JPH03134538A - レンズ評価装置 - Google Patents
レンズ評価装置Info
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- JPH03134538A JPH03134538A JP1272844A JP27284489A JPH03134538A JP H03134538 A JPH03134538 A JP H03134538A JP 1272844 A JP1272844 A JP 1272844A JP 27284489 A JP27284489 A JP 27284489A JP H03134538 A JPH03134538 A JP H03134538A
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- JP
- Japan
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- lens
- reticle
- diffraction grating
- evaluation
- diffracting
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、半導体の露光等に用いる高解像力レンズの光
学特性を評価するレンズ評価装置に関するものである。
学特性を評価するレンズ評価装置に関するものである。
従来の技術
最近、レンズ評価装置は超高分解能であることが要求さ
れている。特に、半導体の微細パターンを投影するステ
ッパ装置に使用されるレンズは、解像力が１ミクロン以
下、空間周波数で、５００本／朋以下の超高解像性が要
求されているだめ、そのレンズ評価装置の性能は非常に
重要である。従来、レンズの評価手法としてＭＴＦ法が
用いられている。その−例として、「写真レンズとレス
ポンス関数」 （久保田広監修、光学技術組合綿、Ｐ２
８〜Ｐ４１、昭和３６年１０月）に記載されている構成
が一般的に知られている。
れている。特に、半導体の微細パターンを投影するステ
ッパ装置に使用されるレンズは、解像力が１ミクロン以
下、空間周波数で、５００本／朋以下の超高解像性が要
求されているだめ、そのレンズ評価装置の性能は非常に
重要である。従来、レンズの評価手法としてＭＴＦ法が
用いられている。その−例として、「写真レンズとレス
ポンス関数」 （久保田広監修、光学技術組合綿、Ｐ２
８〜Ｐ４１、昭和３６年１０月）に記載されている構成
が一般的に知られている。
以下、第９図を参照しながら従来のＭＴＦ法について説
明する。第９図は走査スリットを用いたＭＴＦ法の測定
原理を示す測定装置の構成図であるＯ 第９図において、１０１は評価するだめの評価レンズ、
１０２は評価レンズ１０１の物像面上に配置された格子
チャート、１０３は光源、１０４は評価レンズ１０１の
結像面上に配置された幅の狭い走査スリット、１０５は
光電管からなるホトディテクタである。
明する。第９図は走査スリットを用いたＭＴＦ法の測定
原理を示す測定装置の構成図であるＯ 第９図において、１０１は評価するだめの評価レンズ、
１０２は評価レンズ１０１の物像面上に配置された格子
チャート、１０３は光源、１０４は評価レンズ１０１の
結像面上に配置された幅の狭い走査スリット、１０５は
光電管からなるホトディテクタである。
以上のような構成において、評価レンズ１０１のレンズ
倍率をβとした場合、評価する空間周波数の１／β倍の
格子チャート１０２が物像面上に置かれる。そして、こ
の格子チャート１０２を背後の光源１０３により照明し
、評価レンズ１０１を通して結像する。結像面上には評
価する空間周波数より十分に幅の狭い走査スリット１０
４が置かれておシ、この走査スリット１０４を通過した
光の強度がホトディテクタ１０５により検出される。
倍率をβとした場合、評価する空間周波数の１／β倍の
格子チャート１０２が物像面上に置かれる。そして、こ
の格子チャート１０２を背後の光源１０３により照明し
、評価レンズ１０１を通して結像する。結像面上には評
価する空間周波数より十分に幅の狭い走査スリット１０
４が置かれておシ、この走査スリット１０４を通過した
光の強度がホトディテクタ１０５により検出される。
ホトディテクタ１０５で検出される光強度は、第１０図
