JPH0314554A - ニトリル類の製造法 - Google Patents
ニトリル類の製造法Info
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- JPH0314554A JPH0314554A JP1148873A JP14887389A JPH0314554A JP H0314554 A JPH0314554 A JP H0314554A JP 1148873 A JP1148873 A JP 1148873A JP 14887389 A JP14887389 A JP 14887389A JP H0314554 A JPH0314554 A JP H0314554A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は二｝ ＩＪル類の製造方法に関し、更には、一
般式（ｌ） Ｒ・（ｃＬ）ｎ （ｆ） （式中、Ｒぱ置換基を有していても良い芳香族、脂環式
又Ｖｉ複素環残基を示し、ｎぱ１以上の整数を示す。）
で表わされる有機塩素化合物と一般式（ＩＩ） Ｍ−ＣＮ （１ノ （式中、Ｍはアルカリ金属原子を示す。）で表わされる
アルカリ金属シアノ化合物とをニッケル化合物及びホス
フィン化合物を触媒とするか、又はニッケル化合物及び
パラジウム化合物及びホスフィン化合物を触媒としてハ
ロゲン化アルカリ金属塩の存在下に反応させることを特
徴とする一般式（１） Ｒ・（ＣＮ，ｌｎ（１） （式中、Ｒ及びｎは前記に向じ。） で表わされるニトリル類の製造方法に閾するものである
。
般式（ｌ） Ｒ・（ｃＬ）ｎ （ｆ） （式中、Ｒぱ置換基を有していても良い芳香族、脂環式
又Ｖｉ複素環残基を示し、ｎぱ１以上の整数を示す。）
で表わされる有機塩素化合物と一般式（ＩＩ） Ｍ−ＣＮ （１ノ （式中、Ｍはアルカリ金属原子を示す。）で表わされる
アルカリ金属シアノ化合物とをニッケル化合物及びホス
フィン化合物を触媒とするか、又はニッケル化合物及び
パラジウム化合物及びホスフィン化合物を触媒としてハ
ロゲン化アルカリ金属塩の存在下に反応させることを特
徴とする一般式（１） Ｒ・（ＣＮ，ｌｎ（１） （式中、Ｒ及びｎは前記に向じ。） で表わされるニトリル類の製造方法に閾するものである
。
本発明による一般式（１）で表わされるニトリル類は医
薬、農薬等の中間体として有用な化合物であう、本発明
はこれらのニトリル類の新規な製造方法を提供するもの
である。
薬、農薬等の中間体として有用な化合物であう、本発明
はこれらのニトリル類の新規な製造方法を提供するもの
である。
従来、二トリル類の製造方法としては、有機塩素化合物
の塩素原子ヲニトリルに置換する方法はイタリア特許第
９５５９７１号、ジャーナルオプ オルガノメタル ケ
ミストリー（ Ｊ．Ｏｒｇａｎｏｍｅｔ． Ｃｈｅｍ
． ， １７３（ １９７９） ５５５−３３９ ）
等に記載されているが、イタリア特許記載の方法では、
マンガン、鉄等を多量に使用するために、反応後の後処
理が容易ではない。又、オルガノメタル誌に記載の方法
では触媒として使用するニッケル化合物の調製が煩雑で
あう、且つ取り扱いに〈いという問題がある。
の塩素原子ヲニトリルに置換する方法はイタリア特許第
９５５９７１号、ジャーナルオプ オルガノメタル ケ
ミストリー（ Ｊ．Ｏｒｇａｎｏｍｅｔ． Ｃｈｅｍ
． ， １７３（ １９７９） ５５５−３３９ ）
等に記載されているが、イタリア特許記載の方法では、
マンガン、鉄等を多量に使用するために、反応後の後処
理が容易ではない。又、オルガノメタル誌に記載の方法
では触媒として使用するニッケル化合物の調製が煩雑で
あう、且つ取り扱いに〈いという問題がある。
本発明者等は、上記課＠を解決すべ〈鋭意研究を重ねた
結果、工業原料として安価に入手可能な一般式（ＩＩＩ
）で表わされる有機塩素化合物をニッケル化合物及びホ
スフィン化合物を触媒とするか、又はニッケル化合物及
びパラジウム化合物及びホスフィン化合物を触媒として
ハロゲン化アルカリ金属塩の存在下に一般式（ＩＩ）で
表わされるアルカリ金属シアノ化合物と反応させること
により、目的とするニトリル類が高収率で且つ高純度を
得られることを見出し、本発明を完成させたものである
。
結果、工業原料として安価に入手可能な一般式（ＩＩＩ
）で表わされる有機塩素化合物をニッケル化合物及びホ
