1983-12-03 | Hitachi Ltd | 静電防止型収容治具 |
-
1989
- 1989-06-12 JP JP1148703A patent/JPH0312949A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56134732A (en) * | 1980-03-26 | 1981-10-21 | Hitachi Ltd | Electric charge preventing jig |
| JPS58207651A (ja) * | 1982-05-28 | 1983-12-03 | Hitachi Ltd | 静電防止型収容治具 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4441161B4 (de) * | 1993-11-29 | 2005-12-22 | Sanyo Electric Co., Ltd., Moriguchi | Getränkebehälter |
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