に示すように、スリット１０４の走査によりモデュレー
ションされる。第１０図における横軸をスリット移動量
■、縦軸を光強度（Ｉ）とすると、ＭＴＦは、 （Ｉｍ
ａｘ−Ｉｍｉｎ）／ （Ｉｍａｘ＋ｌｍ４ｎ）で与えら
れるが、この時、評価レンズ１０１の解像力が十分であ
れば、検出されるＭＴＦは破線で示すように１に近いが
、解像力の劣化に伴いＯに近づく。この方法により評価
レンズ１０１の解像度を測定することができる。
に示すように、スリット１０４の走査によりモデュレー
ションされる。第１０図における横軸をスリット移動量
■、縦軸を光強度（Ｉ）とすると、ＭＴＦは、 （Ｉｍ
ａｘ−Ｉｍｉｎ）／ （Ｉｍａｘ＋ｌｍ４ｎ）で与えら
れるが、この時、評価レンズ１０１の解像力が十分であ
れば、検出されるＭＴＦは破線で示すように１に近いが
、解像力の劣化に伴いＯに近づく。この方法により評価
レンズ１０１の解像度を測定することができる。
発明が解決しようとする課題
しかし、上記のような従来例の構成では、空間周波数が
高くなるに伴い、スリット幅が狭くなり、特に、１μｍ
以下の解像性能を測定しようとすると、スリット幅はサ
ブμｍとなる。そのため、スリン） １０４を製作する
ことができず、ＭＴＦの直接測定は不可能となる。した
がって、従来において、１μｍ以下の解像性能を測定す
る場合には、格子像をレンズで拡大し、その拡大像をス
リット１０４で走査して測定する方法などが採られてい
たが、介在させるレンズの収差を含んだ測定となり、正
確な値を得ることが困難であるなどの課題を有していた
。
高くなるに伴い、スリット幅が狭くなり、特に、１μｍ
以下の解像性能を測定しようとすると、スリット幅はサ
ブμｍとなる。そのため、スリン） １０４を製作する
ことができず、ＭＴＦの直接測定は不可能となる。した
がって、従来において、１μｍ以下の解像性能を測定す
る場合には、格子像をレンズで拡大し、その拡大像をス
リット１０４で走査して測定する方法などが採られてい
たが、介在させるレンズの収差を含んだ測定となり、正
確な値を得ることが困難であるなどの課題を有していた
。
本発明は、上記のような従来技術の課題を解決するもの
であり、高い空間周波数領域においても高精度にレンズ
の解像性能測定を行うことができるようにしたレンズ評
価装置を提供することを目的とするものである。
であり、高い空間周波数領域においても高精度にレンズ
の解像性能測定を行うことができるようにしたレンズ評
価装置を提供することを目的とするものである。
課題を解決するだめの手段
上記課題を解決するだめの本発明の技術的手段は、評価
するレンズの物像位置に配置され、第１の回折格子が形
成されたレチクルと、このレチクルを載置するステージ
と、上記レチクルの第１の回折格子が形成された全領域
を照明するコヒーレント光源と、上記レチクルからの回
折光を再回折する上記評価レンズ内部のスペクトル面上
に着脱可能に配置され、上記第１の回折格子からの回折
光の内、０次光を遮断する空間フィルタと、上記評価レ
ンズの結像位置に配置され、第２の回折格子が形成され
た基準レチクルと、この基準レチクルを上記評価レンズ
の投影範囲内で移動させるステージと、上記評価レンズ
による再回折により上記基準レチクル上に形成される干
渉縞と上記第２の回折格子とで生ずるモアレ縞を観察す
る手段を備えだものである。
するレンズの物像位置に配置され、第１の回折格子が形
成されたレチクルと、このレチクルを載置するステージ
と、上記レチクルの第１の回折格子が形成された全領域
を照明するコヒーレント光源と、上記レチクルからの回
折光を再回折する上記評価レンズ内部のスペクトル面上
に着脱可能に配置され、上記第１の回折格子からの回折
光の内、０次光を遮断する空間フィルタと、上記評価レ
ンズの結像位置に配置され、第２の回折格子が形成され
た基準レチクルと、この基準レチクルを上記評価レンズ
の投影範囲内で移動させるステージと、上記評価レンズ
による再回折により上記基準レチクル上に形成される干
渉縞と上記第２の回折格子とで生ずるモアレ縞を観察す
る手段を備えだものである。
そして、上記第１の回折格子を直線回折格子に形成し、
そのピッチＰが評価レンズの開口数をＮＡとし、使用波
長をλとした場合、Ｐ≧λ／ＮＡとなるようにし、また
、上記第２の回折格子を直線回折格子に形成し、そのピ
ッチをｐ、評価レンズの倍率をβとした場合、ｐ＝ｎ・
β・Ｐ （ただしｎは整数）となるようにし、また、上
記第２の回折格子を直線回折格子に形成し、そのピッチ
をｐ１評価レンズの倍率をβとした場合、ｐ−１／ｎ・
β・Ｐ（ただしｎは整数）となるようにすることができ
る。
そのピッチＰが評価レンズの開口数をＮＡとし、使用波
長をλとした場合、Ｐ≧λ／ＮＡとなるようにし、また
、上記第２の回折格子を直線回折格子に形成し、そのピ
ッチをｐ、評価レンズの倍率をβとした場合、ｐ＝ｎ・
β・Ｐ （ただしｎは整数）となるようにし、また、上
記第２の回折格子を直線回折格子に形成し、そのピッチ
をｐ１評価レンズの倍率をβとした場合、ｐ−１／ｎ・
β・Ｐ（ただしｎは整数）となるようにすることができ
る。
作用
本発明は、上記構成により、レチクルの第１の回折格子
からの回折光の内、０次回折光を空間フィルタにより遮
断し、±１次回折光を評価レンズにより再回折して結像
面上で干渉させることにより干渉縞を形成させ、この干
渉縞と結像面上に配置した基準レチクルの第２の回折格
子パターンとのモアレ縞を観察することにより、評価す
べき再回折像の高い空間周波数をモアレ縞の低周波数領
域に変換することができる。
からの回折光の内、０次回折光を空間フィルタにより遮
断し、±１次回折光を評価レンズにより再回折して結像
面上で干渉させることにより干渉縞を形成させ、この干
渉縞と結像面上に配置した基準レチクルの第２の回折格
子パターンとのモアレ縞を観察することにより、評価す
べき再回折像の高い空間周波数をモアレ縞の低周波数領
域に変換することができる。
実施例
以下、本発明の実施例について図面を参照しながら説明
する。
する。
まず、本発明の第１の実施例について説明する。
第１図は、本発明の第１の実施例におけるレンズ評価装
置を示す全体の構成図である。
置を示す全体の構成図である。
第１図において、１は解像性能を評価しようとする投影
レンズであり、本実施例では、投影倍率１１５、使用波
長λ＝２４８ｎｍｓ開口数ＮＡ＝０゜３５５である。２
は後述するように第１の回折格子が形成されたレチクル
であり、投影レンズ１の物像面上に配置されている。３
はマスクステージであり、レチクル２を載置して水平面
内で移動可能に保持する。４はレチクル２を照明するだ
めのコヒーレント光源であり、投影レンズ１の使用波長
と同波長である。５．６．７はそれぞれ集光光学系、光
路変換ミラー、コンデンサーレンズであり、これら全体
で照明光学系を構成している。８は投影レンズ１の入射
瞳、９は投影レンズ１０入射瞳８面（スペクトル面）上
で着脱可能に設けられた空間フィルタであり、レチクル
２上の第１の回折格子からの回折光の内、±１次光のみ
を選択的に透過する開口１０を有している。１１は後述
するように第２の回折格子が形成された基準レチクルで
あり、投影レンズｌの結像面上に配置されている。
レンズであり、本実施例では、投影倍率１１５、使用波
長λ＝２４８ｎｍｓ開口数ＮＡ＝０゜３５５である。２
は後述するように第１の回折格子が形成されたレチクル
であり、投影レンズ１の物像面上に配置されている。３
はマスクステージであり、レチクル２を載置して水平面
内で移動可能に保持する。４はレチクル２を照明するだ
めのコヒーレント光源であり、投影レンズ１の使用波長
と同波長である。５．６．７はそれぞれ集光光学系、光
路変換ミラー、コンデンサーレンズであり、これら全体
で照明光学系を構成している。８は投影レンズ１の入射
瞳、９は投影レンズ１０入射瞳８面（スペクトル面）上
で着脱可能に設けられた空間フィルタであり、レチクル
２上の第１の回折格子からの回折光の内、±１次光のみ
を選択的に透過する開口１０を有している。１１は後述
するように第２の回折格子が形成された基準レチクルで
あり、投影レンズｌの結像面上に配置されている。
１２はステージであり、基準レチクル１１を載置して水
平面内および光軸方向に投影レンズ１の投影範囲内で移
動可能に保持し、投影レンズ１の露光エリアに開口１３
を有している。１４．１５．１６．１７はステージ１２
の開口１３の下方に配置され、基準レチクル１１上に形
成されるモアレ縞を拡大観察するだめの対物レンズ、光
路変換ミラー、結像レンズ、コヒーレント光源の波長に
関して感度を有する撮像デバイスである。
平面内および光軸方向に投影レンズ１の投影範囲内で移
動可能に保持し、投影レンズ１の露光エリアに開口１３
を有している。１４．１５．１６．１７はステージ１２
の開口１３の下方に配置され、基準レチクル１１上に形
成されるモアレ縞を拡大観察するだめの対物レンズ、光
路変換ミラー、結像レンズ、コヒーレント光源の波長に
関して感度を有する撮像デバイスである。
次に、上記レチクル２と基準レチクル１１の詳細につい
て説明する。
て説明する。
第２図はレチクル２の平面図である。第２図に示すよう
に、投影レンズ１の評価は、投影エリア２０の全体にわ
たり評価する必要があるため、レチクル２の投影エリア
２０には、例えば、３．５μｍピッチ（Ｐ≧λ／ＮＡ）
の第１の直線回折格子２１が形成されている。
に、投影レンズ１の評価は、投影エリア２０の全体にわ
たり評価する必要があるため、レチクル２の投影エリア
２０には、例えば、３．５μｍピッチ（Ｐ≧λ／ＮＡ）
の第１の直線回折格子２１が形成されている。
第３図は基準レチクル１１の平面図である。第３図に示
すように、基準レチクル１１には投影レンズＩの倍率倍
、すなわち、×１１５と、第１の直線回折格子２１の３
．５μｍピッチから生じる０、７μｍピッチの第２の直
線回折格子３１が正確に投影エリア２０の１１５に対応
する露光エリア３０全体に形成されている。
すように、基準レチクル１１には投影レンズＩの倍率倍
、すなわち、×１１５と、第１の直線回折格子２１の３
．５μｍピッチから生じる０、７μｍピッチの第２の直
線回折格子３１が正確に投影エリア２０の１１５に対応
する露光エリア３０全体に形成されている。
以上の構成において、以下、その測定原理について第４
図に示す説明図を参照しながら説明する。
図に示す説明図を参照しながら説明する。
コヒーレント光源から出た光は、第４図に示すように、
レチクル２の第１の回折格子２１を通過して回折され、
＋１次回折光４１Ａ、０次回折光ＩＣ１１次回折光旧Ｂ
となり、投影レンズ１に入射後、空間フィルタ９を通過
する。空間フィルタ９はＯ次回折光４１Ｃをカットし、
±１次回折光４１Ａ、 ４１Ｂのみを透過する。投影レ
ンズ１を透過する±１次回折光４１Ａ、４１Ｂは、再回
折され、基準レチクル１１上の第２の回折格子３１上に
干渉縞を形成する。
レチクル２の第１の回折格子２１を通過して回折され、
＋１次回折光４１Ａ、０次回折光ＩＣ１１次回折光旧Ｂ
となり、投影レンズ１に入射後、空間フィルタ９を通過
する。空間フィルタ９はＯ次回折光４１Ｃをカットし、
±１次回折光４１Ａ、 ４１Ｂのみを透過する。投影レ
ンズ１を透過する±１次回折光４１Ａ、４１Ｂは、再回
折され、基準レチクル１１上の第２の回折格子３１上に
干渉縞を形成する。
この時の干渉縞の強度Ｉ（ｘ）は、「光機器の光学」（
早水良定著、光学技術］ンタクトＶｏ１２３、Ｎ０３
（１９８５） Ｐ １７４〜Ｐ１８３）に記載され
ているように次式で与えられる。
早水良定著、光学技術］ンタクトＶｏ１２３、Ｎ０３
（１９８５） Ｐ １７４〜Ｐ１８３）に記載され
ているように次式で与えられる。
Ｈｘ）＝ｂ”／２ （１＋ｃｏｓ （４πｘ／ｐ） ）
ｂ：第１の回折格子２１の透過振幅分 ｐ：第１の回折格子２１のピッチＰに投影レンズ１の倍
率βを掛けた値 そして、形成される干渉縞のピッチは、本来の幾何光学
的な像の１／２となり、コントラストは１となる。すな
わち、第２の回折格子３１のピッチを本来の幾何光学的
に形成されるβｘｐで与えられるピッチの１／２倍のピ
ッチに形成することにより、基準レチクル１１上の干渉
縞と第２の回折格子３１の重ね合わせによるモアレ縞を
観察することが可能となる。
ｂ：第１の回折格子２１の透過振幅分 ｐ：第１の回折格子２１のピッチＰに投影レンズ１の倍
率βを掛けた値 そして、形成される干渉縞のピッチは、本来の幾何光学
的な像の１／２となり、コントラストは１となる。すな
わち、第２の回折格子３１のピッチを本来の幾何光学的
に形成されるβｘｐで与えられるピッチの１／２倍のピ
ッチに形成することにより、基準レチクル１１上の干渉
縞と第２の回折格子３１の重ね合わせによるモアレ縞を
観察することが可能となる。
また、投影レンズ１に収差がない場合には、形成される
干渉縞が±１次回折光４１Ａ、４１Ｂの理想的な平面波