スフィン化合物を触媒とするか、又はニッケル化合物及
びパラジウム化合物及びホスフィン化合物を触媒として
ハロゲン化アルカリ金属塩の存在下に一般式（ＩＩ）で
表わされるアルカリ金属シアノ化合物と反応させること
により、目的とするニトリル類が高収率で且つ高純度を
得られることを見出し、本発明を完成させたものである
。
本発明の製造方法の利点Ｖｉ原料として容易に入手可能
な工業原料である塩素原子を有する有機塩素化合物を使
用し、且つ触媒として使用するニッケル化合物、パラジ
ウム化合物及びホスフィン化合物も回収利用が可能であ
う、工業的には経済性も備えた製造方法である。
な工業原料である塩素原子を有する有機塩素化合物を使
用し、且つ触媒として使用するニッケル化合物、パラジ
ウム化合物及びホスフィン化合物も回収利用が可能であ
う、工業的には経済性も備えた製造方法である。
本発明は例えば、図式的に示すと下記の如く示すことが
できる。
できる。
（Ｉｌｌ） （ＩＩ）
（１）（式中、Ｒ，Ｒｌ及びｎは前記に同じ。
（１）（式中、Ｒ，Ｒｌ及びｎは前記に同じ。
）即ち、一般式（Ｉ［ｌ）で表わされる有機塩素化合物
と一般式（Ｉｔ）で表わされるアルカリ金属シアノ化合
物とを不活性溶媒及びハロゲン化アルカリ金属塩の存在
下に、ニノケル化合物及びホスフィン化合物を触媒とす
るか、又はニッケル化合物及びパラジウム化合物及びホ
スフィン化合物を触媒として反応させることによシ一般
式（［）で表わされる芳香族オレフィン類を製造するこ
とができる。
と一般式（Ｉｔ）で表わされるアルカリ金属シアノ化合
物とを不活性溶媒及びハロゲン化アルカリ金属塩の存在
下に、ニノケル化合物及びホスフィン化合物を触媒とす
るか、又はニッケル化合物及びパラジウム化合物及びホ
スフィン化合物を触媒として反応させることによシ一般
式（［）で表わされる芳香族オレフィン類を製造するこ
とができる。
本反応は芳香族環、脂環式環又は複累環に直接結合する
塩素原子をニトリル類に置換するもので、複数の塩素原
子でも同時に置換される。
塩素原子をニトリル類に置換するもので、複数の塩素原
子でも同時に置換される。
しかし、塩素原子が結合している炭素原子に隣接する位
置に水素原子又はフッ素原子以外の置換基が存在する場
合、該塩素原子は置換されない。
置に水素原子又はフッ素原子以外の置換基が存在する場
合、該塩素原子は置換されない。
一般式（ＩＩＩ）で表わされる有機塩素化合物として、
芳香族塩素化合物としては、例えばクロロベンセン、ジ
クロロベンゼン、トリクロロベンゼン、テトラクロロベ
ンゼン、クロロトルエン、ジクロロトルエン、トリクロ
ロトルエン、クロ曽キシレン、ジクロロキシレン、クロ
ロアニンール、シクロロアニソール、トリクロロアニソ
ール等の芳香族化合物類、２−クロロベンズアルデヒド
、４−クロロペンズアルデヒド、２，４−シクロロベン
ズアルデヒド、２．６−’）クロロペンスアルテヒ｝”
、３．４−ジクロロベンズアルデヒド等のベンズアルデ
ヒド類、２−クロロベンゾニトリル、４−クロロベンゾ
ニトリル、２，６−ジクロロベンゾニトリル， ３．
４−シクｏｏペンゾニトリル等のペンゾニトリル類、２
−クロロニト口ベンゼン、４−クロロニトロベンゼン等
のニトロベンゼン類、２−クロロ安息香酸、５−クロロ
安息香酸、４−クロロ安息香酸等の安息査酸類のエステ
ル類、２−クロロジフエニルエーテル、３−クロロジフ
ェニルエーテル、４−クロロジフェニルエーテル等のジ
フェニルエーテル類、２−クロロペンゾフェノン、３一
クロロペンゾフェノン、４−クロロベンソフェノン等の
ペンゾフェノン類、２−クロロアセトフェノン、５−ク
ロロアセトフェノン、３−クロロアセトフェノン等のア
セトフエノン類の他、クロロフェニル酢酸エステル、Ｎ
−アセチルクロロアニリン、クロロナフタレン、クロロ
アントラキノン等を例示することができ、複素環塩素化
合物としてはクロロチオフエン、ジクロ口チオフェン、
トリクロロチオフェン、クロロフラン、ジクＣ口フラン
、トリクロロフラン、クロロインドール、クロロビリジ
ン等を例示することができるが、本発明はこれらの有機
塩素化合物に限定されるものではない。
芳香族塩素化合物としては、例えばクロロベンセン、ジ
クロロベンゼン、トリクロロベンゼン、テトラクロロベ
ンゼン、クロロトルエン、ジクロロトルエン、トリクロ
ロトルエン、クロ曽キシレン、ジクロロキシレン、クロ
