JPH0313285A - レーザマーキング装置 - Google Patents
レーザマーキング装置Info
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- JPH0313285A JPH0313285A JP1146826A JP14682689A JPH0313285A JP H0313285 A JPH0313285 A JP H0313285A JP 1146826 A JP1146826 A JP 1146826A JP 14682689 A JP14682689 A JP 14682689A JP H0313285 A JPH0313285 A JP H0313285A
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- prism
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はレーザを用いたマーキング装置に係り、特に、
マーキング用パターンマスクを用いるマスク式レーザマ
ーキング装置において、大面積マーキングを実現する光
学系に関する。
マーキング用パターンマスクを用いるマスク式レーザマ
ーキング装置において、大面積マーキングを実現する光
学系に関する。
パターン形成用のマスクを用いるレーザマーキング装置
において、高出力のパルスレーザ発振器を用いないで大
面積のマーキングを実現するには、大きなマスクを複数
の領域に分割し、それぞれの領域に対してレーザ光を照
射するという分割マーキング法という手段が広く知られ
ている。
において、高出力のパルスレーザ発振器を用いないで大
面積のマーキングを実現するには、大きなマスクを複数
の領域に分割し、それぞれの領域に対してレーザ光を照
射するという分割マーキング法という手段が広く知られ
ている。
マスクに対してレーザ光を移動照射する手段としては、
まずレーザ光を反射鏡により反射させてマスクに照射し
１次に反射鏡を平行移動してレーザ光を照射することに
より、最初のレーザ光軸を平行移動したレーザ光をマス
クに照射する方式、または光ファイバーを用いて、その
出射口をマスクに対して移動する方式などがある。いず
れも複数のレーザ照射により疑似的に大口径レーザ光を
実現するものである。この種の装置として関連するもの
には例えば特開昭６３−８４７８６号、同町６２−２７
０２９３号、同昭６２−２０３］１７号等が挙げられる
。
まずレーザ光を反射鏡により反射させてマスクに照射し
１次に反射鏡を平行移動してレーザ光を照射することに
より、最初のレーザ光軸を平行移動したレーザ光をマス
クに照射する方式、または光ファイバーを用いて、その
出射口をマスクに対して移動する方式などがある。いず
れも複数のレーザ照射により疑似的に大口径レーザ光を
実現するものである。この種の装置として関連するもの
には例えば特開昭６３−８４７８６号、同町６２−２７
０２９３号、同昭６２−２０３］１７号等が挙げられる
。
上記従来技術は、ｍ数回のレーザパルス光をマーキング
パターンマスクに照射する際に、同マスク上の照射領域
を完全に区分し、同一の被加工物に対してはマーキング
パターンマスク各部を複数回レーザ照射することを防ぐ
という配慮がされていなかった。したがって、被加工面
上においては。
パターンマスクに照射する際に、同マスク上の照射領域
を完全に区分し、同一の被加工物に対してはマーキング
パターンマスク各部を複数回レーザ照射することを防ぐ
という配慮がされていなかった。したがって、被加工面
上においては。
複数回のレーザパルス光が照射される領域を生じ。
被加工物のマーキング部全面に亘って均一なコントラス
トのマーキングを得にくいという問題があった。
トのマーキングを得にくいという問題があった。
また、マーキングパターンマスクとして液晶マスクを用
いた場合には、上記問題のほかに、１つの被／Ｉｌｌ工
物へのマーキングに際しても、マスク上の同一領域を複
数回パルスレーザ光が通過するため液晶マスマ寿命を早
めるという問題も生じた。
いた場合には、上記問題のほかに、１つの被／Ｉｌｌ工
物へのマーキングに際しても、マスク上の同一領域を複
数回パルスレーザ光が通過するため液晶マスマ寿命を早
めるという問題も生じた。
本発明の目的は、マーキングパターンマスクを分割して
複数ショットのレーザパルス光を照射する方式において
も、均一なコントラストのマーキングを実現するレーザ
マーキング装置を提供することにある。
複数ショットのレーザパルス光を照射する方式において
も、均一なコントラストのマーキングを実現するレーザ
マーキング装置を提供することにある。
本発明の他の目的は、液晶マスクを採用した際の液晶マ
スク長寿命化を計るレーザマーキング装置を提供するこ
とにある。
スク長寿命化を計るレーザマーキング装置を提供するこ
とにある。
上記目的を達成するために、パルスレーザ発振器より射
出されたパルスレーザ光軸を各パルス毎に、ある振り角
で偏向させ、プリズムの頂点をまたがって照射し、１つ
の被加工物に対してはパルスレーザ光の重なりのない複
数の平行光を得る。
出されたパルスレーザ光軸を各パルス毎に、ある振り角
で偏向させ、プリズムの頂点をまたがって照射し、１つ
の被加工物に対してはパルスレーザ光の重なりのない複
数の平行光を得る。
上記他の目的を達成するために、プリズム透過後、液晶
マスクへほぼ垂直に入射するように進む主レーザ光軸よ
り外れたレーザ光が、液晶マスクに当たらないようプリ
ズムと液晶マスクの間を離したものである。
マスクへほぼ垂直に入射するように進む主レーザ光軸よ
り外れたレーザ光が、液晶マスクに当たらないようプリ
ズムと液晶マスクの間を離したものである。
１台のパルスレーザ発振器よりパルス的に出力されるレ
ーザ光軸を、偏向器によって各パルスレーザ光毎にその
向きを変えて、プリズムの両斜面に対して交互に、しか
もレーザ光の一部は頂点をまたがって照射する。プリズ
ムはその透過光がマーキングパターンマスクに対しほぼ
垂直に入射し。
ーザ光軸を、偏向器によって各パルスレーザ光毎にその
向きを変えて、プリズムの両斜面に対して交互に、しか
もレーザ光の一部は頂点をまたがって照射する。プリズ
ムはその透過光がマーキングパターンマスクに対しほぼ
垂直に入射し。
結像光学系へ向かう光軸を形成するようになっている。
このときプリズムの他斜面にはみでて照射されたレーザ
光はプリズムの作用により、上記光軸からずれたはずれ
レーザ光となり、マーキングに使用されるレーザ光とは
分離される。これによって、複数ショットのレーザ光を
用いて、それぞれのレーザ光の重なりのない大口径ビー
ムを実現できる。したがって、被加工面上では、複数シ
ョットに分割してマーキングを行っても、同一部分を２
度打ちすることがなく、均一なコントラストのマーキン
グを実現できる。
光はプリズムの作用により、上記光軸からずれたはずれ
レーザ光となり、マーキングに使用されるレーザ光とは
分離される。これによって、複数ショットのレーザ光を
用いて、それぞれのレーザ光の重なりのない大口径ビー
ムを実現できる。したがって、被加工面上では、複数シ
ョットに分割してマーキングを行っても、同一部分を２
度打ちすることがなく、均一なコントラストのマーキン
グを実現できる。
〔実施例〕
以下、本発明の一実施例を第１図から第６図を用いて説
明する。パルスレーザ発振器１よりパルス的に出力され
たレーザ光２をビーム整形部３゜４で拡大するとともに
長楕円形に整形し１反射鏡５で偏向器６に照射する。偏
向器６よりプリズム７に対し、振り角２θＳで第２レー
ザパルスＰ２と第２レーザパルスＰ２とを偏向してプリ
ズム７に照射する。プリズム７のあとにマーキングパタ
ーン形成用のマスク８を設け、マスク８を透過した第２
レーザパルスＰ２ａと第２レーザパルスＰＺａは、それ
ぞれ結像光学系９により、被加工物１０の表面に結像さ
れマーキングを行う、プリズム７と結像光学系９たとえ
ば焦点レンズとの間には、しや先板１１を設けた。被加
工物１０のマーキングは第２図に示すように、第２レー
ザパルスＰ２ｓで数字１２を、第２レーザパルスＰｚｍ
で数字３４をマーキングする。
明する。パルスレーザ発振器１よりパルス的に出力され
たレーザ光２をビーム整形部３゜４で拡大するとともに
長楕円形に整形し１反射鏡５で偏向器６に照射する。偏
向器６よりプリズム７に対し、振り角２θＳで第２レー
ザパルスＰ２と第２レーザパルスＰ２とを偏向してプリ
ズム７に照射する。プリズム７のあとにマーキングパタ
ーン形成用のマスク８を設け、マスク８を透過した第２
レーザパルスＰ２ａと第２レーザパルスＰＺａは、それ
ぞれ結像光学系９により、被加工物１０の表面に結像さ
