JPH031322A - 磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体およびその製造方法Info
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- JPH031322A JPH031322A JP1136640A JP13664089A JPH031322A JP H031322 A JPH031322 A JP H031322A JP 1136640 A JP1136640 A JP 1136640A JP 13664089 A JP13664089 A JP 13664089A JP H031322 A JPH031322 A JP H031322A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/72—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction
- G11B5/725—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction containing a lubricant, e.g. organic compounds
- G11B5/7253—Fluorocarbon lubricant
- G11B5/7257—Perfluoropolyether lubricant
-
- G—PHYSICS
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- G11B5/726—Two or more protective coatings
- G11B5/7262—Inorganic protective coating
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Lubricants (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
本発明は磁気ディスクｖｉ鷹など磁気記録！置に用いら
れる磁気記録媒体およびその製造方法に関し、特に耐久
性が向上した磁気記録媒体およびその製造方法に関する
。
れる磁気記録媒体およびその製造方法に関し、特に耐久
性が向上した磁気記録媒体およびその製造方法に関する
。
ハード磁気ディスク等の高密度記録を行う磁気記録媒体
に於ては、従来の磁性粉とバインダを含む塗布型の磁性
膜を用いた塗布型媒体に変わって、めっき、スパッタ、
蒸着等の方法により形成される金属磁性薄膜媒体が使用
されてきている。 ハード磁気ディスクに対して記録再生を行う場合には、
ディスクに所定の回転を与えることによって磁気ヘッド
と磁気ディスクとの間に微少な空気層を形成し、この状
態で記録再生を行い、停止状態ではヘッドと磁気ディス
ク面とは物理的に接触し、回転開始時や回転終了時にお
けるヘッドと磁気ディスクは接触摩擦状態で相対運動を
する、Ｃ５Ｓ方式（コンタクト・スタート・ストップ方
式）を用いるのが一般的である。 Ｃ５Ｓ方式では、接触摺動の摩擦力によりヘッド及び磁
気ディスク面の摩耗が進行する。また、記録再生中に微
少な塵などの存在によりヘッドが高速で磁気ディスク面
と接触し、ヘッドと磁気ディスク面との間に大きな摩擦
力が働いてヘッドや磁性膜が破壊されることがある。 特に金属磁性薄膜媒体においては、金属磁性膜の摩擦係
数が大きく、膜厚も薄いために上記の問題が顕著である
。そこで従来金属磁性該上に耐腐食性と潤滑性を持たせ
るため炭素保護膜を形成し、その上に液体潤滑剤を塗布
した磁気記録媒体（例えば特開昭６ｌ−２０８８２０）
や、金属磁性膜の上部に直接または第１保Ｍ膜を介して
５ＩＯｔなどの無機酸化物を形成し、この保護膜の上部
に液体の潤滑剤（フッ素オイル： パーフロロアルキル
ポリエーテル等）を塗布した磁気記録媒体が用いられて
いた（例えば特開昭６１−１６０８３４）。 さらにこの液体潤滑剤として官能基を有するものを用い
ることにより無機酸化物保護膜との結合力を上げること
が試みられている。 （例えば特開昭６１−２０８６１
８．特開昭６ｌ−２２０１２０）