ロアニンール、シクロロアニソール、トリクロロアニソ
ール等の芳香族化合物類、２−クロロベンズアルデヒド
、４−クロロペンズアルデヒド、２，４−シクロロベン
ズアルデヒド、２．６−’）クロロペンスアルテヒ｝”
、３．４−ジクロロベンズアルデヒド等のベンズアルデ
ヒド類、２−クロロベンゾニトリル、４−クロロベンゾ
ニトリル、２，６−ジクロロベンゾニトリル， ３．
４−シクｏｏペンゾニトリル等のペンゾニトリル類、２
−クロロニト口ベンゼン、４−クロロニトロベンゼン等
のニトロベンゼン類、２−クロロ安息香酸、５−クロロ
安息香酸、４−クロロ安息香酸等の安息査酸類のエステ
ル類、２−クロロジフエニルエーテル、３−クロロジフ
ェニルエーテル、４−クロロジフェニルエーテル等のジ
フェニルエーテル類、２−クロロペンゾフェノン、３一
クロロペンゾフェノン、４−クロロベンソフェノン等の
ペンゾフェノン類、２−クロロアセトフェノン、５−ク
ロロアセトフェノン、３−クロロアセトフェノン等のア
セトフエノン類の他、クロロフェニル酢酸エステル、Ｎ
−アセチルクロロアニリン、クロロナフタレン、クロロ
アントラキノン等を例示することができ、複素環塩素化
合物としてはクロロチオフエン、ジクロ口チオフェン、
トリクロロチオフェン、クロロフラン、ジクＣ口フラン
、トリクロロフラン、クロロインドール、クロロビリジ
ン等を例示することができるが、本発明はこれらの有機
塩素化合物に限定されるものではない。
本発明で使用する一般式（Ｉｔ）で表わされるアルカリ
金属シアノ化合物としては、例えばシアン化ナトリウム
、シアン化カリウム等のアルカリ金属シアノ化合物を使
用することができる。
金属シアノ化合物としては、例えばシアン化ナトリウム
、シアン化カリウム等のアルカリ金属シアノ化合物を使
用することができる。
アルカリ金属シアノ化合物の添加量は、一般式（［１）
で表わされる有機塩素化物の塩素原子１に対して等モル
乃至過剰モルの範囲から選択して使用すれば良い。但し
、塩素原子が結合している炭素原子に隣接する位置に水
素原子又はフッ素原子以外の置換基が存在する場合は、
該塩素原子は反応しないので添加ｆｋＩｆｉ減じなけれ
ばならない。
で表わされる有機塩素化物の塩素原子１に対して等モル
乃至過剰モルの範囲から選択して使用すれば良い。但し
、塩素原子が結合している炭素原子に隣接する位置に水
素原子又はフッ素原子以外の置換基が存在する場合は、
該塩素原子は反応しないので添加ｆｋＩｆｉ減じなけれ
ばならない。
本発明で触媒として使用するニッケル化合物ハパラジウ
ム化合物及び／又はホスフィン化合物と組み合わせて使
用すれば良く、ニッケル化合物としては、例えば塩化ニ
ッケル、臭化ニッケル，酢酸ニッケル、ジクロロビスト
リフェニｋ ，ｔ− ス７インニッケル、テトラキスト
リフェニルホスフィンニッケル等のニッケル化合物を使
用でき、パラジウム化合物としては、例えば金為パラジ
ウム、パラジウムカーボン、パラジウムアルミナ、塩化
パラジウム、臭化パラジウム、酢酸パラジウム、ジクロ
ロビス（シアノフェニル）バーラジウム、ジクロロビス
（トリフェニルホスフィン）ハラジウム、テトラキス（
トリフェニルホスフィン）ハラジウム、トリス（ジベン
ジリデンアセトン）ニパラジウム等のパラジウム化合物
を使用することができ、ホスフィン化合物としては、例
えばトリインプロビルホスフィン、トリブチルホスフィ
ン、トリフェニルホスフィン、トリパラフルオロフェニ
ルホスフィン、トリーペンタフルオロフェニルホスフィ
ン、トリオルントリルフェニルホスフイン、トリバラト
リルフェニルホスフィン、トリフェノキシホスフィン、
ジメチルフェニルホスフィン、メチルジフェニルホスフ
イン、ジーペンタフルオロフェニルホスフィン，１，２
．５−｝リフエニルホスホール、５−フェニルベンゾホ
スホール等の一般式ＣＭ）で表わされるホスフィン化合
物、一般式（Ｖ）で表わされるホスフィン化合物として
は、例えば１．１−ビス（ジメチルホスフィノ）メタン
、１，１−ビス（ジエチルホスフィノ）メタン、１，２
−ビス（ジメチルホスフィノ）エタン、１，２−ビス（
ジエチルホスフィノ）エタン、１．３−ビス（ジメチル
ホスフィノ）プロパン、１，４−ビス（ジメチルホスフ
ィノ）ブタン等のビス（ジアルキルホスフィノ）アルカ
ンＭ、１ｔ１−ビス（ジフェニルホスフィノ）メタン、
