JPH0314223Y2 - - Google Patents
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- JPH0314223Y2 JPH0314223Y2 JP4313484U JP4313484U JPH0314223Y2 JP H0314223 Y2 JPH0314223 Y2 JP H0314223Y2 JP 4313484 U JP4313484 U JP 4313484U JP 4313484 U JP4313484 U JP 4313484U JP H0314223 Y2 JPH0314223 Y2 JP H0314223Y2
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- Japan
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- polishing
- polishing drum
- drum
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- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims description 117
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 13
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 7
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 3
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 3
- 239000010985 leather Substances 0.000 description 3
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 3
- 241000824268 Kuma Species 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
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- Pinball Game Machines (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は、パチンコホールの球循環補給装置の
一環として設置する球磨装置に係り、特に作業員
の安全および作業の効率化を図ることができるパ
チンコ球磨装置に関する。
一環として設置する球磨装置に係り、特に作業員
の安全および作業の効率化を図ることができるパ
チンコ球磨装置に関する。
一般にパチンコホールにおいて、客の打込んだ
使用済の球は、自動循環補給装置を介し島を構成
する各パチンコ機へ賞球として供給されるが、客
に対して清潔な賞球を提供するために補給系路の
一環として球磨装置を設置するのが通例である。
使用済の球は、自動循環補給装置を介し島を構成
する各パチンコ機へ賞球として供給されるが、客
に対して清潔な賞球を提供するために補給系路の
一環として球磨装置を設置するのが通例である。
ところで従来、この種の球磨装置としては、軸
方向に複数の研磨室に区分され軸廻りの回転によ
り上流側の研磨室から下流側の研磨室に向かつて
パチンコ球を順次給送する研磨ドラムを用い、こ
れを電動モータで駆動し各研磨室に投入された研
磨体の摩擦あるいは払拭作用により研磨を行なう
ようにしたものが一般に知られている。そしてこ
の種の球磨装置は島内の狭い空間に設置されるた
め、研磨ドラムを開閉可能なカバーで覆つて作業
員の安全を図つている。
方向に複数の研磨室に区分され軸廻りの回転によ
り上流側の研磨室から下流側の研磨室に向かつて
パチンコ球を順次給送する研磨ドラムを用い、こ
れを電動モータで駆動し各研磨室に投入された研
磨体の摩擦あるいは払拭作用により研磨を行なう
ようにしたものが一般に知られている。そしてこ
の種の球磨装置は島内の狭い空間に設置されるた
め、研磨ドラムを開閉可能なカバーで覆つて作業
員の安全を図つている。
ところが、前述のように球磨装置は狭い空間に
設置されているため、仮えカバーがあつても島内
を行き来する際に手等がカバーに触れてカバーが
開放してしまうことがあり、極めて危険である。
設置されているため、仮えカバーがあつても島内
