JPH03144501A - プラスチックレンズ用反射防止膜 - Google Patents
プラスチックレンズ用反射防止膜Info
- Publication number
- JPH03144501A JPH03144501A JP1283537A JP28353789A JPH03144501A JP H03144501 A JPH03144501 A JP H03144501A JP 1283537 A JP1283537 A JP 1283537A JP 28353789 A JP28353789 A JP 28353789A JP H03144501 A JPH03144501 A JP H03144501A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- refractive index
- layer
- optical
- oxide film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 title claims description 24
- 239000004033 plastic Substances 0.000 title claims description 24
- 239000010408 film Substances 0.000 claims abstract description 117
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 34
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 9
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims abstract description 8
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 239000012788 optical film Substances 0.000 claims abstract description 7
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims abstract description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 20
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 14
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 9
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 abstract 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 19
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 8
- 239000002585 base Substances 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 7
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 6
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 5
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 4
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 4
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 4
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 4
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 3
- 229920001558 organosilicon polymer Polymers 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 2
- -1 Lewis acid salts Chemical class 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- LJCFOYOSGPHIOO-UHFFFAOYSA-N antimony pentoxide Chemical compound O=[Sb](=O)O[Sb](=O)=O LJCFOYOSGPHIOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(ethyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC)(OCC)OCC DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTTZISZSHSCFRH-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(isocyanatomethyl)benzene Chemical compound O=C=NCC1=CC=CC(CN=C=O)=C1 RTTZISZSHSCFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZYAASQNKCWTPKI-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propan-1-amine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCN ZYAASQNKCWTPKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PLXLQGPXPXIVKM-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(tripropoxy)silane Chemical compound CCCO[Si](CCCCl)(OCCC)OCCC PLXLQGPXPXIVKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCS DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GBQYMXVQHATSCC-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropanenitrile Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCC#N GBQYMXVQHATSCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTCOSAMIXUWQOA-UHFFFAOYSA-N COC(OC)(OC)CO[SiH2]C Chemical compound COC(OC)(OC)CO[SiH2]C OTCOSAMIXUWQOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000298 Cellophane Polymers 0.000 description 1
- JYFHYPJRHGVZDY-UHFFFAOYSA-N Dibutyl phosphate Chemical compound CCCCOP(O)(=O)OCCCC JYFHYPJRHGVZDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-N Nitrous acid Chemical compound ON=O IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010040925 Skin striae Diseases 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOBBTVPTPXRUBP-UHFFFAOYSA-N [3-(3-sulfanylpropanoyloxy)-2,2-bis(3-sulfanylpropanoyloxymethyl)propyl] 3-sulfanylpropanoate Chemical compound SCCC(=O)OCC(COC(=O)CCS)(COC(=O)CCS)COC(=O)CCS JOBBTVPTPXRUBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RQVFGTYFBUVGOP-UHFFFAOYSA-N [acetyloxy(dimethyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](C)(C)OC(C)=O RQVFGTYFBUVGOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(ethenyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)C=C NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVJPBVNWVPUZBM-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(methyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](C)(OC(C)=O)OC(C)=O TVJPBVNWVPUZBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLFKGWCMFMCFRM-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(phenyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)C1=CC=CC=C1 VLFKGWCMFMCFRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(dodecanoyloxy)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 229920006243 acrylic copolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000004183 alkoxy alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- SXDBWCPKPHAZSM-UHFFFAOYSA-N bromic acid Chemical compound OBr(=O)=O SXDBWCPKPHAZSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical compound OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- AYOHIQLKSOJJQH-UHFFFAOYSA-N dibutyltin Chemical compound CCCC[Sn]CCCC AYOHIQLKSOJJQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GENZKBJGWAAVIE-UHFFFAOYSA-N diethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]-phenylsilane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 GENZKBJGWAAVIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOCC1CO1 WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CVQVSVBUMVSJES-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-phenylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)C1=CC=CC=C1 CVQVSVBUMVSJES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- GYLXWHLPLTVIOP-UHFFFAOYSA-N ethenyl(2,2,2-trimethoxyethoxy)silane Chemical compound COC(OC)(OC)CO[SiH2]C=C GYLXWHLPLTVIOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLNAFSPCNATQPQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)C=C ZLNAFSPCNATQPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TUKWPCXMNZAXLO-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-nonylsulfanyl-4-oxo-1h-pyrimidine-6-carboxylate Chemical compound CCCCCCCCCSC1=NC(=O)C=C(C(=O)OCC)N1 TUKWPCXMNZAXLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N ethyl(trimethoxy)silane Chemical compound CC[Si](OC)(OC)OC SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FAHBNUUHRFUEAI-UHFFFAOYSA-M hydroxidooxidoaluminium Chemical compound O[Al]=O FAHBNUUHRFUEAI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N hypochlorous acid Chemical compound ClO QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- RJMRIDVWCWSWFR-UHFFFAOYSA-N methyl(tripropoxy)silane Chemical compound CCCO[Si](C)(OCCC)OCCC RJMRIDVWCWSWFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoyttriooxy)yttrium Chemical compound O=[Y]O[Y]=O SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000000546 pharmaceutical excipient Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000223 polyglycerol Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229940082569 selenite Drugs 0.000 description 1
- MCAHWIHFGHIESP-UHFFFAOYSA-L selenite(2-) Chemical compound [O-][Se]([O-])=O MCAHWIHFGHIESP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- DHCDFWKWKRSZHF-UHFFFAOYSA-N sulfurothioic S-acid Chemical compound OS(O)(=O)=S DHCDFWKWKRSZHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013077 target material Substances 0.000 description 1
- 230000029305 taxis Effects 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZUEKXCXHTXJYAR-UHFFFAOYSA-N tetrapropan-2-yl silicate Chemical compound CC(C)O[Si](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C ZUEKXCXHTXJYAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- GYZQBXUDWTVJDF-UHFFFAOYSA-N tributoxy(methyl)silane Chemical compound CCCCO[Si](C)(OCCCC)OCCCC GYZQBXUDWTVJDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OC HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 1
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 1
Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、光学素子の表面反射を防止する反射防止膜に
係り、特に、プラスチックレンズに有用な低屈折率膜と
高屈折率膜とを交互に積層してなる多層反射防止膜に関
する。
係り、特に、プラスチックレンズに有用な低屈折率膜と
高屈折率膜とを交互に積層してなる多層反射防止膜に関
する。
光学レンズ、フィルター、偏光子、半透鏡等の光学素子
は、従来より主として無機ガラスを材料としてきたが、
近年では、軽量である点、耐衝撃性に優れる点等から、
プラスチックが多用されるようになってきている。
は、従来より主として無機ガラスを材料としてきたが、
近年では、軽量である点、耐衝撃性に優れる点等から、
プラスチックが多用されるようになってきている。
このような光学素子において、表面反射は光学系の透過
率を低下させるとともに、結像に寄与しない光の増加を
もたらして、像のコントラストを低下させる原因となる
。このため、無機ガラスからなる光学素子およびプラス
チックからなる光学素子ともに、多くの光学素子ではそ
の表面に反射防止膜を設けて、表面反射を減少させてい
る。
率を低下させるとともに、結像に寄与しない光の増加を
もたらして、像のコントラストを低下させる原因となる
。このため、無機ガラスからなる光学素子およびプラス
チックからなる光学素子ともに、多くの光学素子ではそ
の表面に反射防止膜を設けて、表面反射を減少させてい
る。
反射防止膜は、一般には金属または金属酸化物を原料と
する蒸着膜として形成され、蒸着膜が一層の単層反射防
止膜と、低屈折率膜と高屈折率膜とを交互に積層した多
層反射防止膜とに大別される。そして、単層反射防止膜
と多層反射防止膜のいずれについても、所望の屈折率を
有すること、光学的に均質であること、透明性に優れて
いること等の光学的特性は勿論、耐擦傷性に優れている
こと、密着性に優れていること等の機械的特性や、耐酸
性に優れていること、耐熱性に優れていること等の化学
的特性が要求される。
する蒸着膜として形成され、蒸着膜が一層の単層反射防
止膜と、低屈折率膜と高屈折率膜とを交互に積層した多
層反射防止膜とに大別される。そして、単層反射防止膜
と多層反射防止膜のいずれについても、所望の屈折率を
有すること、光学的に均質であること、透明性に優れて
いること等の光学的特性は勿論、耐擦傷性に優れている
こと、密着性に優れていること等の機械的特性や、耐酸
性に優れていること、耐熱性に優れていること等の化学
的特性が要求される。
無機ガラスからなる光学素子に設ける多層反射防止膜の
高屈折率膜としては、上記特性を満足するものとして従
来より酸化ジルコニウム(ZrOz)を原料とする蒸着
膜が広く用いられており、プラスチックからなる光学素
子に設ける多層反射防止膜の高屈折率膜についても、透
明性に優れる点、高屈折率である点等から、例えば特開
昭56116003号公報に開示されているように、Z
rO□を原料とする蒸着膜が用いられている。
高屈折率膜としては、上記特性を満足するものとして従
来より酸化ジルコニウム(ZrOz)を原料とする蒸着
膜が広く用いられており、プラスチックからなる光学素
子に設ける多層反射防止膜の高屈折率膜についても、透
明性に優れる点、高屈折率である点等から、例えば特開
昭56116003号公報に開示されているように、Z
rO□を原料とする蒸着膜が用いられている。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかしながら、Z r Ozを原料とする蒸着膜は、プ
ラスチックレンズのように成膜時の基板温度を十分に高
くすることができない基板に蒸着させた場合、経時変化
に伴う耐熱性の低下が実用上十分に小さいとは言い難い
という問題があった。
ラスチックレンズのように成膜時の基板温度を十分に高
くすることができない基板に蒸着させた場合、経時変化
に伴う耐熱性の低下が実用上十分に小さいとは言い難い
という問題があった。
一方、近年、プラスチックレンズの光学性能の改良及び
レンズ厚を薄くするための、レンズ設計からの改良とし
て、レンズの屈折面のカーブを浅くした、非球面レンズ
の設計が用いられるようになっている。しかしながらレ
ンズ設計上、屈折面のカーブを浅くすることは、例えば
、眼鏡レンズの場合、裏面反射の問題、即ち凹面側(眼
側)からの入射光の反射を受は易いという課題がある。
レンズ厚を薄くするための、レンズ設計からの改良とし
て、レンズの屈折面のカーブを浅くした、非球面レンズ
の設計が用いられるようになっている。しかしながらレ
ンズ設計上、屈折面のカーブを浅くすることは、例えば
、眼鏡レンズの場合、裏面反射の問題、即ち凹面側(眼
側)からの入射光の反射を受は易いという課題がある。
そこで、低反射の反射防止膜が求められていたが、前述
のZr0zからなる蒸着膜の屈折率は、1.90前後で
あり、屈折率に限界があるため、高屈折率を要求される
多層反射防止膜の高屈折率層の膜設計にも影響を及ぼし
、例えば、反射率を1%以下に押えるような、高性能の
反射防止膜をうることかできなかった。
のZr0zからなる蒸着膜の屈折率は、1.90前後で
あり、屈折率に限界があるため、高屈折率を要求される
多層反射防止膜の高屈折率層の膜設計にも影響を及ぼし
、例えば、反射率を1%以下に押えるような、高性能の
反射防止膜をうることかできなかった。
したがって本発明の第1の目的とするところは、上記課
題を解決して、低温で蒸着させた場合でも、光学的特性
、機械的特性および化学的特性に優れ、かつこれら特性
の耐久性が向上された多層反射防止膜を提供することに
あり、さらに、第2の目的は、低反射の多層反射防止膜
を提供することにある。
題を解決して、低温で蒸着させた場合でも、光学的特性
、機械的特性および化学的特性に優れ、かつこれら特性
の耐久性が向上された多層反射防止膜を提供することに
あり、さらに、第2の目的は、低反射の多層反射防止膜
を提供することにある。
(課題を解決するための手段〕
本発明は、上記目的を解決するためになされたもので、
低屈折率膜と高屈折率膜とを交互に積層してなるプラス
チックレンズ用多層反射防止膜において、基板側から数
えて、第1層が、光学的膜厚が0.09λ〜0.14λ
でかつ、タンタル、ジルコニウムおよびイツトリウムを
含む金属酸化物膜と、光学的膜厚が0.04λ〜0.0
7λでかつ、硅素酸化物膜とからなる低屈折率のコンポ
ジット膜と、第2層が、光学的膜厚が0.47λ〜0.
