JPH0314670Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0314670Y2 JPH0314670Y2 JP1984039660U JP3966084U JPH0314670Y2 JP H0314670 Y2 JPH0314670 Y2 JP H0314670Y2 JP 1984039660 U JP1984039660 U JP 1984039660U JP 3966084 U JP3966084 U JP 3966084U JP H0314670 Y2 JPH0314670 Y2 JP H0314670Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- protective layer
- substrate
- grip
- photoresist
- liquid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Description
【考案の詳細な説明】
本考案は、保護層で被覆されたフオトレジスト
基板から、該保護層を完全に除去するための処理
装置に関するものである。
基板から、該保護層を完全に除去するための処理
装置に関するものである。
従来フオトレジスト基板は、銅張積層板を基層
として、その両面または片面にフオトレジスト層
と保護層とを順に積層した構成よりなり、これに
フオトマスクを通して紫外光などの露光したの
ち、保護層を除去し、ついで現像、エツチング処
理を行うのが一般的方法である。
として、その両面または片面にフオトレジスト層
と保護層とを順に積層した構成よりなり、これに
フオトマスクを通して紫外光などの露光したの
ち、保護層を除去し、ついで現像、エツチング処
理を行うのが一般的方法である。
しかして、従来の保護層としては、水または有
機溶剤に可溶な物質が使用されており、適当間隔
をおいて設けられた上下2列の回転ローラ群の間
をこれらフオトレジスト基板が搬送され、その間
にフオトレジスト基板の両面よりノズルを介して
水または有機溶剤を噴射して該保護層を溶解除去
する方法が知られている。
機溶剤に可溶な物質が使用されており、適当間隔
をおいて設けられた上下2列の回転ローラ群の間
をこれらフオトレジスト基板が搬送され、その間
にフオトレジスト基板の両面よりノズルを介して
水または有機溶剤を噴射して該保護層を溶解除去
する方法が知られている。
この方法によると、保護層の除去そのものは円
滑に行ない得るものの、液中に溶解した保護層物
質の濃度が時間の経過と共に上昇し、その廃棄処
理をいかにするかが新たな問題となつてきた。
滑に行ない得るものの、液中に溶解した保護層物
質の濃度が時間の経過と共に上昇し、その廃棄処
理をいかにするかが新たな問題となつてきた。
本出願人は、かかる問題点を解決すべく検討し
た結果、保護層として水に対して溶解することな
く膨潤するポリビニルアルコール系樹脂を用い、
該保護層を水と接触せしめるときは、保護層が溶
解することなく膨潤することにより容易に脱落除
去され、しかも水中にはポリビニルアルコール系
樹脂が溶解しないので、水の廃棄処理の問題が解
決されることを見出し、特許出願を行つた。
た結果、保護層として水に対して溶解することな
く膨潤するポリビニルアルコール系樹脂を用い、
該保護層を水と接触せしめるときは、保護層が溶
解することなく膨潤することにより容易に脱落除
去され、しかも水中にはポリビニルアルコール系
樹脂が溶解しないので、水の廃棄処理の問題が解
決されることを見出し、特許出願を行つた。
ところが、この発明を前記のごとき処理装置を
使つて実施したところ、除去された保護フイルム
がときに下列の回転ローラーにまつわりついて連
続運転の妨げとなつたり、保護層フイルムが基板
に付着したまま次工程の現像槽に搬入されるなど
の問題点が明らかとなつてきた。
使つて実施したところ、除去された保護フイルム
がときに下列の回転ローラーにまつわりついて連
続運転の妨げとなつたり、保護層フイルムが基板
に付着したまま次工程の現像槽に搬入されるなど
の問題点が明らかとなつてきた。
本出願人は、かかる問題点を解決すべく検討を
重ねた結果本考案を完成するに至つたのである。
重ねた結果本考案を完成するに至つたのである。
本考案の装置を第1図および第2図にもとづい
て説明する。第1図は本考案の装置の側面図、第
2図は本考案の装置の平面図を示す。
て説明する。第1図は本考案の装置の側面図、第
2図は本考案の装置の平面図を示す。
本考案の装置は、保持層で被覆されたフオトレ
ジスト基板を垂直方向に保持しながら水平方向に
移動し、その間に、保護層に対して膨潤性を有す
る液体を該基板の表面に噴射することによつて、
保護層を剥離する装置において、保護層で被覆さ
れたフオトレジスト基板の下端部を挾んで垂直方
向に保持するつかみ具1と、つかみ具1を固定し
て水平方向に搬送する機構2と、該基板が搬送さ
れる間に該保護層に対して膨潤性を有する液体を
該基板の両面または片面に対して噴射するノズル
群3と、保護層の大部分が剥離したのち該基板の
上端部を挾んで保持するつかみ具4と、つかみ具
4を固定して水平方向に搬送する機構5と、つか
み具4で該基板を保持した直後に該基板の下端部
を挾んでいたつかみ具1を離す機構6と、なお該
