JPH0314518B2 - - Google Patents
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- JPH0314518B2 JPH0314518B2 JP744987A JP744987A JPH0314518B2 JP H0314518 B2 JPH0314518 B2 JP H0314518B2 JP 744987 A JP744987 A JP 744987A JP 744987 A JP744987 A JP 744987A JP H0314518 B2 JPH0314518 B2 JP H0314518B2
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Landscapes
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Heat Treatment Of Water, Waste Water Or Sewage (AREA)
- Physical Water Treatments (AREA)
Description
［産業上の利用分野］
本発明は、プリント基板製造工程、印刷工業、
半導体製造工業等より排出される廃液の処理方法
に関する。特に、フオトレジスト成分含有廃液を
濃縮する前処理と電磁波または熱エネルギー照射
により廃液を固化する処分方法に関する。 ［従来の技術］ 従来のプリント基板製造の廃液処理技術では、
水溶性フオトレジストを含有する廃液は、第１図
に示すように酸添加によりPHを下げ、溶解レジス
トを不溶化し、固液分離した後、アルカリ剤でPH
を中性にし、希釈水により有機物の負荷を低減し
た後、生物処理、濾過、活性炭吸着を行なうもの
であつた。このような処理方法では、多量の酸・
アルカリを消費するとともに、大量の希釈水と大
極の単位処理装置を必要とするために廃液の処理
コストが極めて高いものであつた。 亦、従来、このフオトレジスト含有廃液の処理
法には、逆浸透法によるものもあるが、これに
は、次のような問題点がある。プリント基板製造
より排出される廃液は、無機質を２％程度含有し
ているため、高い濃縮倍率が確保できない。即
ち、浸透圧の上昇により５倍の濃縮の程度が実用
上の限界である。そのために、廃液の約1/5程度
の濃縮液が処理しなければならないものとして残
るものである。 一方、フオトレジスト含有廃液に光エネルギー
或いは熱を与え、生成する不溶分を固液分離する
方法、また、逆に電磁波エネルギーで高分子フオ
トレジスト分を分解、無害化する方法がある。然
し乍ら、これらの方法は、重合促進剤や光分解促
進剤等の添加を必要とし、付与エネルギーの必要
とあいまつて処理コストを高くする問題があつ
た。 本発明者らは廃液量と処理コストの大幅低減を
可能にする第３図に示す廃液の回収再利用の方法
を特許出願した（特願昭61−171894号）。この処
理法では限外濾過膜で濃縮した濃縮液に酸を添加
しフオトレジスト成分を不溶化し、固液分離した
後に、逆浸透或いは紫外線分解及び活性炭吸着或
いは生物処理法を適用するものである。この濃縮
液処理法は、濃縮液量が大幅に減じているため処
理コスト高に結びつかないものの、更に処理の簡
便化が望まれていた。 ［発明が解決しようとする問題点］ プリント基板製造で排出される現像廃液及び剥
離廃液は、水溶性フオトレジスト樹脂及び消泡剤
等を溶解したアルカリ性廃液であり、また、
COD、BODが高く、廃液処理コストも高いもの
である。廃液は全量処分しなければならなく、少
しの減容では、コスト高を解決できない。これに
対して、本発明は、廃液処理コストの低減された
廃液処理方法を提供することを目的とする。ま
た、フオトレジスト成分含有廃液を薬剤を添加す
ることなく極めて簡便に且つ安価にフオトレジス
ト含有廃液を処理できる方法を提供することを目
的とする。 ［発明の構成］ ［問題点を解決するための手段］ 本発明の要旨とするものは、フオトレジスト成
分を含有する廃液の処理方法において、フオトレ
ジスト成分含有廃液をフオトレジスト成分のみを
排除する限外濾過膜によりフオトレジスト成分を
濃縮し、得られた濃縮廃液に、太陽光等の電磁波
を照射し、または熱エネルギーを加え、フオトレ
ジスト成分を重合せしめ、固形物にして処理する
ことによるフオトレジスト含有廃液の処理方法で
ある。亦、得られた固形物を燃焼させて、その燃
焼熱により該濃縮廃液を更に蒸発せしめ、電磁波
照射による重合を促進せしめることができる。 ［作用］ 従来の廃液処理法では、廃液の全量を処理する
が、本発明による廃液処理法では、廃液自体を限
外濾過により、約1/10〜1/20以上に濃縮し、その