の干渉となるため、干渉縞は直線となり、第５図に示す
ように、モアレ縞も直線となるが、投影レンズ１に収差
がある場合には、±１次回折光４１Ａ、４１Ｂが平面波
とならないため、干渉縞に曲がりが生じ、第６図に示す
ように、モアレ縞にも曲がりが生じることとなる。この
モアレ縞の曲がりを定量的に測定することにより、投影
レンズ１の収差測定が可能となる。
干渉縞が±１次回折光４１Ａ、４１Ｂの理想的な平面波
の干渉となるため、干渉縞は直線となり、第５図に示す
ように、モアレ縞も直線となるが、投影レンズ１に収差
がある場合には、±１次回折光４１Ａ、４１Ｂが平面波
とならないため、干渉縞に曲がりが生じ、第６図に示す
ように、モアレ縞にも曲がりが生じることとなる。この
モアレ縞の曲がりを定量的に測定することにより、投影
レンズ１の収差測定が可能となる。
モアレ縞の曲がりを測定するためには、実用上、第２の
回折格子３１のピッチは、ｎＸβｘ Ｐ Ｓまたは１／
ｎ×βＸＰ （ｎは整数）であれば良く、本実施例では
上記のように０７μｍとしている。
回折格子３１のピッチは、ｎＸβｘ Ｐ Ｓまたは１／
ｎ×βＸＰ （ｎは整数）であれば良く、本実施例では
上記のように０７μｍとしている。
次に、上記実施例の評価手順について第１図を参照しな
がら説明する。
がら説明する。
コヒーレント光源４から出た光は、集光光学系５、光路
変換ミラー６、コンデンサーレンズ７からなる照明光学
系を介してレチクル２の第１の回折格子２１が形成され
ている投影エリア２０（第２図参照）の全体を照明する
。これにより、すべての第１の回折格子２１からの回折
光が生じ、投影レンズ１へ入射する。投影レンズ１へ入
射した回折光は投影レンズ１の入射瞳８上で回折次数に
応じた点スペクトルとなる。入射瞳面８上には±１次回
折光のみを選択的に透過する開口１０を形成した空間フ
ィルタ９が設けられているので、投影レンズ１の結像面
上には、投影レンズ１を透過した±１次回折光４１Ａ、
４１Ｂ （第４図参照）が互いに干渉し合い、干渉縞
が生じる。基準レチクル１１は投影エリア２０内の第１
の回折格子３１が投影レンズ１により正規に結像する位
置にステージ１２により移動され、基準レチクル１１上
の第２の回折格子３１と、投影エリア２０からの±１次
回折光４１Ａ、４１Ｂによる干渉縞とのモアレ縞、すな
わち露光エリア３０（第３図参照）の全体の収差性能の
観察が可能となる。対物レンズ１４、光路変換ミラー１
５、結像レンズ１６、撮像デバイス１７からなる観察光
学系は、基準レチクルｌｌ上のモアレ縞を観察視野の中
央に位置するように移動し、モアレ縞の形状観察を行う
。
変換ミラー６、コンデンサーレンズ７からなる照明光学
系を介してレチクル２の第１の回折格子２１が形成され
ている投影エリア２０（第２図参照）の全体を照明する
。これにより、すべての第１の回折格子２１からの回折
光が生じ、投影レンズ１へ入射する。投影レンズ１へ入
射した回折光は投影レンズ１の入射瞳８上で回折次数に
応じた点スペクトルとなる。入射瞳面８上には±１次回
折光のみを選択的に透過する開口１０を形成した空間フ
ィルタ９が設けられているので、投影レンズ１の結像面
上には、投影レンズ１を透過した±１次回折光４１Ａ、
４１Ｂ （第４図参照）が互いに干渉し合い、干渉縞
が生じる。基準レチクル１１は投影エリア２０内の第１
の回折格子３１が投影レンズ１により正規に結像する位
置にステージ１２により移動され、基準レチクル１１上
の第２の回折格子３１と、投影エリア２０からの±１次
回折光４１Ａ、４１Ｂによる干渉縞とのモアレ縞、すな
わち露光エリア３０（第３図参照）の全体の収差性能の
観察が可能となる。対物レンズ１４、光路変換ミラー１
５、結像レンズ１６、撮像デバイス１７からなる観察光
学系は、基準レチクルｌｌ上のモアレ縞を観察視野の中
央に位置するように移動し、モアレ縞の形状観察を行う
。
次に、本発明の第２の実施例について説明する。
第７図および第８図はそれぞれ本発明の第２の実施例に
おけるレンズ評価装置に用いるレチクルおよび基準レチ
クルの平面図である。
おけるレンズ評価装置に用いるレチクルおよび基準レチ
クルの平面図である。
本実施例における全体構成図は第１図に示す構成と同じ
であるが、レチクルと基準レチクルを異にする。第７図
に示すように、レチクル２の第１の回折格子２１は投影
エリア２０において、ＡＸＡの微小領域毎に分離した回
折格子群となっている。
であるが、レチクルと基準レチクルを異にする。第７図
に示すように、レチクル２の第１の回折格子２１は投影
エリア２０において、ＡＸＡの微小領域毎に分離した回
折格子群となっている。
一方、第８図に示すように、基準レチクル１１の第２の
回折格子３１は第１の回折格子２１におけるＡＸＡの微
小領域２１ａの１１５に相当する大きさで１個形成され
ている。
回折格子３１は第１の回折格子２１におけるＡＸＡの微
小領域２１ａの１１５に相当する大きさで１個形成され
ている。
以上の構成において、以下、投影レンズ１の特定の領域
の収差を評価する方法について、第７図に示すＡＸＡの
微小領域２１ａを例にとって説明する０ 空間フィルタ９の遮光部分は、レチクル２の投影エリア
２０全体からの回折光の内、０次回折光を遮断し、±１
次回折光のみを投影レンズ１により基準レチクル１１上
へ再回折させる。そのため、投影レンズ１の結像面上に
は、レチクル２の投影エリア２０全体に対応する位置に
干渉縞が生じる。しかしながら、基準レチクル１１には
微小領域２１ａに対応する大きさの、部分にのみ第２の
回折格子３１が刻まれているので、モアレ縞は、上記干
渉縞と基準レチクルｌｌ上の第２の回折格子３１が重な
った部分にのみ生じる。基準レチクル１１は微小領域２
１ａが投影レンズ１により正規に結像する位置にステ−
ジ１２により移動され、基準レチクル１１上の第２の回
折格子３１と、微小領域２１ａからの±１次回折光によ
る干渉縞とのモアレ縞が観察可能となる。
の収差を評価する方法について、第７図に示すＡＸＡの
微小領域２１ａを例にとって説明する０ 空間フィルタ９の遮光部分は、レチクル２の投影エリア
２０全体からの回折光の内、０次回折光を遮断し、±１
次回折光のみを投影レンズ１により基準レチクル１１上
へ再回折させる。そのため、投影レンズ１の結像面上に
は、レチクル２の投影エリア２０全体に対応する位置に
干渉縞が生じる。しかしながら、基準レチクル１１には
微小領域２１ａに対応する大きさの、部分にのみ第２の
回折格子３１が刻まれているので、モアレ縞は、上記干
渉縞と基準レチクルｌｌ上の第２の回折格子３１が重な
った部分にのみ生じる。基準レチクル１１は微小領域２
１ａが投影レンズ１により正規に結像する位置にステ−
ジ１２により移動され、基準レチクル１１上の第２の回
折格子３１と、微小領域２１ａからの±１次回折光によ
る干渉縞とのモアレ縞が観察可能となる。
上記第１の実施例と同様、観察光学系は基準レチクル１
１上のモアレ縞を観察視野の中央に位置するように移動
し、モアレ縞の形状観察を行う。
１上のモアレ縞を観察視野の中央に位置するように移動
し、モアレ縞の形状観察を行う。
発明の効果
以上述べたように本発明によれば、レチクルの第１の回
折格子からの回折光の内、０次回折光を空間フィルタに
より遮断し、±１次回折光のみを評価レンズにより再回
折して結像面上で干渉縞を形成し、この干渉縞と結像面
上に配置した基準レチクル上の第２の回折格子とのモア
レ縞を観察するようにしているので、評価すべき再回折
像の高い空間周波数をモアレ縞の低周波数領域に変換す
ることができ、したがって、１μｍ以下の空間周波数領
域においても高精度に投影レンズ等の評価レンズの収差
測定が可能となる。
折格子からの回折光の内、０次回折光を空間フィルタに
より遮断し、±１次回折光のみを評価レンズにより再回
折して結像面上で干渉縞を形成し、この干渉縞と結像面
上に配置した基準レチクル上の第２の回折格子とのモア
レ縞を観察するようにしているので、評価すべき再回折
像の高い空間周波数をモアレ縞の低周波数領域に変換す
ることができ、したがって、１μｍ以下の空間周波数領
域においても高精度に投影レンズ等の評価レンズの収差
測定が可能となる。
第１図ないし第４図は本発明の第１の実施例におけるレ
ンズ評価装置を示し、第１図は全体の構成図、第２図は
レチクルの平面図、第３図は基準レチクルの平面図、第
４図は測定原理の説明図、第５図はレンズに収差のない
場合のモアレ縞形状を示す図、第６図はレンズに収差の
ある場合のモアレ縞形状を示す図、第７図および第８図
は本発明の第２の実施例におけるレンズ評価装置を示し
、第７図はレチクルの平面図、第８図は基準レチクルの