１．２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン、１，５
−ビス（ジフェニルホスフィノ）フロパン、１，４−ビ
ス（ジフェニルホスフィノ）フタン、１．５−ビス（ジ
フエニルホスフィノ冫ベンタン、１．６−ビス（ジフェ
ニルホスフィノ）ヘキサン、２．５−０−インブロビリ
デン−２，３ージヒドロキシ−１，４−ビス（ジフェニ
ルホスフィノ）ブタン、ビス（ジフェニルホスフィノ）
フェロセン、ビス（ジフェニルホスフィノ）ビナフチル
等のホスフィン化合物を例示することができる。
ム化合物及び／又はホスフィン化合物と組み合わせて使
用すれば良く、ニッケル化合物としては、例えば塩化ニ
ッケル、臭化ニッケル，酢酸ニッケル、ジクロロビスト
リフェニｋ ，ｔ− ス７インニッケル、テトラキスト
リフェニルホスフィンニッケル等のニッケル化合物を使
用でき、パラジウム化合物としては、例えば金為パラジ
ウム、パラジウムカーボン、パラジウムアルミナ、塩化
パラジウム、臭化パラジウム、酢酸パラジウム、ジクロ
ロビス（シアノフェニル）バーラジウム、ジクロロビス
（トリフェニルホスフィン）ハラジウム、テトラキス（
トリフェニルホスフィン）ハラジウム、トリス（ジベン
ジリデンアセトン）ニパラジウム等のパラジウム化合物
を使用することができ、ホスフィン化合物としては、例
えばトリインプロビルホスフィン、トリブチルホスフィ
ン、トリフェニルホスフィン、トリパラフルオロフェニ
ルホスフィン、トリーペンタフルオロフェニルホスフィ
ン、トリオルントリルフェニルホスフイン、トリバラト
リルフェニルホスフィン、トリフェノキシホスフィン、
ジメチルフェニルホスフィン、メチルジフェニルホスフ
イン、ジーペンタフルオロフェニルホスフィン，１，２
．５−｝リフエニルホスホール、５−フェニルベンゾホ
スホール等の一般式ＣＭ）で表わされるホスフィン化合
物、一般式（Ｖ）で表わされるホスフィン化合物として
は、例えば１．１−ビス（ジメチルホスフィノ）メタン
、１，１−ビス（ジエチルホスフィノ）メタン、１，２
−ビス（ジメチルホスフィノ）エタン、１，２−ビス（
ジエチルホスフィノ）エタン、１．３−ビス（ジメチル
ホスフィノ）プロパン、１，４−ビス（ジメチルホスフ
ィノ）ブタン等のビス（ジアルキルホスフィノ）アルカ
ンＭ、１ｔ１−ビス（ジフェニルホスフィノ）メタン、
１．２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン、１，５
−ビス（ジフェニルホスフィノ）フロパン、１，４−ビ
ス（ジフェニルホスフィノ）フタン、１．５−ビス（ジ
フエニルホスフィノ冫ベンタン、１．６−ビス（ジフェ
ニルホスフィノ）ヘキサン、２．５−０−インブロビリ
デン−２，３ージヒドロキシ−１，４−ビス（ジフェニ
ルホスフィノ）ブタン、ビス（ジフェニルホスフィノ）
フェロセン、ビス（ジフェニルホスフィノ）ビナフチル
等のホスフィン化合物を例示することができる。
本発明はニッケル化合物及びホスフィン化合物、又はニ
ッケル化合物及びパラジウム化合物及びホスフィン化合
物とを組み合わせて使用すれば良〈、反応系にそれぞれ
単独で添加しても良く、予め錯体の形に調製して使用し
ても良い。
ッケル化合物及びパラジウム化合物及びホスフィン化合
物とを組み合わせて使用すれば良〈、反応系にそれぞれ
単独で添加しても良く、予め錯体の形に調製して使用し
ても良い。
ニッケル化合物の添加量は一般式（ＩＩＩ）で表わされ
る有機塩素化合物１モルに対して住００１〜α５倍モル
、好筐しくはａ０１〜（Ｌ２倍モルの範囲から適宜選択
して使用すれば良い。
る有機塩素化合物１モルに対して住００１〜α５倍モル
、好筐しくはａ０１〜（Ｌ２倍モルの範囲から適宜選択
して使用すれば良い。
ホスフィン化合物は同じ（（ＬＯＯ１〜代５倍モル、好
１レ〈は（１００５〜０２倍モルの範囲から選択して使
用すれば良い。
１レ〈は（１００５〜０２倍モルの範囲から選択して使
用すれば良い。
パラジウム化合物を組み合わせて使用する場合は、同様
に１１０００１〜０５倍モル、好ましくは（１０００１
〜００１倍モルの範囲から適宜選択して使用すれば良い
。
に１１０００１〜０５倍モル、好ましくは（１０００１
〜００１倍モルの範囲から適宜選択して使用すれば良い
。
本反応で使用できるハロゲン化アルカリ金属塩としては
、例えば沃化ナトリウム、沃化カリウム、臭化ナトリウ