れマーキングを行う、プリズム７と結像光学系９たとえ
ば焦点レンズとの間には、しや先板１１を設けた。被加
工物１０のマーキングは第２図に示すように、第２レー
ザパルスＰ２ｓで数字１２を、第２レーザパルスＰｚｍ
で数字３４をマーキングする。
本実施例で示したプリズム７は第３図に示すような２斜
面を有する７面体であり、第４図に示すプリズム角をθ
Ｆ、レーザ光２の波長におけるプリズム屈折率をｎとす
ると ｎ＝５ｉｎ（θ５ ＋ ７？ ｐ）／ ｓｉｎ Ｏｐを
満足するように設定するのが望ましい。このとき第４図
点線で示すような、プリズム７の頂点０を超えて照射さ
れるレーザ光Ｐａは、距ｒａＱでプリズム７の透過光Ｐ
１ｍの光軸より外にずれでしや先板１１に吸収される。
面を有する７面体であり、第４図に示すプリズム角をθ
Ｆ、レーザ光２の波長におけるプリズム屈折率をｎとす
ると ｎ＝５ｉｎ（θ５ ＋ ７？ ｐ）／ ｓｉｎ Ｏｐを
満足するように設定するのが望ましい。このとき第４図
点線で示すような、プリズム７の頂点０を超えて照射さ
れるレーザ光Ｐａは、距ｒａＱでプリズム７の透過光Ｐ
１ｍの光軸より外にずれでしや先板１１に吸収される。
このように、本発明の構成によれば、楕円形状の第１パ
ルスレーザＰｉがプリズム７を通過する時、第４図に示
すように頂点Ｏを外れ上側を通過する斜線のパルスレー
ザＰｏは被加工面１０を照射することなく、シや先板１
１を照射する。したがって、パルスレーザＰ１とパルス
レーザＰＯが重複することなく、均一なパルスレーザＰ
１のみが被加工面１０を照射するので、均一な刻印が被
加工面１０に出来る。この点を更に第５図、第６図によ
りレーザ光合成時のレーザ光のビーム強度について説明
する。偏向器６により偏向する第ル−ザパルスＰ１．第
２レーザパルスＰ２の光路それぞれについて第５図（１
）（２）にあらためて示す。
ルスレーザＰｉがプリズム７を通過する時、第４図に示
すように頂点Ｏを外れ上側を通過する斜線のパルスレー
ザＰｏは被加工面１０を照射することなく、シや先板１
１を照射する。したがって、パルスレーザＰ１とパルス
レーザＰＯが重複することなく、均一なパルスレーザＰ
１のみが被加工面１０を照射するので、均一な刻印が被
加工面１０に出来る。この点を更に第５図、第６図によ
りレーザ光合成時のレーザ光のビーム強度について説明
する。偏向器６により偏向する第ル−ザパルスＰ１．第
２レーザパルスＰ２の光路それぞれについて第５図（１
）（２）にあらためて示す。
偏向器６よりプリズム７へ向かうレーザ光Ｐｌ。
Ｐ２のレーザ強度分布（断面Ａ−Ａ）は第６図（１）に
示すように、端部では減少する台形に近い分布となって
いる。プリズム７を通過したあとの第ル−ザパルス強度
分布（第５図、断面Ｂ−Ｂ）はプリズム７の頂点を越え
たレーザ光が光軸よりはずれるため、第６図（２）のよ
うな分布となる。第５図において第２レーザパルスのプ
リズム７透過光Ｐｉｌｌの断面Ｃ−Ｃにおける強度分布
は、第６図（２）の分布の対称形になる。したがって、
第２レーザパルスＰ１と第２レーザパルスＰ２とはマス
ク上で疑似的に大口径ビームを形成し、そのビーム強度
は第６図（３）のように、レーザビームの重なりの生じ
ないほぼ均一な分布となる。
示すように、端部では減少する台形に近い分布となって
いる。プリズム７を通過したあとの第ル−ザパルス強度
分布（第５図、断面Ｂ−Ｂ）はプリズム７の頂点を越え
たレーザ光が光軸よりはずれるため、第６図（２）のよ
うな分布となる。第５図において第２レーザパルスのプ
リズム７透過光Ｐｉｌｌの断面Ｃ−Ｃにおける強度分布
は、第６図（２）の分布の対称形になる。したがって、
第２レーザパルスＰ１と第２レーザパルスＰ２とはマス
ク上で疑似的に大口径ビームを形成し、そのビーム強度
は第６図（３）のように、レーザビームの重なりの生じ
ないほぼ均一な分布となる。
また、偏光器１２はプリズム７の頂点Ｏを外れてパルス
レーザＰｉ、Ｐ２を通過させてよいから。
レーザＰｉ、Ｐ２を通過させてよいから。
偏光器１２の偏向角を大きく取れ、正確な制御を必要と
しないので、製作しやすい。
しないので、製作しやすい。
本実施例によれば、複数ショットのパルスレーザ光を合
成しても各レーザ光の重なりの生じないレーザ光を被加
工物に照射できる、という効果がある。また、プリズム
と結像光学系との間を離すことで、主光軸よりはずれ、
