JPH0313348Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 本考案は、パチンコホールの球循環補給装置の
一環として設置する球磨装置に係り、特に払拭研
磨の前工程としてパチンコ球に適度の湿りを与え
る湿潤機構の改良に関する。

一般に、パチンコホールにおいて、客の打込ん
だ使用済の球は、自動循環補給装置を介して島を
構成する各パチンコ機へ賞球として供給される
が、客に対して清潔な賞球を提供するために補給
系路の一環として球磨装置を設置するのが通例で
ある。

ところで従来、この種の球磨装置としては、軸
方向に複数の研磨室に区分され軸廻りの回転によ
り上流側の研磨室から下流側の研磨室に向かつて
パチンコ球を順次給送する研磨ドラムを用い、各
研磨室に投入された研磨体の摩擦あるいは払拭作
用により研磨を行なうようにしたものが一般に知
られている。そしてこの球磨装置において効果的
な洗浄を行なうには、球表面の油分を除去するた
めに払拭研磨の前工程として球に適度の湿りを与
える必要がある。そこで従来は、上流端の研磨室
内に湿つた研磨体を投入し、この研磨体を毎日新
しい湿つた研磨体と交換する方法を採つている。

ところがこの種の方法では、研磨体の交換作業
が容易でなく、また作業員の個人差により湿り程
度にバラ付きがあり、湿りが不足して充分な洗浄
効果が得られなかつたり、あるいは逆に湿り過ぎ
により賞球として客に提供される際に球が濡れて
いるという欠点があつた。

本考案はかかる現況に鑑みなされたもので、簡
単な操作で充分な洗浄効果が得られ、しかも賞球
として客に提供される際に球が濡れていることが
ないパチンコ球磨装置を提供することを目的とす
る。

本考案は、研磨ドラムの近傍位置に、溶剤タン
クからの溶剤を開閉弁を介して上流端の研磨室内
に供給する湿潤機構を設け、湿潤機構の溶剤吐出
ノズルを回転ドラムの前部中空回転支軸の内部を
通してドラムの上流端研磨室に臨ませるととも
に、かつ前記開閉弁の開時間を、開時間設定器に
より任意に調節可能とし、もつて常時最適な湿り
状態が得られるようにしたことを特徴とする。

以下本考案を図示する一実施例に基づいて説明
する。

第１図において１は、多数が並設されて島を構
成するパチンコ機であり、各パチンコ機１の下方
には、各パチンコ機１の裏側排出樋から落下して
きた球を回収する下樋２が設置されている。また
この下樋２の下流端位置には、パチンコ機１から
排出される使用済の球を洗浄して下流側に送り出
す球磨装置３が設置されている。そしてこの球磨
装置３から送出された球は、この球を揚送するリ
フト４および上樋５を介して前記各パチンコ機１
に供給されるようになつており、前記下樋２、球
磨装置３、リフト４および上樋５によりパチンコ
ホールの球自動循環補給系路が構成されている。

前記球磨装置３は、第２図ないし第５図に示す
ように基台６と、この基台６上に所要間隔で対設
された例えば八角形状の箱形をなす一対の固定部
材７，８とを備えており、両固定部材７，８間に
は、各固定部材７，８の外面に固設した軸受９に
前後の回転支軸１０，１１がそれぞれ対応して軸
支された例えば六角筒状の研磨ドラム１２が回転
自在に配設されている。

この研磨ドラム１２は、第２図に示すように軸
方向両端部が閉塞板１３，１４によりそれぞれ閉
止されており、前記各回転支軸１０，１１は、各
閉塞板１３，１４の外面軸心部に突設されてい
る。尚、回転研磨ドラム１２の前部回転支軸１０
は第２図に示すように中空に形成されており、後
述する湿潤機構２８の溶剤吐出ノズル３１をこの
中空回転支軸１０の中空内部に挿入できるように
なつている。また前記研磨ドラム１２の内部は、
第２図ないし第４図に示すように仕切板１５によ
つて軸方向に複数の研磨室１２ａに区分されてお
り、各研磨室１２ａ内には、布あるいは革等の研
磨体１６が投入されて研磨ドラム１２の回転に伴
ない球１７を洗浄するようになつている。また研
磨ドラム１２の周面には、第５図に示すように一
箇所の角部を切欠いて軸方向の開口部１８が形成
されており、この開口部１８は、係止金具１９お
よびバツクル２０を介して着脱可能な蓋体２１に
より閉止されている。