ム、臭化カリウム等の７〜ロゲン化アルカリ金属塩を使
用することができる。
、例えば沃化ナトリウム、沃化カリウム、臭化ナトリウ
ム、臭化カリウム等の７〜ロゲン化アルカリ金属塩を使
用することができる。
ハロゲン化アルカリ金属塩の使用ｔは一般式（ＩＩＩ）
で表わされる有機塩素化合物１モルに対してＱ．ＱＱ１
〜１．０倍モルの範囲から選択して使用すれば良く、好
１し〈ぱＣＬＯ１〜［１５倍モルの範囲から選択すれば
良い。
で表わされる有機塩素化合物１モルに対してＱ．ＱＱ１
〜１．０倍モルの範囲から選択して使用すれば良く、好
１し〈ぱＣＬＯ１〜［１５倍モルの範囲から選択すれば
良い。
本発明で使用できる不活性溶媒としては、例えばジメチ
ルホルムアミド、ジメテルアセトアミド、ジエチルアセ
トアミド、ジブチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホ
リックトリアミド（ＨＭＰＡ）、テトラメチルウレア、
ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチルビロリドン、ベンゾ
ニトリル、スルホラン、ベンセン等の不活性溶媒を使用
することができる。
ルホルムアミド、ジメテルアセトアミド、ジエチルアセ
トアミド、ジブチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホ
リックトリアミド（ＨＭＰＡ）、テトラメチルウレア、
ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチルビロリドン、ベンゾ
ニトリル、スルホラン、ベンセン等の不活性溶媒を使用
することができる。
反応温度は１００℃〜２５０℃の範囲から選択すれば良
く、好普しくは１５０℃〜２００℃の範囲で行うのが良
い。
く、好普しくは１５０℃〜２００℃の範囲で行うのが良
い。
反応時間は反応温度、反応規模等により一定しないが、
反応が完結してｈｉば良く、１〜４８時間の範囲である
。
反応が完結してｈｉば良く、１〜４８時間の範囲である
。
本反応は開放系又は閉鎖系で反応が進行し、一般式（■
）で表わされる有機塩素化合物が比較的低沸点化合物の
場合、閉鎖系で反応を行うのが好１しい。
）で表わされる有機塩素化合物が比較的低沸点化合物の
場合、閉鎖系で反応を行うのが好１しい。
反応終了後、常法に従い、例えば目的物を含む反応液か
ら触媒を回収し、目的物を含む反応溶液から不活性溶媒
を減圧下に留去し、必要に応じてドツイカラムク口マト
グラフィー、蒸留等の方法で鳩空し、目的物を単離すれ
ば良い。
ら触媒を回収し、目的物を含む反応溶液から不活性溶媒
を減圧下に留去し、必要に応じてドツイカラムク口マト
グラフィー、蒸留等の方法で鳩空し、目的物を単離すれ
ば良い。
以下に本発明の代表的な実施例を挙げるが、本発明はこ
れらに限定されるものではない。
れらに限定されるものではない。
実施例１． ハラシアノベンゾフヱノンの製造１−１
． パラクロロベンゾフェノン４．５５？、シアン化カリウ
ムｔ ５ ６ ｆ、臭化ニッケルα２ １ ９９ １１
，ａ一シフェニルホスフィノブタンａ１ｙａ４？，沃化
ナトリウムａｓｏｙ及びジエチルアセトアミド３ ０
ｒｔｔｌ １ｊｒ三つ口フラスコに入れ、１８０℃の反
応温度で攪拌下３時間反応を行った。反応終了後、目的
物を含む反応液から触媒を濾去し、濾液を減圧下に濃縮
し、得られた残渣をガスクロマトグラフィー（内標法、
内標物 トリフェニルメタン）で分析した結果、目的物
が５４．５％の生成率で生或した。
． パラクロロベンゾフェノン４．５５？、シアン化カリウ
ムｔ ５ ６ ｆ、臭化ニッケルα２ １ ９９ １１
，ａ一シフェニルホスフィノブタンａ１ｙａ４？，沃化
ナトリウムａｓｏｙ及びジエチルアセトアミド３ ０
ｒｔｔｌ １ｊｒ三つ口フラスコに入れ、１８０℃の反
応温度で攪拌下３時間反応を行った。反応終了後、目的
物を含む反応液から触媒を濾去し、濾液を減圧下に濃縮
し、得られた残渣をガスクロマトグラフィー（内標法、
内標物 トリフェニルメタン）で分析した結果、目的物
が５４．５％の生成率で生或した。
尚，生成物の特定は目的物の標品を使用し、ガス力ラム
クロマトグラフィーのリテンシッンタイム（ＲＴ）から
特定した。
クロマトグラフィーのリテンシッンタイム（ＲＴ）から
特定した。
１−２．
