JPH03130236A - 炭化水素の接触転化法 - Google Patents
炭化水素の接触転化法Info
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- JPH03130236A JPH03130236A JP1266303A JP26630389A JPH03130236A JP H03130236 A JPH03130236 A JP H03130236A JP 1266303 A JP1266303 A JP 1266303A JP 26630389 A JP26630389 A JP 26630389A JP H03130236 A JPH03130236 A JP H03130236A
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、パラフィン類を主成分とする炭化水素の接触
転化法に関するものであり、更に詳しくは、特定の中間
細孔径アルミノシリケートゼオライトを触媒として用い
ることにより、パラフィン類を主体とする炭化水素原料
から、化学原料として有用な低級オレフィンおよび単環
芳香族を製造する方法に関する。
転化法に関するものであり、更に詳しくは、特定の中間
細孔径アルミノシリケートゼオライトを触媒として用い
ることにより、パラフィン類を主体とする炭化水素原料
から、化学原料として有用な低級オレフィンおよび単環
芳香族を製造する方法に関する。
従来より種々の炭化水素原料を固体酸触媒、特に結晶性
アルミノシリケートゼオライトと接触させ、クラッキン
グ、異性化、不均化、ノ1イドロクラッキング等の反応
により転化させることはよく知られている。
アルミノシリケートゼオライトと接触させ、クラッキン
グ、異性化、不均化、ノ1イドロクラッキング等の反応
により転化させることはよく知られている。
代表的なものとしては、Y型ゼオライトを用い、軽油、
重質油等をガソリン留分に転化する方法であり、石油精
製で広(実施されている。また、ZSM−5型ゼオライ
トを用いて、軽質炭化水素を芳香族化合物に転化する方
法も提案されている。
重質油等をガソリン留分に転化する方法であり、石油精
製で広(実施されている。また、ZSM−5型ゼオライ
トを用いて、軽質炭化水素を芳香族化合物に転化する方
法も提案されている。
例えば、特開昭49−41322号公報、特開昭50−
49233号公報、特開昭50−4029号公報等に開
示されている方法である。
49233号公報、特開昭50−4029号公報等に開
示されている方法である。
更に、特開昭60−222428号公報には、ZSM−
5型ゼオライトを用いて、高温、高WH8Vの条件下で
軽質炭化水素を低級オレフィンおよび芳香族化合物に転
化する方法が開示されている。
5型ゼオライトを用いて、高温、高WH8Vの条件下で
軽質炭化水素を低級オレフィンおよび芳香族化合物に転
化する方法が開示されている。
前記の方法は、いずれも化学原料として有用な低級オレ
フィン類(炭素数2〜4のオレフィンで、例えばエチレ
ン、プロピレン、ブテン等)ならびに単環芳香族炭化水
素類(炭素数6〜9の芳香族でベンゼンおよびアルキル
ベンゼン)を効率よく、かつ低級オレフィン類を単環芳
香族炭化水素より高収率で得る方法としては満足できる
方法とはなっていない。
フィン類(炭素数2〜4のオレフィンで、例えばエチレ
ン、プロピレン、ブテン等)ならびに単環芳香族炭化水
素類(炭素数6〜9の芳香族でベンゼンおよびアルキル
ベンゼン)を効率よく、かつ低級オレフィン類を単環芳
香族炭化水素より高収率で得る方法としては満足できる
方法とはなっていない。
例えば、Y型ゼオライトを用いる接触転化法では、価値
の低い軽質パラフィンガスの生成が多い上、芳香族炭化
水素類の生成は極めて少ない。また、ZSM−5型ゼオ
ライトを用いる方法では一般に芳香族炭化水素類の収率
は比較的高いが、分解ガス組成はエタン、プロパン等の
軽質パラフィン類が主体で、低級オレフィンの選択性に
劣る。また低級オレフィンの選択性を上げようとすると
反応条件を過酷にしなければならない等の問題を有して
いる。
の低い軽質パラフィンガスの生成が多い上、芳香族炭化
水素類の生成は極めて少ない。また、ZSM−5型ゼオ
ライトを用いる方法では一般に芳香族炭化水素類の収率
は比較的高いが、分解ガス組成はエタン、プロパン等の
軽質パラフィン類が主体で、低級オレフィンの選択性に
劣る。また低級オレフィンの選択性を上げようとすると
反応条件を過酷にしなければならない等の問題を有して
いる。
一方、低級オレフィンを収率よく得る方法としては、熱
分解法が広(用いられているが、熱分解法であるが故に
過酷な反応条件を必要とするため、化学原料としては使
いにくいメタンの副生が多い。
分解法が広(用いられているが、熱分解法であるが故に
過酷な反応条件を必要とするため、化学原料としては使
いにくいメタンの副生が多い。
更に分解生成物中のエチレン、プロピレン等のオレフィ
ン類、ベンゼン、トルエン等の単環芳香族炭化水素類の
製品得率は、はぼ限定された割合を有しており、収率構
造上の融通性に乏しい等の問題を有している。
ン類、ベンゼン、トルエン等の単環芳香族炭化水素類の
製品得率は、はぼ限定された割合を有しており、収率構
造上の融通性に乏しい等の問題を有している。
本発明者らは、少なくとも炭素数2以上の炭化水素原料
より低級オレフィンおよび単環芳香族炭化水素を効率よ
く、かつ低級オレフィンを単環芳香族炭化水素より高収
率に得る方法について鋭意検討を重ねた。その結果、特
定の中間細孔径アルミノシリケートゼオライトを触媒と
して用いると、低級オレフィンおよび単環芳香族炭化水
素を効率よく、かつ低級オレフィンを単環芳香族炭化水
素より高収率に得られること、更にこの触媒系は安定で
あり、経時劣化が少ないことを見い出し本発明を完成し
た。
より低級オレフィンおよび単環芳香族炭化水素を効率よ
く、かつ低級オレフィンを単環芳香族炭化水素より高収
率に得る方法について鋭意検討を重ねた。その結果、特
定の中間細孔径アルミノシリケートゼオライトを触媒と
して用いると、低級オレフィンおよび単環芳香族炭化水
素を効率よく、かつ低級オレフィンを単環芳香族炭化水
素より高収率に得られること、更にこの触媒系は安定で
あり、経時劣化が少ないことを見い出し本発明を完成し
た。
すなわち本発明は、少なくとも炭素数2以上の炭化水素
原料を低級オレフィンおよび単環芳香族炭化水素に転化
する方法において、該原料を下記(i)を満たす中間細
孔径アルミノシリケートゼオライトと、550〜700
℃の温度、0.5〜20hr’の重量時間空間速度で接
触させることを特徴とする前記該原料炭化水素の接触転
化法を提供するものである。
原料を低級オレフィンおよび単環芳香族炭化水素に転化
する方法において、該原料を下記(i)を満たす中間細
孔径アルミノシリケートゼオライトと、550〜700
℃の温度、0.5〜20hr’の重量時間空間速度で接
触させることを特徴とする前記該原料炭化水素の接触転
化法を提供するものである。
(1)ピリジンを用い、昇温速度を15℃/分とした場
合の昇温脱離法による500〜900℃における当該中
間細孔径アルミノシリケートゼオライト1g−当りのピ
リジンの脱離量が40〜180μmop 本発明における少なくとも炭素数2以上の炭化水素は、
炭素数2〜約25のノルマルパラフィン、イソパラフィ
ン、オレフィン、シクロパラフィン、側鎖アルキル基を
有するシクロパラフィン類等を主成分として含むもので
あり、例えば、エタン、プロパン、ブタン、ブテン等の
ガス類、ペンタン、ペンテン、ヘキサン、ヘプタン、オ
クタン単独およびこれらの混合物を主体とする軽質ナフ
サ、重質ナフサ、直留ナフサ、C10” C20を主に
含む灯軽油留分、C19〜C2,からなる水添処理した
減圧軽油等が挙げられる。特にプロパン、ブタン、ブテ
ン、ペンタン、ペンテン、ナフサ留分が好ましいものと
して挙げられる。
合の昇温脱離法による500〜900℃における当該中
間細孔径アルミノシリケートゼオライト1g−当りのピ