7λでかつ、タンタル、ジルコニウムおよびイツトリウ
ムを含む金属酸化物膜からなる高屈折率膜と、第3層が
、光学的膜厚0.24λ〜0.26λでかつ硅素酸化物
膜からなる低屈折率膜とから構成されることを特徴とす
るプラスチックレンズ用多層反射防止膜を提供すること
にある。
低屈折率膜と高屈折率膜とを交互に積層してなるプラス
チックレンズ用多層反射防止膜において、基板側から数
えて、第1層が、光学的膜厚が0.09λ〜0.14λ
でかつ、タンタル、ジルコニウムおよびイツトリウムを
含む金属酸化物膜と、光学的膜厚が0.04λ〜0.0
7λでかつ、硅素酸化物膜とからなる低屈折率のコンポ
ジット膜と、第2層が、光学的膜厚が0.47λ〜0.
7λでかつ、タンタル、ジルコニウムおよびイツトリウ
ムを含む金属酸化物膜からなる高屈折率膜と、第3層が
、光学的膜厚0.24λ〜0.26λでかつ硅素酸化物
膜からなる低屈折率膜とから構成されることを特徴とす
るプラスチックレンズ用多層反射防止膜を提供すること
にある。
本発明の多層反射防止膜は、nd=1.54以上の高屈
折率プラスチックレンズに好ましく用いられ、特に、n
dが1.57〜1.61の高屈折率レンズに好ましく用
いられる。
折率プラスチックレンズに好ましく用いられ、特に、n
dが1.57〜1.61の高屈折率レンズに好ましく用
いられる。
また、レンズ基材については、特に限定されない。
プラスチック製光学素子に本発明の多層反射防止膜を設
ける場合には、光学素子表面に有機硅素重合体を含むハ
ードコート層をディッピング法、スピンコード法等の塗
布法により成膜し、このハードコート膜上に本発明の多
層反射防止膜を設けることが好ましい。
ける場合には、光学素子表面に有機硅素重合体を含むハ
ードコート層をディッピング法、スピンコード法等の塗
布法により成膜し、このハードコート膜上に本発明の多
層反射防止膜を設けることが好ましい。
レンズ基板上に形成される、有機ケイ素重合体を含むハ
ードコート膜は、下記の一般式を有する化合物群および
/またはこれらの加水分解物からなる群より選ばれた化
合物からなる層を、デイツプ法、塗布法等によりポリウ
レタンレンズ基板上に形成したのち硬化させることによ
り得ることできる。
ードコート膜は、下記の一般式を有する化合物群および
/またはこれらの加水分解物からなる群より選ばれた化
合物からなる層を、デイツプ法、塗布法等によりポリウ
レタンレンズ基板上に形成したのち硬化させることによ
り得ることできる。
一般式
(Rt )a (Rz )b S i (OR3)4
−(i+1+1(ここで、R1、Rtは、炭素数1〜1
0のアルキル基、アリール基、ハロゲン化アルキル、ハ
ロゲン化アリール、アルケニル、またはエポキシ基、(
メタ)アクリルオキシ基、メルカプト基、もしくはシア
ノ基を有する有機基で5t−C結合によりケイ素と結合
されるものであり、R8は、炭素数1〜6のアルキル基
、アルコキシアルキル基またはアシル基であり、aおよ
びbは0、■または2であり、a+bが1または2であ
る。)これらの化合物の例としては、メチルトリメトキ
シシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリメト
キシエトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、メ
チルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン
、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラ
ン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシ
ラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキ
シエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェ
ニルトリエトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラ
ン、T−クロロプロピルトリメトキシシラン、T−クロ
ロプロピルトリエトキシシラン、γクロロプロピルトリ
プロポキシシラン、3,3゜3−トリフロロプロピルト
リメトキシシラン、γ−グリシドキシプロビルトリメト
キシシラン、γグリシドキシプロビルトリエトキシシラ
ン、T−(β〜グリシドキシエトキシ)プロピルトリメ
トキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル
)エチルトリメトキシシラン、β−(3゜4−エポキシ
シクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、γ−メタ
クリルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−ア逅ノ
プロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリ
エトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシ
シラン、γメルカプトプロピルトリエトキシシラン、N
−β(ア果ノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキ
シシラン、β−シアノエチルトリエトキシシラン等のト
リアルコキシまたはトリアジルオキシシラン類、および
ジメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジメトキシ
シラン、ジメチルジェトキシシラン、フェニルメチルジ
ェトキシシラン、γ−グリシドキシプロビルメチルジメ