濃縮液に太陽光などの電磁波または熱エネルギー
を与え、含有フオトレジスト成分などの有機物を
重合させて固形分にし、固形分は、自燃され、容
易に処分され得るものである。 限外濾過による廃液処理法では、現像、剥離廃
液を各々アルカリ性に保持しつつ、限外濾過膜を
通じて、濾過し、これらフオトレジスト成分含有
廃液は、フオトレジスト樹脂成分が、限外濾過膜
を通過せずに、濃縮液として残り、その他のアル
カリ分、消泡剤等の有効添加成分は限外濾過膜を
自由に透過するため、透過液を現像液または剥離
液としてもどし再び利用できる。従つて、濃縮廃
液はフオトレジスト成分を濃度高く含有し、原廃
液量の1/10〜1/20の程度にまで濃縮可能である。 水溶性フオトレジスト廃液は、プリント基板製
造の場合、Na2CO3、NaOH或いはKOHを１〜
２％含有するアルカリ性水溶性である。この廃液
を分画分子量5000〜100000の限外濾過膜に通じる
と、フオトレジストに起因する有機物の濃度は
1.5重量％程度から15〜30重量％にまで濃縮され
る。一方、分子量の小さい、フオトレジストの溶
剤成分である無機アルカリ剤は殆ど濃縮されず
に、得られた濃縮液中には１ないし２％の含有率
に留まるものである。 フオトレジスト含有廃液は、フオトレジストの
溶剤としてのアルカリが存在するために、アルカ
リを中和したPH６以下で初めて重合し不溶分が析
出するが、本発明により濃縮した液では、フオト
レジスト成分がリツチになつているため高アルカ
リ性領域でも、水を含んだままで容易に重合する
性質を有し、何ら酸等の薬剤を添加することなく
太陽光などの電磁波または熱エネルギーの付与に
よつて容易に重合固化することが可能である。重
合・固化は、濃縮液の含水率が50〜60重量％付近
から生起し、含有水も含めて重合固化ができるた
めに従来法に見られるような固液分離の処理も必
要ないものである。 本発明によるフオトレジスト成分濃縮廃液が、
太陽光などの電磁波または熱エネルギー照射だけ
で容易に重合され、フオトレジスト含有廃液を簡
便に経済的に処理できるためには以下の条件を満
たすものでなければならない。 濃縮廃液は、アルカリ成分などの他の成分の含
有レベルが低く、主にフオトレジスト成分を含有
しているものでなければならない。そして、本発
明により利用する限外濾過膜は、次のようなもの
でなければならない。 第１に限外濾過膜のモジユールは、処理すべき
フオトレジスト廃液がアルカリ性であるので、耐
アルカリ性でなければならない。 第２に、アルカリ性の廃液に溶解された無機質
を透過し、フオトレジスト成分を除くために、限
外濾過膜の分画分子量は、好適には5000〜100000
の範囲である。 これは、本発明方法によるフオトレジスト廃液
の処理法を、実際のフオトレジストの現像廃液及
び剥離廃液の特性を考慮して、この範囲が定めら
れた。即ち、限外濾過膜は一般に、ある一定の分
子量範囲の溶質を除去する分子量分画特性を有す
るが、この特性に基づくフオトレジストの現像廃
液及び剥離廃液中に含まれるフオトレジストに対
する除去性能がすぐれたものでなければならな
い。ここで除去性能とは、膜処理の供給原液成分
濃度に対する膜透過液成分濃度の低減率に相当
し、換言すれば、膜を透過しない成分濃度の比率
である。 フオトレジスト成分を大部分濃縮でき、消泡剤
及びアルカリ成分をじゆうに透過できる範囲は、
実用的には、分画分子量が、5000〜100000の範囲
にあればよい。このような特性を有する限外濾過
膜を用いることによつてフオトレジスト処理の現
像廃液及び剥離廃液中の有効成分たる消泡剤及び
アルカリ成分を経済的に回収することができる。
一方、フオトレジスト成分は処理しやすい固形分
として取り出すことができる。 従つて、本発明により適合利用できる限外濾過
膜モジユールは、膜素材として金属酸化物の無機
材例えば、二酸化ジルコニウム系、及び合成高分
子材の中で、例えば、ポリスルホン系、ポリイミ
ド系、アクリルニトリル系等が良好である。 プリント基板製造に用いるフオトレジストの感
光の後に、それを現像するため、即ち、フオトレ
ジストを除去するための現像工程で使用される現
像液、処理すべき現像廃液、限外濾過された液の
性質及び、プリント基板製造で導体板等をエツチ
ングした後、光重合したフオトレジストを剥離す
るための剥離液、その剥離廃液、限外濾過された
液等の特性を第１表に示す。
半導体製造工業等より排出される廃液の処理方法
に関する。特に、フオトレジスト成分含有廃液を
濃縮する前処理と電磁波または熱エネルギー照射
により廃液を固化する処分方法に関する。 ［従来の技術］ 従来のプリント基板製造の廃液処理技術では、
水溶性フオトレジストを含有する廃液は、第１図
に示すように酸添加によりPHを下げ、溶解レジス
トを不溶化し、固液分離した後、アルカリ剤でPH
を中性にし、希釈水により有機物の負荷を低減し
た後、生物処理、濾過、活性炭吸着を行なうもの
であつた。このような処理方法では、多量の酸・
アルカリを消費するとともに、大量の希釈水と大
極の単位処理装置を必要とするために廃液の処理
コストが極めて高いものであつた。 亦、従来、このフオトレジスト含有廃液の処理
法には、逆浸透法によるものもあるが、これに
は、次のような問題点がある。プリント基板製造
より排出される廃液は、無機質を２％程度含有し
ているため、高い濃縮倍率が確保できない。即
ち、浸透圧の上昇により５倍の濃縮の程度が実用
上の限界である。そのために、廃液の約1/5程度
の濃縮液が処理しなければならないものとして残
るものである。 一方、フオトレジスト含有廃液に光エネルギー
或いは熱を与え、生成する不溶分を固液分離する
方法、また、逆に電磁波エネルギーで高分子フオ
トレジスト分を分解、無害化する方法がある。然
し乍ら、これらの方法は、重合促進剤や光分解促
進剤等の添加を必要とし、付与エネルギーの必要
とあいまつて処理コストを高くする問題があつ
た。 本発明者らは廃液量と処理コストの大幅低減を
可能にする第３図に示す廃液の回収再利用の方法
を特許出願した（特願昭61−171894号）。この処
理法では限外濾過膜で濃縮した濃縮液に酸を添加
しフオトレジスト成分を不溶化し、固液分離した
後に、逆浸透或いは紫外線分解及び活性炭吸着或
いは生物処理法を適用するものである。この濃縮
液処理法は、濃縮液量が大幅に減じているため処
理コスト高に結びつかないものの、更に処理の簡
便化が望まれていた。 ［発明が解決しようとする問題点］ プリント基板製造で排出される現像廃液及び剥
離廃液は、水溶性フオトレジスト樹脂及び消泡剤
等を溶解したアルカリ性廃液であり、また、
COD、BODが高く、廃液処理コストも高いもの
である。廃液は全量処分しなければならなく、少
しの減容では、コスト高を解決できない。これに
対して、本発明は、廃液処理コストの低減された
廃液処理方法を提供することを目的とする。ま
た、フオトレジスト成分含有廃液を薬剤を添加す
ることなく極めて簡便に且つ安価にフオトレジス
ト含有廃液を処理できる方法を提供することを目
的とする。 ［発明の構成］ ［問題点を解決するための手段］ 本発明の要旨とするものは、フオトレジスト成
分を含有する廃液の処理方法において、フオトレ
ジスト成分含有廃液をフオトレジスト成分のみを
排除する限外濾過膜によりフオトレジスト成分を
濃縮し、得られた濃縮廃液に、太陽光等の電磁波
を照射し、または熱エネルギーを加え、フオトレ
ジスト成分を重合せしめ、固形物にして処理する
ことによるフオトレジスト含有廃液の処理方法で
ある。亦、得られた固形物を燃焼させて、その燃
焼熱により該濃縮廃液を更に蒸発せしめ、電磁波
照射による重合を促進せしめることができる。 ［作用］ 従来の廃液処理法では、廃液の全量を処理する
が、本発明による廃液処理法では、廃液自体を限
外濾過により、約1/10〜1/20以上に濃縮し、その
濃縮液に太陽光などの電磁波または熱エネルギー
を与え、含有フオトレジスト成分などの有機物を
重合させて固形分にし、固形分は、自燃され、容
易に処分され得るものである。 限外濾過による廃液処理法では、現像、剥離廃
液を各々アルカリ性に保持しつつ、限外濾過膜を
通じて、濾過し、これらフオトレジスト成分含有
廃液は、フオトレジスト樹脂成分が、限外濾過膜
を通過せずに、濃縮液として残り、その他のアル
カリ分、消泡剤等の有効添加成分は限外濾過膜を
自由に透過するため、透過液を現像液または剥離
液としてもどし再び利用できる。従つて、濃縮廃
液はフオトレジスト成分を濃度高く含有し、原廃
液量の1/10〜1/20の程度にまで濃縮可能である。 水溶性フオトレジスト廃液は、プリント基板製
造の場合、Na2CO3、NaOH或いはKOHを１〜
２％含有するアルカリ性水溶性である。この廃液
を分画分子量5000〜100000の限外濾過膜に通じる
と、フオトレジストに起因する有機物の濃度は
1.5重量％程度から15〜30重量％にまで濃縮され
る。一方、分子量の小さい、フオトレジストの溶
剤成分である無機アルカリ剤は殆ど濃縮されず
に、得られた濃縮液中には１ないし２％の含有率
に留まるものである。 フオトレジスト含有廃液は、フオトレジストの
溶剤としてのアルカリが存在するために、アルカ
リを中和したPH６以下で初めて重合し不溶分が析
出するが、本発明により濃縮した液では、フオト
レジスト成分がリツチになつているため高アルカ
リ性領域でも、水を含んだままで容易に重合する