平面図、第９図および第１０図はそれぞれ従来のＭＴＦ
法によるレンズ解像度の測定法を示す構成図および測定
データ図である。 １・・・投影レンズ（評価レンズ）、２・・・レチクル
、３・・・ステージ、４・・・コヒーレント光源、９・
・・空間フィルタ、１１・・・基準レチクル、１２・・
・ステージ、１７・・・撮像デバイス、２１・・・第１
の回折格子、３１・・・第２の回折格子。
ンズ評価装置を示し、第１図は全体の構成図、第２図は
レチクルの平面図、第３図は基準レチクルの平面図、第
４図は測定原理の説明図、第５図はレンズに収差のない
場合のモアレ縞形状を示す図、第６図はレンズに収差の
ある場合のモアレ縞形状を示す図、第７図および第８図
は本発明の第２の実施例におけるレンズ評価装置を示し
、第７図はレチクルの平面図、第８図は基準レチクルの
平面図、第９図および第１０図はそれぞれ従来のＭＴＦ
法によるレンズ解像度の測定法を示す構成図および測定
データ図である。 １・・・投影レンズ（評価レンズ）、２・・・レチクル
、３・・・ステージ、４・・・コヒーレント光源、９・
・・空間フィルタ、１１・・・基準レチクル、１２・・
・ステージ、１７・・・撮像デバイス、２１・・・第１
の回折格子、３１・・・第２の回折格子。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （１）評価するレンズの物像位置に配置され、第１の回
折格子が形成されたレチクルと、このレチクルを載置す
るステージと、上記レチクルの第１の回折格子が形成さ
れた全領域を照明するコヒーレント光源と、上記レチク
ルからの回折光を再回折する上記評価レンズ内部のスペ
クトル面上に着脱可能に配置され、上記第１の回折格子
からの回折光の内、０次光を遮断する空間フィルタと、
上記評価レンズの結像位置に配置され、第２の回折格子
が形成された基準レチクルと、この基準レチクルを上記
評価レンズの投影範囲内で移動させるステージと、上記
評価レンズによる再回折により上記基準レチクル上に形
成される干渉縞と上記第２の回折格子とで生ずるモアレ
縞を観察する手段を備えたレンズ評価装置。（２）第１
の回折格子が直線回折格子であり、そのピッチＰが評価
レンズの開口数をＮＡとし、使用波長をλとした場合、
Ｐ≧λ／ＮＡである請求項１記載のレンズ評価装置。 （３）第２の回折格子が直線回折格子であり、そのピッ
チをｐ、評価レンズの倍率をβとした場合、ｐ＝ｎ・β
・Ｐ（ただしｎは整数）である請求項１記載のレンズ評
価装置。 （４）第２の回折格子が直線回折格子であり、そのピッ
チをｐ、評価レンズの倍率をβとした場合、ｐ＝１／ｎ
・β・Ｐ（ただしｎは整数）である請求項１記載のレン
ズ評価装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1272844A JPH03134538A (ja) | 1989-10-19 | 1989-10-19 | レンズ評価装置 |
| US07/580,752 US5062705A (en) | 1989-09-13 | 1990-09-11 | Apparatus for evaluating a lens |
| DE69014180T DE69014180T2 (de) | 1989-09-13 | 1990-09-12 | Auswertungsapparat für Objektive. |
| EP90309976A EP0418054B1 (en) | 1989-09-13 | 1990-09-12 | Apparatus for evaluating a lens |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1272844A JPH03134538A (ja) | 1989-10-19 | 1989-10-19 | レンズ評価装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03134538A true JPH03134538A (ja) | 1991-06-07 |
Family
ID=17519564
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1272844A Pending JPH03134538A (ja) | 1989-09-13 | 1989-10-19 | レンズ評価装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03134538A (ja) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002090261A (ja) * | 2000-09-13 | 2002-03-27 | Hitachi Chem Co Ltd | モアレ縞の測定方法、フィルムの製造方法、およびモアレ縞の測定を行なうためのプログラムを格納する記録媒体 |
| JP2003524175A (ja) * | 2000-02-23 | 2003-08-12 | カール−ツアイス−スチフツング | 波面検出装置 |
| JP2006196699A (ja) * | 2005-01-13 | 2006-07-27 | Nikon Corp | 波面収差測定方法、波面収差測定装置、投影露光装置、投影光学系の製造方法 |
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| JP2008157836A (ja) * | 2006-12-26 | 2008-07-10 | Seiko Epson Corp | 光学系の光学特性評価方法、プロジェクタの光学特性評価方法、光学特性評価装置、およびスクリーン |
| US7411687B2 (en) | 2003-01-15 | 2008-08-12 | Asml Holding N.V. | Speckle reduction method and system for EUV interferometry |
| JP2008257125A (ja) * | 2007-04-09 | 2008-10-23 | Seiko Epson Corp | プロジェクションシステム、形状測定装置、および光学特性評価装置 |
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| US7595931B2 (en) | 2003-01-15 | 2009-09-29 | Asml Holding N.V. | Grating for EUV lithographic system aberration measurement |
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| JP2018508803A (ja) * | 2014-12-17 | 2018-03-29 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 波面測定デバイス及び光学波面マニピュレータを有する投影露光装置 |
-
1989
- 1989-10-19 JP JP1272844A patent/JPH03134538A/ja active Pending
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US7834990B2 (en) | 2006-12-26 | 2010-11-16 | Seiko Epson Corporation | Evaluation method for evaluating optical characteristics of optical system, evaluation method for evaluating projector, evaluation device for evaluating optical characteristics, and screen |
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| JP2018508803A (ja) * | 2014-12-17 | 2018-03-29 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 波面測定デバイス及び光学波面マニピュレータを有する投影露光装置 |
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