トキシシラン、T−グリシドキシプロビルメチルジェト
キシシラン、T−グリシドキシプロビルフエニルジメト
キシシラン、γ−グリシドキシプロビルフエニルジエト
キシシラン、T−クロロプロピルメチルジメトキシシラ
ン、γ−クロロプロピルメチルジェトキシシラン、ジメ
チルジアセトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピ
ルメチルジメトキシシラン、T−メタクリルオキシプロ
ピルメチルジェトキシシラン、T−メルカプトプロピル
メチルジメトキシシラン、T−メルカプトプロピルメチ
ルジェトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメト
キシシラン、γ−アミノプロピルメチルジェトキシシラ
ン、メチルビニルジメトキシシラン、メチルビニルジェ
トキシシラン等のジアルコキシシランまたはジアシルオ
キシシラン類が挙げられる。
−(i+1+1(ここで、R1、Rtは、炭素数1〜1
0のアルキル基、アリール基、ハロゲン化アルキル、ハ
ロゲン化アリール、アルケニル、またはエポキシ基、(
メタ)アクリルオキシ基、メルカプト基、もしくはシア
ノ基を有する有機基で5t−C結合によりケイ素と結合
されるものであり、R8は、炭素数1〜6のアルキル基
、アルコキシアルキル基またはアシル基であり、aおよ
びbは0、■または2であり、a+bが1または2であ
る。)これらの化合物の例としては、メチルトリメトキ
シシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリメト
キシエトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、メ
チルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン
、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラ
ン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシ
ラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキ
シエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェ
ニルトリエトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラ
ン、T−クロロプロピルトリメトキシシラン、T−クロ
ロプロピルトリエトキシシラン、γクロロプロピルトリ
プロポキシシラン、3,3゜3−トリフロロプロピルト
リメトキシシラン、γ−グリシドキシプロビルトリメト
キシシラン、γグリシドキシプロビルトリエトキシシラ
ン、T−(β〜グリシドキシエトキシ)プロピルトリメ
トキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル
)エチルトリメトキシシラン、β−(3゜4−エポキシ
シクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、γ−メタ
クリルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−ア逅ノ
プロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリ
エトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシ
シラン、γメルカプトプロピルトリエトキシシラン、N
−β(ア果ノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキ
シシラン、β−シアノエチルトリエトキシシラン等のト
リアルコキシまたはトリアジルオキシシラン類、および
ジメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジメトキシ
シラン、ジメチルジェトキシシラン、フェニルメチルジ
ェトキシシラン、γ−グリシドキシプロビルメチルジメ
トキシシラン、T−グリシドキシプロビルメチルジェト
キシシラン、T−グリシドキシプロビルフエニルジメト
キシシラン、γ−グリシドキシプロビルフエニルジエト
キシシラン、T−クロロプロピルメチルジメトキシシラ
ン、γ−クロロプロピルメチルジェトキシシラン、ジメ
チルジアセトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピ
ルメチルジメトキシシラン、T−メタクリルオキシプロ
ピルメチルジェトキシシラン、T−メルカプトプロピル
メチルジメトキシシラン、T−メルカプトプロピルメチ
ルジェトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメト
キシシラン、γ−アミノプロピルメチルジェトキシシラ
ン、メチルビニルジメトキシシラン、メチルビニルジェ
トキシシラン等のジアルコキシシランまたはジアシルオ
キシシラン類が挙げられる。
これらの有機ケイ素化合物は、単独または2種以上組合
わせることも可能である。
わせることも可能である。
さらに、単独では用いられないが、上記の有機ケイ素化
合物と併用できるものとして、各種のテトラアルコキシ
シラン類もしくはその加水分解物がある。
合物と併用できるものとして、各種のテトラアルコキシ
シラン類もしくはその加水分解物がある。
このようなテトラアルコキシシラン類の例としては、メ
チルシリケート、エチルシリケート、nプロピルシリケ
ート、イソプロピルシリケート、n−ブチルシリケート
、5ec−ブチルシリケートおよびt−ブチルシリケー
ト等が挙げられる。