に於ては、従来の磁性粉とバインダを含む塗布型の磁性
膜を用いた塗布型媒体に変わって、めっき、スパッタ、
蒸着等の方法により形成される金属磁性薄膜媒体が使用
されてきている。 ハード磁気ディスクに対して記録再生を行う場合には、
ディスクに所定の回転を与えることによって磁気ヘッド
と磁気ディスクとの間に微少な空気層を形成し、この状
態で記録再生を行い、停止状態ではヘッドと磁気ディス
ク面とは物理的に接触し、回転開始時や回転終了時にお
けるヘッドと磁気ディスクは接触摩擦状態で相対運動を
する、Ｃ５Ｓ方式（コンタクト・スタート・ストップ方
式）を用いるのが一般的である。 Ｃ５Ｓ方式では、接触摺動の摩擦力によりヘッド及び磁
気ディスク面の摩耗が進行する。また、記録再生中に微
少な塵などの存在によりヘッドが高速で磁気ディスク面
と接触し、ヘッドと磁気ディスク面との間に大きな摩擦
力が働いてヘッドや磁性膜が破壊されることがある。 特に金属磁性薄膜媒体においては、金属磁性膜の摩擦係
数が大きく、膜厚も薄いために上記の問題が顕著である
。そこで従来金属磁性該上に耐腐食性と潤滑性を持たせ
るため炭素保護膜を形成し、その上に液体潤滑剤を塗布
した磁気記録媒体（例えば特開昭６ｌ−２０８８２０）
や、金属磁性膜の上部に直接または第１保Ｍ膜を介して
５ＩＯｔなどの無機酸化物を形成し、この保護膜の上部
に液体の潤滑剤（フッ素オイル： パーフロロアルキル
ポリエーテル等）を塗布した磁気記録媒体が用いられて
いた（例えば特開昭６１−１６０８３４）。 さらにこの液体潤滑剤として官能基を有するものを用い
ることにより無機酸化物保護膜との結合力を上げること
が試みられている。 （例えば特開昭６１−２０８６１
８．特開昭６ｌ−２２０１２０）
しかしながら、液体潤滑剤を塗布した従来の炭素保護膜
の磁気記録媒体においては、保護膜と潤滑剤の結合が弱
いためにＣ９Ｓを繰り返すと次第に潤滑剤の効果が低減
し摩擦力が増加して、十分な耐摩耗性、耐損傷性は得ら
れていなかった。 また最上層が無機酸化物の保ｆｆｌ膜では極性基や官能
基を有する潤滑剤を塗布した場合には酸化物と潤滑剤と
の結合力は増すものの、無機酸化物の形成方法にコスト
高になる反応性スパッタ法や、耐候性の点で十分とはい
えないゾルゲル法を用いねばならず実用的ではなかった
。
の磁気記録媒体においては、保護膜と潤滑剤の結合が弱
いためにＣ９Ｓを繰り返すと次第に潤滑剤の効果が低減
し摩擦力が増加して、十分な耐摩耗性、耐損傷性は得ら
れていなかった。 また最上層が無機酸化物の保ｆｆｌ膜では極性基や官能
基を有する潤滑剤を塗布した場合には酸化物と潤滑剤と
の結合力は増すものの、無機酸化物の形成方法にコスト
高になる反応性スパッタ法や、耐候性の点で十分とはい
えないゾルゲル法を用いねばならず実用的ではなかった
。
本発明は上記従来の問題点を解決するためになされたも
のであって、表面を酸化処理した金属保護膜を有する磁
気記録媒体である。 該表面を酸化処理した金属保護膜は、磁性膜の上に金属
保ｌＩ賎を形成し、該金属保護膜に、０３（オゾン）雰
囲気下で紫外線を照射することによる酸化、 または減圧容器内での酸素プラズマによる酸化、を行な
う、磁気記録媒体の！！遣方法により製造することがで
きる。 本発明によれば、最表面が酸供物となつでいるため、そ
の上部に塗布する液体潤滑剤との結合力が増し、耐久性
が増す。 形成される酸化膜の膜厚は３〜２０ｎｍ厚とすることが
好ましい＊ ３ ｎ Ｉｎより薄いと本発明の効果が
現れにくく、２０ｎｍより厚いとヘッドと磁性膜との距
離があきすぎ、磁気ディスクの特性が悪くなりやすい。 該液体潤滑剤としては、パーフロロポリエーテルが好ま
しく、特に末端に−ＯＨ，−ＣＯＯＨｌ−Ｎ ＣＯ，芳
香族環等の原子団を有する平均分子量２０００〜４００
０のパーフロロポリエーテルが最表面の酸化物との結合
力が増すので好ましい。 金属保護層としては、Ｓｉ、 Ｃｒ、 ＡＩ、
Ｔｉ。 Ｔａ、 Ｚｒ＋ Ｎｂ、 Ｍｏ、 Ｖ、 Ｗ
およびＹよりなる群から選ばれた少なくともｌｆ！の金
属を含む物、および該金属でＣを含む物等が例示される
。 特に珪素含有金属が、その酸化物である珪素酸化物が前
記潤滑剤と高い結合力を実現し、優れた潤滑性と耐久性
を実現するので好ましい。 金属酸化物の形成方法としては、所望の金属をスパッタ
した後、オゾン雰囲気中において紫外線をＩＩ！！射す
る方法や、酸素プラズマにさらす方法がある。 前者の方法においては、酸化処理中に高温加熱の必要は
なく、下地磁性層の特性を何等損なうことなく数ｎｍ〜
１０ｎｍの酸化膜を形成することができる。また、−度
に大量に酸化処理できるという利点を持つ。 液体潤滑剤は、無機酸化物層を形成した後ディッピング
法、スピンコード法その他の方法でＩｏｎｍ以下の膜厚
で塗布される。 塗布後６０℃〜２５０℃の範囲での熱処理が、潤滑剤分
子の無機酸化物層上のエネルギー的に安定な位置への再
配置を促し、付着力の増加の効果を著しく促進する。
のであって、表面を酸化処理した金属保護膜を有する磁
気記録媒体である。 該表面を酸化処理した金属保護膜は、磁性膜の上に金属
保ｌＩ賎を形成し、該金属保護膜に、０３（オゾン）雰
囲気下で紫外線を照射することによる酸化、 または減圧容器内での酸素プラズマによる酸化、を行な
う、磁気記録媒体の！！遣方法により製造することがで
きる。 本発明によれば、最表面が酸供物となつでいるため、そ
の上部に塗布する液体潤滑剤との結合力が増し、耐久性
が増す。 形成される酸化膜の膜厚は３〜２０ｎｍ厚とすることが
好ましい＊ ３ ｎ Ｉｎより薄いと本発明の効果が
現れにくく、２０ｎｍより厚いとヘッドと磁性膜との距
離があきすぎ、磁気ディスクの特性が悪くなりやすい。 該液体潤滑剤としては、パーフロロポリエーテルが好ま
しく、特に末端に−ＯＨ，−ＣＯＯＨｌ−Ｎ ＣＯ，芳
香族環等の原子団を有する平均分子量２０００〜４００
０のパーフロロポリエーテルが最表面の酸化物との結合
力が増すので好ましい。 金属保護層としては、Ｓｉ、 Ｃｒ、 ＡＩ、
Ｔｉ。 Ｔａ、 Ｚｒ＋ Ｎｂ、 Ｍｏ、 Ｖ、 Ｗ
およびＹよりなる群から選ばれた少なくともｌｆ！の金
属を含む物、および該金属でＣを含む物等が例示される
。 特に珪素含有金属が、その酸化物である珪素酸化物が前
記潤滑剤と高い結合力を実現し、優れた潤滑性と耐久性
を実現するので好ましい。 金属酸化物の形成方法としては、所望の金属をスパッタ
した後、オゾン雰囲気中において紫外線をＩＩ！！射す
る方法や、酸素プラズマにさらす方法がある。 前者の方法においては、酸化処理中に高温加熱の必要は
なく、下地磁性層の特性を何等損なうことなく数ｎｍ〜
１０ｎｍの酸化膜を形成することができる。また、−度
に大量に酸化処理できるという利点を持つ。 液体潤滑剤は、無機酸化物層を形成した後ディッピング
法、スピンコード法その他の方法でＩｏｎｍ以下の膜厚
で塗布される。 塗布後６０℃〜２５０℃の範囲での熱処理が、潤滑剤分
子の無機酸化物層上のエネルギー的に安定な位置への再
配置を促し、付着力の増加の効果を著しく促進する。
本発明によれば、金属磁性薄膜上に第１金属保護膜が形
成され、さらにその上に無機酸化物保護層が形成されて
いるため、その上に例えば主鎖の末端に−ＯＨ，−ＣＯ
ＯＨ，−ＮＣＯ，芳香族環等を含んだ原子団を有するパ
ーフロロアルキルボッエーテル等の潤滑剤が塗布された
場合に、金属保護層と潤滑剤の結合と較べて高い強度の
結合が無機酸化物保護層との間で生じ、耐久性が向上す
る。 特に芳香族環が末端にあるパーフロロアルキルポリエー
テルを用いた場合、無機酸化物保護膜上の電荷が作る電
界により芳香族環を含む原子団の分極が発生し磁気ディ
スクと潤滑剤との結合力が増大する。またこの潤滑剤に
は極性基や反応基を含まないので、摩擦力が小さく特に
良好なヘッドの走行性が得られる。 また、金属保護層と無機酸化物保ｉｌｌ’！どの結合も
高く、無機酸化物保護層の形成も、０３雰囲気中の紫外
線による酸化あるいは酸素プラズマ中の酸化、等−度に
大量に作製することができる方法で実施できるので、低
コストで均一に作製できる。
成され、さらにその上に無機酸化物保護層が形成されて
いるため、その上に例えば主鎖の末端に−ＯＨ，−ＣＯ
ＯＨ，−ＮＣＯ，芳香族環等を含んだ原子団を有するパ
ーフロロアルキルボッエーテル等の潤滑剤が塗布された
場合に、金属保護層と潤滑剤の結合と較べて高い強度の
結合が無機酸化物保護層との間で生じ、耐久性が向上す
る。 特に芳香族環が末端にあるパーフロロアルキルポリエー
テルを用いた場合、無機酸化物保護膜上の電荷が作る電
界により芳香族環を含む原子団の分極が発生し磁気ディ
スクと潤滑剤との結合力が増大する。またこの潤滑剤に
は極性基や反応基を含まないので、摩擦力が小さく特に
良好なヘッドの走行性が得られる。 また、金属保護層と無機酸化物保ｉｌｌ’！どの結合も
高く、無機酸化物保護層の形成も、０３雰囲気中の紫外
線による酸化あるいは酸素プラズマ中の酸化、等−度に
大量に作製することができる方法で実施できるので、低
コストで均一に作製できる。
以下、実施例により本発明をより詳細に説明する。
実施例−１
第１図はこの発明の磁気記録媒体の構成を示す断面図で
ある。化学強化が施されたガラス円盤１上に下地層とし
てクロム（Ｃｒ）２を成膜し、この上に金属磁性層とし
てコバルト−ニッケルークロム（Ｃｏ−Ｎ ｉ−Ｃｒ）
合金３を約５０ｎｍの厚さに成膜する。更にその上に第
一保護膜としてＳ１膜４を約４０ ｎｍ成膜する。 この場合該下地膜２、金属磁性膜３、第一保護膜４はス
パッタリング法を用いて該ガラス基板上に順次成膜され
る。 第２図は酸化処理装置の概略図である。第一保護膜まで
成膜した該ディスクを数枚〜数１０枚保持できる治具に
取り付け、オゾン雰囲気のチャンバー１１に入れる。 オゾンは酸素ガスをオゾナイザ−９に通ずことにより得
られ、酸素ガス流量は５００ｍ１／ｍｉｎである。この
チャンバー内にて紫外線ランプ１０より得られる波長２
５３．７ｎｍの紫外線を該ディスクに５分間照射するこ
とによってディスク最上部の金属珪素が約３ｎｍ酸化珪
素膜５に変化する。 この上に、潤滑剤としてパーフロロアルキルポリエーテ
ル（商品名Ｆｏｍｂｌｉｎ ＡＭ ２００１）を溶
媒トリクロロトリフロロエタンで０゜５％に希釈したも
のをディッピング法により塗布し１１０℃で５分間放置
した。 ここで潤滑剤塗布後に加える熱処理は、珪素酸化物保護
膜と潤滑剤とを安定な配置にし、結合力を高めるための
ものである。 またディスクを３６０Ｏｒｐｍの速度で高速回転させヘ
ッドの離発着を繰り返す試験＜ＣＳＳ試験）にかけた結
果を第３図に示す、２万回の試験後もディスク表面に何
等変化はみられず、動摩擦係数値の増加もわずかであっ
た。 実施例−２ 実施例−１と同様に第１保護膜まで形成したディスクを
減圧容器内に入れ、酸素ガスを流量１１００５ＣＣで導
入した。このとき酸素ガス圧は２０Ｐａであった。ここ
で、減圧容器内に設けた平行平板電極間に１３．５６Ｍ
Ｈｚの高周波電圧を印加してｍ素プラズマを発生させ、
該ディスクを１分間このプラズマにさらした。この処理
によって、第１保！！膜である金属珪素膜の最表層が約
５ｎｍ酸化珪素膜に変化した。 この上に、実施例−１と同様に潤滑剤を塗布して１１０
℃で５分閏放置した。この様にしたディスクのＣ８Ｓ試
験を行った所、２万回の試験後もディスク表面には何等
異常はみられず、動摩擦係数の増加もわずかであった。
ある。化学強化が施されたガラス円盤１上に下地層とし
てクロム（Ｃｒ）２を成膜し、この上に金属磁性層とし
てコバルト−ニッケルークロム（Ｃｏ−Ｎ ｉ−Ｃｒ）
合金３を約５０ｎｍの厚さに成膜する。更にその上に第
一保護膜としてＳ１膜４を約４０ ｎｍ成膜する。 この場合該下地膜２、金属磁性膜３、第一保護膜４はス
パッタリング法を用いて該ガラス基板上に順次成膜され
る。 第２図は酸化処理装置の概略図である。第一保護膜まで
成膜した該ディスクを数枚〜数１０枚保持できる治具に
取り付け、オゾン雰囲気のチャンバー１１に入れる。 オゾンは酸素ガスをオゾナイザ−９に通ずことにより得
られ、酸素ガス流量は５００ｍ１／ｍｉｎである。この
チャンバー内にて紫外線ランプ１０より得られる波長２
５３．７ｎｍの紫外線を該ディスクに５分間照射するこ
とによってディスク最上部の金属珪素が約３ｎｍ酸化珪
素膜５に変化する。 この上に、潤滑剤としてパーフロロアルキルポリエーテ
ル（商品名Ｆｏｍｂｌｉｎ ＡＭ ２００１）を溶
媒トリクロロトリフロロエタンで０゜５％に希釈したも
のをディッピング法により塗布し１１０℃で５分間放置
した。 ここで潤滑剤塗布後に加える熱処理は、珪素酸化物保護
膜と潤滑剤とを安定な配置にし、結合力を高めるための
ものである。 またディスクを３６０Ｏｒｐｍの速度で高速回転させヘ
ッドの離発着を繰り返す試験＜ＣＳＳ試験）にかけた結
果を第３図に示す、２万回の試験後もディスク表面に何
等変化はみられず、動摩擦係数値の増加もわずかであっ
た。 実施例−２ 実施例−１と同様に第１保護膜まで形成したディスクを
減圧容器内に入れ、酸素ガスを流量１１００５ＣＣで導
入した。このとき酸素ガス圧は２０Ｐａであった。ここ
で、減圧容器内に設けた平行平板電極間に１３．５６Ｍ
Ｈｚの高周波電圧を印加してｍ素プラズマを発生させ、
該ディスクを１分間このプラズマにさらした。この処理
によって、第１保！！膜である金属珪素膜の最表層が約
５ｎｍ酸化珪素膜に変化した。 この上に、実施例−１と同様に潤滑剤を塗布して１１０
℃で５分閏放置した。この様にしたディスクのＣ８Ｓ試
験を行った所、２万回の試験後もディスク表面には何等
異常はみられず、動摩擦係数の増加もわずかであった。
実施例と同様に金属磁性膜まで形成したディスク上に、
炭素膜を４０ｎｍスパッタリング法により成膜した。こ
の上に実施例と同じ潤滑剤を同様の手順により塗布し、
１１０℃で５分閏放置した。 実施例と同様にしてＣ８Ｓ試験を行ったところ、第３図
に示す様に２０００回でディスク上に摩耗痕が発生し、
動摩擦係数の値も著しく増加した。
炭素膜を４０ｎｍスパッタリング法により成膜した。こ
の上に実施例と同じ潤滑剤を同様の手順により塗布し、
１１０℃で５分閏放置した。 実施例と同様にしてＣ８Ｓ試験を行ったところ、第３図
に示す様に２０００回でディスク上に摩耗痕が発生し、
動摩擦係数の値も著しく増加した。
この様に、本発明においては金属磁性体上に形成された
金属酸化物膜が潤滑剤の付着力を大幅に向上させるため
、磁気記録媒体の潤滑性、耐摩耗性が大きく改善される
。
金属酸化物膜が潤滑剤の付着力を大幅に向上させるため
、磁気記録媒体の潤滑性、耐摩耗性が大きく改善される
。
第１図は本発明の磁気記録媒体の新面を示す図、第２図
は本発明における酸化処理装置の概略図、第３図はＣ３
Ｓ試験回数に対する勤Ｈ１！Ｍ係数の変化を示す図であ
る。実線は本発明のディスクに対する結果であり、鎖線
は比較例の保護膜に炭素膜を用いたディスクの試験結果
である。 特許出願人 日本板硝子株式会社
は本発明における酸化処理装置の概略図、第３図はＣ３
Ｓ試験回数に対する勤Ｈ１！Ｍ係数の変化を示す図であ
る。実線は本発明のディスクに対する結果であり、鎖線
は比較例の保護膜に炭素膜を用いたディスクの試験結果
である。 特許出願人 日本板硝子株式会社
Claims (4)
- （１）表面を酸化処理した金属保護膜を有する磁気記録
媒体。 - （２）該金属が、Ｓｉ，Ｃｒ，Ａｌ，Ｔｉ，Ｔａ，Ｚｒ
，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｖ，ＷおよびＹよりなる群から選ばれた
少なくとも１種を含む特許請求範囲第１項記載の磁気記
録媒体。 - （３）該金属がＣを含む特許請求範囲第２項記載の磁気
記録媒体。 - （４）磁性膜の上に金属保護膜を形成し、該金属保護膜
に、 Ｏ＿３（オゾン）雰囲気下で紫外線を照射することによ
る酸化、 または減圧容器内での酸素プラズマによる酸化、を行な
い、該金属膜表面を酸化させる磁気記録媒体の製造方法
。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1136640A JPH031322A (ja) | 1989-05-30 | 1989-05-30 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
| EP19900305870 EP0400984A3 (en) | 1989-05-30 | 1990-05-30 | Magnetic recording media |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1136640A JPH031322A (ja) | 1989-05-30 | 1989-05-30 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH031322A true JPH031322A (ja) | 1991-01-08 |