性質を有し、何ら酸等の薬剤を添加することなく
太陽光などの電磁波または熱エネルギーの付与に
よつて容易に重合固化することが可能である。重
合・固化は、濃縮液の含水率が50〜60重量％付近
から生起し、含有水も含めて重合固化ができるた
めに従来法に見られるような固液分離の処理も必
要ないものである。 本発明によるフオトレジスト成分濃縮廃液が、
太陽光などの電磁波または熱エネルギー照射だけ
で容易に重合され、フオトレジスト含有廃液を簡
便に経済的に処理できるためには以下の条件を満
たすものでなければならない。 濃縮廃液は、アルカリ成分などの他の成分の含
有レベルが低く、主にフオトレジスト成分を含有
しているものでなければならない。そして、本発
明により利用する限外濾過膜は、次のようなもの
でなければならない。 第１に限外濾過膜のモジユールは、処理すべき
フオトレジスト廃液がアルカリ性であるので、耐
アルカリ性でなければならない。 第２に、アルカリ性の廃液に溶解された無機質
を透過し、フオトレジスト成分を除くために、限
外濾過膜の分画分子量は、好適には5000〜100000
の範囲である。 これは、本発明方法によるフオトレジスト廃液
の処理法を、実際のフオトレジストの現像廃液及
び剥離廃液の特性を考慮して、この範囲が定めら
れた。即ち、限外濾過膜は一般に、ある一定の分
子量範囲の溶質を除去する分子量分画特性を有す
るが、この特性に基づくフオトレジストの現像廃
液及び剥離廃液中に含まれるフオトレジストに対
する除去性能がすぐれたものでなければならな
い。ここで除去性能とは、膜処理の供給原液成分
濃度に対する膜透過液成分濃度の低減率に相当
し、換言すれば、膜を透過しない成分濃度の比率
である。 フオトレジスト成分を大部分濃縮でき、消泡剤
及びアルカリ成分をじゆうに透過できる範囲は、
実用的には、分画分子量が、5000〜100000の範囲
にあればよい。このような特性を有する限外濾過
膜を用いることによつてフオトレジスト処理の現
像廃液及び剥離廃液中の有効成分たる消泡剤及び
アルカリ成分を経済的に回収することができる。
一方、フオトレジスト成分は処理しやすい固形分
として取り出すことができる。 従つて、本発明により適合利用できる限外濾過
膜モジユールは、膜素材として金属酸化物の無機
材例えば、二酸化ジルコニウム系、及び合成高分
子材の中で、例えば、ポリスルホン系、ポリイミ
ド系、アクリルニトリル系等が良好である。 プリント基板製造に用いるフオトレジストの感
光の後に、それを現像するため、即ち、フオトレ
ジストを除去するための現像工程で使用される現
像液、処理すべき現像廃液、限外濾過された液の
性質及び、プリント基板製造で導体板等をエツチ
ングした後、光重合したフオトレジストを剥離す
るための剥離液、その剥離廃液、限外濾過された
液等の特性を第１表に示す。
【表】
現像廃液を限外濾過により処理し、限外濾過膜
を通過した透過液を再び使用するためには、前の
現像処理でアルカリ成分が消費されて、PH値が低
下しているために、限外濾過膜通過液には、アル
カリ液を補給してPHの調整を行なう。亦、剥離液
においても、同様にPHの調整を行ない、限外濾過
膜通過液を剥離液として戻す。 再生現像液のPHの調整には、Na2CO3、NaOH
溶液を補給する。現像液中のNaイオンが増加す
ると、剥離工程で溶解すべきフオトレジストまで
が溶解する恐れがあるが、レジスト溶解前のPHに
達するまでNaOHを加えるとともに膜濃縮廃液
量に対応してNa2CO3の補給量を設定することで
Naイオンの蓄積を防止することができる。 再生剥離液の成分の調整は、NaOH或いは
KOH溶液でPHを14程度に調整することで十分で
ある。 本発明によるフオトレジスト成分含有廃液の処
理方法では、現像廃液及び剥離廃液の両方を処理
し、各々の系の限外濾過膜からでるフオトレジス
ト成分の濃縮された濃縮廃液を太陽光下に放置す
ることにより重合せしめ、濃縮廃液を固形化す
る。尚、太陽光線に限らず、人工光線によつても
重合せしめ得る。また、濃縮廃液に熱エネルギー
を加え、更に蒸発・濃縮することにより廃液を重
合・固化することができる。 本発明による廃液処理では、アルカリ調整、限
外濾過膜の種類及び数量の変更等により廃液に溶
解しているフオトレジスト成分、その濃度の変化
に対応する処理条件の選択が必要である。 この限外濾過膜によりフオトレジスト成分は、
10〜20倍に濃縮され、濃縮液のフオトレジストな
どの有機物濃度は、15〜30重量％に達することが
できる。本発明は、この濃縮液に薬剤を加えるこ
となく、極めて簡便且つ安価に廃液の処理を行な
うことができる。 以上のように、本発明で、フオトレジスト含有
廃液そのものを、自燃し得る固形物として固化す
