JPH03141952A - エチレンオキサイドガス滅菌における残留ガス脱離速進装置 - Google Patents

エチレンオキサイドガス滅菌における残留ガス脱離速進装置

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JPH03141952A
JPH03141952A JP1282397A JP28239789A JPH03141952A JP H03141952 A JPH03141952 A JP H03141952A JP 1282397 A JP1282397 A JP 1282397A JP 28239789 A JP28239789 A JP 28239789A JP H03141952 A JPH03141952 A JP H03141952A
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Chiyoko Imashiro
今城 千代子
Yukinori Tomiyoshi
冨吉 幸徳
Kunio Nishimoto
西本 邦男
Matsunori Shiiyama
椎山 松記
Toshiki Fujisawa
藤沢 俊樹
Kinya Ishikita
石木田 欽也
Masanori Hamano
浜野 雅則
Ichiro Inoue
井上 市郎
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (発明の利用分野) 本発明は、エチレンオキサイドガスを利用した滅菌完了
後の被滅菌物を、滅菌物収容器内に収容した侭、一定温
度に加温しつつ空気洗浄を行い、かつ間歇的に加湿タイ
ムを続けて、滅菌物収容器内、および被滅菌物に吸着、
残留する有毒なエチレンオキサイドガスを加湿、湿気に
吸着させて無菌空気に置換し、滅菌済物品に付着、残留
するエチレンオキサイドガスの毒性を短vFt間の内に
離脱させ使用可能にすると共に、これらの滅菌工程を無
人運転により可能ならしめたエチレンオキサイドガス滅
菌における残留ガス脱離速進装置に関するものである。
(従来の技術) 従来より病院の中央滅菌材料室などで、−度患者に使用
した医療器具、または滅菌有効期限切れの医療器具の殆
んどは再度滅菌処理を行い、再使用に供しているもので
あるが、この場合滅菌処理方法としては1通常温度12
1℃で20乃至30分間、又は温度132°Cで5乃至
lO分間高圧蒸気により滅菌処理を行っていたものであ
る。然しなからこのような方法においては、耐熱性の無
い熱に弱い素材、又はこのような滅菌条件では素材が劣
化して滅菌再生か不可能な製品、或は蒸気によって切れ
味の悪くなる刃物類、更に品温滅菌ではその製品の寿命
か短くなるもの等があるため、−概にこの高圧蒸気滅菌
方法か最良とは言えないものであった。
そこでこの高圧蒸気滅菌に代わるものとして、エチレン
オキサイドガスを用いた滅菌方法は、40℃乃至60°
Cの温度て殺菌効果か高く、然も高圧蒸気滅菌に比較す
ると高温による形状の変化、素材の劣化および鋼製品の
錆等、液域f4物に対する悪影響かないため、これによ
る滅菌範囲は(1)生体内坪め込み用器具、(2)生体
内挿入又は留置する器具、(3)皮膚に接触させる器具
(4)体外用の呼吸回路、(5)体外用の血液に接触さ
せる各種器具、(6)手術用各種器具等に拡大され、こ
の滅菌方法は病院の中央滅菌材料室並びに医療器具滅菌
製造丁場等て広く用いられるようになった。
(発明か解決しようとする問題点) 然しなからこのエチレンオキサイドガスな用いた滅菌方
法は、滅菌工程中に、有毒ガスが被滅菌物に吸着し、残
留するものであり、人体に有毒であって滅菌処理後の滅
菌器具はその何便用することができない不便がある。
これがため滅菌処理後は空気洗浄、又は一定期間室内に
放置して毒性の高いエチレンオキサイドガスを脱離させ
てから医療用器具、器材として使用されているのである
が、毒性の残留度の高い医療器具を人体に用いた場合に