基板に付着している保護層に対して該液体を噴射
するノズル群7とを組合わせてなることを特徴と
する保護層で被覆されたフオトレジスト基板から
保護層を完全に除去するためのフオトレジスト基
板の処理装置である。
ジスト基板を垂直方向に保持しながら水平方向に
移動し、その間に、保護層に対して膨潤性を有す
る液体を該基板の表面に噴射することによつて、
保護層を剥離する装置において、保護層で被覆さ
れたフオトレジスト基板の下端部を挾んで垂直方
向に保持するつかみ具1と、つかみ具1を固定し
て水平方向に搬送する機構2と、該基板が搬送さ
れる間に該保護層に対して膨潤性を有する液体を
該基板の両面または片面に対して噴射するノズル
群3と、保護層の大部分が剥離したのち該基板の
上端部を挾んで保持するつかみ具4と、つかみ具
4を固定して水平方向に搬送する機構5と、つか
み具4で該基板を保持した直後に該基板の下端部
を挾んでいたつかみ具1を離す機構6と、なお該
基板に付着している保護層に対して該液体を噴射
するノズル群7とを組合わせてなることを特徴と
する保護層で被覆されたフオトレジスト基板から
保護層を完全に除去するためのフオトレジスト基
板の処理装置である。
本考案の装置の特長は、上下2列の回転ローラ
ー群によりフオトレジスト基板が搬送される間に
該基板に対して液体を噴射する従来の装置に比較
して、保護層の剥離速度が早く処理速度を上げる
こと、または装置の小型化が可能なことでありま
た、搬送用回転ロールに剥離した保護層フイルム
がまつわりつくこともないので連続運転を妨げな
いこと、更に保護フイルムは、本考案の装置内で
完全に剥離除去されるので次工程の現像槽に搬入
されるトラブルが発生しないことである。
ー群によりフオトレジスト基板が搬送される間に
該基板に対して液体を噴射する従来の装置に比較
して、保護層の剥離速度が早く処理速度を上げる
こと、または装置の小型化が可能なことでありま
た、搬送用回転ロールに剥離した保護層フイルム
がまつわりつくこともないので連続運転を妨げな
いこと、更に保護フイルムは、本考案の装置内で
完全に剥離除去されるので次工程の現像槽に搬入
されるトラブルが発生しないことである。
さらに本考案の装置を詳細に説明する。フオト
レジスト基板は、通常約20〜50cm×約10〜30cm程
度の4角形の自体保持性を有する板状物であり、
露光後送りローラーまたは溝付のラツクにより送
られてくる。本考案の装置では、先ず該基板の下
端部をつかみ具1で挾んで垂直方向に保持しなが
ら機構2により水平方向に搬送する。つかみ具1
は、該基板の下端部を挾んで垂直方向に保持する
ことができればよく、形状材質については特に制
限はない。又、搬送方向に対して該基板を保持す
る角度は、必ずしも平行である必要はなく、つか
み具を回転させて適当な角度に調節してもよい。
レジスト基板は、通常約20〜50cm×約10〜30cm程
度の4角形の自体保持性を有する板状物であり、
露光後送りローラーまたは溝付のラツクにより送
られてくる。本考案の装置では、先ず該基板の下
端部をつかみ具1で挾んで垂直方向に保持しなが
ら機構2により水平方向に搬送する。つかみ具1
は、該基板の下端部を挾んで垂直方向に保持する
ことができればよく、形状材質については特に制
限はない。又、搬送方向に対して該基板を保持す
る角度は、必ずしも平行である必要はなく、つか
み具を回転させて適当な角度に調節してもよい。
つかみ具1を固定して水平方向に搬送する機構
2としては、つかみ具1を固定して水平方向に駆
動する2本のチエイン、またはベルトなどがいず
れも採用し得る。
2としては、つかみ具1を固定して水平方向に駆
動する2本のチエイン、またはベルトなどがいず
れも採用し得る。
該基板が装置内に搬送される間に、該保護層に
対して膨潤性を有する液体を該基板の両面または
片面に対してノズル群3を介して噴射し該保護層
を膨潤・剥離する。
対して膨潤性を有する液体を該基板の両面または
片面に対してノズル群3を介して噴射し該保護層
を膨潤・剥離する。
ノズルの形状は、フラツトコーン、フルコーン
いずれでもよいが、ノズル自身が揺動することが
好ましい。ノズルの材質は、ポリ塩化ビニル、ポ
リエチレン、ポリプロピレンなどのプラスチツ
ク、ステンレスなどの金属いずれでもよいが、耐
久性、耐溶剤性の点でステンレスが好ましい。
いずれでもよいが、ノズル自身が揺動することが
好ましい。ノズルの材質は、ポリ塩化ビニル、ポ
リエチレン、ポリプロピレンなどのプラスチツ
ク、ステンレスなどの金属いずれでもよいが、耐
久性、耐溶剤性の点でステンレスが好ましい。
またノズルによる該液体の噴射方向は、保護層
の剥離状況に応じて適宜変更できることが望まし
い。
の剥離状況に応じて適宜変更できることが望まし
い。
保護層の大部分が該基板より剥離されてつかみ
具1からたれ下つた状態になつたのち、つかみ具
4該基板の上端部を挾んでから下端部を挾んでい
たつかみ具1を離し、更にノズル群7を介して保
護層に対して膨潤性を有する液体を噴射して該保
護層を該基板から完全に剥離除去する。
具1からたれ下つた状態になつたのち、つかみ具
4該基板の上端部を挾んでから下端部を挾んでい
たつかみ具1を離し、更にノズル群7を介して保
護層に対して膨潤性を有する液体を噴射して該保
護層を該基板から完全に剥離除去する。
このとき、脱離落下するフイルム状の保護層を