るには、フオトレジストの溶剤成分例えば、アル
カリ成分及び重合に関与しない低分子有機物（フ
オトレジストの分解物など）の濃度を増加させな
いで、レジスト成分などの有機物濃度を10重量％
程度（当初の廃液濃度からは約10倍濃縮に相当す
る）以上に、濃縮しておくことが必要である。こ
の濃縮には高分子フオトレジスト成分のみを排除
即ち、濃縮できる限外濾過膜を用いる。 この濃縮液に太陽光線等の電磁波または熱エネ
ルギーを一定時間照射するのみで濃縮液自体が固
化する。照射すべき電磁波エネルギーは、通常太
陽光線でよく、波長200〜400nｍの紫外線を含む
ものが好適であり、フオトレジスト成分水溶液の
特性に適するものを用いる。バツト、プレートな
どにいれて濃縮液に太陽光線を当て放置すればよ
い。従つて、重合固化物は、プレート中に水を含
んで固化析出し、容易にとりだせる。その固化物
は、自燃するために、燃やしその燃焼熱を回収す
る手段を講じれば、更に、もとの濃縮液の蒸発、
固化を促進することができる。また、熱エネルギ
ーを加える場合はドラムトライヤーなどによる間
接加熱方式とし、重合固化物はスクレーパーで剥
ぎ取る方式が好適である。また、この場合前記し
た固化物の燃焼熱は加熱エネルギーの補助として
利用できる。このような本発明によるフオトレジ
スト成分含有廃液の処理システムを、第４図に示
す。 即ち、フオトレジスト成分含有廃液を限外濾過
にかけ、その膜透過液は回収しリサイクル使用或
いは無害化して処理し、透過せずに濃縮した液に
は太陽光線など電磁波または熱エネルギーを付与
し重合固化せしめ、フオトレジスト成分などを処
理する。固化したフオトレジスト成分などよりな
る固化物は自燃せしめ、その燃焼熱で更に処理を
経済的に効率化せしめる。 本発明による重合固化は、含水率50〜60重量％
付近で生じ、水分も含めて固化し、且つ容易に自
燃する固化物が得られる。従つて、従来法のよう
な固液分離等の処理を必要としない。 次に本発明の処理法の実施例による実証テスト
を述べるが、本発明は、これにより限定されるも
のではない。 実施例 １ プリント基板製造工程より排出する水溶性フオ
トレジスト現像廃液（１％Na2CO3添加し、PH
10.5に調整したもので、TOC6000mg／）を分
画分子量10000のポリスルホン膜で20倍に濃縮し
た液200mlを200mm×250mmのガラス製バツト中で
太陽光下に放置した。４時間で厚みが２mm程度の
固化物を得た。固化物は水分55重量％であつた。
この固化物の低位発熱量は4100kcal／Kgで容易に
自燃した。 実施例 ２ プリント基板製造工程より排出する水溶性フオ
トレジスト剥離廃液（２％KOHを添加し、PH
13.5に調整したもので、TOC11000mg／）を実
施例１と同一の限外濾過膜で10倍濃縮した液200
mlを200mm×250mmのガラス製バツト中で太陽光下
に放置した。その結果3.5時間で実施例１と同様
の固化物を得た。固化物の水分量は、60重量％で
あつた。低位発熱量は3600kcal／Kgであつた。こ
の固化物は、実施例１と同様に自燃した。 比較例 １ 実施例１と同じ現像廃液200mlを限外濾過での
濃縮を行なわずにそのままで200mm×250mmのガラ
スバツト中で太陽光下に放置した。その結果、12
時間放置したが含水率52重量％となつたが、固化
物は認められなかつた。更に天日蒸発を継続した
結果、13時間で乾固したが、殆ど白色の無機アル
カリ剤に起因する粉末状析出物しか残らなかつ
た。 比較例 ２ 実施例１と同じ現像廃液を実施例１と同じ限外
濾過により５倍に濃縮した液200mlを200mm×250
mmのガラスバツト中で太陽光下に放置した。その
結果、９時間放置した含水率55重量％となつた
が、固化物は得られなかつた。更に天日蒸発を継
続した結果、10時間で乾固したが、殆ど白色の無
機アルカリ剤に起因する粉末状析出物しか残らな
かつた。 比較例 ３ 実施例１と同じ現像廃液を実施例１と同じ限外
濾過で８倍に濃縮した液200mlを200mm×250mmの
ガラスバツト中で太陽光下に放置した。その結
果、７時間放置したが部分的に固化物が得られた
が、白色粉末が混在する固形物であり、固化が不
十分であつた。 実施例 ３ 実施例１で用いた廃液と同一の現像廃液を限外
濾過により20倍に濃縮して濃縮液を得、その濃縮
液を遮光下で１時間含水率57重量％まで加熱蒸発
した。その結果実施例１と同様に固化し、自燃す
る固化物を得た。 ［発明の効果］ 本発明のフオトレジスト含有廃液の処理方法
は、高分子フオトレジストのみを排除する限外濾
過膜の濃縮液が重合できるために、 第１に、極めて簡便に安価にフオトレジスト廃