チルシリケート、エチルシリケート、nプロピルシリケ
ート、イソプロピルシリケート、n−ブチルシリケート
、5ec−ブチルシリケートおよびt−ブチルシリケー
ト等が挙げられる。
またこれらの有機ケイ素化合物は、触媒が存在しなくて
も硬化が可能であるが、さらに硬化を促進するために、
各種の触媒を用いることが可能である。
も硬化が可能であるが、さらに硬化を促進するために、
各種の触媒を用いることが可能である。
このような触媒としては、ルイス酸、ルイス酸塩を含む
各種酸もしくは塩基、あるいは有機カルボン酸、クロム
酸、次亜塩素酸、ホウ酸、臭素酸、亜セレン酸、チオ硫
酸、オルトケイ酸、チオシアン酸、亜硝酸、アルミン酸
、炭酸等の金属塩とくにアルカリ金属塩またはアンモニ
ウム塩、さらに0 はアルミニウム、ジルコニウムあるいはチタニウムのア
ルコキシドまたはこれらの錯化合物等を使用することが
できる。
各種酸もしくは塩基、あるいは有機カルボン酸、クロム
酸、次亜塩素酸、ホウ酸、臭素酸、亜セレン酸、チオ硫
酸、オルトケイ酸、チオシアン酸、亜硝酸、アルミン酸
、炭酸等の金属塩とくにアルカリ金属塩またはアンモニ
ウム塩、さらに0 はアルミニウム、ジルコニウムあるいはチタニウムのア
ルコキシドまたはこれらの錯化合物等を使用することが
できる。
さらに、前述した有機ケイ素重合体と他の有機物との併
用も可能であり、併用する他の有機物としては、エポキ
シ樹脂、アクリル系共重合体、あるいはポリビニルアル
コール等の水酸基含有重合体等が挙げられる。
用も可能であり、併用する他の有機物としては、エポキ
シ樹脂、アクリル系共重合体、あるいはポリビニルアル
コール等の水酸基含有重合体等が挙げられる。
また、その他の賦形成分として、オブテイカアクク(1
962年7月発行、251頁)に開示されているような
、Si、A1.、Ti、Sb等の無機酸化物のコロイド
ゾルを使用することができる。
962年7月発行、251頁)に開示されているような
、Si、A1.、Ti、Sb等の無機酸化物のコロイド
ゾルを使用することができる。
さらに、コーティング作業を容易にするために保存状態
を良好に保つ溶剤類、および各種添加剤を使用すること
も可能である。
を良好に保つ溶剤類、および各種添加剤を使用すること
も可能である。
また、光学素子と多層反射防止膜との密着性、耐擦傷性
等の向上を図るうえで、光学素子と多層反射防止膜との
間、あるいは光学素子表面に成膜したハードコート膜と
多層反射防止膜との間に下地層を介在させることは好ま
しく、このような下1 地層としては、例えば硅素酸化物等の蒸着膜を使用する
ことができ、その場合、光学的膜厚は0.4λ〜0.6
λが好ましく用いられる。
等の向上を図るうえで、光学素子と多層反射防止膜との
間、あるいは光学素子表面に成膜したハードコート膜と
多層反射防止膜との間に下地層を介在させることは好ま
しく、このような下1 地層としては、例えば硅素酸化物等の蒸着膜を使用する
ことができ、その場合、光学的膜厚は0.4λ〜0.6
λが好ましく用いられる。
なお、本発明の多層反射防止膜を成膜するにあたっては
、真空蒸着法の他、同様の焼結体をターゲット材料とす
るスパッタリング法や、イオンブレーティング法等の方
法を用いることもできる。
、真空蒸着法の他、同様の焼結体をターゲット材料とす
るスパッタリング法や、イオンブレーティング法等の方
法を用いることもできる。
本発明において、タンタル、ジルコニウムおよびイツト
リウムを含む金属酸化物の蒸着膜は、酸化ジルコニウム
(ZrO2)粉末、酸化タンタル(Ta20.)粉末お
よび酸化イツトリウム(YzOi)粉末を混合し、加圧
プレス、焼結によりベレット状にしたものを電子ビーム
加熱法にて蒸着させたものが好適である。各粉末を混合
してなる混合原料の組成化は、モル比において、ZrO
2が1.0に対し、Ta、○、が0.8〜1.8、Y2
O,が0.05〜0.3であることが好ましい。
リウムを含む金属酸化物の蒸着膜は、酸化ジルコニウム
(ZrO2)粉末、酸化タンタル(Ta20.)粉末お
よび酸化イツトリウム(YzOi)粉末を混合し、加圧
プレス、焼結によりベレット状にしたものを電子ビーム
加熱法にて蒸着させたものが好適である。各粉末を混合
してなる混合原料の組成化は、モル比において、ZrO
2が1.0に対し、Ta、○、が0.8〜1.8、Y2
O,が0.05〜0.3であることが好ましい。
このようにして得られる蒸着膜(以下、31i、分蒸着
膜と称す)は、T a 、0.膜と同様に、ZrO2膜
に比べ化学的に極めて安定であり、かつZr○22 膜に匹敵する透明性を有している。さらに屈折率におい
て、例えば2.00〜2.10の高い数値を示し、膜設
計上からも有効である。
膜と称す)は、T a 、0.膜と同様に、ZrO2膜
に比べ化学的に極めて安定であり、かつZr○22 膜に匹敵する透明性を有している。さらに屈折率におい
て、例えば2.00〜2.10の高い数値を示し、膜設
計上からも有効である。
なお、1モルのZrO2に対して、Ta2O,が0.8
モル未満の場合や1.8モルを超える場合には、得られ
る3成分蒸着膜に吸収が生じ易く、Y 203が0.3
モルを超えると、蒸着速度が早くなり、得られる3威分
蒸着膜に吸収が生じ易くなるとともに、蒸着原料の飛散
が生じ易くその制御が難しい。
モル未満の場合や1.8モルを超える場合には、得られ
る3成分蒸着膜に吸収が生じ易く、Y 203が0.3
モルを超えると、蒸着速度が早くなり、得られる3威分
蒸着膜に吸収が生じ易くなるとともに、蒸着原料の飛散
が生じ易くその制御が難しい。
以下、本発明の実施例について説明する。
(高屈折率ポリウレタンレンズの作製)m−キシリレン
ジイソシアネート100重量部と、ペンタエリスリトー
ルテトラキス−3−メルカプトプロピオネート142重