実施例１−１で使用した不活性溶媒のジェチルアセトア
ミド５０−をＮ−メチルホルムアニライド２０−に変え
、他の条件は実施例１−１と同様に反応を行った。反応
終了後、実施例１−１と同様に処理し、ガスクロマトグ
ラフィーで分析（面積百分率）シた結果、目的物が５１
．４俤の生或率で生戒した。
ミド５０−をＮ−メチルホルムアニライド２０−に変え
、他の条件は実施例１−１と同様に反応を行った。反応
終了後、実施例１−１と同様に処理し、ガスクロマトグ
ラフィーで分析（面積百分率）シた結果、目的物が５１
．４俤の生或率で生戒した。
尚、生底物の特定は実施例１−１と同様に行った。
１ − 五
１−１と同じ反応条件で、更に触媒として塩化パラジウ
ム＆８５■を加え、１８０℃の反応温度で２４時間反応
金行った。反応終了後、反応液を実施例１−１と同様（
内標物 トリフェニルメタン）にして分析した結果、目
的物が９０．３％の生戒率で生成した。又生成物の特定
も同様に行った。
ム＆８５■を加え、１８０℃の反応温度で２４時間反応
金行った。反応終了後、反応液を実施例１−１と同様（
内標物 トリフェニルメタン）にして分析した結果、目
的物が９０．３％の生戒率で生成した。又生成物の特定
も同様に行った。
１ − ４ 〜 ５．
実ＭＭ例１−ｓの１．４−ジフェニルホスフィノブタン
を第１表に示すホスフィン化合物に変え、他の条件は１
−３と同様に行った。結果を第１表に示す。
を第１表に示すホスフィン化合物に変え、他の条件は１
−３と同様に行った。結果を第１表に示す。
尚、生或率はカスクロマトグラフィーを使用し、その面
積百分率から算出した。又、生或物の特定は実施例１−
１と同様にした。
積百分率から算出した。又、生或物の特定は実施例１−
１と同様にした。
第 １ 表
実施ｆｌＪ２−ハラトリフルオロベンゾニトリルの製造
バラクロロペンゾトリフルオライド＆５０２、シアン化
カリウム１．９５ｆ．ＪＬ化ニッケル１５２８５９、塩
化パラジウム［ＬＯ１３３ｆ、１，４−ビスジフェニル
ホスフィノブタンｌｌＬ２５５６２、沃化カリウムｆｌ
５（ｌ及びジエチルアセトアミド２０−をオートクレー
プに入れ、１８０℃で４時間反応を行った。反応終了後
、反応液を実施例１−１と同機（内標物 アニソール）
にして分析した結果、目的物が８２−４％の生ｅ．率で
生或した。又生底物の特定も同様に行った。
カリウム１．９５ｆ．ＪＬ化ニッケル１５２８５９、塩
化パラジウム［ＬＯ１３３ｆ、１，４−ビスジフェニル
ホスフィノブタンｌｌＬ２５５６２、沃化カリウムｆｌ
５（ｌ及びジエチルアセトアミド２０−をオートクレー
プに入れ、１８０℃で４時間反応を行った。反応終了後
、反応液を実施例１−１と同機（内標物 アニソール）
にして分析した結果、目的物が８２−４％の生ｅ．率で
生或した。又生底物の特定も同様に行った。
実施例五ハラシアノトルエンの製造
パラクロロトルエン４．５５１／，シアン化カリウムｔ
９５Ｓ’、臭化ニッケルＣＬ３２９１，塩化パラジウム
（ＬＯ１３３ｙ，１，４−ビスジフェニルホスフィノブ
タン［１２５５６９、沃化カリウム１．０７及びジエチ
ルアセトアミド２０ｍ’ｉオートクレープに入れ、１８
０℃で４時間反応を行った。反応終了後、反応液を実施
例１−１と同様（内標物アセトフェノン）ＫＬて分析し
た結果、目的物が８７．２％の生＊ａＸで生或した．又
生底物の特定も同様に行った。
９５Ｓ’、臭化ニッケルＣＬ３２９１，塩化パラジウム
（ＬＯ１３３ｙ，１，４−ビスジフェニルホスフィノブ
タン［１２５５６９、沃化カリウム１．０７及びジエチ
ルアセトアミド２０ｍ’ｉオートクレープに入れ、１８
０℃で４時間反応を行った。反応終了後、反応液を実施
例１−１と同様（内標物アセトフェノン）ＫＬて分析し
た結果、目的物が８７．２％の生＊ａＸで生或した．又
生底物の特定も同様に行った。
実施例４．バラシアノジフェニルの架造パラクロロジフ
ェニルＡ７７Ｓ’、シアン化カリウム１．５６？．臭化
ニッケル（Ｌ２１９ｆ．塩化パラジウム（１００８９
ｆ、１ ． ４ − ヒスシ７ エ−？− ／Ｌ’ ホ
．Ｘフィノブタンα１７０４ ｆ、沃化ナトリウムα３
ｔ及びジエチルアセトアミド２ ０ ｗｌ ｆオートク
レープに入れ、１８０℃で４時間反応を行った。
ェニルＡ７７Ｓ’、シアン化カリウム１．５６？．臭化
ニッケル（Ｌ２１９ｆ．塩化パラジウム（１００８９
ｆ、１ ． ４ − ヒスシ７ エ−？− ／Ｌ’ ホ
