JPH03132710A - 複数レーザビームによる走査露光方法 - Google Patents
複数レーザビームによる走査露光方法Info
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- JPH03132710A JPH03132710A JP27233689A JP27233689A JPH03132710A JP H03132710 A JPH03132710 A JP H03132710A JP 27233689 A JP27233689 A JP 27233689A JP 27233689 A JP27233689 A JP 27233689A JP H03132710 A JPH03132710 A JP H03132710A
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- laser beam
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は複数レーザビーと走査露光方法に係り、特に入
射されたレーザビームを入射された超音波の周波数に応
じて複数に分割するマルチ周波、数音響光学素子を用い
て複数のレーザビームを発生させ、複数のレーザビーム
を同時に走査して露光する複数レーザビーと走査露光方
法に関する。
射されたレーザビームを入射された超音波の周波数に応
じて複数に分割するマルチ周波、数音響光学素子を用い
て複数のレーザビームを発生させ、複数のレーザビーム
を同時に走査して露光する複数レーザビーと走査露光方
法に関する。
に関する。
〔従来の技術および発明が解決しようとする課題〕従来
より、マルチ周波数音響光学素子を利用した光変調装置
が知られている（特公昭６３−５７４１号公報、特開昭
５４−５４５５号公報、特開昭５７−４１６１８号公報
、特公昭５３−９８５６号公報等）。かかるマルチ周波
同音響光学素子を用いた光変調装置では、感光面上で一
部分が重なるように配列された複数のレーザビームをレ
ーザビームの配列方向と直交する方向を主走査方向とし
て同時に走査して走査露光することになる。
より、マルチ周波数音響光学素子を利用した光変調装置
が知られている（特公昭６３−５７４１号公報、特開昭
５４−５４５５号公報、特開昭５７−４１６１８号公報
、特公昭５３−９８５６号公報等）。かかるマルチ周波
同音響光学素子を用いた光変調装置では、感光面上で一
部分が重なるように配列された複数のレーザビームをレ
ーザビームの配列方向と直交する方向を主走査方向とし
て同時に走査して走査露光することになる。
一方、マルチ周波数音響光学素子から射出されたレーザ
ビームには、レーザビームの周波数が超音波の入射方向
に応じてシフトするドツプラーシフトが発生し、ドツプ
ラーシフトによる周波数差によってレーザビームの重な
り部分の強度分布が時間と共に変化するヘテロダイン干
渉が発生する。
ビームには、レーザビームの周波数が超音波の入射方向
に応じてシフトするドツプラーシフトが発生し、ドツプ
ラーシフトによる周波数差によってレーザビームの重な
り部分の強度分布が時間と共に変化するヘテロダイン干
渉が発生する。
このヘテロダイン干渉について角周波数ω１ω２で振幅
変調されている、強度分布が正規分布の２つのレーザビ
ームについて説明する。第１図に示すように、各レーザ
ビームの強度分布は、曲線Ａ、Ｂに示すように正規分布
（ガウス分布）になっている。レーデビームが走査され
ていないと仮定すると、各周波数の差Δω（＝ω１−ω
２）と時間ｔとの積Δωｔが０のときの合成波の強度分
布は曲線Ｃのようになり、Δωｔ＝ （２ｎ＋１）π／
４のときの強度分布は曲線りのようになり、Δωｔ＝ｎ
π／２のときの強度分布は曲線Ｅのようになる。なお、
ｎは自然数、第１図において、ｒは、強度が中心強度に
対して１／ｅ２（ｅは自然対数の底）となる部分の正規
分布の中心がらの半径、ｄ／２は合成波の中心から各レ
ーザビームの中心までの距離である。このように、ヘテ
ロダイン干渉によって合成波の強度分布は時間と共に変
化することになる。
変調されている、強度分布が正規分布の２つのレーザビ
ームについて説明する。第１図に示すように、各レーザ
ビームの強度分布は、曲線Ａ、Ｂに示すように正規分布
（ガウス分布）になっている。レーデビームが走査され
ていないと仮定すると、各周波数の差Δω（＝ω１−ω
２）と時間ｔとの積Δωｔが０のときの合成波の強度分
布は曲線Ｃのようになり、Δωｔ＝ （２ｎ＋１）π／
４のときの強度分布は曲線りのようになり、Δωｔ＝ｎ
π／２のときの強度分布は曲線Ｅのようになる。なお、
ｎは自然数、第１図において、ｒは、強度が中心強度に
対して１／ｅ２（ｅは自然対数の底）となる部分の正規
分布の中心がらの半径、ｄ／２は合成波の中心から各レ
ーザビームの中心までの距離である。このように、ヘテ
ロダイン干渉によって合成波の強度分布は時間と共に変
化することになる。
レーザビームを用いて感光面上に露光を行い、画像を形
成する場合、レーザビームの強度と露光時間との積、す
なわち露光量によって画像の濃度が決定される。第２図
はこの露光量とへテロダイン干渉しているレーザビーム
の強度分布との関係を示すものである。第２１ｆｆｌ
（１）に示すようにヘテロダイン干渉している２つのレ
ーザビームし３、Ｌ２を矢印方向に走査したときの感光
面上の強度分布は、合成波の強度分布が第１図に示すよ
うに変化するから、第２図（２）に示すように変化する
。このとき、合成波の中心部分の強度分布には２つのレ
ーザビームの周波数差に応じた周波数のうねりが生ずる
ため、合成波による露光量は、走査速度が速ければ第２
図（３）の曲線Ｆに示すように変化する。なお、走査速
度を遅くすれば露光量が平均化されるため、点線Ｇで示
すように一定の露光量となる。
成する場合、レーザビームの強度と露光時間との積、す
なわち露光量によって画像の濃度が決定される。第２図
はこの露光量とへテロダイン干渉しているレーザビーム
の強度分布との関係を示すものである。第２１ｆｆｌ
（１）に示すようにヘテロダイン干渉している２つのレ
ーザビームし３、Ｌ２を矢印方向に走査したときの感光
面上の強度分布は、合成波の強度分布が第１図に示すよ
うに変化するから、第２図（２）に示すように変化する
。このとき、合成波の中心部分の強度分布には２つのレ
ーザビームの周波数差に応じた周波数のうねりが生ずる
ため、合成波による露光量は、走査速度が速ければ第２
図（３）の曲線Ｆに示すように変化する。なお、走査速
度を遅くすれば露光量が平均化されるため、点線Ｇで示
すように一定の露光量となる。
従って、ヘテロダイン干渉しているレーザビームを用い
て走査露光する場合には、走査速度等を適切に定めない
とヘテロダイン干渉によって画像に濃度むらが生ずるこ
とになる。
て走査露光する場合には、走査速度等を適切に定めない
とヘテロダイン干渉によって画像に濃度むらが生ずるこ
とになる。
本発明は、複数のレーザビームを用いて走査露光する場
合に、ヘテロゲイン干渉によりレーザビームの重なった
部分の強度分布が時間と共に変化しても、露光量分布が
時間と共に変化しないようにして画像信号に対応した正
しい画像を形成することができる複数レーザビーと走査
露光方法を提供することを目的とする。
合に、ヘテロゲイン干渉によりレーザビームの重なった
部分の強度分布が時間と共に変化しても、露光量分布が
時間と共に変化しないようにして画像信号に対応した正
しい画像を形成することができる複数レーザビーと走査
露光方法を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために本発明は、重なり部分でヘテ
ロゲイン干渉するレーデビームを感光面上で一部分が重
なるように複数配列し、レーザビームの配列方向と交差
する方向に複数個同時に走査して露光するにあたり、複
数レーザビームで走査したときの露光量分布が各レーザ
ビームで走査したときの露光量分布の和となるように、
少なくとも各レーザビームの強度分布形状と感光面上の
走査速度とを決定することを特徴とする。
ロゲイン干渉するレーデビームを感光面上で一部分が重
なるように複数配列し、レーザビームの配列方向と交差
する方向に複数個同時に走査して露光するにあたり、複
数レーザビームで走査したときの露光量分布が各レーザ
ビームで走査したときの露光量分布の和となるように、
少なくとも各レーザビームの強度分布形状と感光面上の