液を処理できる方法を提供できること、 第２に、光または熱エネルギーを用いる重合の
ために何等の薬剤を添加する必要がなく、廃液重
合固化ができること、 第３に、重合固化したものは、容易に自然にす
るために従来の処理法のような固液分離水の処理
を必要としないこと、 第４に、廃液を濃縮したものを更に含水率を下
げるために、この含有率の燃焼熱を利用して、効
率化が図かれること、 第４に、従つて、短時間に且つ極めて低コスト
で廃液を固化処理することができることなどの技
術的効果が得られた。
を通過した透過液を再び使用するためには、前の
現像処理でアルカリ成分が消費されて、PH値が低
下しているために、限外濾過膜通過液には、アル
カリ液を補給してPHの調整を行なう。亦、剥離液
においても、同様にPHの調整を行ない、限外濾過
膜通過液を剥離液として戻す。 再生現像液のPHの調整には、Na2CO3、NaOH
溶液を補給する。現像液中のNaイオンが増加す
ると、剥離工程で溶解すべきフオトレジストまで
が溶解する恐れがあるが、レジスト溶解前のPHに
達するまでNaOHを加えるとともに膜濃縮廃液
量に対応してNa2CO3の補給量を設定することで
Naイオンの蓄積を防止することができる。 再生剥離液の成分の調整は、NaOH或いは
KOH溶液でPHを14程度に調整することで十分で
ある。 本発明によるフオトレジスト成分含有廃液の処
理方法では、現像廃液及び剥離廃液の両方を処理
し、各々の系の限外濾過膜からでるフオトレジス
ト成分の濃縮された濃縮廃液を太陽光下に放置す
ることにより重合せしめ、濃縮廃液を固形化す
る。尚、太陽光線に限らず、人工光線によつても
重合せしめ得る。また、濃縮廃液に熱エネルギー
を加え、更に蒸発・濃縮することにより廃液を重
合・固化することができる。 本発明による廃液処理では、アルカリ調整、限
外濾過膜の種類及び数量の変更等により廃液に溶
解しているフオトレジスト成分、その濃度の変化
に対応する処理条件の選択が必要である。 この限外濾過膜によりフオトレジスト成分は、
10〜20倍に濃縮され、濃縮液のフオトレジストな
どの有機物濃度は、15〜30重量％に達することが
できる。本発明は、この濃縮液に薬剤を加えるこ
となく、極めて簡便且つ安価に廃液の処理を行な
うことができる。 以上のように、本発明で、フオトレジスト含有
廃液そのものを、自燃し得る固形物として固化す
るには、フオトレジストの溶剤成分例えば、アル
カリ成分及び重合に関与しない低分子有機物（フ
オトレジストの分解物など）の濃度を増加させな
いで、レジスト成分などの有機物濃度を10重量％
程度（当初の廃液濃度からは約10倍濃縮に相当す
る）以上に、濃縮しておくことが必要である。こ
の濃縮には高分子フオトレジスト成分のみを排除
即ち、濃縮できる限外濾過膜を用いる。 この濃縮液に太陽光線等の電磁波または熱エネ
ルギーを一定時間照射するのみで濃縮液自体が固
化する。照射すべき電磁波エネルギーは、通常太
陽光線でよく、波長200〜400nｍの紫外線を含む
ものが好適であり、フオトレジスト成分水溶液の
特性に適するものを用いる。バツト、プレートな
どにいれて濃縮液に太陽光線を当て放置すればよ
い。従つて、重合固化物は、プレート中に水を含
んで固化析出し、容易にとりだせる。その固化物
は、自燃するために、燃やしその燃焼熱を回収す
る手段を講じれば、更に、もとの濃縮液の蒸発、
固化を促進することができる。また、熱エネルギ
ーを加える場合はドラムトライヤーなどによる間
接加熱方式とし、重合固化物はスクレーパーで剥
ぎ取る方式が好適である。また、この場合前記し
た固化物の燃焼熱は加熱エネルギーの補助として
利用できる。このような本発明によるフオトレジ
スト成分含有廃液の処理システムを、第４図に示
す。 即ち、フオトレジスト成分含有廃液を限外濾過
にかけ、その膜透過液は回収しリサイクル使用或
いは無害化して処理し、透過せずに濃縮した液に
は太陽光線など電磁波または熱エネルギーを付与
し重合固化せしめ、フオトレジスト成分などを処
理する。固化したフオトレジスト成分などよりな
る固化物は自燃せしめ、その燃焼熱で更に処理を
経済的に効率化せしめる。 本発明による重合固化は、含水率50〜60重量％
付近で生じ、水分も含めて固化し、且つ容易に自
燃する固化物が得られる。従つて、従来法のよう
な固液分離等の処理を必要としない。 次に本発明の処理法の実施例による実証テスト
を述べるが、本発明は、これにより限定されるも
のではない。 実施例 １ プリント基板製造工程より排出する水溶性フオ
トレジスト現像廃液（１％Na2CO3添加し、PH
10.5に調整したもので、TOC6000mg／）を分
画分子量10000のポリスルホン膜で20倍に濃縮し