．Ｘフィノブタンα１７０４ ｆ、沃化ナトリウムα３
ｔ及びジエチルアセトアミド２ ０ ｗｌ ｆオートク
レープに入れ、１８０℃で４時間反応を行った。
反応終了後、反応液を実施例１−１と同様（内標物トリ
フエニルメタン）にして分析した結果、目的物が８２−
７％の生或率で生成した。又生或物の特定も回様に行っ
た。
フエニルメタン）にして分析した結果、目的物が８２−
７％の生或率で生成した。又生或物の特定も回様に行っ
た。
実施例５ バラジシアノベンゼンの製造パラジクロロベ
ンゼン１６Ｂ？，シアン化カリウムｓｓｓｙ、臭化ニッ
ケル０５４７１Ｆ．塩化パラジウムα０２２１ｆ，
１．４−ビスジフェニルホスフィノブタンｃＬ４２６？
，沃化ナトリウム１． ５ ０ ９及びジエチルアセト
アミド２５ｄ′ｋオートクレープに入れ、１８０℃で４
時間反応を行った。反応終了後、反応液を実施例１−１
と同様（内標物ジフェニール）にして分析した結果、目
的物が８ ７． ５ ％の生戒率で生或した。又生成物
の特定も同様に行った。
ンゼン１６Ｂ？，シアン化カリウムｓｓｓｙ、臭化ニッ
ケル０５４７１Ｆ．塩化パラジウムα０２２１ｆ，
１．４−ビスジフェニルホスフィノブタンｃＬ４２６？
，沃化ナトリウム１． ５ ０ ９及びジエチルアセト
アミド２５ｄ′ｋオートクレープに入れ、１８０℃で４
時間反応を行った。反応終了後、反応液を実施例１−１
と同様（内標物ジフェニール）にして分析した結果、目
的物が８ ７． ５ ％の生戒率で生或した。又生成物
の特定も同様に行った。
実施例＆ メタジシアノベンゼンの製造メタジクロロベ
ンゼンＡ Ｉｓ ８ ｙ，シアン化カリウムｙｓｓｓｙ
．臭化ニッケル１．５（１．塩化パラジウムａ０２２１
？、１ ． ４−ビスジフェニルホスフィノブタンＡ
４２６？、沃化ナトリウム１．５２及びジエチルアセト
アミド２５ｄｊｆオートクレープに入れ、１８０℃で４
時間反応を行った。反応終了後、反応液を実施例１−１
と同様（内標物ジフェニール）にして分析した結果、目
的物が７１．６％の生戒率で生成した。又生成物の特定
も同様に行った。
ンゼンＡ Ｉｓ ８ ｙ，シアン化カリウムｙｓｓｓｙ
．臭化ニッケル１．５（１．塩化パラジウムａ０２２１
？、１ ． ４−ビスジフェニルホスフィノブタンＡ
４２６？、沃化ナトリウム１．５２及びジエチルアセト
アミド２５ｄｊｆオートクレープに入れ、１８０℃で４
時間反応を行った。反応終了後、反応液を実施例１−１
と同様（内標物ジフェニール）にして分析した結果、目
的物が７１．６％の生戒率で生成した。又生成物の特定
も同様に行った。
特許出願入 日本農桑株式会社
−５４４
Claims (8)
- （１）一般式（III） Ｒ・（Ｃｌ）＿ｎ（III） （式中、Ｒは置換基を有していても良い芳香族、脂環式
又は複素環残基を示し、ｎは１以上の整数を示す。）で
表わされる有機塩素化合物と一般式（II）Ｍ・ＣＮ（I
I） （式中、Ｍはアルカリ金属原子を示す。）で表わされる
アルカリ金属シアノ化合物とをニッケル化合物及びホス
フィン化合物を触媒としてハロゲン化アルカリ金属塩の
存在下に反応させることを特徴とする一般式（ I ） Ｒ・（ＣＮ）＿ｎ（ I ） （式中、Ｒ及びｎは前記に同じ。） で表わされるニトリル類の製造方法。 - （２）一般式（III） Ｒ・（Ｃｌ）＿ｎ（III） （式中、Ｒは置換基を有していても良い芳香族、脂環式
又は複素環残基を示し、ｎは１以上の整数を示す。）で
表わされる有機塩素化合物と一般式（II） Ｍ・ＣＮ（II） （式中、Ｍはアルカリ金属原子を示す。）で表わされる
アルカリ金属シアノ化合物とをニッケル化合物、パラジ
ウム化合物及びホスフィン化合物を触媒としてハロゲン
化アルカリ金属塩の存在下に反応させることを特徴とす
る一般式（ I ） Ｒ・（ＣＮ）＿ｎ（ I ） （式中、Ｒ及びｎは前記に同じ。） で表わされるニトリル類の製造方法。 - （３）ニッケル化合物が塩化ニッケル、臭化ニッケル、
酢酸ニッケル、ジクロロビストリフェニルホスフィンニ
ッケル、テトラキストリフェニルホスフィンニッケルで
ある請求項第１項又は第２項記載の芳香族ニトリル類の
製造方法。 - （４）パラジウム化合物がパラジウム金属、固体に担持
されたパラジウム金属又０価、２価若しくは４価の錯体
である請求項第２項記載のニトリル類の製造方法。 - （５）パラジウム化合物がパラジウムカーボン、塩化パ
ラジウム又は酢酸パラジウムである請求項第４項記載の
ニトリル類の製造方法。 - （６）ホスフィン化合物が一般式（IV） ▲数式、化学式、表等があります▼（IV） （式中、Ｒ＾２、Ｒ＾３及びＲ＾４は同一又は異なって
も良く、置換基を有しても良いアルキル基、置換基を有
しても良いフェニル基又は置換基を有しても良いフェノ
キシ基を示す。）で表わされるホスフィン化合物である
請求項第１項又は第２項記載のニトリル類の製造方法。 - （７）ホスフィン化合物が一般式（Ｖ） （Ｒ＾５）＿２−Ｐ−Ｘ−Ｐ−（Ｒ＾５）＿２（Ｖ）（
式中、Ｒ＾５はアルキル基又は置換基を有しても良いフ
ェニル基を示し、Ｘは炭素原子数１〜６のアルキレン基
、▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼、−ＣＨ＿２−ＣＨ
＿２−Ｐ（Ｐｈ）−ＣＨ＿２−ＣＨ＿２−（式中、Ｐｈ
はフェニル基を示す。）又はビナフチル基を示す）で表
わされるホスフィン化合物である請求項第１項又は第２
項記載のニトリル類の製造方法。 - （８）ハロゲン化アルカリ金属塩が沃化ナトリウム、沃
化カリウム、臭化ナトリウム、臭化カリウムである請求
項第１項又は第２項記載のニトリル類の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1148873A JP2753858B2 (ja) | 1989-06-12 | 1989-06-12 | ニトリル類の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1148873A JP2753858B2 (ja) | 1989-06-12 | 1989-06-12 | ニトリル類の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0314554A true JPH0314554A (ja) | 1991-01-23 |
| JP2753858B2 JP2753858B2 (ja) | 1998-05-20 |
Family
ID=15462631
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1148873A Expired - Fee Related JP2753858B2 (ja) | 1989-06-12 | 1989-06-12 | ニトリル類の製造法 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2753858B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6331628B1 (en) | 1999-03-29 | 2001-12-18 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Process for the preparation of benzonitrile compounds |
| JP2008189656A (ja) * | 2006-11-29 | 2008-08-21 | Saltigo Gmbh | 芳香族または複素芳香族ニトリルを触媒的に製造する方法 |
-
1989
- 1989-06-12 JP JP1148873A patent/JP2753858B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6331628B1 (en) | 1999-03-29 | 2001-12-18 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Process for the preparation of benzonitrile compounds |
| JP2008189656A (ja) * | 2006-11-29 | 2008-08-21 | Saltigo Gmbh | 芳香族または複素芳香族ニトリルを触媒的に製造する方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2753858B2 (ja) | 1998-05-20 |
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