走査速度とを決定することを特徴とする。
この発明では、各レーザビームの強度分布を正規分布と
すると共に強度分布形状を強度が中心部度に対して−と
なる部分の中心からの半径ｒで２ 定め１．感光面上の走査速度をＶ、隣接するレーザが所
定値以対して１／ｅ２となる部分の中心からの半径ｒと
走査速度Ｖとを決定することができる。この所定値とし
ては、１．５が好ましい。
すると共に強度分布形状を強度が中心部度に対して−と
なる部分の中心からの半径ｒで２ 定め１．感光面上の走査速度をＶ、隣接するレーザが所
定値以対して１／ｅ２となる部分の中心からの半径ｒと
走査速度Ｖとを決定することができる。この所定値とし
ては、１．５が好ましい。
重なり部分でヘテロゲイン干渉する複数のレーザビーム
は、入射されたレーザビームを入射された超音波の周波
数に応じた方向に偏向する音響光学素子によって発生さ
せることができる。
は、入射されたレーザビームを入射された超音波の周波
数に応じた方向に偏向する音響光学素子によって発生さ
せることができる。
本発明では、重なり部分でヘテロゲイン干渉するレーザ
ビームを感光面上で一部分が重なるように複数配列し、
レーザビームの配列方向と交差する方向に複数個同時に
走査して露光する。従って、レーザビームの重なり部分
ではヘテロゲイン干渉が発生し、強度分布が時間の経過
と共に変化する。
ビームを感光面上で一部分が重なるように複数配列し、
レーザビームの配列方向と交差する方向に複数個同時に
走査して露光する。従って、レーザビームの重なり部分
ではヘテロゲイン干渉が発生し、強度分布が時間の経過
と共に変化する。
そこで、複数レーザビームで走査したときの露光量分布
が、各レーザビームで走査したときの露光量分布の和と
なるように、少なくとも各レーザビームの強度分布形状
と感光面上の走査速度とを決定する。露光量は、レーザ
ビームの強度と露光時間との積で表され、強度は強度分
布形状に関係し、露光時間は感光面上の走査速度に関係
するから、レーザビームの強度分布形状と感光面上の走
査速度とを決定すれば、上記のように露光量分布を定め
ることができる。このように、複数レーザビームで走査
したときの露光量分布が、各レーザビームで走査したと
きの露光量の和になっているため、レーデビームの重な
り部分でヘテロゲイン干渉が発生して強度分布が時間の
経過と共に変化しても画像信号に応じた濃度の画像を形
成することができる。
が、各レーザビームで走査したときの露光量分布の和と
なるように、少なくとも各レーザビームの強度分布形状
と感光面上の走査速度とを決定する。露光量は、レーザ
ビームの強度と露光時間との積で表され、強度は強度分
布形状に関係し、露光時間は感光面上の走査速度に関係
するから、レーザビームの強度分布形状と感光面上の走
査速度とを決定すれば、上記のように露光量分布を定め
ることができる。このように、複数レーザビームで走査
したときの露光量分布が、各レーザビームで走査したと
きの露光量の和になっているため、レーデビームの重な
り部分でヘテロゲイン干渉が発生して強度分布が時間の
経過と共に変化しても画像信号に応じた濃度の画像を形
成することができる。
本発明者の実験によれば、各レーザビームの強度分布を
正規分布とすると共に強度分布形状を強度が中心強度に
対して１／ｅ２となる部分の中心からの半径ｒで定義し
、感光面上の走査速度をｖ１隣接するレーザビームの周
波数差をΔｆとするとき、ｖ／（ｒ・Δｆ）が所定値以
下となるように、半径ｒ、走査速度ｖ１周波数差Δｆを
定めれば、複数に一ザビームで走査したときの露光量分
布が各レーザビームで走査したときの露光量分布の和と
なること力（確言忍された。
正規分布とすると共に強度分布形状を強度が中心強度に
対して１／ｅ２となる部分の中心からの半径ｒで定義し
、感光面上の走査速度をｖ１隣接するレーザビームの周
波数差をΔｆとするとき、ｖ／（ｒ・Δｆ）が所定値以
下となるように、半径ｒ、走査速度ｖ１周波数差Δｆを
定めれば、複数に一ザビームで走査したときの露光量分
布が各レーザビームで走査したときの露光量分布の和と
なること力（確言忍された。
第３図（１）はｖ＝ ｌ ５０ｍ／ｓ ｅ ｃＳｒ＝
１゜９５μｍ、Δｆ＝３３．３Ｍｆ（ｚ、すなわちＶ／
（ｒ・Δｆ）が２．４６のときの感光面（ｘｙ面）上の