該液体より分離し処理装置外に排出するため処理
装置の中間部の位置以後にメツシユ状の受皿8及
び/またはメツシユコンベア9を設ける。また、
保護層に対して膨潤性を有する液体は基板より脱
離したフイルム状の保護層を分離除去したのち処
理装置下部から取出されポンプ12を用いてノズ
ル群3及び7に循環供給される。
該液体より分離し処理装置外に排出するため処理
装置の中間部の位置以後にメツシユ状の受皿8及
び/またはメツシユコンベア9を設ける。また、
保護層に対して膨潤性を有する液体は基板より脱
離したフイルム状の保護層を分離除去したのち処
理装置下部から取出されポンプ12を用いてノズ
ル群3及び7に循環供給される。
第1図は、本考案の装置の側面図、第2図は、
本考案の装置の平面図であり、1は、基板の下端
部を挾んで垂直方向に保持するつかみ具、2,5
は基板を水平方向に搬送する機構、3,7は保護
層に対して膨潤性を有する液体を噴射するノズル
群、4は基板の上端部を挾んで垂直方向に保持す
るつかみ具、6は、4で基板を保持したのち1を
離す機構、8はメツシユの受皿、9はメツシユコ
ンベア、10は9で系外に排出されるフイルム状
の保護層、11は保護層に対して膨潤性を有する
液体のたまり、12はポンプである。
本考案の装置の平面図であり、1は、基板の下端
部を挾んで垂直方向に保持するつかみ具、2,5
は基板を水平方向に搬送する機構、3,7は保護
層に対して膨潤性を有する液体を噴射するノズル
群、4は基板の上端部を挾んで垂直方向に保持す
るつかみ具、6は、4で基板を保持したのち1を
離す機構、8はメツシユの受皿、9はメツシユコ
ンベア、10は9で系外に排出されるフイルム状
の保護層、11は保護層に対して膨潤性を有する
液体のたまり、12はポンプである。
Claims (1)
- 保護層で被覆されたフオトレジスト基板を垂直
方向に保持しながら水平方向に移動し、その間
に、保護層に対して膨潤性を有する液体を該基板
の表面に噴射することによつて保護層を剥離する
装置において、保護層で被覆されたフオトレジス
ト基板の下端部を挟んで垂直方向に保持するつか
み具1と、つかみ具1を固定して水平方向に搬送
する機構2と、該基板が搬送される間に該保護層
に対して膨潤性を有する液体を該基板の両面また
は片面に対して噴射するノズル群3と、保護層の
大部分が剥離したのち該基板の上端部を挟んで保
持するつかみ具4と、つかみ具4を固定して水平
方向に搬送する機構5と、つかみ具4で該基板を
保持した直後に該基板の下端部を挟んでいたつか
み具1を離す機構6と、なお該基板に付着してい
る保護層に対して該液体を噴射するノズル群7と
並びに機構6の搬送方向の端部に剥離した保護層
を捕捉するために設置されたメツシユ状の受皿8
及び/またはメツシユコンベア9とを組合わせて
なることを特徴とする保護層で被覆されたフオト
レジスト基板から、保護層を完全に剥離除去する
ためのフオトレジスト基板の処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3966084U JPS60152152U (ja) | 1984-03-19 | 1984-03-19 | フオトレジスト基板の処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3966084U JPS60152152U (ja) | 1984-03-19 | 1984-03-19 | フオトレジスト基板の処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60152152U JPS60152152U (ja) | 1985-10-09 |
| JPH0314670Y2 true JPH0314670Y2 (ja) | 1991-04-02 |
Family
ID=30547814
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3966084U Granted JPS60152152U (ja) | 1984-03-19 | 1984-03-19 | フオトレジスト基板の処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60152152U (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2657558A1 (de) * | 1976-12-18 | 1978-06-22 | Basf Ag | Vorrichtung zum behandeln von druckplatten |
| JPS58178348A (ja) * | 1982-04-13 | 1983-10-19 | Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The | 画像形成法 |
-
1984
- 1984-03-19 JP JP3966084U patent/JPS60152152U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60152152U (ja) | 1985-10-09 |
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