マーキングに使用しないレーザ光を被加工物に照射する
のを防ぐ効果がある。さらには、主光軸よりはずれたレ
ーザ光を遮光板で受は止めるため、レーザマーキング装
置内での迷光を防ぐ効果がある。
成しても各レーザ光の重なりの生じないレーザ光を被加
工物に照射できる、という効果がある。また、プリズム
と結像光学系との間を離すことで、主光軸よりはずれ、
マーキングに使用しないレーザ光を被加工物に照射する
のを防ぐ効果がある。さらには、主光軸よりはずれたレ
ーザ光を遮光板で受は止めるため、レーザマーキング装
置内での迷光を防ぐ効果がある。
本発明の他の実施例を第７図、第８図を用いて説明する
。前記実施例に偏向器１２とプリズム１３を付記し、マ
スク８上を４分割し、それぞれの領域にレーザ光２を偏
向させ照射する。これにより、第８図のように２Ｘ２マ
トリツクス状のマーキングを行う６本実施例によれば同
一出力のレーザ発振器におけるマーキング面積を拡大で
きる。
。前記実施例に偏向器１２とプリズム１３を付記し、マ
スク８上を４分割し、それぞれの領域にレーザ光２を偏
向させ照射する。これにより、第８図のように２Ｘ２マ
トリツクス状のマーキングを行う６本実施例によれば同
一出力のレーザ発振器におけるマーキング面積を拡大で
きる。
本発明の他の実施例を第９図、第１０図を用いて説明す
る。ここではレーザ発振器１４として直線偏光パルスレ
ーザを用いるとともに、マーキングパターン形成用マス
クとして液晶マスク１５を用いる。液晶マスク１５は駆
動系１６により動作し、レーザ光２の偏向方向を制御し
、偏光ビームスプリッタ１７により、非マーキング光１
８を光路より分離し、吸収体１９へ向かわせる。
る。ここではレーザ発振器１４として直線偏光パルスレ
ーザを用いるとともに、マーキングパターン形成用マス
クとして液晶マスク１５を用いる。液晶マスク１５は駆
動系１６により動作し、レーザ光２の偏向方向を制御し
、偏光ビームスプリッタ１７により、非マーキング光１
８を光路より分離し、吸収体１９へ向かわせる。
プリズム７と液晶マスク１５の間は、第４図に示した距
離０以上離すことにより、プリズム７を通過後、結像光
学系９へ向かうレーザパルスＰ１ｍ、およびＰ２ｍの光
軸より外れたレーザ光が液晶マスク１５に照射されない
ようにした。
離０以上離すことにより、プリズム７を通過後、結像光
学系９へ向かうレーザパルスＰ１ｍ、およびＰ２ｍの光
軸より外れたレーザ光が液晶マスク１５に照射されない
ようにした。
液晶マスク１５の制御を第１０図を用いて説明する。液
晶マスク１５をレーザ照射領域に対応させ２分割し、マ
スク情報を表した同図の文字″１２”にレーザが照射さ
れているときには、反対面に文字１１３４ Ｔ＋が準備
されており、次に文字” ３４ ’″側にレーザが照射
される際には文字１４１２１１側のマスク情報が書き換
えるよう制御する。
晶マスク１５をレーザ照射領域に対応させ２分割し、マ
スク情報を表した同図の文字″１２”にレーザが照射さ
れているときには、反対面に文字１１３４ Ｔ＋が準備
されており、次に文字” ３４ ’″側にレーザが照射
される際には文字１４１２１１側のマスク情報が書き換
えるよう制御する。
本実施例によれば、マーキングと、液晶マスク内容書き
換えが同時にできるため、マーキング内容可変型レーザ
マーキング装置での大面積・高速マーキングを可能にす
る。
換えが同時にできるため、マーキング内容可変型レーザ
マーキング装置での大面積・高速マーキングを可能にす
る。
また、はずれレーザ光が液晶マスクに照射されないので
液晶マスクの長寿命化に効果がある。
液晶マスクの長寿命化に効果がある。
以上説明した実施例においては、１台のレーザ発振器よ
り出力されたレーザ光をある振り角２０ｓで偏向させる
ための偏向器として、ガルバノスキャンミラーを用いた
例を図示したが、鏡の一点を支点に鏡面の角度を変えら
れるものであればよく、また音響光学素子による偏向作
用を用いてもよい。
り出力されたレーザ光をある振り角２０ｓで偏向させる
ための偏向器として、ガルバノスキャンミラーを用いた
例を図示したが、鏡の一点を支点に鏡面の角度を変えら
れるものであればよく、また音響光学素子による偏向作
用を用いてもよい。
〔発明の効果〕
本発明によれば、高出力のパルスレーザ発振器を用いず
に、また１台の発振器で大面積のマーキングができるの
で経済的である。
に、また１台の発振器で大面積のマーキングができるの
で経済的である。
また、マスク面上のレーザ照射領域を完全に区分できる
ので、複数のパルスレーザ照射によっても被加工面上で
レーザ照射領域が重ならず、均一なコントラストのマー
キングを得られる。
ので、複数のパルスレーザ照射によっても被加工面上で
レーザ照射領域が重ならず、均一なコントラストのマー
キングを得られる。
さらに、光軸よりはずれたレーザ光を受けられるため装
置内部で迷光が発生することなく安全上の効果もある。
置内部で迷光が発生することなく安全上の効果もある。
液晶マスクを用いた装置では不要なレーザ光の照射を防
ぐために液晶マスク寿命向上の効果がある。
ぐために液晶マスク寿命向上の効果がある。
さらに、マスクに対してほぼ垂直に照射されるレーザ光
の平行移動が、偏向器とプリズムという簡単な構成で実
現できるので、既存レーザマーキング装置の機能向上が
容易に行えるという効果もある。
の平行移動が、偏向器とプリズムという簡単な構成で実
現できるので、既存レーザマーキング装置の機能向上が
容易に行えるという効果もある。
第１図は本発明の一実施例であるレーザマーキング装置
の構成図、第２図は第１図の被加工面の平面図、第３図
は第１図のプリズム外観を示す斜視図、第４図は第１図
のプリズムによる光路分離説明図、第５図（１）、 （
２）は第４図のプリズムによる光路説明図、第６図（１
）ないしく３）はレーザビーム強度の特性図、第７図お
よび第９図は本発明の別の実施例であるレーザマーキン
グ装置の構成図、第８図および第１０図は第７図および
第９図の被加工面の平面図である。 １・・・レーザ発振器、６，１２・・・偏向器、７，１
３・・・プリズム、８・・・マスク、１５・・・液晶マ
スマ、１７・・・偏光ビームスプリッタ、θＳ・・・偏
向器にょ第１図 第７図 第２図 第３図 第４図
の構成図、第２図は第１図の被加工面の平面図、第３図
は第１図のプリズム外観を示す斜視図、第４図は第１図
のプリズムによる光路分離説明図、第５図（１）、 （
２）は第４図のプリズムによる光路説明図、第６図（１
）ないしく３）はレーザビーム強度の特性図、第７図お
よび第９図は本発明の別の実施例であるレーザマーキン
グ装置の構成図、第８図および第１０図は第７図および
第９図の被加工面の平面図である。 １・・・レーザ発振器、６，１２・・・偏向器、７，１
３・・・プリズム、８・・・マスク、１５・・・液晶マ
スマ、１７・・・偏光ビームスプリッタ、θＳ・・・偏
向器にょ第１図 第７図 第２図 第３図 第４図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、パルスレーザ発振器より出射させるパルスレーザ光
をマーキング情報を持つマーキングパターンマスクに照
射し、前記マーキング情報を結像光学系により、被加工
面に転写する装置において、マーキングパターンマスク
のパルスレーザ光入射側にレーザ光軸を偏向させる偏向
器とプリズムとを備えたレーザマーキング装置。 ２、パルスレーザ発振器からのパルスレーザ光を用いて
、マーキングパターンマスクの情報を被加工面上に転写
する装置において、パルスレーザ光を各パルス毎に偏向
させる手段と、該手段により光軸を変えられたレーザ光
を平行でしかも同一被加工物に対し、各パルスレーザ光
が重なることのないレーザ光に変換するプリズムとを、
前記パルスレーザ発振器と前記マーキングパターンマス
クとの間に設けたレーザマーキング装置。 ３、請求項第１又は第２に記載のレーザマーキング装置
において、前記偏向器によつてレーザパルス１ショット
毎にレーザ光軸を変えられたレーザパルス光を、前記プ
リズムの頂点をまたがるように照射させるレーザマーキ
ング装置。 ４、請求項第１ないし第３のいずれか１項に記載の、レ
ーザマーキング装置において、前記マーキングパターン
マスクとして液晶マスクを用い、該液晶マスマと前記結
像光学系との間に偏向ビームスプリッタを設けたレーザ
マーキング装置。 ５、パルスレーザ発振器より出射させるパルスレーザ光
をマーキング情報を持つマーキングパターンマスクに照
射し、前記マーキング情報を結像光学系により、被加工
面に転写する装置において、マーキングパターンマスク
のパルスレーザ光入射側にレーザ光軸を偏向させる偏光