露光ＮＥの分布を示すものである。また、第３図（２）
はｖ＝８０ｍ／ｓｅｃ、ｒ＝１．９５μｍ、Δｆ＝３３
．３Ｍ）Ｉｚ、すなわちｖ／（ｒ・Δｆ）が１６２３の
ときの露光量分布を示すものであり、第３図（３）は、
”／＝５４ｍ／ｓｅｃ、ｒ＝１．９５μｍ、八ｆ＝２５
Ｍ）ｆｚ、すなわちＶ／（ｒ・Δｆ）＝１．１０のとき
の露光量分布を示すものである。比ｖ／（ｒ・△ｆ）が
１．２３以下のときには合成波による露光量分布は各レ
ーザビームの露光量分布の略代数和になっており、比が
２．４６以上のときの露光量分布にはへテロダイン干渉
による影響が発生している。マルチ周波数音響光学素子
をオンオフさせて走査したときのドツトの濃度を調べた
ところ、比を１．５以下とすれば濃度のむらが見られず
オンオフ信号に対応した正しいドツトが形成されること
が確認された。
１゜９５μｍ、Δｆ＝３３．３Ｍｆ（ｚ、すなわちＶ／
（ｒ・Δｆ）が２．４６のときの感光面（ｘｙ面）上の
露光ＮＥの分布を示すものである。また、第３図（２）
はｖ＝８０ｍ／ｓｅｃ、ｒ＝１．９５μｍ、Δｆ＝３３
．３Ｍ）Ｉｚ、すなわちｖ／（ｒ・Δｆ）が１６２３の
ときの露光量分布を示すものであり、第３図（３）は、
”／＝５４ｍ／ｓｅｃ、ｒ＝１．９５μｍ、八ｆ＝２５
Ｍ）ｆｚ、すなわちＶ／（ｒ・Δｆ）＝１．１０のとき
の露光量分布を示すものである。比ｖ／（ｒ・△ｆ）が
１．２３以下のときには合成波による露光量分布は各レ
ーザビームの露光量分布の略代数和になっており、比が
２．４６以上のときの露光量分布にはへテロダイン干渉
による影響が発生している。マルチ周波数音響光学素子
をオンオフさせて走査したときのドツトの濃度を調べた
ところ、比を１．５以下とすれば濃度のむらが見られず
オンオフ信号に対応した正しいドツトが形成されること
が確認された。
以上説明したように本発明によれば、複数レーザビーム
で走査したときの露光量分布が各レーザビームで走査し
たときの露光量分布の和となるようにしているため、ヘ
テロダイン干渉によって時間の経過と共に強度分布が変
化するレーデビームを用いた場合であっても画像信号に
対応した正しい画像を形成することができる、という効
果が得られる。
で走査したときの露光量分布が各レーザビームで走査し
たときの露光量分布の和となるようにしているため、ヘ
テロダイン干渉によって時間の経過と共に強度分布が変
化するレーデビームを用いた場合であっても画像信号に
対応した正しい画像を形成することができる、という効
果が得られる。
以下本発明の詳細な説明する。まず、本発明が適用可能
なレーザプリンターの走査光学系について説明する。こ
の走査光学系は、ポリゴンミラー２０のミラー面２２に
、主走査方向に径が大きくかつ副走査方向に複数個に分
離されたレーザビームを結像するようにしたものである
。第４図に示すようにマルチ周波数音響光学素子（ＡＯ
Ｍ）１０のレーザビーム射出側には、ＡＯＭＩＯの偏光
面２４が第１焦点面に位置するように焦点距離がｆ、の
収束レンズ１２が配置されている。収束レンズ１２のレ
ーザビーム射出側には、第１焦点面が収束レンズ１２の
第２焦点面と重なるように、副走査方向にのみレンズパ
ワーを有する焦点距離がｆｂｆの副走査方向ビーム整形
シリンドリカルレンズ１４が配置されている。副走査方
向ビーム整形シリンドリカルレンズ１４のレーザビーム
射出側には、第１焦点が収束レンズ１２の第２焦点と重
なるように主走査方向にのみレンズパワーを有する焦点
距離がｆｂｓＯ主走査方向ビーム整形シリンドリカルレ
ンズ１６が配置されている。また、主走査方向ビーム整
形シリンドリカルレンズ１６のレーザビーム射出側には
、第１焦点面が副走査方向ビーム整形シリンドリカルレ
ンズ１４の第２焦点面と重なるように副走査方向にのみ
レンズパワーを有する焦点距離がｆ。、の倒れ補正シリ
ンドリカルレンズ１８が配置されている。そして、倒れ
補正シリンドリカルレンズ１８の第２焦点面とミラー面
２２とが重なるようにポリゴンミラー２０が配置されて
いる。従って、ミラー面２２、Ａ○Ｍ偏光面２４等はビ
ームウェスト面となる。
なレーザプリンターの走査光学系について説明する。こ
の走査光学系は、ポリゴンミラー２０のミラー面２２に