量部と、リン酸ジn−ブチル6重量部と、ジブチルスズ
ジラウレ−l−0,25重量部と、紫外線吸収剤として
2−(2′−ヒドロキシ−5′−t−オクチルフェニル
)ベンゾトリアゾール0.5重量部とを混合し、十分に
撹拌したのちlmmHgの真空下で60分3 脱気を行った。
ジイソシアネート100重量部と、ペンタエリスリトー
ルテトラキス−3−メルカプトプロピオネート142重
量部と、リン酸ジn−ブチル6重量部と、ジブチルスズ
ジラウレ−l−0,25重量部と、紫外線吸収剤として
2−(2′−ヒドロキシ−5′−t−オクチルフェニル
)ベンゾトリアゾール0.5重量部とを混合し、十分に
撹拌したのちlmmHgの真空下で60分3 脱気を行った。
次いで、ガラス製しンズ戒形用型と樹脂製ガスケットと
からなる鋳型中に前記混合液を注入し、25°Cから1
20 ’Cまで連続的に20時間かけて昇温し、次いで
120°Cで2時間保持して重合を行なった。重合後ガ
スケットを除去し、レンズ成形型とレンズを分離して高
屈折率ポリウレタンレンズを得た。
からなる鋳型中に前記混合液を注入し、25°Cから1
20 ’Cまで連続的に20時間かけて昇温し、次いで
120°Cで2時間保持して重合を行なった。重合後ガ
スケットを除去し、レンズ成形型とレンズを分離して高
屈折率ポリウレタンレンズを得た。
得られたレンズはn、〜1.592、va=36という
良好な光学物性を有していた。
良好な光学物性を有していた。
(コーテイング液の調整)
T−グリシドキシプロビルトリメトキシシラン212重
量部に、0.06規定塩酸水溶液54重量部を撹拌しな
がら滴下した。滴下終了後、24時間撹拌を行ない加水
分解物を得た。
量部に、0.06規定塩酸水溶液54重量部を撹拌しな
がら滴下した。滴下終了後、24時間撹拌を行ない加水
分解物を得た。
次いで、五酸化アンチモンゾル(メタノール分散状ゾル
、平均粒子径10nm、固定針30%)424重量部と
、エポキシ化合物としてブナコールEX−521(ナガ
セ化威株式会社製、ポリグリセロールポリグリシジルエ
ーテル)34重量部4 とを添加し、5時間撹拌した後、硬化触媒としてジブチ
ルスズラウレートを6.8重量部添加して、更に100
時間熟戒することによりコーテイング液を得た。
、平均粒子径10nm、固定針30%)424重量部と
、エポキシ化合物としてブナコールEX−521(ナガ
セ化威株式会社製、ポリグリセロールポリグリシジルエ
ーテル)34重量部4 とを添加し、5時間撹拌した後、硬化触媒としてジブチ
ルスズラウレートを6.8重量部添加して、更に100
時間熟戒することによりコーテイング液を得た。
(ハードコート膜の形成)
前述の方法で作製した高屈折率ポリウレタンレンズを5
0°Cの10%NaOH水溶液に5分間浸漬し、十分に
洗浄を行なった後、上記の方法で調整されたコーテイン
グ液を用いて、デイツプ法(引き上げ速度12cm/分
)でコーティングを行ない、120°Cで1時間加熱し
て硬化させたのち徐冷してハードコート付プラスチック
レンズを得た。
0°Cの10%NaOH水溶液に5分間浸漬し、十分に
洗浄を行なった後、上記の方法で調整されたコーテイン
グ液を用いて、デイツプ法(引き上げ速度12cm/分
)でコーティングを行ない、120°Cで1時間加熱し
て硬化させたのち徐冷してハードコート付プラスチック
レンズを得た。
(多層反射防止膜の形成)
次に、このハードコート付プラスチックレンズに設ける
下地層および低屈折率膜の蒸着原料として、Singの
焼結体を、また高屈折率膜の蒸着原料としてZr0z粉
末、Taxes粉末およびY2O,粉末をモル比でi:
1.a二〇、2の割合で混合し、ブレス成形したのち1
200°Cで焼結し5 てペレット状にしたものを用い、前述のプラスチックレ
ンズを蒸着槽に入れ、排気しなから85°Cに加熱し、
2 X 10−5Torrまで排気した後、電子ビーム
加熱法にて上記蒸着原料をプラスチックレンズ表面に蒸
着させて、表−1に示すように、硅素酸化物膜からなる
下地層、3威分蒸着膜と硅素酸化物膜とのコンポジット
等価膜からなる第1層の低屈折率膜、3t2分蒸着膜か
らなる第2層の高屈折率膜および硅素酸化物からなる第
3層の低屈折率膜を順次成膜してなる膜構成の多層反射
防止膜を成膜した。なお、下地層は、主目的とじて6 表 7 また、このようにして成膜した多層反射防止膜およびこ
の多層反射防止膜を有するプラスチックレンズの、機械
的特性、化学的特性およびこれら特性の耐久性を評価す
るにあたり、レンズの外観、耐擦傷性、密着性、耐熱性
、耐アルカリ性、耐酸性および耐候性を下記の要領で評
価、測定した。
下地層および低屈折率膜の蒸着原料として、Singの
焼結体を、また高屈折率膜の蒸着原料としてZr0z粉
末、Taxes粉末およびY2O,粉末をモル比でi:
1.a二〇、2の割合で混合し、ブレス成形したのち1
200°Cで焼結し5 てペレット状にしたものを用い、前述のプラスチックレ
ンズを蒸着槽に入れ、排気しなから85°Cに加熱し、
2 X 10−5Torrまで排気した後、電子ビーム
加熱法にて上記蒸着原料をプラスチックレンズ表面に蒸
着させて、表−1に示すように、硅素酸化物膜からなる
下地層、3威分蒸着膜と硅素酸化物膜とのコンポジット
等価膜からなる第1層の低屈折率膜、3t2分蒸着膜か
らなる第2層の高屈折率膜および硅素酸化物からなる第
3層の低屈折率膜を順次成膜してなる膜構成の多層反射
防止膜を成膜した。なお、下地層は、主目的とじて6 表 7 また、このようにして成膜した多層反射防止膜およびこ
の多層反射防止膜を有するプラスチックレンズの、機械
的特性、化学的特性およびこれら特性の耐久性を評価す
るにあたり、レンズの外観、耐擦傷性、密着性、耐熱性
、耐アルカリ性、耐酸性および耐候性を下記の要領で評
価、測定した。
・外観