た液200mlを200mm×250mmのガラス製バツト中で
太陽光下に放置した。４時間で厚みが２mm程度の
固化物を得た。固化物は水分55重量％であつた。
この固化物の低位発熱量は4100kcal／Kgで容易に
自燃した。 実施例 ２ プリント基板製造工程より排出する水溶性フオ
トレジスト剥離廃液（２％KOHを添加し、PH
13.5に調整したもので、TOC11000mg／）を実
施例１と同一の限外濾過膜で10倍濃縮した液200
mlを200mm×250mmのガラス製バツト中で太陽光下
に放置した。その結果3.5時間で実施例１と同様
の固化物を得た。固化物の水分量は、60重量％で
あつた。低位発熱量は3600kcal／Kgであつた。こ
の固化物は、実施例１と同様に自燃した。 比較例 １ 実施例１と同じ現像廃液200mlを限外濾過での
濃縮を行なわずにそのままで200mm×250mmのガラ
スバツト中で太陽光下に放置した。その結果、12
時間放置したが含水率52重量％となつたが、固化
物は認められなかつた。更に天日蒸発を継続した
結果、13時間で乾固したが、殆ど白色の無機アル
カリ剤に起因する粉末状析出物しか残らなかつ
た。 比較例 ２ 実施例１と同じ現像廃液を実施例１と同じ限外
濾過により５倍に濃縮した液200mlを200mm×250
mmのガラスバツト中で太陽光下に放置した。その
結果、９時間放置した含水率55重量％となつた
が、固化物は得られなかつた。更に天日蒸発を継
続した結果、10時間で乾固したが、殆ど白色の無
機アルカリ剤に起因する粉末状析出物しか残らな
かつた。 比較例 ３ 実施例１と同じ現像廃液を実施例１と同じ限外
濾過で８倍に濃縮した液200mlを200mm×250mmの
ガラスバツト中で太陽光下に放置した。その結
果、７時間放置したが部分的に固化物が得られた
が、白色粉末が混在する固形物であり、固化が不
十分であつた。 実施例 ３ 実施例１で用いた廃液と同一の現像廃液を限外
濾過により20倍に濃縮して濃縮液を得、その濃縮
液を遮光下で１時間含水率57重量％まで加熱蒸発
した。その結果実施例１と同様に固化し、自燃す
る固化物を得た。 ［発明の効果］ 本発明のフオトレジスト含有廃液の処理方法
は、高分子フオトレジストのみを排除する限外濾
過膜の濃縮液が重合できるために、 第１に、極めて簡便に安価にフオトレジスト廃
液を処理できる方法を提供できること、 第２に、光または熱エネルギーを用いる重合の
ために何等の薬剤を添加する必要がなく、廃液重
合固化ができること、 第３に、重合固化したものは、容易に自然にす
るために従来の処理法のような固液分離水の処理
を必要としないこと、 第４に、廃液を濃縮したものを更に含水率を下
げるために、この含有率の燃焼熱を利用して、効
率化が図かれること、 第４に、従つて、短時間に且つ極めて低コスト
で廃液を固化処理することができることなどの技
術的効果が得られた。
第１図は、従来のプリント基板製造の廃液処理
のシステムを示すフローシートである。第２図
は、従来のプリント基板製造の廃液処理のシステ
ムを示すフローシートである。第３図は、先願の
発明によるプリント基板製造の現像廃液又は剥離
廃液を処理するシステムを示す説明図である。第
４図は、本発明によるフオトレジスト含有廃液の
処理システムの１例を示すフローシートである。
のシステムを示すフローシートである。第２図
は、従来のプリント基板製造の廃液処理のシステ
ムを示すフローシートである。第３図は、先願の
発明によるプリント基板製造の現像廃液又は剥離
廃液を処理するシステムを示す説明図である。第
４図は、本発明によるフオトレジスト含有廃液の
処理システムの１例を示すフローシートである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ フオトレジスト成分を含有する廃液の処理方
法おいて、 フオトレジスト成分含有廃液をフオトレジスト
成分のみを排除する限外濾過膜によりフオトレジ
スト成分を濃縮し、得られた濃縮廃液に、電磁波
を照射し、フオトレジスト成分を重合せしめ、固
形物にして処理することを特徴とするフオトレジ
スト含有廃液の処理方法。 ２ 得られた固形物を燃焼させて、その燃焼熱に
より該濃縮廃液を更に蒸発せしめ、電磁波エネル
ギー照射による重合を促進せしめる特許請求の範
囲第１項記載のフオトレジスト含有廃液の処理方
法。 ３ フオトレジスト成分を含有する廃液の処理方
法おいて、 フオトレジスト成分含有廃液をフオトレジスト
成分のみを排除する限外濾過膜によりフオトレジ
スト成分を濃縮し、得られた濃縮廃液に、熱エネ
ルギーを加え、固形物にして処理することを特徴
とするフオトレジスト含有廃液の処理方法。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62007449A JPS63178888A (ja) | 1987-01-17 | 1987-01-17 | フオトレジスト含有廃液の処理方法 |
| EP87306477A EP0254550B1 (en) | 1986-07-23 | 1987-07-22 | Treatment of photoresist materials containing waste solution |
| US07/076,372 US4786417A (en) | 1986-07-23 | 1987-07-22 | Management of photoresist materials containing waste solution |
| AT87306477T ATE81476T1 (de) | 1986-07-23 | 1987-07-22 | Behandlung einer photoresistmaterialien enthaltenden abfalloesung. |
| DE8787306477T DE3782205T2 (de) | 1986-07-23 | 1987-07-22 | Behandlung einer photoresistmaterialien enthaltenden abfalloesung. |
| KR1019870007965A KR950014323B1 (ko) | 1986-07-23 | 1987-07-22 | 포토레지스트 폐액의 처리방법 |
| CN87105308A CN1010555B (zh) | 1986-07-23 | 1987-07-23 | 含光刻胶的废液的处理 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62007449A JPS63178888A (ja) | 1987-01-17 | 1987-01-17 | フオトレジスト含有廃液の処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63178888A JPS63178888A (ja) | 1988-07-22 |
| JPH0314518B2 true JPH0314518B2 (ja) | 1991-02-26 |
Family
ID=11666146
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62007449A Granted JPS63178888A (ja) | 1986-07-23 | 1987-01-17 | フオトレジスト含有廃液の処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63178888A (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5112491A (en) * | 1991-03-01 | 1992-05-12 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Management of waste solution containing photoresist materials |
| US5811224A (en) * | 1994-08-24 | 1998-09-22 | Bayer Corporation | Process for rejuvenating developer in printing plate development |
| KR20080018215A (ko) * | 2005-06-22 | 2008-02-27 | 도아고세이가부시키가이샤 | 기체 표면 위의 유기 피막의 제거 방법 및 제거 장치 |
| JP7084683B2 (ja) * | 2015-02-23 | 2022-06-15 | 東京応化工業株式会社 | 液体の精製方法、薬液又は洗浄液の製造方法、フィルターメディア、及び、フィルターデバイス |
| JP7501075B2 (ja) * | 2020-04-24 | 2024-06-18 | ニプロ株式会社 | 排液の前処理方法および前処理システム |
-
1987
- 1987-01-17 JP JP62007449A patent/JPS63178888A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63178888A (ja) | 1988-07-22 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |