JPH03144907A - 薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 - Google Patents
薄膜磁気ヘッド及びその製造方法Info
- Publication number
- JPH03144907A JPH03144907A JP1283245A JP28324589A JPH03144907A JP H03144907 A JPH03144907 A JP H03144907A JP 1283245 A JP1283245 A JP 1283245A JP 28324589 A JP28324589 A JP 28324589A JP H03144907 A JPH03144907 A JP H03144907A
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- JP
- Japan
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- magnetic
- thin film
- layer
- head
- magnetic head
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は高密度記録再生用の薄膜磁気ヘッド及びその製
造方法に関するものである。
造方法に関するものである。
従来の技術
従来の高密度記録用の薄膜磁気ヘッドにおいては磁気コ
ア層としてはB s = 9 kGaussの大きさを
もったパーマロイ薄膜の使用が中心的であり、またヘッ
ドの製法としてはたとえばハードディスク用の薄rIs
、磁気ヘッドにおいては、コイルを形成する導体層を挟
んで高分子材料の絶縁層を用いるのが通常であるため、
この絶縁層の耐熱性の問題から高温で熱処理されなけれ
ば良好な軟質磁気特性が得られない磁性1111を磁気
コア層としては用いられないため、湿式の合金電着(電
気メツキ法)で摂氏数十度で良好な磁気特性の得られる
パーマロイ薄膜が磁気コア層として一般的であった。
ア層としてはB s = 9 kGaussの大きさを
もったパーマロイ薄膜の使用が中心的であり、またヘッ
ドの製法としてはたとえばハードディスク用の薄rIs
、磁気ヘッドにおいては、コイルを形成する導体層を挟
んで高分子材料の絶縁層を用いるのが通常であるため、
この絶縁層の耐熱性の問題から高温で熱処理されなけれ
ば良好な軟質磁気特性が得られない磁性1111を磁気
コア層としては用いられないため、湿式の合金電着(電
気メツキ法)で摂氏数十度で良好な磁気特性の得られる
パーマロイ薄膜が磁気コア層として一般的であった。
発明が解決しようとする課題
磁気コア層としてパーマロイ薄膜をもちたい場合、その
飽和磁束密度(Bs)はおよそ9 kGaussである
ため、これは高保磁力の磁気記録媒体の十分な記録特性
を得るためには磁気コア層の磁気ギャップ付近のヘッド
先端部の磁気飽和がおこるため不十分であり、さらに大
きな飽和磁束密度を有する軟1を磁性薄膜が磁気コア層
として必要であった。従って、磁気ヘッド先端部に磁気
飽和が起こりにくい高Bs値を持った軟磁性薄膜をもち
い、高温の熱処理をしなくとも良好な軟質磁気特性の得
られる磁気コアを使ったFill!ヘッド、及びその製
造法が望まれていた。
飽和磁束密度(Bs)はおよそ9 kGaussである
ため、これは高保磁力の磁気記録媒体の十分な記録特性
を得るためには磁気コア層の磁気ギャップ付近のヘッド
先端部の磁気飽和がおこるため不十分であり、さらに大
きな飽和磁束密度を有する軟1を磁性薄膜が磁気コア層
として必要であった。従って、磁気ヘッド先端部に磁気
飽和が起こりにくい高Bs値を持った軟磁性薄膜をもち
い、高温の熱処理をしなくとも良好な軟質磁気特性の得
られる磁気コアを使ったFill!ヘッド、及びその製
造法が望まれていた。
課題を解決するための手段
本発明によるlIi膜磁気ヘッドおよび製造方法は磁気
コアの磁気ギャップ付近における磁気飽和を改善するた
め少なくとも記録媒体と面した磁気ギャップ先端付近の
磁気コア層か、或はコア層全体を極めてBs値の高い(
B s >16kGauss ) F e−Co−Ni
S元系合金電着膜(特願昭63−243016号および
特願昭63−220935号)およびFe−C。
コアの磁気ギャップ付近における磁気飽和を改善するた
め少なくとも記録媒体と面した磁気ギャップ先端付近の
磁気コア層か、或はコア層全体を極めてBs値の高い(
B s >16kGauss ) F e−Co−Ni
S元系合金電着膜(特願昭63−243016号および
特願昭63−220935号)およびFe−C。
−Ni−Cr4元系合金電着111(特願平1−109
362号)の内の少なくとも1種類を用いて構成、およ
び作製する。ものである。
362号)の内の少なくとも1種類を用いて構成、およ
び作製する。ものである。
作用
上記の構成によれば従来のパーマロイ合金(Bs =
9 kGauss )を用いた磁気コア層を有する同寸
法、同膜厚の薄膜磁気ヘッドで比較すれば磁性材料の飽
和磁束密度の大きな差から、より磁気ギャップ先端付近
の磁気飽和が生じにくく、保磁力の大きな高密度磁気記
録用媒体にも適した十分な記録再生特性が得られるもの
である。
9 kGauss )を用いた磁気コア層を有する同寸
法、同膜厚の薄膜磁気ヘッドで比較すれば磁性材料の飽
和磁束密度の大きな差から、より磁気ギャップ先端付近
の磁気飽和が生じにくく、保磁力の大きな高密度磁気記
録用媒体にも適した十分な記録再生特性が得られるもの
である。
実施例
第1図は本発明にもとすいて作製された薄膜磁気ヘッド
の断面構成を示すものである。1は非磁性基板、2およ
び3は下部磁性層、4は磁気ギャップ層、5は絶縁層、
6はコイルを形成する導体層、7および8は上部磁性層
、9は保f!膜層をそれぞれ示す。
の断面構成を示すものである。1は非磁性基板、2およ
び3は下部磁性層、4は磁気ギャップ層、5は絶縁層、
6はコイルを形成する導体層、7および8は上部磁性層
、9は保f!膜層をそれぞれ示す。
第1図において下部磁性層2、および上部磁性層8を構
成する材料として従来のパーマロイにかえて電着法で作
製した高Bs値を有するFe、、Co zoN i z
sf!膜(B s −18KGauss )を用い、l
および7の各磁性層についてやはり電着法で作製したパ
ーマロイ薄膜を用いた。第1図の構成をもったハードデ
ィスク用薄膜磁気ヘッドのオーバーライド特性を第2図
中に示した。比較のため同図中には上下の磁性層全てを
パーマロイで作製した従来のヘッドの特性についても示
した。ヘッドの仕様は24ターンコイル、トラック幅1
2μm1コア厚2.0amでギャップ長が0.5μmの
ものを用い、浮上量0.2μmの条件で4.5MHzで
記録した後18MHzでオーバライドした。高Bs値を
有する電着磁性膜を磁気コア層としてもちいた事によっ
て従来のパーマロイのみを用いた磁気ヘッドと比較して
約5dBオーバーライドが向上し、ヘッドとしての優位
性かたしかめられた。
成する材料として従来のパーマロイにかえて電着法で作
製した高Bs値を有するFe、、Co zoN i z
sf!膜(B s −18KGauss )を用い、l
および7の各磁性層についてやはり電着法で作製したパ
ーマロイ薄膜を用いた。第1図の構成をもったハードデ
ィスク用薄膜磁気ヘッドのオーバーライド特性を第2図
中に示した。比較のため同図中には上下の磁性層全てを
パーマロイで作製した従来のヘッドの特性についても示
した。ヘッドの仕様は24ターンコイル、トラック幅1
2μm1コア厚2.0amでギャップ長が0.5μmの
ものを用い、浮上量0.2μmの条件で4.5MHzで
記録した後18MHzでオーバライドした。高Bs値を
有する電着磁性膜を磁気コア層としてもちいた事によっ
て従来のパーマロイのみを用いた磁気ヘッドと比較して
約5dBオーバーライドが向上し、ヘッドとしての優位
性かたしかめられた。
上記のF e asCo zoN i :ISの代わり
にFe、、C01?N 13aCr 2磁性膜を用いた
場合についてもまた同様なヘッド特性における優位性が
確かめられた。
にFe、、C01?N 13aCr 2磁性膜を用いた
場合についてもまた同様なヘッド特性における優位性が
確かめられた。
発明の効果
本発明によって保磁力の大きな磁気記録媒体にも十分対
応できる磁気コア先端の磁気飽和の生じにくい薄膜磁気
ヘッドを得ることができ、より良好な磁気記録再生特性
が期待できる。
応できる磁気コア先端の磁気飽和の生じにくい薄膜磁気
ヘッドを得ることができ、より良好な磁気記録再生特性
が期待できる。
第1図は本発明の一実施例として作製された薄膜磁気ヘ
ッドの構成図、第2図は第1図の構成をもち、高Bs値
を有する電着膜を磁気コア層として採用した本発明のハ
ードディスク用薄膜フライングヘッド(A)と従来のパ
ーマロイ磁性膜のみで構成されたヘッド(B)のそれぞ
れについてオーバーライド特性を測定したグラフである
。 1・・・・・・非磁性基板、2.3・・・・・・下部磁
性層、4・・・・・・磁気ギャップ層、5・・・・・・
絶縁層、6・・・・・・コイル、7.8・・・・・・上
部磁性層、9・・・・・・保護膜層、(A)・・・・・
・本発明による薄膜磁気ヘッド、(B)・・・・・・従
来の薄膜磁気ヘッド。
ッドの構成図、第2図は第1図の構成をもち、高Bs値
を有する電着膜を磁気コア層として採用した本発明のハ
ードディスク用薄膜フライングヘッド(A)と従来のパ
ーマロイ磁性膜のみで構成されたヘッド(B)のそれぞ
れについてオーバーライド特性を測定したグラフである
。 1・・・・・・非磁性基板、2.3・・・・・・下部磁
性層、4・・・・・・磁気ギャップ層、5・・・・・・
絶縁層、6・・・・・・コイル、7.8・・・・・・上
部磁性層、9・・・・・・保護膜層、(A)・・・・・
・本発明による薄膜磁気ヘッド、(B)・・・・・・従
来の薄膜磁気ヘッド。
Claims (4)
- (1)非磁性基板上に下部磁性層、磁気ギャップ層、導
体層を間に挟んだ絶縁層、上部磁性層を順次形成させた
構成を基本構成とする薄膜磁気ヘッドであって少なくと
も上下磁性層(磁気コア層)の磁気ギャップ先端の記録
媒体に面する部分にバックコア部より高飽和磁束密度を
もつ軟磁性薄膜を用いた薄膜磁気ヘッド。 - (2)非磁性基板上に下部磁性層、磁気ギャップ層、導
体層を間に挟んだ絶縁層、上部磁性層を順次形成させた
構成を基本構成とする薄膜磁気ヘッドであって、少なく
とも上下磁性層(磁気コア)の磁気ギャップ先端の記録
媒体に面する部分にバックコア部より高飽和磁束密度を
もつ軟磁性薄膜を用いた薄膜磁気ヘッドであって、前記
高飽和磁束密度軟磁性薄膜を合金電着法によって作製さ
せることを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。 - (3)高飽和磁束密度軟磁性合金が電着法で作製された
Fe−Co−Ni三元系合金薄膜であることを特徴とす
る請求項(2)記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。 - (4)高飽和磁束密度軟磁性合金が電着法で作製された
Fe−Co−Ni−Cr四元系合金薄膜であることを特
徴とする請求項(2)記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1283245A JPH03144907A (ja) | 1989-10-30 | 1989-10-30 | 薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1283245A JPH03144907A (ja) | 1989-10-30 | 1989-10-30 | 薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03144907A true JPH03144907A (ja) | 1991-06-20 |
Family
ID=17662970
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1283245A Pending JPH03144907A (ja) | 1989-10-30 | 1989-10-30 | 薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03144907A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5828533A (en) * | 1995-06-14 | 1998-10-27 | Nec Corporation | Thin film magnetic head with differing saturation magnetic flux density films and spacer between floating surface and coil patterns |
| KR100259386B1 (ko) * | 1993-01-29 | 2000-06-15 | 윤종용 | 박막자기헤드 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6010410A (ja) * | 1983-06-27 | 1985-01-19 | インタ−ナショナル ビジネス マシ−ンズ コ−ポレ−ション | 薄膜磁気変換器 |
| JPS6176642A (ja) * | 1984-09-25 | 1986-04-19 | Hitachi Ltd | Co―Ni―Fe合金の電気めっき浴及び電気めっき方法 |
| JPS648605A (en) * | 1987-06-30 | 1989-01-12 | Sony Corp | Soft magnetic thin film |
-
1989
- 1989-10-30 JP JP1283245A patent/JPH03144907A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6010410A (ja) * | 1983-06-27 | 1985-01-19 | インタ−ナショナル ビジネス マシ−ンズ コ−ポレ−ション | 薄膜磁気変換器 |
| JPS6176642A (ja) * | 1984-09-25 | 1986-04-19 | Hitachi Ltd | Co―Ni―Fe合金の電気めっき浴及び電気めっき方法 |
| JPS648605A (en) * | 1987-06-30 | 1989-01-12 | Sony Corp | Soft magnetic thin film |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100259386B1 (ko) * | 1993-01-29 | 2000-06-15 | 윤종용 | 박막자기헤드 |
| US5828533A (en) * | 1995-06-14 | 1998-10-27 | Nec Corporation | Thin film magnetic head with differing saturation magnetic flux density films and spacer between floating surface and coil patterns |
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