はその個所に対する有毒性が次のように示唆されている
即ち(1)皮膚に対しては炎症の惹起、(2)粘膜に対
しては刺激、炎症作用、(3)血液に接触させた場合は
溶血作用、(4)その他生殖細胞及び体細胞に異変を起
すなどの様に急性毒性および慢性毒性が大きな問題とな
っているのが現状である。
然るにかかるエチレンオキサイドガスの毒性に関する我
国における気中濃度の法的規制は制定されておらず、昭
和56年(1981年)日本産業衛生学会か行った勧告
値50PPMと言うのが現イE一般に広く知られている
数字であるか、法的規制値でないため、このガスを取扱
う作業関係者は安全のため米国規制を参考に用いる事が
多い、この米国規制は昭和46年(1971年)エチレ
ンオキサイドガスを利用する滅菌作業者かこのガスに曝
露される量は8時間側重平均で50PPMを越えないこ
とを雇用者は保障しなければならないと言う主旨で最初
の規制か行われた。この規制は昭和54年(1979年
)IOPPMに、四に昭和56年(1981年)には5
PPMに規制か変史された。又同しく米国の職業安全衛
生管理局(OSHA)は、職業安全衛生法に基づく職業
上のエチレンオキサイドガス暴露量の最終規格を定め、
これを8時間側重平均IPPMとすることを決定したの
は昭和59年(1984年)である。
更に環境保護圧(EPA)は、病院および衛生管裡施設
の機器および消耗品の滅菌用に登録されているエチレン
オキサイドガスを含有した殺菌剤のラベリングの改定に
より昭和61年(1986年)7月1日迄に実施するよ
う次のような改善勧告を公布した。即ち 1、滅菌作業場所の設計方法として、 (1)エチレンオキサイドガスボンベの接続方法(2)
排気装置 (3)9報システム 2、滅菌作業場所の業務慣行として。
(1)エチレンオキサイドガス導入ラインのフィルター
の交換 (2)滅菌装置の扉の開放手順 (3)滅菌装置から被滅菌物の取り出し手順の指導改善
(滅菌装置中の空気および被滅菌物に残留するエチレン
オキサイドガスの被爆を受けないように) このように殺菌効果は高いが毒性を有するエチレンオキ
サイドガス滅菌処理後の物品に吸着、残留している有毒
ガスを離脱させる為の方法として行われているものであ
るが、現在我国において次のような方法がとられている
(1)滅菌終了後、被滅菌物を、滅菌装置内に収容のま
まの状態で無菌空気を導入して空気洗浄を行う。
(2)減vMkl!了後、別の空気洗浄装置内に被滅菌
物を移しかえる。
(3)滅菌終rvk、滅菌装置より被wt、eiIi物
を取り出して滅菌作業室内に一定日数放置する。
以上のような方法をとっているか、このような方法では
前述の米国規制に抵触、又は現場での作業者の取扱−ヒ
の事故により皮膚障害などが報告(昭和62年、口木医
科機器学会〉されているのか現状であり、」―記の方法
では次のような問題点をイ1している。即ち (1)の方法においては1作用効果か少ないため液域V
i物の使用日数に期間を要する。
(2)の方法においては、滅菌装置の扉の開閉による作
業環境汚染、および作業者の被爆および滅菌済物が細菌
による再汚染の危険性かある。これは病院の中央滅菌材
料室などで用いている市販の滅菌用紙袋などは、滅菌お
よび室内汚染などの作用効果が高く、通気性を持たせた
設計であるからである。即ち空気洗浄装置に移し換える
場合、および上記の紙袋を用いた被滅菌物の袋の外側か
作業者の手指、又は環境により細菌汚染を受けていた場
合は空気洗浄装置の中で数時間(換気25回/時間がよ
いと言われている)空気洗浄か行われている間に装の外
側の細菌は空気と共に袋の中へ送り込まれる危険性が生
しるからであり又この作業を無菌状態で操作できる様に
置き換えた場合は、その設備が高価となるのみならず作
業手順がより複雑になるものである。
(3)の方法においては、作用効果か悪いので被滅菌物
の使用日数に期間を要し、作業環境汚染、およびその空
調全体の汚染と、作業者の安全性に問題があるなど種々
の解決すべき問題点を有しているものである。
(問題を解決するための手段) 本発明はかかる現状に鑑みてなされた発明てあって、滅
菌装置内で滅菌終了後の被滅菌物に吸着、残留している
エチレンオキサイドガスな除去する方法として、エチレ
ンオキサイドガスは水に可溶性を持っている原理を利用
し、f!1.填装置に加湿、加温装置を設けることによ
り、滅菌装置内の気中およびその中の物品に適当なる湿
気と温度とを与えて、この湿気にエチレンオキサイドガ
スを吸着させると共に、無菌空気と置き換える空気洗浄
によりその作用効果を大きくし、かつこれを無人運転に
より継続することを目的とした装置によりエチレンオキ
サイドガスの毒性により医療用器具、その他の用品の毒
性被害を無くするようにしたものである。
(作   用〉 本発明は、エチレンオキサイドガスを使用して減閑作業
をなし、滅菌完了後の被滅菌物を、滅菌装置内に収容し
た侭その外周に温水を循環させるなどの保温手段により
滅菌装置内を約50℃乃至60’Cに保温すると共に、
この装置内を真空、無菌空気による給気、即ち空気洗浄
、および間歇的に加湿タイムを設けて、その滅菌装置内
、および被滅菌物に吸着、残留している有毒エチレンオ
キサイドガスを加湿、湿気に吸着させると共に、無菌空
気と置換して被滅菌物に吸着、残留しているエチレンオ
キサイドガスの毒性を短時間の内に除去するものである
(実 施 例) 本発明の実施例を示せば、被滅菌物の一定量を収容して
滅菌する被滅菌物収容装置(1)に付属して、エチレン
オキサイドガス導入電磁弁(2)と滅菌処理後の使用ガ
ス排出電磁弁(3)および洗浄用空気導入電磁弁(4)
を設けたエチレンオキサイドガス滅菌装置において、被
滅菌物収容装置(1)の周囲を被覆する温水タンク(5
)と、ガス導入管(6)に接続してガス加温槽(7)お
よび湿気導入電磁弁(8)を設け、温水タンク(5)と
、ガス加温槽(7)とにより被滅菌物収容装置(1)内
の温度を一定温度に保温すると共に、間歇的に湿気導入
電磁弁(8)により無菌の湿気を導入して滅菌し、滅菌
終了後における被滅菌物収容装置(L)内のガスを、ガ
ス排出電磁弁(3)により排出すると共に。
洗す用空気導入電磁弁(4)、湿気導入電磁弁(8)に
より真空、空気洗浄すると共に、加湿タイムを夫々一定
時間自動的に無人運転により繰り返し。
加湿、湿気により被滅菌物収容装置(1)内および被滅
菌物に吸着、残留せるエチレンオキサイドガスのイ■毒
ガスを短時間の内に除去するようにした装置てあって1
図中、(9)は排水弁、(10)は安全升、(+1)は
圧力スイッチ、(12)は蒸気管、(13)は木管、 
(14)は加温電磁弁、 (15)は減圧弁である。
本発明は叙上のことき構成によるものであって、保温手
段としては、通常病院においては蒸気供給設備における
温水を利用して滅菌3S:置の外周のタンク(5)内に
温水をWU環させることにより、その滅菌装置内部を5
0°C乃至60℃に保持してエチレンオキサイドガスの
有毒ガスを加湿、湿気への吸着を効果的に促進し、史に
間歇的に加湿する5cI4の湿気には、上記と同様に蒸
気供給設備における凝結水を使用すれば無菌にして錆、
埃などがなく簡便に必要量か供給できると共に、使用経
費か安価ですみ、滅菌装置内への自動添加に際しても有
効に気中に添加できるから、エチレンオキサイドガスの
有毒ガスの吸着が効率的に行うことができるものである
本発明によるテストの結果を説明すれば、エチレンオキ
サイドガスによる滅菌工程終了後、被滅菌物収容装置(
1)内を真空時間3分、空気洗浄による給気時間30分
、およびこの間の加湿タイム60分の夫々を繰り返して
20時間実施した場合と、滅菌および排気完了後、空気
洗浄による給気時間、および真空時間を2.5分サイク
ルで7回、および被滅菌物収容装置(1)内の温度を6
0度に持続させた場合とのエチレンオキサイドガスの除
去効果については次頁の表に示す如く格段の相違がある
品目lでは本発明の加湿ありの方か2.42倍、品目2
では同9.33倍、品目3では同1.7倍、品目4では
同152.6倍、品目5では同10.1倍の夫々勝れた
効果を発揮し、特にシルク系においては極めて高い効果
を発揮するものである。
又本発明の効果値に相当するまで加湿なしで実験を継続
した場合の相当日数は、品g1て14日、品[12で2
8日、品目3,4で7日、品目5で21日と相当長き日
数を必要とし、この間これらの品目は使用できずにエチ
レンオキサイドガスの有毒ガス除去のため滅菌処理を継
続しなければならないことになる。更に、対象材料を気
管内チューブ、および気管切開チューブの夫々について
エチレンオキサイドガスの残留追跡を行った結果につい
ては、第2図および第3図に示す通り未発11の加湿、
加温保存による除去装置によれば、減菌完Y後尚残留す
るエチレンオキサイドガスの残留を短期間に離脱させる
ものである。
(発明の効果) 本発明は叙Eのごとく、従来の滅菌装置に加温、加湿を
付与する装置を加設したものであって、これにより被滅
菌物の滅菌完了後、他の装置に移し替えてエチレンオキ
サイドガスの有毒性を離脱する必要なく、然も離脱の期
間を短縮速進するものである。そして作業者においては
作業手間がかからず滅菌作業が安全にできて有毒ガスの
汚染を防止することができ滅菌作業の安全を確保するも
のである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の構成国、第2図は気管内チューブにお
けるエチレンオキサイドガス残留追跡表、第3図は気管
切開チューブにおけるエチレンオキサイドガス残留追跡
表である。 図中、(1)・・・・・・液域cii物収容装置、 (
2)・・・・・・ガス導入電磁弁、(3)・・・・・・
ガス排出電磁弁、(4)・・・・・・洗浄用空気導入電
磁弁、 (5) −・・・・・温水タンク。 (6)・・・・・・ガス導入管、(7)・・・・・・ガ
ス加温槽、(8)・・・・・・湿気導入電磁弁。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 被滅菌物の一定量を収容して滅菌する、被滅菌物収容装
    置に付属して、エチレンオキサイドガス導入電磁弁と、
    滅菌処理後の使用ガス排出電磁弁および洗浄用空気導入
    電磁弁を設けたエチレンオキサイドガス滅菌装置におい
    て、被滅菌物収容器内を一定温度に保温すると共に、間
    歇的に無菌の湿気を導入し、滅菌終了後の収容器内を真
    空、空気洗浄による給気、および間歇的にする加湿タイ
    ムを夫々一定時間自動的に無人運転により繰り返し加湿
    、湿気により収容器内および被滅菌物に吸着、残留せる
    エチレンオキサイドガスの有毒ガスを短時間の内に除去
    するように装置したことを特徴とするエチレンオキサイ
    ドガス滅菌における残留ガス脱離速進装置。
JP1282397A 1989-10-30 1989-10-30 エチレンオキサイドガス滅菌における残留ガス脱離速進装置 Granted JPH03141952A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1171169A4 (en) * 1999-04-21 2002-06-26 Stryker Technologies Corp SPECIAL CYCLE FOR ETHYLENE OXIDE Sterilization
JP2007185275A (ja) * 2006-01-12 2007-07-26 Miura Co Ltd ガス滅菌における残留ガス除去方法

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JP2007185275A (ja) * 2006-01-12 2007-07-26 Miura Co Ltd ガス滅菌における残留ガス除去方法

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