螢光灯を光源とする照明装置を用い、目視にて下記1)
〜4)を満足するか否か観察した。
〜4)を満足するか否か観察した。
1)透明であること。
2)表面に不規則性がないこと。
3)脈理がないこと。
4)表面に異物、傷がないこと。
・視感反射率
日立製作新製340型自記分光光度計を用い、380〜
780nm波長域の反射率を測定し、この反射率と視感
度曲線とから視感率を換算した。
780nm波長域の反射率を測定し、この反射率と視感
度曲線とから視感率を換算した。
・耐擦傷性
8
スチールウール#0000で多層反射防止膜表面を擦っ
て、傷のつきにくさを目視で判断した。判断基準は以下
のようにした。
て、傷のつきにくさを目視で判断した。判断基準は以下
のようにした。
A・・・強く擦ってもほとんど傷がつかない。
B・・・強く擦るとかなり傷がつく。
C・・・レンズ基板と同等の傷がつく。
・耐衝撃性
反射防止性高屈折率プラスチックレンズの中心に127
cmの高さから16gの鋼球を落下させ、レンズの破損
の有無を調べた。
cmの高さから16gの鋼球を落下させ、レンズの破損
の有無を調べた。
・密着性
多層反射防止膜を設けたレンズ表面を1mm間隔で10
0目クロスカツトし、セロファンテープを強く貼り付け
た後、急速に剥がして、多層反射防止膜、下地層および
硬化膜の剥離の有無を調べた。
0目クロスカツトし、セロファンテープを強く貼り付け
た後、急速に剥がして、多層反射防止膜、下地層および
硬化膜の剥離の有無を調べた。
・耐熱性
多層反射防止膜を設けたレンズをオーブンに1時間穴れ
て加熱し、クラックの発生9 の有無を調べた。加熱温度は、70°Cより始め、5°
Cづつ上げて、クラックが発生する温度により優劣を判
定した。
て加熱し、クラックの発生9 の有無を調べた。加熱温度は、70°Cより始め、5°
Cづつ上げて、クラックが発生する温度により優劣を判
定した。
・耐アルカリ性
10wt%NaOH水溶液に、多層反射防止膜を設けた
レンズを24時間浸漬し、多層反射防止膜表面の侵食状
態を観察した。
レンズを24時間浸漬し、多層反射防止膜表面の侵食状
態を観察した。
・耐酸性
10wt%HCI水溶液および10wt%Hz S O
a水溶液に、多層反射防止膜を設けたレンズを3時間浸
漬し、多層反射防止膜表面の侵食状態を観察した。
a水溶液に、多層反射防止膜を設けたレンズを3時間浸
漬し、多層反射防止膜表面の侵食状態を観察した。
・耐候性
耐久性を調べるために多層反射防止膜を設けたレンズを
l箇月屋外暴露し、この後、外観、耐擦傷性、密着性、
耐熱性、耐アルカリ性および耐酸性を上記の要領で評価
、測定した。
l箇月屋外暴露し、この後、外観、耐擦傷性、密着性、
耐熱性、耐アルカリ性および耐酸性を上記の要領で評価
、測定した。
この結果、本実施例の多層反射防止膜およびこの多層反
射防止膜を有するプラスチックレンズに0 おいては、いずれの項目についても良好な評価、測定結
果が得られ、機械的特性、化学的特性に優れるとともに
、これら特性が耐久性に優れていることがfi認された
。
射防止膜を有するプラスチックレンズに0 おいては、いずれの項目についても良好な評価、測定結
果が得られ、機械的特性、化学的特性に優れるとともに
、これら特性が耐久性に優れていることがfi認された
。
なおこれらの評価、測定結果のうち、外観、視感反射率
、耐擦傷性、耐衝撃性、密着性、耐熱性、耐アルカリ性
および耐酸性の8項目の評価、測定結果を表−2に、耐
候性すなわち屋外暴露1箇月後の上記8項目の評価結果
を表−3に示す。
、耐擦傷性、耐衝撃性、密着性、耐熱性、耐アルカリ性
および耐酸性の8項目の評価、測定結果を表−2に、耐
候性すなわち屋外暴露1箇月後の上記8項目の評価結果
を表−3に示す。
本実施例で得られた多層反射防止膜を有するプラスチッ
クレンズの、380〜780 nm波長域におけるレン
ズ両面での反射率を、日立製作新製340型自記分光光
度計を用いて測定したところ、第1図にその分光反射率
曲線を示すように、本実施例で得られた多層反射防止膜
を有するプラスチックレンズは、視感反射率1%以下の
優れた反射防止特性を有していることが確認された。
クレンズの、380〜780 nm波長域におけるレン
ズ両面での反射率を、日立製作新製340型自記分光光
度計を用いて測定したところ、第1図にその分光反射率
曲線を示すように、本実施例で得られた多層反射防止膜
を有するプラスチックレンズは、視感反射率1%以下の
優れた反射防止特性を有していることが確認された。
以上説明したように、本発明の多層反射防止膜は、比較
的低温で蒸着させた場合でも、光学的特性、機械的特性
および化学的特性に優れているとともに、これら特性が
耐久性に優れている。
的低温で蒸着させた場合でも、光学的特性、機械的特性
および化学的特性に優れているとともに、これら特性が
耐久性に優れている。
したがって本発明を実施することにより、プラスチック
製光学素子のように、反射防止膜の成膜時における基板
温度を高くすることができない光学素子についても、光
学的特性、機械的特性および化学的特性に優れ、かつこ
れら特性が耐久性に優れている多層反射防止膜を設けて
、光学素子の光学的特性を長期に亘って高いレベルに維
持させることが可能となる。
製光学素子のように、反射防止膜の成膜時における基板
温度を高くすることができない光学素子についても、光
学的特性、機械的特性および化学的特性に優れ、かつこ
れら特性が耐久性に優れている多層反射防止膜を設けて
、光学素子の光学的特性を長期に亘って高いレベルに維
持させることが可能となる。
さらに、本発明の膜設針により、時に高屈折率のプラス
チックレンズに有用な、低反射防止膜をうることかでき
る。
チックレンズに有用な、低反射防止膜をうることかでき
る。
第1図は実施例で得られた多層反射防止膜を有するプラ
スチックレンズの分光反射率曲線である。 3
スチックレンズの分光反射率曲線である。 3
Claims (1)
- (1)低屈折率膜と高屈折率膜とを交互に積層してなる
プラスチックレンズ用多層反射防止膜において、基板側
から数えて、第1層が、光学的膜厚が0.09λ〜0.
14λでかつ、タンタル、ジルコニウムおよびイットリ
ウムを含む金属酸化物膜と、光学的膜厚が0.04λ〜
0.07λでかつ、硅素酸化物膜とからなる低屈折率の
コンポジット膜と、第2層が、光学的膜厚が0.47λ
〜0.7λでかつ、タンタル、ジルコニウムおよびイッ
トリウムを含む金属酸化物膜からなる高屈折率膜と、第
3層が、光学的膜厚0.24λ〜0.26λでかつ硅素
酸化物膜からなる低屈折率膜とから構成されることを特
徴とするプラスチックレンズ用多層反射防止膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1283537A JP2862597B2 (ja) | 1989-10-31 | 1989-10-31 | プラスチックレンズ用反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1283537A JP2862597B2 (ja) | 1989-10-31 | 1989-10-31 | プラスチックレンズ用反射防止膜 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03144501A true JPH03144501A (ja) | 1991-06-19 |
| JP2862597B2 JP2862597B2 (ja) | 1999-03-03 |
Family
ID=17666818
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1283537A Expired - Lifetime JP2862597B2 (ja) | 1989-10-31 | 1989-10-31 | プラスチックレンズ用反射防止膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2862597B2 (ja) |
-
1989
- 1989-10-31 JP JP1283537A patent/JP2862597B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2862597B2 (ja) | 1999-03-03 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP1726974B1 (en) | Plastic lens and method of manufacturing a plastic lens | |
| US5181141A (en) | Anti-reflection optical element | |
| KR100496557B1 (ko) | 증착 조성물의 제조방법, 증착 조성물 및 반사방지막을갖는 광학부품의 제조방법 | |
| JP3938636B2 (ja) | 高屈折率プラスチックレンズ及びその製造方法 | |
| JP3779174B2 (ja) | 蒸着組成物、それを利用した反射防止膜の形成方法及び光学部材 | |
| JPWO1997041185A1 (ja) | コーティング用組成物 | |
| KR20160114616A (ko) | 코팅 조성물 및 광학부재 | |
| JPH07119843B2 (ja) | 反射防止性高屈折率プラスチックレンズ | |
| JPH07316250A (ja) | 眼鏡用プラスチックレンズ | |
| JP2594042B2 (ja) | 反射防止膜 | |
| JP2983237B2 (ja) | 高屈折率プラスチックレンズ | |
| JP2628589B2 (ja) | ポリウレタンレンズ用反射防止膜 | |
| JP3762108B2 (ja) | 防曇反射防止光学物品 | |
| JPH03144501A (ja) | プラスチックレンズ用反射防止膜 | |
| JP2561955B2 (ja) | プラスチックレンズ用多層反射防止膜 | |
| JPH08231807A (ja) | プライマー組成物及びプラスチックレンズ | |
| JP2002328201A (ja) | 反射防止膜を有する光学部材 | |
| JP4742603B2 (ja) | プラスチックレンズの製造方法 | |
| JPH0611601A (ja) | 反射防止性プラスチックレンズ | |
| JP2004300580A (ja) | 蒸着組成物の製造方法、蒸着組成物及び反射防止膜を有する光学部品の製造方法 | |
| JPH095679A (ja) | 眼鏡用プラスチックレンズ | |
| JP2577486B2 (ja) | プラスチックレンズ | |
| JPH04110918A (ja) | 光学部品 | |
| JPH081482B2 (ja) | プラスチツク製ミラ−コ−トレンズ | |
| JPH04166901A (ja) | 反射防止膜を有する光学部品 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081211 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081211 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091211 Year of fee payment: 11 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |