JPH03141544A - レーザ変位計を備えた走査型電子顕微鏡 - Google Patents

レーザ変位計を備えた走査型電子顕微鏡

Info

Publication number
JPH03141544A
JPH03141544A JP1279220A JP27922089A JPH03141544A JP H03141544 A JPH03141544 A JP H03141544A JP 1279220 A JP1279220 A JP 1279220A JP 27922089 A JP27922089 A JP 27922089A JP H03141544 A JPH03141544 A JP H03141544A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sample
electron microscope
laser
sem
scanning electron
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP1279220A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshinori Bessho
別所 芳則
Takemi Yamamoto
山本 健美
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Brother Industries Ltd
Original Assignee
Brother Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Brother Industries Ltd filed Critical Brother Industries Ltd
Priority to JP1279220A priority Critical patent/JPH03141544A/ja
Publication of JPH03141544A publication Critical patent/JPH03141544A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は電子顕微鏡に関するものである。
[従来技術] 従来の電子顕微鏡では、χy力方向は数十人の分解能で
直接測定していたが、Z方向には直接n1定する方法が
ないため、試料台傾斜法或いは複数検出器法で間接的に
データを得ていた。
[発明が解決しようとする課題] しかしながら、試料台傾斜法では、一つの画像を取り込
んだ後に試料台を傾斜して、次の画像を取り込みステレ
オ法或いは視差の原理で立体像を算出するのであるが、
2つの画像間における対応点マツチングという膨大な計
算を行なわなければならず、精度も上がらなかった。又
、複数検出法では、検出器の信号強度の組より試料表面
の角度という近似式で各点を求めていた。
ここでZjはj番目の高さ、Anはn番目の傾きである
。しかしながら上記方式では、積分していくに従い、即
ちjの数が大きくなればなる程誤差が累積し形が歪むと
いう欠点があった。
本発明は、上述した問題点を解決するためになされたも
のであり、既存の走査型電子顕微鏡にレーザー変位計を
備え、3次元とも数十人の分解能で数μ角の物体の3次
元形状を直接測定できる装置を提供するものである。
[課題を解決するための手段] この目的を達成するために本発明では、走査型電子顕微
鏡に、Z方向に数人の分解能を持つレ−ザヘテロダイン
干渉計と該顕微鏡内に、該干渉計まで試料を移動させる
ための移動機構と、精密位置決めする為の微動機構及び
移動ff1il)J走用のレーザ干渉計を備えている。
[作用] 上記構成を有する本発明において、移動機構は、試料を
電子線照射位置からレーザー照射位置まで移動させ、微
動機構及び移動量計測用レーザー干渉計を用いて、あら
かじめ設定された距離を極めて正確に(例えば精度1n
mで)移動させ、電子線照射された試料上位置とほぼ同
じ位置にレーザー光が照射されるようにする。
父上記微動機構は、試料をX、Y方向に微動させ、その
試料の凹凸に従い照射されたレーザー光の反射光に位相
変化を与える。
又試料の凹凸による位相変化を受けたレーザー光は、光
ヘテロダイン干渉光学系で、ヘテロダイン検波され、更
に基準ビート信号と比較する事により上記位相変化を検
出し、人の凹凸を検出測定するのである。
[実施例] 以下、本発明を具体化した一実施例を図面を参照して説
明する。
第1図における図番号10〜85は従来型の走査型電子
顕微鏡と同じ構成を示すものである。電子線照射位置と
レーザー光照射位置は、後述するレーザ干渉計であらか
じめ精密に測定しておく。
走査型電子顕微鏡(以下SEMと略す)で、測定個所を
観察及び設定し、決められた距離だけレーザー照射位置
方向に移動し、更に微動機構により精密に位置決めする
。位置決め終了後、微動機構(85)により試料χy力
方向スキャンし、レーザー反射光に試料の凹凸を光の位
相差として与える。位相差情報をもった反射光は、無偏
光ビームスプリッタ(以下NPBSと記す)で合波、所
謂光ヘテロダイン検波され、センサー(390)に検知
されるのである。
以下光の経路を追って詳細に説明する。
レーザー光源(200)を出たレーザーは戻り光防止用
アイソレータ(210)を通りビームスプリッタ−(以
下BSと略す)で第1ヘテロダイン干渉用ビーム(反射
光)と第2ヘテロダイン干渉用ビーム(透過光)に分け
られる。この時偏波面は、S波(つまり紙面に垂直)に
なっているものとする。第2ヘテロダイン用ビームは更
にNPBS (290)によって被変調用ビームと凹凸
測定用ビームとに分けられる。被変調用ビームは音響光
学変調器等からなる光周波数シフターにより例えば10
0KHz程シフトされ、一部はBS(310)、NPB
S (230)を経てセンサー(240)に入り又一部
はBS (320)、NPBS (380)を経て、セ
ンサー(390)に入る。BS (320)を通過した
変調ビームは、偏光ビームスプリッタ(以下PBS)に
より反射されλ/4板(340)、反射ミラー(350
)そして再びλ/4板(340)を通過し、PBS(3
30)に入る。この時点では、λ/4板(340)を2
回通過しているのでP波となっており、従ってPBS 
(330)を今度は通過した後、NPBS (360)
を経て、センサー(370)に入る。以上光周波数シフ
ター(300)を経て、センサーに入った光の周波数は
、元の光周波数をfoとすると金てfo+100KHz
になっているのである。
又、凹凸測定用のビームはBS (400)によって一
部反射されてNPBS (380)で先の変調光と合波
された後、センサー(390)に入る。
この時、BS (400)を経てセンサー(390)に
入った光の周波数はfoであるので、センサー(390
)上では、先の変調光とヘテロダイン干渉する事になり
、常に100KHzのビート信号が検出されるのである
(以下基準信号fBと記す入さて、BS(400)を通
過した凹凸測定用ビームは、P/S波であるので、PB
S(410)で反射され、その後、λ/4板(420)
ウィンド(430)及び対物レンズ(400)を経て、
試料上凹凸部に届く。試料は常にスキャンされて移動し
ている事から、レーザー光は試料上の凹凸によりドツプ
ラーシフトΔfz(=1/λ・2v−1/λ−2L> 
−(1)を受けfo+△fzのt 光周波数となって、PBS (410)に入る。この時
、λ/4板(420)を2回通過した事からP波となっ
ており、PBS (410)を通過する。
通過したビームは、NPBS (360)で先の変調光
(f o+100KHz)と合波されてセンサー(37
0)に入る。センサー(370)では、(fo+Δf、
o)と(fo+100KHz)のヘテロダイン干渉(或
いは検波)が起こり、その結果100KHz+Δfzの
11定信号(以下fDで略す)が得られるのである。そ
して△fはfBとfDを比較する事で求まるのである。
又凹凸ff1Zは上式(1)よりZ−λ/2/、”Δf
dtと△f−f、−fBよりZ−λ/2.J’、”(f
o−fB) d を−λ/2[CD  Cs]となり第
2図に示す信号処理ブロック図で求まるのである。一方
BS(220)で反射された第1ヘテロダイン干渉用ビ
ームは、光ファイバー(250)、ウィンド(260)
を経てキャップ・アイ(280)に反射され逆の経路を
経て、NPBS (230)で先の変調光と合波されセ
ンサー(240)に入る。移動機構及び微動機構が動く
と、前回と同様にドツプラーシフト△fχが起こる為、
センサー(240)ではfL−100KHz+△fχの
ビート信号が検出される。Δfχと移動量Xと関係は、
ドツプラーの公式Δfχ−2/λ・Vχ−2/λ・kよ
LLも り求まりX−λ/2f;Δfxdt−λ/2fI(fL
−fB)dt霧λ/2[CL  Cs] となる。
信号処理回路は、第2図に示したものと全く同一のもの
を使用し、fDをfLに変更するだけでよい。
次に信号処理ブロック図を第2図を用いて簡単に説明す
る。測定信号fo  (又はfL)と基準信号fBをコ
ンパレータ(105)に入力し矩形波に変換し、カウン
タ(110)に入力する。このカウンタ値は図示しない
タイミングによってラッチ器(115)によってラッチ
され、引き算器(135)に渡される。引き算器の結果
も図示しないタイミングによってラッチ器(145)に
ラッチされ、バス(150)に出される。つまりこのラ
ッチ器(145)は、前出のZ−λ/2[Co−CB1
のうち(CD  CB)の整数値Nをバスに出すのであ
る。ところが実際は、移動量及び凹凸量はλ/2毎の整
数値の他にλ/2以下の少数部もあるので、それを求め
るためにfDとfBと高周波クォーツクロックのAND
をとりカウンタ(130)で計数し、ラッチ(145)
と同じタイミングでラッチしバス(150)にM値とし
て出力する。詳細を第3図に示す。この時、計数値の最
大値は、fQ /fBであり例えば、fQ−100MH
z、fB =100KHzとすると最大値は1000と
なるo Cpu (155)は、ラッチ器(140)の
M値を読みM/1000を計算し少数部とするのである
。つまり、整数部少数部をまとめるZ−λ/2 (N+
M/1000)となり分解能λ/2000 (#3人)
で変位が測定できるのである。X方向の移動量も全く同
じ原理でa)J定できるのである。
このように微動機構によりχyスキャンしなから2を測
定する事により試料表面上のポイント(Z、y、z)が
求まり、ROM (160)に書かれたプログラムに従
って、グラフィックデイスプレィ(170)に3次元表
示され、先のSEMによる画像と比較され、SEMの画
像をZ方向に極めて精度のよい値を与えるのである。尚
、(165)は計算に使用するRAMである。又光ヘテ
ロダイン光学系については、第4図に示した二周波直交
ゼーマンレーザー等を使い構成してもよいのである。そ
の他−々例示はしないが、当業者の知識に基づき様々な
態様で変形して構成できるものとする。
[発明の効果] 以上詳述したことから明らかなように、本発明によれば
、本装置は、高分解能レーザー変位計を備えているので
、SEMでは正確に測定できない高さ方向も数人の分解
能で測定できるというメリットがある。
【図面の簡単な説明】
第1図から第4図までは本発明を具体化した実図は、小
数部カウントの説明図、第4図は、他の実施例を示す図
である。 図中、10はFE電子銃、20は偏向コイル、70は試
材、85は微動機構、90は移動ステージ、200はレ
ーザー光源、370.390はフォトセンサーである。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、走査型電子顕微鏡であって、Z方向に数Åの分解能
    を持つレーザヘテロダイン干渉計と、該干渉計まで移動
    させる移動機構と、精密位置決めする為の微動機構及び
    移動量測定用同レーザーヘテロダイン干渉計とを備えた
    事を特徴とする走査型電子顕微鏡。
JP1279220A 1989-10-26 1989-10-26 レーザ変位計を備えた走査型電子顕微鏡 Pending JPH03141544A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1279220A JPH03141544A (ja) 1989-10-26 1989-10-26 レーザ変位計を備えた走査型電子顕微鏡

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1279220A JPH03141544A (ja) 1989-10-26 1989-10-26 レーザ変位計を備えた走査型電子顕微鏡

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH03141544A true JPH03141544A (ja) 1991-06-17

Family

ID=17608102

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1279220A Pending JPH03141544A (ja) 1989-10-26 1989-10-26 レーザ変位計を備えた走査型電子顕微鏡

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH03141544A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7483560B2 (en) 2003-01-17 2009-01-27 Hitachi High-Technologies Corporation Method for measuring three dimensional shape of a fine pattern
US7888643B2 (en) 2006-02-03 2011-02-15 Carl Zeiss Nts Gmbh Focusing and positioning device for a particle-optical raster microscope

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7483560B2 (en) 2003-01-17 2009-01-27 Hitachi High-Technologies Corporation Method for measuring three dimensional shape of a fine pattern
US7888643B2 (en) 2006-02-03 2011-02-15 Carl Zeiss Nts Gmbh Focusing and positioning device for a particle-optical raster microscope

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CA2039257C (en) Measuring method and apparatus
JP3517903B2 (ja) 干渉計
US6271923B1 (en) Interferometry system having a dynamic beam steering assembly for measuring angle and distance
US5151754A (en) Method and an apparatus for measuring a displacement between two objects and a method and an apparatus for measuring a gap distance between two objects
WO2000055573A9 (en) Systems and methods for characterizing and correcting cyclic errors in distance measuring and dispersion interferometry
JPS63295911A (ja) 変位測定装置
JPH085314A (ja) 変位測定方法及び変位測定装置
WO2018019264A1 (zh) 光栅测量装置
JP2005501240A (ja) 傾斜干渉計
JPH06137830A (ja) 干渉計測方法及び干渉計測装置
JPH06273432A (ja) 変位および変位速度測定装置
JPS59116007A (ja) 表面の測定方法
JP4242779B2 (ja) 動的ビーム方向操作要素を有する干渉計
JP3849266B2 (ja) レーザ干渉測長方法および装置、およびそれを用いたステージ装置、およびそれを用いた露光装置
JP3457047B2 (ja) 共焦点型三次元計測装置
JP3307091B2 (ja) 真直度測定方法及びそれを用いた真直度測定装置
Pengcheng et al. Highly stable heterodyne interferometer without periodic nonlinearity
JP3184913B2 (ja) 表面形状測定方法及び表面形状測定器
JP3184914B2 (ja) 表面形状測定方法および表面形状測定器
JPH0221203A (ja) 位相差検出装置
JP3493329B2 (ja) 平面形状計測装置、平面形状計測方法及び該方法を実行するプログラムを記憶した記憶媒体
EP1514074B1 (en) Interferometry systems involving a dynamic beam-steering assembly
JPH01142401A (ja) 光学式変位測定装置
JP2610349B2 (ja) 差動型レーザ干渉計装置
JP4936541B2 (ja) 原子間力顕微鏡