器とプリズムとを配置し、前記プリズムの頂点と一方側
とを通過し、前記結像光学系へ向かうパルスレーザ光軸
に対し、プリズムの頂点より他方側を通過し、かつレー
ザ光軸より外れる外れパルスレーザ光が結像光学系に入
射した距離にプリズムと結像光学系との間を離すことを
特徴とするレーザマーキング装置。 ６、上記マーキングパターンマスクに液晶マスクを使用
する請求項５記載のレーザマーキング装置。 ７、パルスレーザ発振器より出射させるパルスレーザ光
をマーキング情報を持つマーキングパターンマスクに照
射し、前記マーキング情報を結像光学系により、被加工
面に転写する装置において、パータンマスクの入射側に
偏向器とプリズムとを配置すると共に、パターンマスク
に液晶マスクを用い、液晶マスクには少なくとも２個の
マーキング情報表示部を有し、一方の表示部に表示した
マーキング情報にパルスレーザ光を照射している時に他
方の表示部にマーキング情報を表示することを特徴とす
るレーザマーキング装置。 ８、パルスレーザ発振器より出射させるパルスレーザ光
をマーキング情報を持つマーキングパターンマスクに照
射し、前記マーキング情報を結像光学系により、被加工
面に転写する装置において、マーキングパターンマスク
のパルスレーザ光入射側にレーザ光軸を偏向させる偏光
器とプリズムとを配置し、前記プリズムの頂点と一方側
とを通過し、前記結像光学系へ向かうパルスレーザ光軸
に対し、プリズムの頂点より他方側を通過し、かつレー
ザ光軸より外れる外れパルスレーザ光を、パルスレーザ
光の光路より外れた位置に配置された遮光体に照射する
ことを特徴とするレーザマーキング装置。 ９、上記マーキングパターンマスクに液晶マスクを使用
する請求項８記載のレーザマーキング装置。 １０、パルスレーザ発振器より出射させるパルスレーザ
光をマーキング情報を持つマーキングパターンマスクに
照射し、前記マーキング情報を結像光学系により、被加
工面に転写する装置において、マーキングパターンマス
クのパルスレーザ光入射側にレーザ光軸を偏向させる偏
向器とプリズムとを配置し、前記偏向器におけるレーザ
パルス光の偏向半角θ＿Ｓとプリズム傾斜角θ＿Ｆと前
記レーザパルス光の波長におけるプリズム材質の屈折率
ｎとが、 ｎ：ｓｉｎ（θ＿Ｓ＋θ＿Ｆ）／ｓｉｎθ＿Ｆとなるプ
リズムを用いたことを特徴とするレーザマーキング装置
。 １１、請求項１ないし１０のいずれか１項に記載の偏向
器として走査鏡、もしくは音響光学素子を用いたことを
特徴とするレーザマーキング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1146826A JPH0313285A (ja) | 1989-06-12 | 1989-06-12 | レーザマーキング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1146826A JPH0313285A (ja) | 1989-06-12 | 1989-06-12 | レーザマーキング装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0313285A true JPH0313285A (ja) | 1991-01-22 |
Family
ID=15416401
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1146826A Pending JPH0313285A (ja) | 1989-06-12 | 1989-06-12 | レーザマーキング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0313285A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103442839A (zh) * | 2011-03-30 | 2013-12-11 | 日本碍子株式会社 | 对金属构件的标记方法 |
-
1989
- 1989-06-12 JP JP1146826A patent/JPH0313285A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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