Family
ID=15180036
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1136640A Pending JPH031322A (ja) | 1989-05-30 | 1989-05-30 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0400984A3 (ja) |
| JP (1) | JPH031322A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6346309B1 (en) | 1998-08-11 | 2002-02-12 | Hitachi Maxell, Ltd. | Optical recording medium and process for producing same |
| US6511921B1 (en) * | 1999-01-12 | 2003-01-28 | Sumco Phoenix Corporation | Methods for reducing the reactivity of a semiconductor substrate surface and for evaluating electrical properties of a semiconductor substrate |
| JP2013178372A (ja) * | 2012-02-28 | 2013-09-09 | Hoya Corp | 転写用マスク及びその製造方法、並びに、マスクブランク及びその製造方法 |
| CN104403533A (zh) * | 2014-12-13 | 2015-03-11 | 常熟市磊王合金工具有限公司 | 耐磨pcd螺旋式铰刀 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2874298B2 (ja) * | 1990-07-24 | 1999-03-24 | 日本板硝子株式会社 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
-
1989
- 1989-05-30 JP JP1136640A patent/JPH031322A/ja active Pending
-
1990
- 1990-05-30 EP EP19900305870 patent/EP0400984A3/en not_active Withdrawn
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6346309B1 (en) | 1998-08-11 | 2002-02-12 | Hitachi Maxell, Ltd. | Optical recording medium and process for producing same |
| US6511921B1 (en) * | 1999-01-12 | 2003-01-28 | Sumco Phoenix Corporation | Methods for reducing the reactivity of a semiconductor substrate surface and for evaluating electrical properties of a semiconductor substrate |
| JP2013178372A (ja) * | 2012-02-28 | 2013-09-09 | Hoya Corp | 転写用マスク及びその製造方法、並びに、マスクブランク及びその製造方法 |
| CN104403533A (zh) * | 2014-12-13 | 2015-03-11 | 常熟市磊王合金工具有限公司 | 耐磨pcd螺旋式铰刀 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0400984A2 (en) | 1990-12-05 |
| EP0400984A3 (en) | 1991-01-23 |
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