JPH03131080A - パルスガスレーザ用ｘ線発生回路 - Google Patents
パルスガスレーザ用ｘ線発生回路Info
- Publication number
- JPH03131080A JPH03131080A JP27086189A JP27086189A JPH03131080A JP H03131080 A JPH03131080 A JP H03131080A JP 27086189 A JP27086189 A JP 27086189A JP 27086189 A JP27086189 A JP 27086189A JP H03131080 A JPH03131080 A JP H03131080A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- capacitor
- ray
- voltage
- high voltage
- ray tube
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims abstract description 38
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 abstract description 6
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 2
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 2
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 238000005372 isotope separation Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/097—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
- H01S3/0971—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser transversely excited
- H01S3/09713—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser transversely excited with auxiliary ionisation, e.g. double discharge excitation
- H01S3/09716—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser transversely excited with auxiliary ionisation, e.g. double discharge excitation by ionising radiation
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Lasers (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、Ｘ線予備電離方式を用いたパルスガスレーザ
におけるＸ線発生回路に関するものである。
におけるＸ線発生回路に関するものである。
従来のパルスガスレーザ用Ｘ線発生回路については、１
９８３年、６月発行の「アドバンスト・レーザ・デベロ
ブメント・フォー・アイソトープ・セパレイジョン、エ
ムエスエヌダブリュ、ベリーブ、ファイナルレポート（
Ａｄｖａｎｃｅｄ １ａｓｅｒ。
９８３年、６月発行の「アドバンスト・レーザ・デベロ
ブメント・フォー・アイソトープ・セパレイジョン、エ
ムエスエヌダブリュ、ベリーブ、ファイナルレポート（
Ａｄｖａｎｃｅｄ １ａｓｅｒ。
ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔ ｆｏｒ １ｓｏｔｏｐｅ ５
ｅｐａｒａｔｉｏｎ、 Ｍ Ｓ Ｎ ＷＢｅｌｌｅｖｖ
ｅ、ｆｉｎａｌ ｒｅｐｏｒｔ、ＤＯＥ／ Ｅ ｌ／３
３０６７ＴＩ）Ｊに詳細に記述されている。この文献に
記載されている従来のパルスガスレーザ用Ｘ線発生回路
を第２図に示す。
ｅｐａｒａｔｉｏｎ、 Ｍ Ｓ Ｎ ＷＢｅｌｌｅｖｖ
ｅ、ｆｉｎａｌ ｒｅｐｏｒｔ、ＤＯＥ／ Ｅ ｌ／３
３０６７ＴＩ）Ｊに詳細に記述されている。この文献に
記載されている従来のパルスガスレーザ用Ｘ線発生回路
を第２図に示す。
このＸ線発生回路は、熱陰極型Ｘ線管６と、サイラトロ
ン１．コンデンサ３１と、コンデンサ３１を充電するた
めの高電圧電源４と、２次側巻線がＸ線管に接続され、
Ｘ線管に反転した電圧を印加するためのパルストランス
３６と、コンデンサ３１の放電により流れる電流をパル
ストランス３６の１次側巻線に流すための伝送線路３３
を有している。
ン１．コンデンサ３１と、コンデンサ３１を充電するた
めの高電圧電源４と、２次側巻線がＸ線管に接続され、
Ｘ線管に反転した電圧を印加するためのパルストランス
３６と、コンデンサ３１の放電により流れる電流をパル
ストランス３６の１次側巻線に流すための伝送線路３３
を有している。
このような従来のＸ線発生回路では、前記文献に記載さ
れているように、サイラトロン１を導通させることによ
りコンデンサ３１を放電させ、伝送線路３３を介してパ
ルストランス３６の１次側にパルス電流を流し、パルス
トランス３６の２次側に発生する極性が反転し、昇圧さ
れたパルス電圧を熱陰極線Ｘ線管６に印加している。こ
の時、熱陰極線Ｘ線管６で発生するＸ線をレーザ励起の
放電に先立ち、レーザ励起を生じさせる放電空間に照射
し、放電空間中のレーザガスを予備電離させアーク放電
の少ないレーザ励起放電を起こさせ、効率よくレーザ光
を取り出している。
れているように、サイラトロン１を導通させることによ
りコンデンサ３１を放電させ、伝送線路３３を介してパ
ルストランス３６の１次側にパルス電流を流し、パルス
トランス３６の２次側に発生する極性が反転し、昇圧さ
れたパルス電圧を熱陰極線Ｘ線管６に印加している。こ
の時、熱陰極線Ｘ線管６で発生するＸ線をレーザ励起の
放電に先立ち、レーザ励起を生じさせる放電空間に照射
し、放電空間中のレーザガスを予備電離させアーク放電
の少ないレーザ励起放電を起こさせ、効率よくレーザ光
を取り出している。
エキシマレーザのように数＋ｎｓ以下で強励起のレーザ
励起を行うパルスガスレーザにおいて、効率よくレーザ
光を取り出すためには、レーザ励起の放電に先立ち行わ
れる予備電離を短時間に、かつ多量に行わなければなら
ず、そのためにＸ線予備電離を用いたパルスガスレーザ
では、１００ｎｓ以下の短いパルスで高強度のＸ線を発
生させる必要がある。このためにＸ線管に急峻な高電圧
パルスを印加しなければならない。しかし、スイッチン
グ素子にサイラトロンを用いた従来の熱陰極型Ｘ線発生
回路では、電圧を反転、昇圧するためにパルストランス
を用いているため、パルストランスのインダクタンスに
よりＸ線管に印加するパルス電圧の立ち上がりが制限さ
れ、Ｘ線管に急峻な高電圧パルスを印加することが難し
いという欠点があった。
励起を行うパルスガスレーザにおいて、効率よくレーザ
光を取り出すためには、レーザ励起の放電に先立ち行わ
れる予備電離を短時間に、かつ多量に行わなければなら
ず、そのためにＸ線予備電離を用いたパルスガスレーザ
では、１００ｎｓ以下の短いパルスで高強度のＸ線を発
生させる必要がある。このためにＸ線管に急峻な高電圧
パルスを印加しなければならない。しかし、スイッチン
グ素子にサイラトロンを用いた従来の熱陰極型Ｘ線発生
回路では、電圧を反転、昇圧するためにパルストランス
を用いているため、パルストランスのインダクタンスに
よりＸ線管に印加するパルス電圧の立ち上がりが制限さ
れ、Ｘ線管に急峻な高電圧パルスを印加することが難し
いという欠点があった。
本発明の目的は、スイッチング素子にサイラトロンを用
いた場合でも、パルストランスを用いることなく電圧を
反転させることができ、Ｘ線管に急峻な高電圧パルスを
印加できる熱陰極線型Ｘ線発生回路を提供することにあ
る。
いた場合でも、パルストランスを用いることなく電圧を
反転させることができ、Ｘ線管に急峻な高電圧パルスを
印加できる熱陰極線型Ｘ線発生回路を提供することにあ
る。
本発明は、第１のコンデンサと第２のコンデンサを直列
に接続したピーキングコンデンサ部と、ピーキングコン
デンサ部に並列に接続した可飽和インダクタと、ピーキ
ングコンデンサ部に並列接続した熱陰極線型Ｘ線管で形
成されるＸ線発生部と、直列に接続したサイラトロンと
インダクタからなるスイッチング部を第１のコンデンサ
に並列に接続した回路から形成される。
に接続したピーキングコンデンサ部と、ピーキングコン
デンサ部に並列に接続した可飽和インダクタと、ピーキ
ングコンデンサ部に並列接続した熱陰極線型Ｘ線管で形
成されるＸ線発生部と、直列に接続したサイラトロンと
インダクタからなるスイッチング部を第１のコンデンサ
に並列に接続した回路から形成される。
本発明によるパルスガスレーザ用Ｘ線発生回路において
は、サイラトロンを導通させると、第２のコンデンサに
は、等価的に流れる電流がある値を越えると磁束密度が
飽和し、インダクタンスが急激に低下する特性を持つ可
飽和インダクタが接続されており、その非飽和時におけ
るインダクタンスがインダクタのインダクタンスに対し
て十分に大きな値をもっているので、第２のコンデンサ
はほとんど放電せず、先ず第１のコンデンサがインダク
タを介して放電し、第１のコンデンサの電圧が反転する
。更に、第１のコンデンサの電圧が反転した時に可飽和
インダクタが飽和量るようにすると、第１のコンデンサ
と第２のコンデンサに充電された電荷は、可飽和インダ
クタを通して急激に反転するため、Ｘ線管に印加される
電圧は、負の高電圧から高電圧電源電圧の約２倍近い正
の高電圧へと急激に変化する。
は、サイラトロンを導通させると、第２のコンデンサに
は、等価的に流れる電流がある値を越えると磁束密度が
飽和し、インダクタンスが急激に低下する特性を持つ可
飽和インダクタが接続されており、その非飽和時におけ
るインダクタンスがインダクタのインダクタンスに対し
て十分に大きな値をもっているので、第２のコンデンサ
はほとんど放電せず、先ず第１のコンデンサがインダク
タを介して放電し、第１のコンデンサの電圧が反転する
。更に、第１のコンデンサの電圧が反転した時に可飽和
インダクタが飽和量るようにすると、第１のコンデンサ
と第２のコンデンサに充電された電荷は、可飽和インダ
クタを通して急激に反転するため、Ｘ線管に印加される
電圧は、負の高電圧から高電圧電源電圧の約２倍近い正
の高電圧へと急激に変化する。
このため、サイラトロンを用いた場合でも、パルストラ
ンスを用いることなく、Ｘ線管に急峻な高電圧パルスを
印加することができる。
ンスを用いることなく、Ｘ線管に急峻な高電圧パルスを
印加することができる。
本発明の実施例を図面を用いて詳細に説明する。
第１図は本発明を用いたＸ線発生回路の一実施例である
。
。
このＸ線発生回路は、第１図に示すように、第１のコン
デンサ２、第２のコンデンサ３を直列接続したピーキン
グコンデンサ部１０と、ピーキングコンデンサ部に並列
接続した可飽和インダクタ５と、可飽和インダクタに並
列接続した熱陰極型Ｘ線管６からなるＸ線発生部と、サ
イラトロン１、インダクタ７からなるスイッチング部１
゜と、スイッチング部１０に接続した高電圧電源４から
構成される。
デンサ２、第２のコンデンサ３を直列接続したピーキン
グコンデンサ部１０と、ピーキングコンデンサ部に並列
接続した可飽和インダクタ５と、可飽和インダクタに並
列接続した熱陰極型Ｘ線管６からなるＸ線発生部と、サ
イラトロン１、インダクタ７からなるスイッチング部１
゜と、スイッチング部１０に接続した高電圧電源４から
構成される。
このＸ線発生回路においては、サイラトロン１を導通さ
せると先ず第１のコンデンサ２が放電し電圧が反転する
。この時可飽和インダクタ５は非飽和状態であり、イン
ダクタ７より充分に大きなインダクタンスを持つので、
電荷は第２コンデンサ２へは流れ込まない、第１のコン
デンサの反転電圧が最大になった時に可飽和インダクタ
５が飽和すると、飽和状態の可飽和インダクタ５のイン
ダクタンスは、インダクタ７のインダクタンスにたいし
て充分に小さいので、第１のコンデンサ２と第２のコン
デンサに充電された電荷は、可飽和インダクタ５を通し
て急激に反転するため、Ｘ線管６に印加される電圧は、
負の高電圧から正の高電圧への急激に変化する。これに
より、Ｘ線管６に急峻な正の高電圧を印加することがで
き、短いパルスのＸ線を発生することができる。
せると先ず第１のコンデンサ２が放電し電圧が反転する
。この時可飽和インダクタ５は非飽和状態であり、イン
ダクタ７より充分に大きなインダクタンスを持つので、
電荷は第２コンデンサ２へは流れ込まない、第１のコン
デンサの反転電圧が最大になった時に可飽和インダクタ
５が飽和すると、飽和状態の可飽和インダクタ５のイン
ダクタンスは、インダクタ７のインダクタンスにたいし
て充分に小さいので、第１のコンデンサ２と第２のコン
デンサに充電された電荷は、可飽和インダクタ５を通し
て急激に反転するため、Ｘ線管６に印加される電圧は、
負の高電圧から正の高電圧への急激に変化する。これに
より、Ｘ線管６に急峻な正の高電圧を印加することがで
き、短いパルスのＸ線を発生することができる。
以上述べたように、本発明によれば、パルストランスを
用いることなく、Ｘ線管に急峻な高電圧パルスを印加す
ることができる。このため、効率よくレーザ光を取り出
すことができる。
用いることなく、Ｘ線管に急峻な高電圧パルスを印加す
ることができる。このため、効率よくレーザ光を取り出
すことができる。
第１図は本発明を用いたＸ線発生回路の一実施例を示す
図、第２図は従来のＸ線発生回路を示す図である。 １・・・サイラトロン、２・・・第１のコンデンサ、３
・・・第２のコンデンサ、４・・・高電圧電源、５・・
・可飽和インダクタ、６・・・熱陰極型Ｘ線管、７・・
・インダクタ。
図、第２図は従来のＸ線発生回路を示す図である。 １・・・サイラトロン、２・・・第１のコンデンサ、３
・・・第２のコンデンサ、４・・・高電圧電源、５・・
・可飽和インダクタ、６・・・熱陰極型Ｘ線管、７・・
・インダクタ。
Claims (1)
- 第１のコンデンサと第２のコンデンサを直列に接続した
ピーキングコンデンサ部に熱陰極型Ｘ線管で形成される
Ｘ線発生部と、可飽和インダクタとを並列接続し、サイ
ラトロンとインダクタを直列接続してなるスイッチング
部を前記第１のコンデンサに並列に接続した回路からな
るパルスガスレーザ用Ｘ線発生回路。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27086189A JPH03131080A (ja) | 1989-10-17 | 1989-10-17 | パルスガスレーザ用ｘ線発生回路 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27086189A JPH03131080A (ja) | 1989-10-17 | 1989-10-17 | パルスガスレーザ用ｘ線発生回路 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03131080A true JPH03131080A (ja) | 1991-06-04 |
Family
ID=17491997
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27086189A Pending JPH03131080A (ja) | 1989-10-17 | 1989-10-17 | パルスガスレーザ用ｘ線発生回路 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03131080A (ja) |
-
1989
- 1989-10-17 JP JP27086189A patent/JPH03131080A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6744060B2 (en) | Pulse power system for extreme ultraviolet and x-ray sources | |
| CA1319169C (en) | Electrical excitation circuit for gas lasers | |
| JPH08132321A (ja) | 放電励起パルスレーザ装置 | |
| EP0398330B1 (en) | Discharge exciting pulse laser device | |
| US6389049B2 (en) | Discharge circuit for pulsed laser and pulsed power source | |
| JP2005185092A (ja) | ガス放電ポンピング式の放射線源のために高い繰返し率及び高い電流強さのパルス形状の電流を生成するための装置 | |
| JPH11166953A (ja) | パルス電源の試験装置 | |
| JPH03131080A (ja) | パルスガスレーザ用ｘ線発生回路 | |
| GB2204728A (en) | Gas discharge driver circuit | |
| JPH10223952A (ja) | 放電励起ガスレーザー装置 | |
| JP3432854B2 (ja) | パルスガスレーザ発振装置 | |
| JPH069267B2 (ja) | パルスガスレ−ザ | |
| JP3011435B2 (ja) | 磁気パルス圧縮回路および磁気パルス圧縮用可飽和リアクトルの磁気リセット方法 | |
| Grover | Pulsed Power Circuit Topologies for Gas Laser Applications | |
| JP2611518B2 (ja) | パルスガスレーザ装置 | |
| JPH0220082A (ja) | 放電型エキシマレーザ装置 | |
| JPH01162390A (ja) | エキシマレーザ装置 | |
| JP2856284B2 (ja) | 磁気パルス圧縮回路 | |
| JP2560215B2 (ja) | 磁気パルス圧縮回路 | |
| JPH08279644A (ja) | パルスレーザ装置用放電回路 | |
| JPH01130581A (ja) | パルスガスレーザ | |
| JPS6281077A (ja) | Ｘ線自動予備電離式放電型レ−ザ− | |
| JPH03252184A (ja) | パルスガスレーザ装置 | |
| JPH03259581A (ja) | Ｘ線予備電離放電励起パルスガスレーザ装置 | |
| JPH06112566A (ja) | パルスガスレーザ発振方法及びその装置 |