、主走査方向に径が大きくかつ副走査方向に複数個に分
離されたレーザビームを結像するようにしたものである
。第４図に示すようにマルチ周波数音響光学素子（ＡＯ
Ｍ）１０のレーザビーム射出側には、ＡＯＭＩＯの偏光
面２４が第１焦点面に位置するように焦点距離がｆ、の
収束レンズ１２が配置されている。収束レンズ１２のレ
ーザビーム射出側には、第１焦点面が収束レンズ１２の
第２焦点面と重なるように、副走査方向にのみレンズパ
ワーを有する焦点距離がｆｂｆの副走査方向ビーム整形
シリンドリカルレンズ１４が配置されている。副走査方
向ビーム整形シリンドリカルレンズ１４のレーザビーム
射出側には、第１焦点が収束レンズ１２の第２焦点と重
なるように主走査方向にのみレンズパワーを有する焦点
距離がｆｂｓＯ主走査方向ビーム整形シリンドリカルレ
ンズ１６が配置されている。また、主走査方向ビーム整
形シリンドリカルレンズ１６のレーザビーム射出側には
、第１焦点面が副走査方向ビーム整形シリンドリカルレ
ンズ１４の第２焦点面と重なるように副走査方向にのみ
レンズパワーを有する焦点距離がｆ。、の倒れ補正シリ
ンドリカルレンズ１８が配置されている。そして、倒れ
補正シリンドリカルレンズ１８の第２焦点面とミラー面
２２とが重なるようにポリゴンミラー２０が配置されて
いる。従って、ミラー面２２、Ａ○Ｍ偏光面２４等はビ
ームウェスト面となる。
ポリゴンミラーのレーザビーム反射側には、ｆθレンズ
３２と副走査方向にのみレンズパワーを有するシリンド
リカルレンズ３４とから成る光学系が配置されている。
３２と副走査方向にのみレンズパワーを有するシリンド
リカルレンズ３４とから成る光学系が配置されている。
この光学系の主走査方向は、第１焦点面はミラー面２２
と重なり、第２焦点面は感光材料３６の感光面と重なっ
ており、副走査方向に対してはミラー面２２と感光面と
は共役の関係にある。
と重なり、第２焦点面は感光材料３６の感光面と重なっ
ており、副走査方向に対してはミラー面２２と感光面と
は共役の関係にある。
以下本実施例の作用を説明する。主走査方向に対しては
、収束レンズ１２および主走査方向ビーム整形シリンド
リカルレンズ１６のみがレンズパワーを有することにな
る。このため、収束レンズ１２と主走査方向ビーム整形
シリンドリカルレンズ１６とによってビームエキスパン
ダが構成され、シリンドリカルレンズ１６から照射され
たレーザビームは主走査方向に拡がった平行レーザビー
ムに変換されてミラー面２２に照射される。
、収束レンズ１２および主走査方向ビーム整形シリンド
リカルレンズ１６のみがレンズパワーを有することにな
る。このため、収束レンズ１２と主走査方向ビーム整形
シリンドリカルレンズ１６とによってビームエキスパン
ダが構成され、シリンドリカルレンズ１６から照射され
たレーザビームは主走査方向に拡がった平行レーザビー
ムに変換されてミラー面２２に照射される。
副走査方向に対しては、収束レンズ１２、副走査方向ビ
ーム整形シリンドリカルレンズ１４およＵ（Ｍれ補正シ
リンドリカルレンズ１８がレンズパワーを有することに
なる。収束レンズ１２、副走査方向ビーム整形シリンド
リカルレンズ１４および倒れ補正シリンドリカルレンズ
１８の焦点面は重なっているため、フーリエ変換面で収
束レンズ１２からシリンドリカルレンズ１４、シリンド
リカルレンズ１４からシリンドリカルレンズ１６と順に
リレーされ、ミラー面２２上にＡＯＭ偏向位置のフラウ
ンホーファー回折像が結像される。これによってミラー
面２２上には副走査方向に分離された複数のレーザビー
ムが結像されることになる。なお、焦点面２２の像はフ
ラウンホーファー回折像になる。
ーム整形シリンドリカルレンズ１４およＵ（Ｍれ補正シ
リンドリカルレンズ１８がレンズパワーを有することに
なる。収束レンズ１２、副走査方向ビーム整形シリンド
リカルレンズ１４および倒れ補正シリンドリカルレンズ
１８の焦点面は重なっているため、フーリエ変換面で収
束レンズ１２からシリンドリカルレンズ１４、シリンド
リカルレンズ１４からシリンドリカルレンズ１６と順に
リレーされ、ミラー面２２上にＡＯＭ偏向位置のフラウ
ンホーファー回折像が結像される。これによってミラー
面２２上には副走査方向に分離された複数のレーザビー