また前記両閉塞板１３，１４および各仕切板１
５の上流側位置、すなわち第２図において左側位
置には、前記各板１３，１４，１５に穿設した球
送出孔２２を介して下流側に球１７を順次送給す
る公知の球導入機構２３がそれぞれ設けられてい
る。また上流端の閉塞板１３の上流側面および下
流端の閉塞板１４の下流側面には、第２図に示す
ように短筒体２４，２５がそれぞれ固着されてお
り、これら各短筒体２４，２５は、第５図に示す
ように前記各固定部材７，８の対向面に設けた切
欠き２６を通して各固定部材７，８内に位置し、
その先端は各固定部材７，８の外面内側に狭い間
隙を有して対向している。

前記上流側の固定部材７には、第２図および第
３図に示すように前記下樋２上を転動してきた球
１７を短筒体２４内に導びく矩形状の球取入孔２
７が穿設され、またこの固定部材７の外面側に
は、上流端の研磨室１２ａ内の主として研磨体１
６を湿潤させるための湿潤機構２８が設置されて
いる。

この湿潤機構２８は、第６図に示すようにブラ
ケツト２９を介して固定部材７に固設された受金
具３０と、水あるいは石鹸水等の溶剤が満たされ
前記受金具３０への装着により常閉の出口弁３１
ａが開となる溶剤タンク３１と、前記回転支軸１
０の軸心に穿設した孔に挿通され溶剤タンク３１
内の溶剤を上流端の研磨室１２ａ内に吐出するノ
ズル３２と、このノズル３２の入側に配置された
電磁弁３３とから構成されており、この電磁弁３
３の開時間は、第２図に示すように制御盤３４に
組込まれた開時間設定器３５により任意に調節で
きるようになつている。この制御盤３４にはま
た、第２図に示すように研磨ドラム位置自動調整
スイツチ３６、研磨ドラム位置手動調整スイツチ
３７、メインスイツチ３８、電源ランプ３９、お
よびこれらの制御部がそれぞれ組込まれている。
これらについては後に詳述する。

すなわち、本考案の特徴は湿潤機構２８の溶剤
吐出ノズル３２を回転ドラム１２の中空前部回転
支軸１０の軸心孔を通して上流研磨室１２ａに臨
ませるとともに、ノズル３２からの溶剤吐出時間
を任意に制御できるようにしたことにある。

一方、前記下流側の固定部材８には、第２図に
示すように下流端の研磨室１２ａから閉塞板１４
の球送出孔２２を介して短筒体２５に排出された
洗浄後の球１７を樋４０を通して前記リフト４に
導びくための矩形状の球取出孔４１が穿設されて
おり、またこの固定部材８の外面上部には、短筒
体２５内に温風あるいは冷風を送気して球１７を
乾燥させるための送風機４２の送風口４２ａが開
設されている。なお、前記研磨体１６として革を
用いる場合、短筒体２５内に排出された洗浄後の
球１７には、前記革の粉塵等が付着していること
があるが、この場合には前記送風機４２に代えて
吸引機を設置し、前記粉塵を完全に吸引すること
もできる。

前記固定部材８を貫通して下流側に突出する回
転支軸１１には、第２図および第４図に示すよう
に前記リフト４の駆動軸４３に設けたスプロケツ
ト４４とチエーン４５を介して連結されるスプロ
ケツト４６が取付けられており、前記駆動軸４３
は、ジヨイント４７および減速機４８を介して電
動モータ４９により回転駆動されるようになつて
いる。そしてこれにより、前記研磨ドラム１２は
リフト４と同期して定速回転するようになつてい
る。また前記回転支軸１１の軸端部には、第２図
に示すように調整レバー５０がねじ部材５１を介
して軸廻りに位置調節可能に取付けられ、この調
整レバー５０に近接して固設された永久磁石５２
とともに磁気型の研磨ドラム回転数チエツクセン
サ５３を構成している。そしてこのチエツクセン
サ５３からの回転数信号により、前記制御盤３４
を介して前記電磁弁３３が閉制御されるようにな
つている。これについては後に詳述する。

前記研磨ドラム１２の外周部は、第２図ないし
第５図に示すように前記基台６から立上がり研磨
ドラム１２の前面側下半部を覆う前面板５４と、
基台６から立上がり研磨ドラム１２の背面側を覆
う背面板５５と、これら両板５４，５５の上端間
に配されたカバー５６とにより完全に覆われてお
り、前記カバー５６は、研磨ドラム１２周りに回
動させることにより開閉できるようになつてい
る。

すなわちカバー５６は、第２図ないし第５図に
示すように概略円弧樋状をなしており、その両端
部は、第３図および第５図に示すように前記固定
部材７，８の対向面に固設した円弧状のガイドレ
ール５７により下面側から支持され、またこのガ
イドレール５７からの外れ止めは、第３図に示す
ようにカバー５６の前端両側部に取付けた外れ止
め金具５８とカバー５６とでガイドレール５７を
上下から挾持することにより行なわれるようにな
つている。そしてこれにより、カバー５６はガイ
ドレール５７にそつて研磨ドラム１２周りに回動
し、研磨ドラム１２の前面上半部を開閉するよう
になつているとともにその回動範囲は、第３図お
よび第５図に示すように基台６上に溶着したスト
ツパ５９への当接により規制されるようになつて
いる。

前記下流側の固定部材８の内部には、第４図に
示すように閉止状態のカバー５６の端面に接触し
て閉成するとともに、カバー５６を所定量以上開
動作させることにより開成する安全スイツチ６０
が組込まれており、この安全スイツチ６０からの
信号は、第２図に示すように前記前面板５４上に
設置した制御盤３４に送られ、電動モータ４９へ
の給電を遮断するようになつている。

第７図は前記制御盤３４の制御部を示すもので
あり、図中６１は研磨ドラム回転数チエツクセン
サ５３からの信号が入力される受信器、６２はこ
の受信器６１からの信号により研磨ドラム１２の
回転数をカウントするカウンタ、６３はこのカウ
ンタ６２から信号値と開時間設定器３５で設定し
た設定値とを比較し両者が一致した際に制御器６
４に信号を出力する比較器であつて、前記制御器
６４からの出力信号により湿潤機構２８の電磁弁
３３が閉制御されるようになつている。また６５
は前記受信器６１からの信号が入力される制御器
であつて、この制御器６５からの信号により研磨
ドラム１２の自動停止がなされるようになつてい
る。

第８図は制御盤３４の回路構成を示すもので、
図中Saは第７図に示す制御器６５からの信号に
より閉成するとともにその信号停止により閉成す
る接点、Sbは第７図に示す制御器６４からの信
号により開成して電磁弁３３を閉止するとともに
メインスイツチ３８の開成により閉成する接点、
R₁は研磨ドラム位置自動調整スイツチ３６の閉
成により励磁され接点S_R1a-1，S_R1a-2を閉成する
リレー、R₂は前記接点Saの閉成により励磁され
接点S_R2b-1，S_R2b-2を開成するリレーである。

次に作用について説明する。

メインスイツチ３８を閉成すると、電源ランプ
３９が点灯するとともに、電動モータ４９が起動
して研磨ドラムにおよびリフト４が定速で回転駆
動される。またこれと同時に湿潤機構２８の電磁
弁３３が開となり、溶剤タンク３１内の溶剤がノ
ズル３２から上流端の研磨室１２ａ内に供給さ
れ、この研磨室１２ａ内の研磨体１４に湿りを与
える。

一方、研磨ドラム１２が回転すると、下流端の
回転支軸１１に取付けた調整レバー５０も同速で
回転し、永久磁石５２への接近、離反を繰返す。
そして調整レバー４７の永久磁石５２への接近に
より磁束が変化し、これにより研磨ドラム１２の
回転数が検出される。この信号は、第７図に示す
ように受信器６１を介してカウンタ６２に与えら
れ、比較器６３においてカウンタ６２からの信号
と開時間設定器３５で予め設定した設定値とが比
較され、両者が一致した時点で制御器６４から信
号が出力される。この信号により第８図に示す接
点Sbが開成され、電磁弁３３はその通電が遮断
されて閉制御される。これにより、上流端の研磨
室１２ａ内には、電磁弁３３が開いている間のみ
溶剤が供給される。このため、上流端の研磨室１
２ａ内の研磨体１６に適度の湿りを与えることが
可能となる。

上流端の研磨室１２ａ内の研磨体１６により適
度の湿りを与えられた球１７は、研磨ドラム１２
の回転により順次下流側の研磨室１２ａに送給さ
れるが、上流端以外の研磨室１２ａ内の研磨体１
６は乾燥しているので、この乾燥研磨体１６との
払拭または絡み作用により球表面の油分が除去さ
れるとともに湿り気も除去され、下流端の研磨室
１２ａからは清潔でほぼ乾燥した球１７が排出さ
れ、さらに必要に応じて駆動される送風機４２に
より、リフト４に送られる際には完全に乾燥した
状態となつている。そしてこの球１７は、リフト
４および上樋５を介し各パチンコ機１に供給さ
れ、この動作がパチンコホールの開店中続行され
る。

しかして、湿潤機構２８により上流端の研磨室
１２ａ内に投入した研磨体１６に自動的に湿りが
与えられるので、人力で行なつていた従来のもの
に比較して大幅な省力化が可能となる。また電磁
弁３３の開時間は、開時間設定器３５により任意
に調節できるので、最も効率のよい洗浄が可能と
なり、また島内の湿度等に対応させて調節するこ
とが可能となる。

一方、研磨ドラム１２の各研磨１２ａ内に投入
した研磨体１６を交換したり、あるいは研磨ドラ
ム１２の保守点検を行なう場合には、まずカバー
５６をガイドレール５７にそつて回動させ、研磨
ドラム１２の前面上半部を開放する。すると、安
全スイツチ６０が開成するので、仮え研磨ドラム
１２の回転中であつてもカバー５６の開放により
研磨ドラム１２は回転を停止し、作業員の安全が
確保される。またカバー５６は、研磨ドラム１２
周りに回動して開閉動作がなされるので、カバー
５６の開閉に伴なう専用スペースを要せず、した
がつて、充分なスペースを確保することが困難な
島内においても極めて容易に開閉することができ
る。

カバー５６を開放したならば、研磨ドラム位置
自動調整スイツチ３６あるいは研磨ドラム位置手
動調整スイツチ３７により研磨ドラム１２の軸廻
りの位置を調節して作業を行なう。

すなわち、手動調整スイツチ３７は閉成の間の
み研磨ドラム１２が回転するので、これにより調
節する。一方自動調整スイツチ３６の場合には、
第８図に示すようにその閉成によりリレーR₁が
励磁し接点S_R1a-1，S_R1a-2が閉成して研磨ドラム
１２が回転する。そして調整レバー５０が永久磁
石５２に接近すると、研磨ドラム回転数チエツク
センサ５３から第７図に示す受信器６１に信号が
出力され、さらに制御器６５から信号が出力され
て第８図に示す接点Saが閉成する。これにより、
リレーR₂が励磁され接点S_R2b-1，S_R2b-2が開成し
て研磨ドラム１２は自動停止する。カバー５６を
閉じ研磨ドラム１２を再起動すれば調整レバー５
０が永久磁石５２から離れるので制御器６５から
信号が出力されなくなり、これにより接点Saが
開成する。

しかして、カバー５６を開放した状態でもいず
れかの調整スイツチ３６，３７で研磨ドラム１２
を回転させることができるので、作業が極めて容
易である。

なお前記実施例では、調整レバー５０と永久磁
石５２とで構成されるチエツクセンサ５３により
研磨ドラム１２の回転数を検出し、この検出信号
により電磁弁３３を閉制御するものについて説明
したが、スリツト板と光電素子を用いたもの、あ
るいは渦電流を利用するもの等他の回転数検出器
を用いるようにしてもよく、またタイマにより電
磁弁３３を閉制御するようにしてもよい。

以上説明したように、本考案は回転研磨ドラム
の近傍位置に設けた湿潤機構の溶剤吐出ノズルを
回転ドラムの前部回転軸の中空内部を通して上流
端研磨室に臨ませることにより、混合状態にある
研磨室内の研磨材とパチンコ球の混合体に溶剤を
直接付与できるとともに、ノズルからの溶剤吐出
時間を任意に制御できるようにしたので、溶剤の
渦不足がなく、また室内の湿度等に合わせて最適
状態に調節することができる。

また最適量の溶剤が研磨室に供給されるので、
溶剤が無駄にならず、また不必要な溶剤により研
磨ドラム等の耐用年数が短かくなることもない。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案に係る球磨装置を備えたパチン
コホールの球循環補給装置を示す全体構成図、第
２図は本考案の一実施例を示す球磨装置の部分断
面図、第３図は第２図の主要部を左端側から見た
部分破断斜視図、第４図は第２図の主要部を右端
側から見た部分破断斜視図、第５図は第２図の横
断面図、第６図は湿潤機構の詳細図、第７図は制
御盤に組込まれた制御部の構成を示すブロツク
図、第８図は制御盤の構成を示す回路図である。 １……パチンコ機、２……下樋、３……球磨装
置、４……リフト、５……上樋、１０，１１……
回転支軸、１２……研磨ドラム、１２ａ……研磨
室、１６……研磨体、１７……球、２８……湿潤
機構、３１……溶剤タンク、３２……ノズル、３
３……電磁弁、３４……制御盤、３５……開時間
設定器、５０……調整レバー、５２……永久磁
石、５３……研磨ドラム回転数チエツクセンサ。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 回転研磨ドラムの前後回転軸を固定板に軸支
   した回転ドラム型パチンコ球磨装置において、
   回転研磨ドラム１２の近傍に、溶剤タンク３１
   とタンク３１に通ずる吐出ノズル３２とノズル
   入側の電磁弁３３とを備えた湿潤機構２８を設
   置し、該吐出ノズル３２をドラム１２の前部回
   転支軸１０の軸心に穿設した孔に挿通して上流
   端の研磨室１２ａに臨ませ、かつ前記電磁弁３
   ３の開時間を開時間設定器により任意に調整可
   能としたことを特徴とするパチンコ球磨装置。 (2) 開時間設定器を、研磨ドラムの回転数から開
   時間を設定する構成としたことを特徴とする実
   用新案登録請求の範囲第１項記載のパチンコ球
   磨装置。