リジンの脱離量が40〜180μmop 本発明における少なくとも炭素数2以上の炭化水素は、
炭素数2〜約25のノルマルパラフィン、イソパラフィ
ン、オレフィン、シクロパラフィン、側鎖アルキル基を
有するシクロパラフィン類等を主成分として含むもので
あり、例えば、エタン、プロパン、ブタン、ブテン等の
ガス類、ペンタン、ペンテン、ヘキサン、ヘプタン、オ
クタン単独およびこれらの混合物を主体とする軽質ナフ
サ、重質ナフサ、直留ナフサ、C10” C20を主に
含む灯軽油留分、C19〜C2,からなる水添処理した
減圧軽油等が挙げられる。特にプロパン、ブタン、ブテ
ン、ペンタン、ペンテン、ナフサ留分が好ましいものと
して挙げられる。
本発明における中間細孔径アルミノシリケートゼオライ
トは、A型ゼオライトで代表される小細孔径ゼオライト
、X型、Y型ゼオライトで代表される大細孔径ゼオライ
トの中間の細孔径を有するもので、有効細孔径として約
5λ〜6.5人の範囲のものである。これらの代表例と
しては、ZSM−5,ZSM−11,ZSM−12,Z
SM−21、ZSM−23,ZSM−35,ZSM−3
8等が挙げられるが、好ましいものとしては、ZSM−
5゜ZSM−11,ZSM−38であり、ZSM−5が
特に好ましい。
トは、A型ゼオライトで代表される小細孔径ゼオライト
、X型、Y型ゼオライトで代表される大細孔径ゼオライ
トの中間の細孔径を有するもので、有効細孔径として約
5λ〜6.5人の範囲のものである。これらの代表例と
しては、ZSM−5,ZSM−11,ZSM−12,Z
SM−21、ZSM−23,ZSM−35,ZSM−3
8等が挙げられるが、好ましいものとしては、ZSM−
5゜ZSM−11,ZSM−38であり、ZSM−5が
特に好ましい。
また、これらゼオライトのケイ素/アルミニウムの原子
比は10〜75、好ましくは12〜60である。
比は10〜75、好ましくは12〜60である。
この比が10を下廻るものは、触媒としての安定性が悪
く、75を上廻るものは触媒活性が不充分である。
く、75を上廻るものは触媒活性が不充分である。
本発明に用いられる中間細孔径アルミノシリケートゼオ
ライト触媒は、ピリジンを用い、昇温速度を15℃/分
とした場合の昇温脱離法による500〜900℃におけ
る当該ゼオライト1g当りのピリジンの脱離量が40〜
180μmofiである。昇温脱離法については、安盛
により「化学と工業」。
ライト触媒は、ピリジンを用い、昇温速度を15℃/分
とした場合の昇温脱離法による500〜900℃におけ
る当該ゼオライト1g当りのピリジンの脱離量が40〜
180μmofiである。昇温脱離法については、安盛
により「化学と工業」。
第19巻、第10号、 1208〜1214頁(196
6)に説明されており、ZSM−5型ゼオライトの昇温
脱離法は、「触媒J 、 25.97〜99頁(198
3)等に記載されている。
6)に説明されており、ZSM−5型ゼオライトの昇温
脱離法は、「触媒J 、 25.97〜99頁(198
3)等に記載されている。
本発明でいうピリジンを用いた昇温脱離法とは、まず、
180℃で被測定触媒にピリジンを飽和吸着させ、それ
を毎分15℃の一定速度で昇温させて、昇温に伴って脱
離してくるピリジンを、500〜900℃の間に限って
水素炎イオン化検出器により検出し、脱離量をピリジン
の検量線を用いてピリジン換算量として求めることを指
す。
180℃で被測定触媒にピリジンを飽和吸着させ、それ
を毎分15℃の一定速度で昇温させて、昇温に伴って脱
離してくるピリジンを、500〜900℃の間に限って
水素炎イオン化検出器により検出し、脱離量をピリジン
の検量線を用いてピリジン換算量として求めることを指
す。
本発明で用いる昇温脱離法の測定装置を第1図に示す。
試料すなわち被測定触媒4は20〜30メツシユに破砕
して、内径6fllfllφ、外径8關φ、1501■
長のステンレス鋼製の試料管3に入れる。キャリアガス
としてボンベ詰の窒素を、質量流量計1で調節し、80
m1/分の流量で流す。ピリジンはマイクロシリンジを
用いて2μgずつシリコンゴム製の注入口5より注入す
る。はぼ全量吸着した場合には10分後に、また、未成
着分が認められる場合は流出の完了が検出器で確認され
た時点で次の注入を行い、飽和吸着に達するまで注入を
くり返す。ピリジンの触媒への飽和吸着が完了したなら
ば、炉芯管内径25mmφ、長さ100mnの管状電気
炉2で15℃/分の速度で昇温する。ここで、ピリジン
注入口5の周りから水素炎イオン化検出器(FID検出
器)6までの流路は、電気炉内の部分を除き、リボンヒ
ーター8等で加温し、外側を保温材9で覆って300℃
に保温する。温度検出は試料管外部に密着設置した温度
検出端7の位置で行う。温度検出端7における検出温度
が500℃になった時から、更に昇温しで900℃に達
するまでの間に試料4から脱離するピリジンをFID検
出器6で検出し、ピリジンの検量線を用いて、その脱離
量を求める。
して、内径6fllfllφ、外径8關φ、1501■
長のステンレス鋼製の試料管3に入れる。キャリアガス
としてボンベ詰の窒素を、質量流量計1で調節し、80
m1/分の流量で流す。ピリジンはマイクロシリンジを
用いて2μgずつシリコンゴム製の注入口5より注入す
る。はぼ全量吸着した場合には10分後に、また、未成
着分が認められる場合は流出の完了が検出器で確認され
た時点で次の注入を行い、飽和吸着に達するまで注入を
くり返す。ピリジンの触媒への飽和吸着が完了したなら
ば、炉芯管内径25mmφ、長さ100mnの管状電気
炉2で15℃/分の速度で昇温する。ここで、ピリジン
注入口5の周りから水素炎イオン化検出器(FID検出
器)6までの流路は、電気炉内の部分を除き、リボンヒ
ーター8等で加温し、外側を保温材9で覆って300℃
に保温する。温度検出は試料管外部に密着設置した温度
検出端7の位置で行う。温度検出端7における検出温度
が500℃になった時から、更に昇温しで900℃に達
するまでの間に試料4から脱離するピリジンをFID検
出器6で検出し、ピリジンの検量線を用いて、その脱離
量を求める。
上記方法で求めたピリジンの脱離量がゼオライトigに
つき40μmoρを下廻ると、触媒活性が不充分であり
、ピリジン脱離量が180μIIIo1を上廻ると、オ
レフィン収率が低下し、触媒の経時安定性も悪くなる。
つき40μmoρを下廻ると、触媒活性が不充分であり
、ピリジン脱離量が180μIIIo1を上廻ると、オ
レフィン収率が低下し、触媒の経時安定性も悪くなる。
本発明に用いられる触媒は、例えばプロトン型のゼオラ
イトに、イオン交換法、含浸法等の方法によりアルカリ
金属および/またはアルカリ土類金属を含有させること
によって、あるいは、プロトン型のゼオライトを加熱処
理、好ましくは水蒸気共存下で加熱処理することにより
調製する。
イトに、イオン交換法、含浸法等の方法によりアルカリ
金属および/またはアルカリ土類金属を含有させること
によって、あるいは、プロトン型のゼオライトを加熱処
理、好ましくは水蒸気共存下で加熱処理することにより
調製する。
アルカリ金属および/またはアルカリ土類金属を含有さ
せる場合の含有量は、添加金属/アルミニウム(原子比
) = 0.2〜1.5、好ましくは0.3〜1.2で
ある。この比が0.2を下廻ると、オレフィン生成の選
択性が悪化し、1゜5を上廻ると触媒活性が低下する。
せる場合の含有量は、添加金属/アルミニウム(原子比
) = 0.2〜1.5、好ましくは0.3〜1.2で
ある。この比が0.2を下廻ると、オレフィン生成の選
択性が悪化し、1゜5を上廻ると触媒活性が低下する。
水蒸気共存下で加熱処理する場合の好適な条件は、60
0〜800℃の温度、0.1〜1気圧の水分圧、0.2
〜20時間の処理時間である。水蒸気は空気あるいは窒
素等の不活性ガスで希釈して使用してもよい。。
0〜800℃の温度、0.1〜1気圧の水分圧、0.2
〜20時間の処理時間である。水蒸気は空気あるいは窒
素等の不活性ガスで希釈して使用してもよい。。
なお、使用に際し、適切な触媒粒子形状を付与するため
、アルミナ、シリカ等通常用いられている多孔性無機質
バインダーを配合したり、水添/脱水素金属成分を更に
添加して用いてもよい。
、アルミナ、シリカ等通常用いられている多孔性無機質
バインダーを配合したり、水添/脱水素金属成分を更に
添加して用いてもよい。
本発明における反応条件は、原料炭化水素により異なる
が、550〜700℃の温度、0.5〜20hr−1の
重量空間速度(WH3V)、0.5〜10気圧の圧力、
好ましくは、550〜680℃の温度、0.5〜10h
r’の重量空間速度(WHS V)、0.8〜8気圧の
圧力が採用される。
が、550〜700℃の温度、0.5〜20hr−1の
重量空間速度(WH3V)、0.5〜10気圧の圧力、
好ましくは、550〜680℃の温度、0.5〜10h
r’の重量空間速度(WHS V)、0.8〜8気圧の
圧力が採用される。
反応は原料炭化水素単独で実施することもできるが、窒
素、水蒸気等の共存下で実施することが好ましく、特に
好ましくは水蒸気の共存下で反応を実施する。この場合
の好適な水蒸気量は水蒸気/原料炭化水素の重量比で0
.1〜1.0である。
素、水蒸気等の共存下で実施することが好ましく、特に
好ましくは水蒸気の共存下で反応を実施する。この場合
の好適な水蒸気量は水蒸気/原料炭化水素の重量比で0
.1〜1.0である。
本発明によりパラフィン類を主成分とする幅広い原料よ
り効率よく、化学原料として有用な低級オレフィンなら
びに単環芳香族炭化水素類が得られ、かつ低級オレフィ
ンを単環芳香族炭化水素より高収率に得ることができる
。しかも触媒の劣化が少なく、安定的に用いることがで
きる。更に、従来低級オレフィンの製造法として広く用
いられている熱分解法に比べて、化学原料として使用が
難しいメタンの副生が著しく少ないため、高選択的に化
学原料として有用な低級オレフィンおよび芳香族炭化水
素類を得ることができる。
り効率よく、化学原料として有用な低級オレフィンなら
びに単環芳香族炭化水素類が得られ、かつ低級オレフィ
ンを単環芳香族炭化水素より高収率に得ることができる
。しかも触媒の劣化が少なく、安定的に用いることがで
きる。更に、従来低級オレフィンの製造法として広く用
いられている熱分解法に比べて、化学原料として使用が
難しいメタンの副生が著しく少ないため、高選択的に化
学原料として有用な低級オレフィンおよび芳香族炭化水
素類を得ることができる。
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に示すが、本発明
は、こ′れに限定されるものではない。
は、こ′れに限定されるものではない。
実施例 1
プロトン型25M−5結晶アルミノシリケート(ケイ光
X線分析で測定したSiO3/Ag2O3モル比38、
BET表面! 360m’/g−cat)を圧縮成型後
、破砕して9〜20メツシユにそろえたちの20gを内
径24mmφの石英ガラス製反応器に充填し、水蒸気を
80容口%含む水蒸気−窒素混合ガス中で、大気圧下6
50°C,2,2時間熱処理した。熱処理後の触媒を、
昇温脱離法によりピリジンの脱離量を測定したところ、
500〜900℃での脱離量は145μmoρ/g−触
媒であった。測定試料は20〜30メツシユに整粒した
ものを400°Cで1時間乾燥して用いた。測定方法、
条件は本文前記記載の方法によった。管状電気炉および
温度制御装置は品性製作所製熱分析装置(DT−30)
を用い、FID検出器は日立製作所製ガスクロマトグラ
フ(GC−183)の検出器を用いた。以下の例で示す
ピリジンの脱離量は、特に記載のない場合、全て前述の
方法および条件下で測定した、500〜900℃でのピ
リジンの昇温脱離口である。
X線分析で測定したSiO3/Ag2O3モル比38、
BET表面! 360m’/g−cat)を圧縮成型後
、破砕して9〜20メツシユにそろえたちの20gを内
径24mmφの石英ガラス製反応器に充填し、水蒸気を
80容口%含む水蒸気−窒素混合ガス中で、大気圧下6
50°C,2,2時間熱処理した。熱処理後の触媒を、
昇温脱離法によりピリジンの脱離量を測定したところ、
500〜900℃での脱離量は145μmoρ/g−触
媒であった。測定試料は20〜30メツシユに整粒した
ものを400°Cで1時間乾燥して用いた。測定方法、
条件は本文前記記載の方法によった。管状電気炉および
温度制御装置は品性製作所製熱分析装置(DT−30)
を用い、FID検出器は日立製作所製ガスクロマトグラ
フ(GC−183)の検出器を用いた。以下の例で示す
ピリジンの脱離量は、特に記載のない場合、全て前述の
方法および条件下で測定した、500〜900℃でのピ
リジンの昇温脱離口である。
次にこの熱処理後の触媒の転化実験を行った。
すなわち、触媒3gを内径24+nmφの石英ガラス製
反応器に充填し、大気圧下、窒素流量9.5NN /h
r、n−ヘキサン流量20cc/hr、温度650℃の
条件でn−へキサンの転化反応を実施した。反応開始後
1〜1.5時間の反応結果を第1表に示した。なお、第
1表中のn−へキサン転化率、選択率、02〜Cオレフ
ィン/C6〜C8芳香族は以下の式で計算した。
反応器に充填し、大気圧下、窒素流量9.5NN /h
r、n−ヘキサン流量20cc/hr、温度650℃の
条件でn−へキサンの転化反応を実施した。反応開始後
1〜1.5時間の反応結果を第1表に示した。なお、第
1表中のn−へキサン転化率、選択率、02〜Cオレフ
ィン/C6〜C8芳香族は以下の式で計算した。
n−ヘキサン転化率= (100−生成物中のベンゼン
を除くC6留分の重量%) 生成物中の各成分の重量% n−ヘキサン転化率 C6〜C8芳香族 C2〜C4オレフインの選択率の和 実施例 2 実施例1で使用したプロトン型25M−5結晶アルミノ
シリケート50g:を、1規定の塩化ナトリウム水溶液
250gを用い、60℃、3時間のイオン交換を3日、
更に室温で8時間イオン交換を行った後、口過、洗浄、
乾燥(120℃、2時間)し、空気中で500℃、3時
間焼成した。このNa含有28M−5のピリジン脱離量
は98μmo1/ gであった。
を除くC6留分の重量%) 生成物中の各成分の重量% n−ヘキサン転化率 C6〜C8芳香族 C2〜C4オレフインの選択率の和 実施例 2 実施例1で使用したプロトン型25M−5結晶アルミノ
シリケート50g:を、1規定の塩化ナトリウム水溶液
250gを用い、60℃、3時間のイオン交換を3日、
更に室温で8時間イオン交換を行った後、口過、洗浄、
乾燥(120℃、2時間)し、空気中で500℃、3時
間焼成した。このNa含有28M−5のピリジン脱離量
は98μmo1/ gであった。
次にこの触媒を圧縮成型後破砕し、9〜20メツシユに
したちの6gを石英反応管に充填し、実施例1と同一の
方法でn−ヘキサンの転化反応を行った。結果を第1表
に示した。
したちの6gを石英反応管に充填し、実施例1と同一の
方法でn−ヘキサンの転化反応を行った。結果を第1表
に示した。
実施例 3
1規定の塩化リチウム水溶液を用い、実施例2と同一の
イオン交換操作を行うことによって、L1含有ZSM−
5触媒を調製した。この触媒のピリジン脱離量は147
μwon / gであった。
イオン交換操作を行うことによって、L1含有ZSM−
5触媒を調製した。この触媒のピリジン脱離量は147
μwon / gであった。
次にこの触媒2.8gを用いて実施例1と同様にn−ヘ
キサンの反応を行った。結果を第1表に示す。
キサンの反応を行った。結果を第1表に示す。
実施例 4
実施例1で使用したプロトン型23M−5結晶アルミノ
シリケート50gに、6重量%硝酸ストロンチウム水溶
液100gを含浸させ、乾燥(120℃。
シリケート50gに、6重量%硝酸ストロンチウム水溶
液100gを含浸させ、乾燥(120℃。
2時間)、焼成(空気中5006C,3時間)し、Sr
含有28M−5触媒を得た。この触媒のピリジン脱離量
は145μmofl / gであった。
含有28M−5触媒を得た。この触媒のピリジン脱離量
は145μmofl / gであった。
次にこの触媒1.7gを用いて実施例1と同様にn−ヘ
キサンの反応を行った。結果を第1表に示した。
キサンの反応を行った。結果を第1表に示した。
比較例 1
実施例1〜4に使用したプロトン型28M−5結晶性ア
ルミノシリケート1gを用い、実施例1〜4と同様にn
−ヘキサンの反応を行った。結果を第1表に示した。な
お、この触媒のピリジン脱離量は437μmo(J /
gであった。
ルミノシリケート1gを用い、実施例1〜4と同様にn
−ヘキサンの反応を行った。結果を第1表に示した。な
お、この触媒のピリジン脱離量は437μmo(J /
gであった。
実施例 5
実施例3で調製したL1含有ZSM−5触媒l0g (
9〜20メツシユに整粒)を内径24mmφの石英ガラ
ス製反応器に充填し、大気圧下、n−ヘキサン流量20
cc/hr、 H20流量7 、4cc/ hrs反応
温度約650℃の条件でn−へキサンの反応を行った。
9〜20メツシユに整粒)を内径24mmφの石英ガラ
ス製反応器に充填し、大気圧下、n−ヘキサン流量20
cc/hr、 H20流量7 、4cc/ hrs反応
温度約650℃の条件でn−へキサンの反応を行った。
反応開始後1〜1.5時間の反応結果と反応条件を第2
表に示す。
表に示す。
実施例 6
実施例2で調製したNa含有25M−510gを使用し
、実施例5と同様の条件でn−ヘキサンの転化を行った
。結果を第2表に示す。
、実施例5と同様の条件でn−ヘキサンの転化を行った
。結果を第2表に示す。
実施例 7
1規定の塩化カリウム水溶液を用い、実施例2と同一の
イオン交換操作を行うことによって、K含有ZSM−5
触媒を調製した。この触媒のピリジン脱離量は91gw
on / gであった。
イオン交換操作を行うことによって、K含有ZSM−5
触媒を調製した。この触媒のピリジン脱離量は91gw
on / gであった。
次にこの触媒10gを使用し、実施例5と同様にn−ヘ
キサンの反応を行った。結果を第2表に示す。
キサンの反応を行った。結果を第2表に示す。
実施例 8
実施例4で調製したSr含有28M−5触媒l。
gを用い、実施例5と同様の条件でn−ヘキサンの転化
を24時間連続で実施した。反応1〜1.5時間後の反
応成績を第2表に示し、またヘキサン転化率の経時変化
を第4表に示した。反応終了後触媒を取り出し、酸素気
流中800℃で触媒上のコークを燃焼させ、生成CO2
を赤外分光計で検出定量化することにより、コーク量を
測定した。この結果を第3表に示す。
を24時間連続で実施した。反応1〜1.5時間後の反
応成績を第2表に示し、またヘキサン転化率の経時変化
を第4表に示した。反応終了後触媒を取り出し、酸素気
流中800℃で触媒上のコークを燃焼させ、生成CO2
を赤外分光計で検出定量化することにより、コーク量を
測定した。この結果を第3表に示す。
実施例 9
実施例1で調製した水蒸気処理23M−5触媒10gを
使用し、実施例5と同様の条件でn−ヘキサンの転化を
行った。結果を第2表に示した。
使用し、実施例5と同様の条件でn−ヘキサンの転化を
行った。結果を第2表に示した。
実施例 10
原料をナフサに変え、WHSVを3.2hr−’にした
以外は実施例9と同様にして、ナフサの転化反応を行っ
た。結果を第2表に示した。
以外は実施例9と同様にして、ナフサの転化反応を行っ
た。結果を第2表に示した。
実施例 11
実施例4で調製したSr含有28M−5触媒20gを、
内径3/4BのS U S 316製反応器に充填し、
0.04重量%のジメチルジスルフィド(DMDS)を
添加したn−ヘキサン54g/hrと、H2027g
/ hrを流し、 600°C,1kg/cJ −Gの
反応条件にて、n−ヘキサンの転化を行った。結果を第
2表に示した。
内径3/4BのS U S 316製反応器に充填し、
0.04重量%のジメチルジスルフィド(DMDS)を
添加したn−ヘキサン54g/hrと、H2027g
/ hrを流し、 600°C,1kg/cJ −Gの
反応条件にて、n−ヘキサンの転化を行った。結果を第
2表に示した。
比較例 2
実施例5と同様に、但し触媒のかわりに石英砂を充填し
、熱分解を650. 752℃の条件にて実施した。結
果を第3表に示す。この表より、熱分解では、化学原料
として有用なC2〜C4オレフインおよびC−08芳香
族収率を本発明の方法と同じ程度にした場合、メタンの
副生が著しく、更に原料として使用できる02〜C4パ
ラフイン、C留分、C6〜C8非芳香留分の収率が小さ
いこと、すなわち分解の選択性が低いことがわかる。
、熱分解を650. 752℃の条件にて実施した。結
果を第3表に示す。この表より、熱分解では、化学原料
として有用なC2〜C4オレフインおよびC−08芳香
族収率を本発明の方法と同じ程度にした場合、メタンの
副生が著しく、更に原料として使用できる02〜C4パ
ラフイン、C留分、C6〜C8非芳香留分の収率が小さ
いこと、すなわち分解の選択性が低いことがわかる。
比較例 3
比較例1と同一のプロトン型28M−5触媒3gを使用
し、実施例8と同様にn−ヘキサンの反応を24時間連
続で実施した。ヘキサン転化率の経時変化およびコーク
量を第4表に示した。
し、実施例8と同様にn−ヘキサンの反応を24時間連
続で実施した。ヘキサン転化率の経時変化およびコーク
量を第4表に示した。
以上のように、本発明の方法は、炭素数2以上の炭化水
素原料から、低級オレフィンおよび単環芳香族を効率よ
く、しかも低級オレフィンと単環芳香族より高い収率で
得ることができる。更に、メタンや重質炭化水素の副生
が少なく、触媒の経時劣化も小さい等の利点を有するこ
とがわかる。
素原料から、低級オレフィンおよび単環芳香族を効率よ
く、しかも低級オレフィンと単環芳香族より高い収率で
得ることができる。更に、メタンや重質炭化水素の副生
が少なく、触媒の経時劣化も小さい等の利点を有するこ
とがわかる。
(以下余白)
第
4
表
4、
第1図はピリジンを用いて触媒の昇温脱離量を測定する
ための装置の説明図である。
ための装置の説明図である。
Claims (4)
- (1)少なくとも炭素数2以上の炭化水素原料を低級オ
レフィンおよび単環芳香族炭化水素に転化する方法にお
いて、該原料を下記(1)を満たす中間細孔径アルミノ
シリケートゼオライトと550〜700℃の温度、0.
5〜20hr^−^1の重量時間空間速度で接触させ、
低級オレフィンおよび単環芳香族炭化水素を製造するこ
とを特徴とする炭化水素の接触転化法。 (i)ピリジンを用い、昇温速度を15℃/分とした場
合の昇温脱離法による500〜900℃における当該中
間細孔径アルミノシリケートゼオライト1g当りのピリ
ジンの脱離量が40〜180μmol - (2)水蒸気の共存下に転化反応を実施する請求項1記
載の炭化水素の接触転化法。 - (3)炭化水素原料がプロパン、ブタン、ブテン、ペン
タン、ペンテン、石油ナフサ留分およびこれらの混合物
である請求項1または2記載の炭化水素の接触転化法。 - (4)アルミノシリケートゼオライトが、アルカリ金属
および/またはアルカリ土類金属を含有するZSM−5
型ゼオライトである請求項1または2または3記載の炭
化水素の接触転化法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1266303A JP2801686B2 (ja) | 1989-10-16 | 1989-10-16 | 炭化水素の接触転化法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1266303A JP2801686B2 (ja) | 1989-10-16 | 1989-10-16 | 炭化水素の接触転化法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03130236A true JPH03130236A (ja) | 1991-06-04 |
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