ムが結像されることになる。なお、焦点面２２の像はフ
ラウンホーファー回折像になる。
以上の結果、ミラー面２２上には主走査方向の径が副走
査方向の径よりも大きくかつ副走査方向に複数個に分離
されたレーザビームが結像されることになる。
査方向の径よりも大きくかつ副走査方向に複数個に分離
されたレーザビームが結像されることになる。
ポリゴンミラー２０面の像はｆθレンズ３２とシリンリ
力ルレンズ３４とによって感光面上に結像されるが、ｆ
θレンズ３２とシリンリ力ルレンズ３４とを１つの組合
せレンズと考えると、この組合せレンズに対してポリゴ
ンミラー２０面上の像が物点となり、感光面上の像が像
点となって副走査方向には共役な関係となる。このため
物点から出たすべてのレーザビームは必ず像点に収束さ
れるようになるため、ポリゴンミラー２０の面倒れがあ
ってもこの面倒れ補正をすることができる。
力ルレンズ３４とによって感光面上に結像されるが、ｆ
θレンズ３２とシリンリ力ルレンズ３４とを１つの組合
せレンズと考えると、この組合せレンズに対してポリゴ
ンミラー２０面上の像が物点となり、感光面上の像が像
点となって副走査方向には共役な関係となる。このため
物点から出たすべてのレーザビームは必ず像点に収束さ
れるようになるため、ポリゴンミラー２０の面倒れがあ
ってもこの面倒れ補正をすることができる。
そして、感光面の像は、副走査方向に並んだ複数の円形
スポットになる。
スポットになる。
上記のような走査光学系を用いて強度分布が正規分布と
なりかつ周波数差△ｆが２５Ｍ）（ｚとなる、ビーム径
ｒが１．９５μｍの２つのビームに分割して、感光面上
での走査速度を５４ｍ／ｓｅｃとして走査露光したとこ
ろ、記録材料上の露光量分布は、第３図（３）に示すよ
うになり、２つのレーザビームの露光量の代数和となっ
た。このときのｖ／（ｒ・Δｆ）は１，１０であった。
なりかつ周波数差△ｆが２５Ｍ）（ｚとなる、ビーム径
ｒが１．９５μｍの２つのビームに分割して、感光面上
での走査速度を５４ｍ／ｓｅｃとして走査露光したとこ
ろ、記録材料上の露光量分布は、第３図（３）に示すよ
うになり、２つのレーザビームの露光量の代数和となっ
た。このときのｖ／（ｒ・Δｆ）は１，１０であった。
また、画像信号によってＡＯＭを変調したときの感光材
料上のドツトの濃度は画像信号に対応して正しく記録さ
れた。
料上のドツトの濃度は画像信号に対応して正しく記録さ
れた。
第１図はへテロダイン干渉を説明するための線図、第２
図（１）、（２）、（３）はへテロダイン干渉が生じて
いるときの露光量の変化を示す線図、第３図（１）、（
２）、（３）はヘテロゲイン干渉が生じているレーザビ
ームを用いてＶ／（ｒ・Δｆ）の大きさを変化させたと
きの露光量分布を示す線図、第４図は本発明が適用可能
な走査露光光学系を示す斜視図である。 １２・・・収束レンズ、 １４．１６．１８．３４・・・シリンドリカルレンズ ２０・・・ポリゴンミラー
図（１）、（２）、（３）はへテロダイン干渉が生じて
いるときの露光量の変化を示す線図、第３図（１）、（
２）、（３）はヘテロゲイン干渉が生じているレーザビ
ームを用いてＶ／（ｒ・Δｆ）の大きさを変化させたと
きの露光量分布を示す線図、第４図は本発明が適用可能
な走査露光光学系を示す斜視図である。 １２・・・収束レンズ、 １４．１６．１８．３４・・・シリンドリカルレンズ ２０・・・ポリゴンミラー
Claims (4)
- （１）重なり部分でヘテロダイン干渉するレーザビーム
を感光面上で一部分が重なるように複数配列し、レーザ
ビームの配列方向と交差する方向に複数個同時に走査し
て露光するにあたり、複数レーザビームで走査したとき
の露光量分布が各レーザビームで走査したときの露光量
分布の和となるように、少なくとも各レーザビームの強
度分布形状と感光面上の走査速度とを決定することを特
徴とする複数レーザビームによる走査露光方法。 - （２）各レーザビームの強度分布を正規分布とすると共
に強度分布形状を強度が中心強度に対して１／ｅ＾２と
なる部分の中心からの半径ｒで定め、感光面上の走査速
度をＶ、隣接するレーザビームの周波数差をΔｆとする
とき、Ｖ／ｒ・Δｆが所定値以下となるように、少なく
とも半径ｒと走査速度Ｖとを決定する請求項（１）記載