を行き来する際に手等がカバーに触れてカバーが
開放してしまうことがあり、極めて危険である。
また、カバーを開放して研磨体の交換あるいは
研磨ドラムの保守点検を行なう場合、従来は研磨
ドラムの軸廻りの停止位置が不定であるため、作
業できる位置まで人力により研磨ドラムを回転さ
せなければならないが、研磨ドラム内には多数の
球が入つているので研磨ドラムの回転が容易でな
く、作業完了までに多大な時間と労力とを要する
という欠点がある。
研磨ドラムの保守点検を行なう場合、従来は研磨
ドラムの軸廻りの停止位置が不定であるため、作
業できる位置まで人力により研磨ドラムを回転さ
せなければならないが、研磨ドラム内には多数の
球が入つているので研磨ドラムの回転が容易でな
く、作業完了までに多大な時間と労力とを要する
という欠点がある。
本考案はかかる現況に鑑みなされたもので、万
一誤つてカバーを開放してしまつた場合にも作業
員の安全を充分に確保することができ、また研磨
体の交換作業等を行なう際に研磨ドラムを人力に
より回転させる必要がなく、作業能率を大幅に向
上させることができるパチンコ球磨装置を提供す
ることを目的とする。
一誤つてカバーを開放してしまつた場合にも作業
員の安全を充分に確保することができ、また研磨
体の交換作業等を行なう際に研磨ドラムを人力に
より回転させる必要がなく、作業能率を大幅に向
上させることができるパチンコ球磨装置を提供す
ることを目的とする。
本考案は、カバーの開放により研磨ドラムを停
止させる安全機構を設けて作業員の安全を確保
し、また研磨ドラムを軸廻りの定位置に停止させ
る研磨ドラム位置自動調整機構を設けて人力によ
り研磨ドラムを回転させなくてもよいようにした
ことを特徴とする。
止させる安全機構を設けて作業員の安全を確保
し、また研磨ドラムを軸廻りの定位置に停止させ
る研磨ドラム位置自動調整機構を設けて人力によ
り研磨ドラムを回転させなくてもよいようにした
ことを特徴とする。
以下本考案を図示する一実施例に基づいて説明
する。
する。
第1図において1は、多数が並設されて島を構
成するパチンコ機であり、各パチンコ機1の下方
には、各パチンコ機1の裏側排出樋から落下して
きた球を回収する下樋2が設置されている。また
この下樋2の下流端位置には、パチンコ機1から
排出される使用済の球を洗浄して下流側に送り出
す球磨装置3が設置されている。そしてこの球磨
装置3から送出された球は、この球を揚送するリ
フト4および上樋5を介して前記各パチンコ機1
に供給されるようになつており、前記下樋2、球
磨装置3、リフト4、および上樋5によりパチン
コホールの球自動循環補強系路が構成されてい
る。
成するパチンコ機であり、各パチンコ機1の下方
には、各パチンコ機1の裏側排出樋から落下して
きた球を回収する下樋2が設置されている。また
この下樋2の下流端位置には、パチンコ機1から
排出される使用済の球を洗浄して下流側に送り出
す球磨装置3が設置されている。そしてこの球磨
装置3から送出された球は、この球を揚送するリ
フト4および上樋5を介して前記各パチンコ機1
に供給されるようになつており、前記下樋2、球
磨装置3、リフト4、および上樋5によりパチン
コホールの球自動循環補強系路が構成されてい
る。
前記球磨装置3は、第2図ないし第5図に示す
ように基台6と、この基台6上に所要間隔で対設
された例えば八角形状の箱形をなす一対の固定部
材7,8とを備えており、両固定部材7,8間に
は、各固定部材7,8の外面に固設した軸受9に
回転支軸10,11が軸支された例えば六角筒状
の研磨ドラム12が回転自在に配設されている。
ように基台6と、この基台6上に所要間隔で対設
された例えば八角形状の箱形をなす一対の固定部
材7,8とを備えており、両固定部材7,8間に
は、各固定部材7,8の外面に固設した軸受9に
回転支軸10,11が軸支された例えば六角筒状
の研磨ドラム12が回転自在に配設されている。
この研磨ドラム12は、第2図に示すように軸
方向両端部が閉塞板13,14によりそれぞれ閉
止されており、前記各回転支軸10,11は、各
閉塞板13,14の外面軸心部に突設されてい
る。また前記研磨ドラム12の内部は、第2図な
いし第4図に示すように仕切板15によつて軸方
向に複数の研磨室12aに区分されており、各研
磨室12a内には、布あるいは革等の研磨体16
が投入されて研磨ドラム12の回転に伴ない球1
7を洗浄するようになつている。また研磨ドラム
12の周面には、第5図に示すように一箇所の角
部を切欠いて軸方向の開口部18が形成されてお
り、この開口部18は、係止金具19およびバツ
クル20を介して着脱可能な蓋体21により閉止
されている。
方向両端部が閉塞板13,14によりそれぞれ閉
止されており、前記各回転支軸10,11は、各
閉塞板13,14の外面軸心部に突設されてい
る。また前記研磨ドラム12の内部は、第2図な
いし第4図に示すように仕切板15によつて軸方
向に複数の研磨室12aに区分されており、各研
磨室12a内には、布あるいは革等の研磨体16
が投入されて研磨ドラム12の回転に伴ない球1
7を洗浄するようになつている。また研磨ドラム
12の周面には、第5図に示すように一箇所の角
部を切欠いて軸方向の開口部18が形成されてお
り、この開口部18は、係止金具19およびバツ
クル20を介して着脱可能な蓋体21により閉止
されている。
また前記両閉塞板13,14および各仕切板1
5の上流側位置、すなわち第2図において左側位
置には、前記各板13,14,15に穿設した球
送出孔22を介して下流側に球17を順次送給す
る公知の球導入機構23がそれぞれ設けられてい
る。また上流端の閉塞板13の上流側面および下
流端の閉塞板14の下流側面には、第2図に示す
ように短筒体24,25がそれぞれ固着されてお
り、これら各短筒体24,25は、第5図に示す
ように前記各固定部材7,8の対向面に設けた切
欠き26を通して各固定部材7,8内に位置し、
その先端は各固定部材7,8の外面内側に狭い間
隙を有して対向している。
5の上流側位置、すなわち第2図において左側位
置には、前記各板13,14,15に穿設した球
送出孔22を介して下流側に球17を順次送給す
る公知の球導入機構23がそれぞれ設けられてい
る。また上流端の閉塞板13の上流側面および下
流端の閉塞板14の下流側面には、第2図に示す
ように短筒体24,25がそれぞれ固着されてお
り、これら各短筒体24,25は、第5図に示す
ように前記各固定部材7,8の対向面に設けた切
欠き26を通して各固定部材7,8内に位置し、
その先端は各固定部材7,8の外面内側に狭い間
隙を有して対向している。
前記上流側の固定部材7には、第2図および第
3図に示すように前記下樋2上を転動してきた球
17を短筒体24内に導びく矩形状の球取入孔2
7が穿設され、またこの固定部材7の外面側に
は、上流端の研磨室12a内の主として研磨体1
6を湿潤させるための湿潤機構28が設置されて
いる。
3図に示すように前記下樋2上を転動してきた球
17を短筒体24内に導びく矩形状の球取入孔2
7が穿設され、またこの固定部材7の外面側に
は、上流端の研磨室12a内の主として研磨体1
6を湿潤させるための湿潤機構28が設置されて
いる。
この湿潤機構28は、第6図に示すようにブラ
ケツト29を介して固定部材7に固定された受金
具30と、水あるいは石鹸水等の溶剤が満たされ
前記受金具30への装着により常閉の出口弁31
aが開となる溶剤タンク31と、前記回転支軸1
0の軸心に穿設した孔に挿通され溶剤タンク31
内の溶剤を上流端の研磨室12a内に吐出するノ
ズル32と、このノズル32の入側に配置された
電磁弁33とから構成されており、この電磁弁3
3の開時間は、第2図に示すように制御盤34に
組込まれた開時間設定器35により任意に調節で
きるようになつている。この制御盤34にはま
た、第2図に示すように研磨ドラム位置自動調整
スイツチ36、研磨ドラム位置手動調整スイツチ
37、メインスイツチ38、電源ランプ39、お
よびこれらの制御部がそれぞれ組込まれている。
これらについては後に詳述する。
ケツト29を介して固定部材7に固定された受金
具30と、水あるいは石鹸水等の溶剤が満たされ
前記受金具30への装着により常閉の出口弁31
aが開となる溶剤タンク31と、前記回転支軸1
0の軸心に穿設した孔に挿通され溶剤タンク31
内の溶剤を上流端の研磨室12a内に吐出するノ
ズル32と、このノズル32の入側に配置された
電磁弁33とから構成されており、この電磁弁3
3の開時間は、第2図に示すように制御盤34に
組込まれた開時間設定器35により任意に調節で
きるようになつている。この制御盤34にはま
た、第2図に示すように研磨ドラム位置自動調整
スイツチ36、研磨ドラム位置手動調整スイツチ
37、メインスイツチ38、電源ランプ39、お
よびこれらの制御部がそれぞれ組込まれている。
これらについては後に詳述する。
一方、前記下流側の固定部材8には、第2図に
示すように下流端の研磨室12aから閉塞板14
の球送出孔22を介して短筒体25に排出された
洗浄後の球17を、樋40を通して前記リフト4
に導びくための矩形状の球取出孔41が穿設され
ており、またこの固定部材8の外面上部には、短
筒体25内に温風あるいは冷風を送気して球17
を乾燥させるための送風機42の送風口42aが
開設されている。なお、前記研磨体16として革
を用いる場合、短筒体25内に排出された洗浄後
の球17には、前記革の粉塵等が付着しているこ
とがあるが、この場合には前記送風機42に代え
て吸引機を設置し、前記粉塵を完全に吸引するこ
ともできる。
示すように下流端の研磨室12aから閉塞板14
の球送出孔22を介して短筒体25に排出された
洗浄後の球17を、樋40を通して前記リフト4
に導びくための矩形状の球取出孔41が穿設され
ており、またこの固定部材8の外面上部には、短
筒体25内に温風あるいは冷風を送気して球17
を乾燥させるための送風機42の送風口42aが
開設されている。なお、前記研磨体16として革
を用いる場合、短筒体25内に排出された洗浄後
の球17には、前記革の粉塵等が付着しているこ
とがあるが、この場合には前記送風機42に代え
て吸引機を設置し、前記粉塵を完全に吸引するこ
ともできる。
前記固定部材8を貫通して下流側に突出する回
転支軸11には、第2図および第4図に示すよう
に前記リフト4の駆動軸43に設けたスプロケツ
ト44とチエーン45を介して連結されるスプロ
ケツト46が取付けられており、前記駆動軸43
は、ジヨイント47および減速機48を介して電
動モータ49により回転駆動されるようになつて
いる。そしてこれにより、前記研磨ドラム12は
リフト4と同期して定速回転するようになつてい
る。また前記回転支軸11の軸端部には、第2図
および第4図に示すように調整レバー50がねじ
部材51を介して軸廻りに位置調節可能に取付け
られ、この調整レバー50に近接して固設された
永久磁石52とともに磁気型の研磨ドラム回転数
チエツクセンサ53を構成している。そしてこの
チエツクセンサ53からの回転数信号により、前
記制御盤34を介して前記電磁弁33が閉制御さ
れるようになつている。これについては後に詳述
する。
転支軸11には、第2図および第4図に示すよう
に前記リフト4の駆動軸43に設けたスプロケツ
ト44とチエーン45を介して連結されるスプロ
ケツト46が取付けられており、前記駆動軸43
は、ジヨイント47および減速機48を介して電
動モータ49により回転駆動されるようになつて
いる。そしてこれにより、前記研磨ドラム12は
リフト4と同期して定速回転するようになつてい
る。また前記回転支軸11の軸端部には、第2図
および第4図に示すように調整レバー50がねじ
部材51を介して軸廻りに位置調節可能に取付け
られ、この調整レバー50に近接して固設された
永久磁石52とともに磁気型の研磨ドラム回転数
チエツクセンサ53を構成している。そしてこの
チエツクセンサ53からの回転数信号により、前
記制御盤34を介して前記電磁弁33が閉制御さ
れるようになつている。これについては後に詳述
する。
前記研磨ドラム12の外周部は、第2図ないし
第5図に示すように前記基台6から立上がり研磨
ドラム12の前面側下半部を覆う前面板54と、
基台6から立上がり研磨ドラム12の背面側を覆
う背面板55と、これら両板54,55の上端間
に配されたカバー56とにより完全に覆われてお
り、前記カバー56は、研磨ドラム12周りに回
動させることにより開閉できるようになつてい
る。
第5図に示すように前記基台6から立上がり研磨
ドラム12の前面側下半部を覆う前面板54と、
基台6から立上がり研磨ドラム12の背面側を覆
う背面板55と、これら両板54,55の上端間
に配されたカバー56とにより完全に覆われてお
り、前記カバー56は、研磨ドラム12周りに回
動させることにより開閉できるようになつてい
る。
すなわちカバー56は、第2図ないし第5図に
示すように概略円弧樋状をなしており、その両端
部は、第3図および第5図に示すように前記固定
部材7,8の対向面に固設した円弧状のガイドレ
ール57により下面側から支持され、またこのガ
イドレール57からの外れ止めは、第3図に示す
ようにカバー56の前端両側部に取付けた外れ止
め金具58とカバー56とでガイドレール57を
上下から挾持することにより行なわれるようにな
つている。そしてこれにより、カバー56はガイ
ドレール57にそつて研磨ドラム12周りに回動
し、研磨ドラム12の前面上半部を開閉するよう
になつているとともに、その回動範囲は、第3図
および第5図に示すように基台6上に溶着したス
トツパ59への当接により規制されるようになつ
ている。
示すように概略円弧樋状をなしており、その両端
部は、第3図および第5図に示すように前記固定
部材7,8の対向面に固設した円弧状のガイドレ
ール57により下面側から支持され、またこのガ
イドレール57からの外れ止めは、第3図に示す
ようにカバー56の前端両側部に取付けた外れ止
め金具58とカバー56とでガイドレール57を
上下から挾持することにより行なわれるようにな
つている。そしてこれにより、カバー56はガイ
ドレール57にそつて研磨ドラム12周りに回動
し、研磨ドラム12の前面上半部を開閉するよう
になつているとともに、その回動範囲は、第3図
および第5図に示すように基台6上に溶着したス
トツパ59への当接により規制されるようになつ
ている。
前記下流側の固定部材8の内部には、第4図に
示すように閉止状態のカバー56の端面に接触し
て閉成するとともに、カバー56を所定量以上開
動作させることにより開成する安全スイツチ60
が組込まれており、この安全スイツチ60からの
信号は、第2図に示すように前記前面板54上に
設置した制御盤34に送られ、電動モータ49へ
の給電を遮断するようになつている。
示すように閉止状態のカバー56の端面に接触し
て閉成するとともに、カバー56を所定量以上開
動作させることにより開成する安全スイツチ60
が組込まれており、この安全スイツチ60からの
信号は、第2図に示すように前記前面板54上に
設置した制御盤34に送られ、電動モータ49へ
の給電を遮断するようになつている。
第7図は前記制御盤34の制御部を示すもので
あり、図中61は研磨ドラム回転数チエツクセン
サ53からの信号が入力される受信器、62はこ
の受信器61からの信号により研磨ドラム12の
回転数をカウントするカウンタ、63はこのカウ
ンタ62から信号値と開時間設定器35で設定し
た設定値とを比較し両者が一致した際に制御器6
4に信号を出力する比較器であつて、前記制御器
64からの出力信号により湿潤機構28の電磁弁
33が閉制御されるようになつている。また65
は前記受信器61からの信号が入力される制御器
であつて、この制御器65からの信号により研磨
ドラム12の自動停止がなされるようになつてい
る。
あり、図中61は研磨ドラム回転数チエツクセン
サ53からの信号が入力される受信器、62はこ
の受信器61からの信号により研磨ドラム12の
回転数をカウントするカウンタ、63はこのカウ
ンタ62から信号値と開時間設定器35で設定し
た設定値とを比較し両者が一致した際に制御器6
4に信号を出力する比較器であつて、前記制御器
64からの出力信号により湿潤機構28の電磁弁
33が閉制御されるようになつている。また65
は前記受信器61からの信号が入力される制御器
であつて、この制御器65からの信号により研磨
ドラム12の自動停止がなされるようになつてい
る。
第8図は制御盤34の回路構成を示すもので、
図中Saは第7図に示す制御器65からの信号によ
り閉成するとともにその信号停止により開成する
接点、Sbは第7図に示す制御器64からの信号に
より開成して電磁弁33を閉止するとともにメイ
ンスイツチ38の開成により閉成する接点、R1
は研磨ドラム位置自動調整スイツチ36の閉成に
より励磁され接点SR1a-1,SR1a-2を閉成するリレ
ー、R2は前記接点Saの閉成により励磁され接点
SR2b-1,SR2b-2を開成するリレーである。
図中Saは第7図に示す制御器65からの信号によ
り閉成するとともにその信号停止により開成する
接点、Sbは第7図に示す制御器64からの信号に
より開成して電磁弁33を閉止するとともにメイ
ンスイツチ38の開成により閉成する接点、R1
は研磨ドラム位置自動調整スイツチ36の閉成に
より励磁され接点SR1a-1,SR1a-2を閉成するリレ
ー、R2は前記接点Saの閉成により励磁され接点
SR2b-1,SR2b-2を開成するリレーである。
次に作用について説明する。
メインスイツチ38を閉成すると、電源ランプ
39が点灯するとともに、電動モータ49が起動
して研磨ドラム12およびリフト4が定速で回転
駆動される。またこれと同時に湿潤機構28の電
磁弁33が開となり、溶剤タンク31内の溶剤が
ノズル32から上流端の研磨室12a内に供給さ
れ、この研磨室12a内の研磨体14に湿りを与
える。
39が点灯するとともに、電動モータ49が起動
して研磨ドラム12およびリフト4が定速で回転
駆動される。またこれと同時に湿潤機構28の電
磁弁33が開となり、溶剤タンク31内の溶剤が
ノズル32から上流端の研磨室12a内に供給さ
れ、この研磨室12a内の研磨体14に湿りを与
える。
一方、研磨ドラム12が回転すると、下流端の
回転支軸11に取付けた調整レバー50も同速で
回転し、永久磁石52への接近、離反を繰返す。
そして調整レバー47の永久磁石52への接近に
より磁束が変化し、これにより研磨ドラム12の
回転数が検出される。この信号は、第7図に示す
ように受信器61を介してカウンタ62に与えら
れ、比較器63においてカウンタ62からの信号
と開時間設定器35で予め設定した設定値とが比
較され、両者が一致した時点で制御器64から信
号が出力される。この信号により第8図に示す接
点Sbが開成され、電磁弁33はその通電が遮断さ
れて閉制御される。これにより、上流端の研磨室
12a内には、電磁弁33が開いている間のみ溶
剤が供給される。このため、上流端の研磨室12
a内の研磨体16に適度の湿りを与えることが可
能となる。
回転支軸11に取付けた調整レバー50も同速で
回転し、永久磁石52への接近、離反を繰返す。
そして調整レバー47の永久磁石52への接近に
より磁束が変化し、これにより研磨ドラム12の
回転数が検出される。この信号は、第7図に示す
ように受信器61を介してカウンタ62に与えら
れ、比較器63においてカウンタ62からの信号
と開時間設定器35で予め設定した設定値とが比
較され、両者が一致した時点で制御器64から信
号が出力される。この信号により第8図に示す接
点Sbが開成され、電磁弁33はその通電が遮断さ
れて閉制御される。これにより、上流端の研磨室
12a内には、電磁弁33が開いている間のみ溶
剤が供給される。このため、上流端の研磨室12
a内の研磨体16に適度の湿りを与えることが可
能となる。
上流端の研磨室12a内の研磨体16により適
度の湿りの与えられた球17は、研磨ドラム12
の回転により順次下流側の研磨室12aに送給さ
れるが、上流端以外の研磨室12a内の研磨体1
6は乾燥しているので、この乾燥研磨体16との
払拭または絡み作用により、球表面の油分が除去
されるとともに湿り気も除去され、下流端の研磨
室12aからは清潔でほぼ乾燥した球17が排出
され、さらに必要に応じて駆動される送風機42
により、リフト4に送られる際には完全に乾燥し
た状態となつている。そしてこの球17は、リフ
ト4および上樋5を介し各パチンコ機1に供給さ
れ、この動作がパチンコホールの開店中続行され
る。
度の湿りの与えられた球17は、研磨ドラム12
の回転により順次下流側の研磨室12aに送給さ
れるが、上流端以外の研磨室12a内の研磨体1
6は乾燥しているので、この乾燥研磨体16との
払拭または絡み作用により、球表面の油分が除去
されるとともに湿り気も除去され、下流端の研磨
室12aからは清潔でほぼ乾燥した球17が排出
され、さらに必要に応じて駆動される送風機42
により、リフト4に送られる際には完全に乾燥し
た状態となつている。そしてこの球17は、リフ
ト4および上樋5を介し各パチンコ機1に供給さ
れ、この動作がパチンコホールの開店中続行され
る。
しかして、湿潤機構28により上流端の研磨室
12a内に投入した研磨体16に自動的に湿りが
与えられるので、人力で行なつていた従来のもの
に比較して大幅な省力化が可能となる。また電磁
弁33の開時間は、開時間設定器35により任意
に調節できるので、最も効率のよい洗浄が可能と
なり、また島内の湿度等に対応させて調節するこ
とが可能となる。
12a内に投入した研磨体16に自動的に湿りが
与えられるので、人力で行なつていた従来のもの
に比較して大幅な省力化が可能となる。また電磁
弁33の開時間は、開時間設定器35により任意
に調節できるので、最も効率のよい洗浄が可能と
なり、また島内の湿度等に対応させて調節するこ
とが可能となる。
一方、研磨ドラム12の各研磨室12a内に投
入した研磨体16を交換したり、あるいは研磨ド
ラム12の保守点検を行なう場合には、まずカバ
ー56をガイドレール57にそつて回動させ、研
磨ドラム12の前面上半部を開放する。すると、
安全スイツチ60が開成するので、仮え研磨ドラ
ム12の回転中であつてもカバー56の開放によ
り研磨ドラム12は回転を停止し、作業員の安全
が確保される。またカバー56は、研磨ドラム1
2周りに回動して開閉動作がなされるので、カバ
ー56の開閉に伴なう専用スペースを要せず、し
たがつて、充分なスペースを確保することが困難
な島内においても極めて容易に開閉することがで
きる。
入した研磨体16を交換したり、あるいは研磨ド
ラム12の保守点検を行なう場合には、まずカバ
ー56をガイドレール57にそつて回動させ、研
磨ドラム12の前面上半部を開放する。すると、
安全スイツチ60が開成するので、仮え研磨ドラ
ム12の回転中であつてもカバー56の開放によ
り研磨ドラム12は回転を停止し、作業員の安全
が確保される。またカバー56は、研磨ドラム1
2周りに回動して開閉動作がなされるので、カバ
ー56の開閉に伴なう専用スペースを要せず、し
たがつて、充分なスペースを確保することが困難
な島内においても極めて容易に開閉することがで
きる。
カバー56を開放したならば、研磨ドラム位置
自動調整スイツチ36あるいは研磨ドラム位置手
動調整スイツチ37により研磨ドラム12の軸廻
りの位置を調節して作業を行なう。
自動調整スイツチ36あるいは研磨ドラム位置手
動調整スイツチ37により研磨ドラム12の軸廻
りの位置を調節して作業を行なう。
すなわち、手動調整スイツチ37は閉成の間の
み研磨ドラム12が回転するので、これにより調
節する。一方自動調整スイツチ36の場合には、
第8図に示すようにその閉成によりリレーR1が
励磁し接点SR1a-1,SR1a-1が閉成して研磨ドラム
12が回転する。そして調整レバー50が永久磁
石52に接近すると、研磨ドラム回転数チエツク
センサ53から第7図に示す受信器61に信号が
出力され、さらに制御器65から信号が出力され
て第8図に示す接点Saが閉成する。これにより、
リレーR2が励磁され接点SR2b-1,SR2b-2が開成し
て研磨ドラム12は自動停止する。カバー56を
閉じ研磨ドラム12を再起動すれば、調整レバー
50が永久磁石52から離れるので制御器65か
ら信号が出力されなくなり、これにより接点Saが
開成する。
み研磨ドラム12が回転するので、これにより調
節する。一方自動調整スイツチ36の場合には、
第8図に示すようにその閉成によりリレーR1が
励磁し接点SR1a-1,SR1a-1が閉成して研磨ドラム
12が回転する。そして調整レバー50が永久磁
石52に接近すると、研磨ドラム回転数チエツク
センサ53から第7図に示す受信器61に信号が
出力され、さらに制御器65から信号が出力され
て第8図に示す接点Saが閉成する。これにより、
リレーR2が励磁され接点SR2b-1,SR2b-2が開成し
て研磨ドラム12は自動停止する。カバー56を
閉じ研磨ドラム12を再起動すれば、調整レバー
50が永久磁石52から離れるので制御器65か
ら信号が出力されなくなり、これにより接点Saが
開成する。
しかして、カバー56を開放した状態でもいず
れかの調整スイツチ36,37で研磨ドラム12
を回転させることができるので、作業が極めて容
易である。
れかの調整スイツチ36,37で研磨ドラム12
を回転させることができるので、作業が極めて容
易である。
なお前記実施例においては、研磨ドラム位置自
動調整スイツチ36の操作をカバー56の開放後
に行なうものについて説明したが、このスイツチ
36を操作すれば研磨ドラム12は軸廻りの定位
置に必ず停止するので、カバー56の閉止状態で
スイツチ36を操作できるようにしてもよい。ま
た、カバー56に代えて開閉扉式のものを用いて
もよい。
動調整スイツチ36の操作をカバー56の開放後
に行なうものについて説明したが、このスイツチ
36を操作すれば研磨ドラム12は軸廻りの定位
置に必ず停止するので、カバー56の閉止状態で
スイツチ36を操作できるようにしてもよい。ま
た、カバー56に代えて開閉扉式のものを用いて
もよい。
また前記実施例では、研磨ドラム12の軸廻り
の定位置を検出する方法として、調整レバー50
と永久磁石52とを用いた研磨ドラム回転数チエ
ツクセンサ53からの信号を使用するものについ
て説明したが、調整レバー50でリミツトスイツ
チを作動させるようにしたもの、あるいはスリツ
ト板と光電素子を用いるもの等他の形式のセンサ
でもよい。
の定位置を検出する方法として、調整レバー50
と永久磁石52とを用いた研磨ドラム回転数チエ
ツクセンサ53からの信号を使用するものについ
て説明したが、調整レバー50でリミツトスイツ
チを作動させるようにしたもの、あるいはスリツ
ト板と光電素子を用いるもの等他の形式のセンサ
でもよい。
以上説明したように本考案は、安全機構により
カバーを開放した際に研磨ドラムを停止させるよ
うにしているので、作業員の安全を確保すること
ができ、また研磨ドラム位置自動調整機構により
研磨ドラムを軸廻りの定位置に停止させるように
しているので、研磨体の交換あるいは研磨ドラム
内各部の保守点検等が極めて容易となり、大幅な
省力化を図ることができる。
カバーを開放した際に研磨ドラムを停止させるよ
うにしているので、作業員の安全を確保すること
ができ、また研磨ドラム位置自動調整機構により
研磨ドラムを軸廻りの定位置に停止させるように
しているので、研磨体の交換あるいは研磨ドラム
内各部の保守点検等が極めて容易となり、大幅な
省力化を図ることができる。
第1図は本考案に係る球磨装置を備えたパチン
コホールの球循環補給装置を示す全体構成図、第
2図は本考案の一実施例を示す球磨装置の部分断
面図、第3図は第2図の主要部を左端側から見た
部分破断斜視図、第4図は第2図の主要部を右端
側から見た部分破断斜視図、第5図は第2図の横
断面図、第6図は湿潤機構の詳細図、第7図は制
御盤に組込まれた制御部の構成を示すブロツク
図、第8図は制御盤の構成を示す回路図である。 3……球磨装置、12……研磨ドラム、12a
……研磨室、15……仕切板、16……研磨体、
17……球、21……蓋体、34……制御盤、3
6……研磨ドラム位置自動調整機構、49……電
動モータ、50……調整レバー、52……永久磁
石、53……研磨ドラム回転数チエツクセンサ、
54……前面板、55……背面板、56……カバ
ー、57……ガイドレール、58……外れ止め金
具、59……ストツパ、60……安全スイツチ。
コホールの球循環補給装置を示す全体構成図、第
2図は本考案の一実施例を示す球磨装置の部分断
面図、第3図は第2図の主要部を左端側から見た
部分破断斜視図、第4図は第2図の主要部を右端
側から見た部分破断斜視図、第5図は第2図の横
断面図、第6図は湿潤機構の詳細図、第7図は制
御盤に組込まれた制御部の構成を示すブロツク
図、第8図は制御盤の構成を示す回路図である。 3……球磨装置、12……研磨ドラム、12a
……研磨室、15……仕切板、16……研磨体、
17……球、21……蓋体、34……制御盤、3
6……研磨ドラム位置自動調整機構、49……電
動モータ、50……調整レバー、52……永久磁
石、53……研磨ドラム回転数チエツクセンサ、
54……前面板、55……背面板、56……カバ
ー、57……ガイドレール、58……外れ止め金
具、59……ストツパ、60……安全スイツチ。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 1 軸方向に複数の研磨室に区分され軸廻りの回
転により上流側の研磨室から下流側の研磨室に
向かつてパチンコ球を順次給送して球磨きを行
なう研磨ドラムと、この研磨ドラムを駆動する
電動モータと、研磨ドラムを覆うカバーと、こ
のカバーの開放により前記電動モータへの通電
を遮断して研磨ドラムを停止させる安全機構
と、研磨ドラムを軸廻りの定位置に停止させる
研磨ドラム位置自動調整機構とを具備すること
を特徴とするパチンコ球磨装置。 2 研磨ドラム位置自動調整機構をカバーの開放
時に操作可能としたことを特徴とする実用新案
登録請求の範囲第1項記載のパチンコ球磨装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4313484U JPS60155581U (ja) | 1984-03-26 | 1984-03-26 | パチンコ球磨装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4313484U JPS60155581U (ja) | 1984-03-26 | 1984-03-26 | パチンコ球磨装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60155581U JPS60155581U (ja) | 1985-10-16 |
| JPH0314223Y2 true JPH0314223Y2 (ja) | 1991-03-29 |
Family
ID=30554520
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4313484U Granted JPS60155581U (ja) | 1984-03-26 | 1984-03-26 | パチンコ球磨装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60155581U (ja) |
-
1984
- 1984-03-26 JP JP4313484U patent/JPS60155581U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60155581U (ja) | 1985-10-16 |
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