の複数レーザビームによる走査露光方法。 - （３）前記所定値は１．５である請求項（２）記載の複
数レーザビームによる走査露光方法。 - （４）入射されたレーザビームを入射された超音波の周
波数に応じた方向に偏向する音響光学素子によって複数
レーザビームを発生させる請求項（１）、（２）、また
は（３）記載の複数レーザビームによる走査露光方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1272336A JP2672159B2 (ja) | 1989-10-19 | 1989-10-19 | 複数レーザビームによる走査露光方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1272336A JP2672159B2 (ja) | 1989-10-19 | 1989-10-19 | 複数レーザビームによる走査露光方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03132710A true JPH03132710A (ja) | 1991-06-06 |
| JP2672159B2 JP2672159B2 (ja) | 1997-11-05 |
Family
ID=17512475
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1272336A Expired - Fee Related JP2672159B2 (ja) | 1989-10-19 | 1989-10-19 | 複数レーザビームによる走査露光方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2672159B2 (ja) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS539856A (en) * | 1976-07-14 | 1978-01-28 | Hehl Karl | Mold cramping device for injection molder |
| JPS545455A (en) * | 1977-06-14 | 1979-01-16 | Ricoh Co Ltd | Simultaneous multibeam light modulating system |
| JPS5741618A (en) * | 1980-08-26 | 1982-03-08 | Mitsubishi Electric Corp | Multibeam optical modulator and deflector |
| JPS635741A (ja) * | 1986-06-27 | 1988-01-11 | 和田精密歯研株式会社 | 歯科用補綴物の製作方法並びにこれに用いる記録用口腔模型 |
-
1989
- 1989-10-19 JP JP1272336A patent/JP2672159B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS539856A (en) * | 1976-07-14 | 1978-01-28 | Hehl Karl | Mold cramping device for injection molder |
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| JPS5741618A (en) * | 1980-08-26 | 1982-03-08 | Mitsubishi Electric Corp | Multibeam optical modulator and deflector |
| JPS635741A (ja) * | 1986-06-27 | 1988-01-11 | 和田精密歯研株式会社 | 歯科用補綴物の製作方法並びにこれに用いる記録用口腔模型 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2672159B2 (ja) | 1997-11-05 |
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