JPH03150382A - オルガノシリコン化合物の製造方法 - Google Patents

オルガノシリコン化合物の製造方法

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JPH03150382A
JPH03150382A JP2205309A JP20530990A JPH03150382A JP H03150382 A JPH03150382 A JP H03150382A JP 2205309 A JP2205309 A JP 2205309A JP 20530990 A JP20530990 A JP 20530990A JP H03150382 A JPH03150382 A JP H03150382A
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compound
group
atom
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silicon
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JP2205309A
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Franck Andre Daniel Renauld
フランク・アンドレ・ダニエル・ルノー
James S Tonge
ジェィムズ・エス・トング
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Dow Silicones UK Ltd
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Dow Corning Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、オルガノシリコン化合一物、特にポリカルボ
シラン化合物を合成する電気化学的方法に関するもので
ある。
〔従来の技術および課題〕
こ−で用いられるオルガノシリコン化合物という用語は
、少なくとも1個の有機基がSi−C結合を介して珪素
原子に付いている化合物を表わす。
これらの化合物は、1個の珪素原子と珪素−炭素結合を
介して珪素原子に結び付いている少なくとも1個の有機
基を持つシランおよびR基を介して結び付いている少な
くとも2個の珪素原子を持つカルボシラン化合物を含む
、但し、Rは二価の炭素または置換されているかSi−
C結合を介して各珪素原子に結び付いてもよい炭化水素
基を表わす、該カルボシランは−般式−Si−R−Si
−のシランおよび一般tR造−(R−Si−)−(但し
、Rは上記のように定義される)の少なくとも2単位を
持つポリカルボシランを含む。
Si−CおよびSi−CH2−Si結合は、マグネシウ
ム、ナトリウムおよびリチウムのような金属の使用を伴
うグリニヤ反応または、ウルツ反応を介して通常形成さ
れるにれらの方法は複雑でかつ高価で、その上存在する
かも知れない何らかの官能基を試薬から保護する必要が
ある。
電解合成(electrochesical synt
hesis)は知られており、そしてかなり長い間有機
化学で実施されている。最近、トリメチルクロロシラン
を用いる成る化合物のシリル化が電解合成を介して可能
であることが示されている。ショーツ(Shono)ら
(ケミカルレターズ1985.463−466頁)は、
トリメチルクロロシランの存在下でベンジルおよびアリ
ルハライドを還元すると対応するベンジルシランおよび
アリルシランを与えることを示した。彼等はまた1、4
ジクロロブテンを電気的に還元すると1.4ビス(トリ
メチルシリル)ブテンを与えることを示している。ビー
・ポンス(P、 Pons)ら(ジャーナル・オブ・オ
ルガノメタリックケミストリー、1988.31−37
頁)は、トリメチルクロロシランを用いる四塩化炭素、
クロロホルムおよび塩化メチレンの電気的還元により、
電気防食用電極(sacrificial elect
rode)の存在下で対応するトリメチルシリル置換化
合物を与えることを開示している。彼等はまたトリメチ
ルクロロシランを用いるトリメチルクロロメチルシラン
の電気的還元により、ヘキサメチルシリメチレンを与え
ることを例示している。
〔課題を解決するための手段〕
我々は今、ジハロシラン、トリ八ロシラン、テトラハロ
シラン、または八ロカルボハロシランを使用することに
より上に定義されるようなオルガノシリコン化合物の製
造に電解合成を用いることが可能であることを見出した
本発明によれば、一般式−RX(式中、Rは二価の炭素
または置換されてもよい炭化水素化合物を表し、Xはハ
ロゲン原子である)の置換基を持つ化合物(I)を、 一般式 %式%) (式中、R′は水素、炭化水素基、H,Cおよび0原子
、S原子および/またはP原子を含む基、ならびにC,
HおよびN原子さらに所望によりO原子(但し、Nはア
ミノ基の部分を生成しない)からなる基、XとRは上に
定義されるとおりであり、aは1.2.3または4の値
を持ち、bは0.1.2または3の値を持ち、かつa 
+ bは2.3または4の値を持つ)のシラン(II)
の存在下において、 電気的還元に付すことにより、Si−C結合を介して珪
素原子に結び付いた少なくとも1個の珪素−結合した有
機基を持つオルガノシリコン化合物を製造する方法が提
供される。
本発明の方法に用いられる化合物(I)は、ハロゲン置
換された炭素原子を持ついかなる化合物であってもよい
、ハロゲン原子は好ましくは塩素、臭素または沃素であ
るが、後者が最も反応性である。しかしながら、工業的
入手およびコスト目的のためには塩素と臭素が好ましい
、ハロゲン原子は純粋に有機であってもよい化合物また
は有機と無機の両方の部分を持つ化合物であってもよい
化合物、例えばオルガノシリコン化合物もしくはオルガ
ノゲルマニウム化合物に結合している。ハロゲン原子が
結合されているR基は、二値の炭素または置換された炭
化水素基である。炭素基は例えばアセチレンおよび1.
3ブタジ仁レンを含む。
炭化水素R基はメチレン基から非常に大きな炭化水素基
まで変わり得る。これらは飽和アルキレン基、例えば、
エチレン、イソプロピレン、ヘキシレンおよびオクタデ
シレン、不飽和脂肪族基、例えば、アルケニレンまたは
アルキニレン、例えばビニレン、プロペニレン、ブタジ
エニレン、ヘキシニレンープ口ビニレンおよび1.4オ
クタデセニレン、芳香族基、例えば、フェニレン、ベン
ジレン、トリレンおよびフェニルエチレンであってもよ
い、置換炭化水素基は、炭素原子が反応条件下で化合物
(l[)のハロゲン基と反応しない何らかの基であって
もよい1個または2個以上の置換基を持つものである。
これらの置換基は弗素、シアノ基、ニトロ基、オキシエ
チレン基、シリル基、シロキサン基、カルボシリル基を
含む、このような置換炭化水素基の例はへキサフルオロ
10ピレン、オキシエチレンオキシプロピレン置換基、
アセチル置換基、エーテル置換基およびエステル置換基
を含む、R基は、芳香族的に不飽和の、脂肪族的に不飽
和の、または脂肪族的に飽和の炭化水素、例えば、ベン
ジレン、プロペニレン、イソペンチレン、ブチレン、プ
ロピレン、エチレンまたはフェニレンであるのが好まし
い、メチレンおよびビニレンが最も好ましい、R基は何
かの原子または基に対して反対側に結合されてもよい、
これらは例えばハロゲン原子、炭化水素基、オルガノシ
リコン基、オルガノ官能基、例えば硫黄含有量、燐含有
基およびハロゲン原子さえも含む、R基は水素原子また
はハロゲン原子に対してX基から反対側に結合されるの
が好ましい、化合物(I)の例は、カルボハライド例え
ばメチルハライド、例えば塩化メチル、二塩化メタン、
ベンジルハライド、例えば塩化ベンジル、フェニルハラ
イド、ビニルハライド、1.4ジクロロ2−ブテン、ジ
ブロモエチレン、1.2.とスークロロメチルベンゼン
、シラン、例えばトリメチルクロロメチルシラン、ジメ
チルクロロメチルクロロシラン、シロキサン、例えば 一般式 04−−−F S iRx(CHzX )?(
式中、R′は上に定義されるとおりであるが、好ましく
は水素、炭化水素、例えばアルキル、アリール、アルケ
ニルもしくはアルカリールまたは(,Hおよび所望によ
りNまたは0原子を含む基であり、Xは0.1または2
の値を持ち、yはl、2または3の値を持ち、かつx十
yは3より小さい、)の少なくとも−単位と存在すれば
平均式(式中、R′は上に定義されたとおりであり、且
つ2はO、■、2または3の値を持つ、)を持つ他の単
位とを持つシロキサン、 または一般式 %式%) (式中、R,R”およびyは上に定義されるとおりであ
る)の少なくとも−単位を持つシロキサンを含む、反応
生成物の性質を制御するのが難しいのでシロキサンは避
けるのが好ましい。
本発明の方法に用いられる化合物(II)は少なくとも
2個のハロゲンを含み、少なくともその1個が珪素結合
したハロゲン原子である置換基を持つシランである。沃
素は最も反応性のハロゲンであるが、工業的入手および
コスト的理由のために塩素および臭素原子が好ましい、
珪素結合しているハロゲン原子は何れも、化合物(I)
に関して上に定義されるようなR基を介して珪素には結
合していない、これらのハロゲン含有置換基の例はハロ
アルキル、例えばクロロメチル、夕ロロイソプ口ピル、
ブロモヘプチル、八ロアルケニル、例えばクロロビニル
、ブロモプロペニル、八ロアリール基、例えばクロロフ
ェニルおよびブロモベンジルである。ハロゲンを含まな
い置換基R′は存在する場合、水素、炭化水素基、例え
ばアルキル、アリール、アルカリール、アルアルキル、
アルケニ。
ル、アルキニル、C,HおよびO原子含有基例えばカル
ボキシル基含有基、C=0含有基、アルデヒド含有基お
よびエポキシ含有基、エーテル含有基、硫黄含有基また
はC,HおよびN原子含有基(但し、Nはアミノ基の部
分を形成しない)、例えばシアノ基含有置換基およびN
 O基含有置換基を含む、このような基の例はメチル、
エチル、プロピル、フェニル、フェニルエチル、トリル
、ビニル、アリル、ヘキセニル、エチニル、ブタジ仁ル
、ステアリル、ラウリル、エトキシ、メトキシ、ポリオ
キシエチルおよびベンジルである。好ましくは、R′は
水素、アルキルまたはアリール、最も好ましくは、メチ
ルまたはフェニルである。
a+bの値は2に等しいことが好ましい、但し、2個の
R′基は上に述べたような置換基を独立に表わす、aお
よびbに対する値は1と1であるか別々にiと0である
のが好ましい、化合物(II)の例としては、ジメチル
ジクロロシラン、ジメチルクロロメチルクロロシラン、
メチルトリクロロシラン、カルボキシメチルトリクロロ
シラン、フェニルメチルジクロロシラン、ジフェニルジ
クロロシラン、メチルシアノプロピルジクロロシラン、
メチルジクロロシラン、ジクロロシラン、メチルビス(
クロロメチル)クロロシランおよびメチルグリシドキシ
プロビルクロロメチルクロロシランを含む。
合成したいと思うオルガノシリコン化合物により、ある
定まったタイプの化合物(I)および(II)が選択さ
れるべきである。追加の化合物も加えてよい、本発明の
方法により作られるオルガノシリコン化合物はシランを
含む、もしく【)が構造中に珪素原子を持たない純粋に
有機の化合物であれば、そしてもし1個のーRX基だけ
が(I)に存在するならば、或いはもし2個以上のRX
基が(I)に存在し、(n)の過剰量だけが(I)の1
個の−RX基と反応するように供給されるならば、シラ
ンが製造されるであろう、生じたシランは、例えばメチ
ルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、トリメ
チルクロロシラン、テトラメチルシラン、クロロメチル
トリメチルシラン、クロロメチルジメチルブチルシラン
、ジブロモビニルジメチルシラン等を含む、上に定義さ
れたカルボシランは、2個以上のーRX基を持つ化合1
11(I)または式XRXの化合物(I)と、これらの
−RX基の少なくとも2個またはRに結合されたX原子
と反応するのに十分な量の化合物(II)との電解反応
により、或いは−RX基1個だけをもつ化合物(I)を
2個以上の珪素結合したハロゲン原子をもつ化合物(I
I)と一緒に供給することにより、或いはこれと同しで
あってもよい化合物(ff)との反応のために、例えば
1個の−RX基と1個のSiX基をもつ珪素を含有する
化合物(I)を供給することにより製造される。一般に
、化合物(II)におけるa+bの値が大抵の場合には
生じたカルボシランの一般的性質を決めるであろう、a
+bが2の場合には、このような化合物(II)を用い
ると生じたオルガノシリコン化合物の鎖長を延ばすであ
ろう、一方、もしa十すが3または4の値を持つならば
、ある場合にはオルガノシリコン化合物に三次元#I造
に−至る多少の分岐を生ずるであろう、a+bが2の化
合物(II)とa+bが3または4の化合物(II)と
の混合物は、基本的には多少の分岐を持つ線状のカルボ
シランになる。これに対して3または4の値を持つ化合
物(II)の量が増加すると、分岐の量が増えて、結局
は樹脂型のカルボシラン反応生成物になるであろう。
望ましいカルボシラン化合物の性質により、化合物(I
)および(II)のそれぞれの同一タイプを一緒に反応
させてもよいし、あるいは化合物(I)および/または
化合物(II)の異なるタイプの混合物を一緒に反応さ
せてもよい、化合物(I)および化合物(n)に対して
、同じ試薬、例えば1個または2111以上の珪素結合
したハロゲン原子および1個または2個以上のーRX基
を持つシランを用いることも出来る。例えば、化合物(
I)と(II)の両方の定義に入るクロロメチルクロロ
シランはお互いに反応し得る。このような反応は、一般
式[S i (R)z CHt ]−なる繰返し単位を
持つポリカルボシランを生成する。これらの化合物は線
状もしくは環状または線状および環状のオルガノシリコ
ン化合物の混合物であってもよい、線状のポリカルボシ
ランが望ましい時には、他の化合物、例えば式R3Si
X(式中、R′とXとは上に定義されたとおりである)
のシランであってもよい、末端封止剤を加えることが好
ましい、例えば、一般式R[S i(R”>2−R]、
S ;R”3を持つ線状のポリマーを得るためには、試
薬は化合物(I)および(ff)だけでなく、望ましい
饋長のポリマーの末端封止剤として働くのに十分な量の
一般式R”、SiX なるシランを含むべきである。
しかしながら、比較的低分子量のものを、例えば通常の
重合技術を用いてより高分子量物質のための前駆体とし
て用いられてもよい2個または3個の珪素原子を持つポ
リカルボシランを作るのが好ましい。
反応はどんな方法でも陰極と陽極とを持つ電解槽を用い
て行ってよい、電解槽は単室電解槽でもよいが、膜例え
ば焼結ディスクで分離されている2室を持つのが好まし
い、電解槽には電流の電位または強度を調節するために
ポテンシオスタットおよび/またはカルバッスタットが
付いている。
陰極として用いてもよい電極即ち実用的な電極は好まし
くは金、銀または白金のような不活性金属で作られ、最
も好ましくは銀または相当に不活性な他の金属もしくは
合金、例えばステンレススチールで作られる、一方、対
電極(陽極)も不活性であるかある程度は電気防食的で
あってもよい。
対電極の選択は時には所望の反応次第である。ある場合
には比教的不活性な対電極が好ましいが、一方、他の場
合には電気防食用電極がよく機能する。対電極の製造に
用いられる金属は例えばC、A1.pt−Ni−Znお
よびM、を含み、Cは不活性電極として特に好ましく、
かつAlは電気防食用電極として特に好ましい。
錯化剤を電気防食用電極と一緒に用いるのが好ましい、
錯化剤の使用は生じたルイス酸の触媒活性を打ち消す、
ルイス酸、例えばAICI、は例えばテトラメチルシラ
シクロブタンおよび本発明による方法に溶媒として適当
なテトラヒドロフランすらの開環用に知られた触媒であ
る。適当な錯化剤は当業者に知られており、トリス(ジ
オキサ−3,6へブチル)アミンおよびヘキサメチルホ
スホルアミドを含む。
電解槽は、商業的に入手可能でありかつ試薬に使われた
溶媒に可溶なもののどれでもよいところの電解質の溶液
で満たされている。これらの電解質は、一般式MY−(
式中、Mは例えばLi、Na、NBu、、N M e 
4、NEtnを表し、かつYは例えばCIO,、CI−
Br、I 、NO3、BF、、AsF、、BPh、、P
F、、AIC1,、CF、So3、およびSCN (但
し、Bu、Me、Et、およびphはそれぞれブチル、
メチル、エチル、およびフェニル基を表わす)を表わす
1の塩である。適当な電解質の例はテトラブチルアンモ
ニウム−P−)ルエンスルホン酸、テトラブチルアンモ
ニウムへキサフルオロホスフェート、テトラブチルアン
モニウムブロミド、テトラエチルアンモニウムテトラフ
ルオロボレート、塩化リチウムおよび塩化マグネシウム
を含む。
試薬および電解質の両方を溶解する溶媒が通常用いられ
る。適当な溶媒は試薬が濃度および温度の運転条件下で
少なくとも部分的に可溶であるものである。これらはテ
トラヒドロフラン、アセトニトリル、γ−ブチロラクト
ン、ニトロメタンと一緒のジメトキシエタン、1.3ジ
オキソラン、液体S02、トリメチル尿素およびジメチ
ルホルムアミドを含む。
電解反応は強度を予め測定したレベルに一定に保持する
ことにより、またはサイクリックボルタメトリーにより
定められた一定の電位を維持することにより行ってもよ
い、標準的電解手法が本発明の方法に適用し得る。
〔実施例〕
次に本発明を例証する多数の実施例を掲げる。
ここでは特に断りのない限り、全べての部およびパーセ
ントは重量で表わされる。
え1」ユ 窒素の供給口、撹拌および空気冷却系を備えた一区画電
解槽に、テトラブチルアンモニウムへキサフルオロホス
フェート0.2 モルのテヒドロフラン溶液50iZお
よびクロロメチルジメチルクロロシラン8,5gを仕込
んだ、125mAの一定の電流密度が、陽極としてアル
ミニウムのフォイルおよび陰極として銀線を用いるガル
バノスタット/ポテンシオスタットを介して施された。
この電流はCZC821モル当たり1.9 ファラデー
を施すために22時間の間施された。反応生成物の混合
物が得られて、これはガスクロマトグラフィ/質量分析
により分析されて、約65%が、式[(CH3)2 S
 i  CHz]zを持ち、約35%が式[(CH,)
、Si−CI、]、を持つ、約50%の環状化合物と、
式 %式%] (式中、84%はnが3に等しい値を待っていて、約5
ないし8%はnが2.4および5の値を持っていた各々
の化合物であり、かつnが1の値を持っていた微量の化
合物であった)の約50%の線状化合物から成ることが
見出された。
支1」ユ 250z&のフラスコに窒素パージ、磁気撹拌棒、凝縮
器および空気冷却装置が備え付けられた。テトラブチル
アンモニウムへキサフルオロホスフェート0.2モルの
テトラヒドロフラン溶液100zlおよび3−クロロプ
ロピルジメチルクロロシラン1511Fが加えられた。
電解反応は、362型ポテンシオスタット・ガルバノス
タットを用いて行われた。陰極は銀線(長さ5cmおよ
び直径0.25mid)であって、陽極は4枚のアルミ
ニウム片(3,5xO,01cm)であった。一定の電
流が温度23℃で25時間の間(ジラフ1モル当たり2
.5 ファラデーを与える)施された。生じた反応混合
物はガスクロマトグラフィー/質量分析により分析され
た。83.7%は1.1−ジメチル−1−シラシクロブ
タン、8.1%は未反応の3−クロロプロピルジメチル
クロロシランおよび7.9%はプロピルジメチルクロロ
シランであった。
え1」ユ 250mlのフラスコに窒素パージ、磁気撹拌棒、凝縮
器および空気冷却装置が備え付けられた。テトラブチル
アルミニウムヘキサフルオロホスフェ−)0.2 モル
のテトラヒドロフラン溶液150mlおよびクロロメチ
ルジメチルクロロシラン25.52が加えられた。電解
反応は、2.8ファラデーが温度30℃でシラン1モル
当たりに施された点を除き、前の実施例のように行われ
た。生じた反応混合物は上記のように分析された。62
.6 %は1.1.3.3−テトラメチル−1,3−ジ
シランシクロブタンおよび31.4 %が1.1.3.
3.5゜5−へキサメチル−1,3,5−)リシラシク
ロヘキサンであった。
夾Uヨ 250i+fのフラスコに窒素パージ、磁気撹拌棒、凝
縮器および空気冷却装置が備え付けられた。テトラブチ
ルアンモニウムへキサフルオロホスフェ−)0.2 モ
ルのテトラしドロフラン溶液10011および2,2.
0−ジクロロキシレン5.24srおよびジクロロジメ
チルシラン43が加えられた。
電解反応は4.87 ファラデーが0−ジクロロキシレ
ン1モル当たりに施された点を除き、前の実施例のよう
に行われた。生した反応生成物は水洗されて、ジエチル
エーテルで抽出されて、乾燥されて次いで上記のように
分析された。65%は式%式% 250iNのフラスコに窒素パージ、磁気撹拌棒、凝縮
器および空気冷却装置が備え付けられた。テトラブチル
アンモニウムへキサフルオロホスフェート0.2モルの
テトラヒドロフラン溶液100xl、シス−ジクロロブ
タン3.70gおよびジクロロジメチルシラン4gが加
えられた。電解反応は、2113 ファラデーがシス−
ジクロロブタン1モル当たりに施された点を除き、前の
実施例のように行われた。生じた反応混合物が分析され
て15%のジメチルシラシクロペンテンが示された。
え11玉 250mlのフラスコに窒素パージ、磁気撹拌棒、凝縮
器および空気冷却装置が備え付けられた。テトラブチル
アンモニウムへキサフルオロホスフェ−)0−2 モル
のテトラしドロフラン溶液100wl、クロロメチルト
リメチルシラン12.5gおよびジクロロメチルシラン
6.5gが加えられた。電解反応は、2.3 ファラデ
ーがクロロメチルトリメチルシラン1モル当たりに施さ
れた点を除き前の実施例のように行われた。生じた反応
混合物が分析されて、25%のビス(トリメチルシラン
)メチルシランが示された。
え11d シュレンク管に陽極としてアルミニウムの棒(純度99
.5%、直径6.3511)および陰極としてーステン
レススチールのカーゼ(20メツシュー30cm)が備
え付けられた。テトラヒドロフラン14−3ml、テト
ラエチルアンモニウムテトラフルオロホスフェートO−
08y、ヘキサメチルホスホルアミド3.6mlおよび
トリメチルクロロシラン0.1wlの溶液がLoom^
で2時間前電解された。クロロメチルジメチルクロロシ
ラン2.28yが加えられた。電解反応は温度23℃で
10時間の間−定の電流(シラン1モル当たり2.3 
ファラデーを与える)を施すことにより行われた。生じ
た反応混合物は濾過されて減圧下でストリップされて1
1.68gの留出物を与えた。
ガスクロマトグラフィ/質量分析による分析は69%の
1.1.3.3−テトラメチル−1,3−ジシラシク口
ブタンをもたらした。
及1」1 実施例7の装置を用いて、クロロプロピルトリクロロシ
ラン4.24gが前の実施例の反応生成物に加えられた
。次いで電気分解は2001^ではゾロ時間続けられた
。3,5時間後、45%のジクロロシラシクロブタンへ
の最大転化率が観測された。
大111」− 試薬の損失を最小にするために固体の二酸化炭素で冷却
された凝縮器が加えられた点を除き、実施例7の装置が
用いられた。テトラヒドロフラン8−45wlテトラエ
チルアンモニウムテトラフルオロボーレート0.08#
、ヘキサメチルホスホルアミド2.1i+J!、ジクロ
ロメタン6.4mlおよびトリメチルクロロシラン0.
1mlの溶液が50x^、2時間で前電解された¥クロ
ロメチルジメチルクロロシラン3−03yzlが加えら
れた。電解反応は、温度23℃で53時間の間−定の電
流(シラン1モル当たり4ファラデーを与える)を施す
ことにより行われた。生じた反応混合物はガスクロマト
グラフィー/質量分析により分析されて、74%のジメ
チルジクロロメチルシランを与えた。
支1」」J 実施例9の装置が用いられた。テトラしドロフラン9.
16zZ、テトラエチルアンモニウムテトラフルオロボ
ーレート0.08g、ヘキサメチルホスホルアミド2.
29d、ジクロロメタン1.28mlおよびトリメチル
クロロシランO,1mlの溶液が50mAで2時間前電
解された。ジメチルジクロロシラン7.27mlが加え
られて、電気分解は501^で24時間(シラン1モル
当たり2.2 ファラデーを与える)続けられた。生じ
た反応混合物はガスクロマトグラフィー/it量分析に
より分析されて、81%(反応したシラン基準)のクロ
ロジメチルクロロメチルシランを与えた。
犬11[」」2 実施例9の装置が用いられた¥テトラヒドロフラン12
.67zN、テトラエチルアンモニウムテトラフルオロ
ボーレー) 0.08g、ヘキサメチルホスホルアミド
3.12d、ジクロロメタン0.85Illおよびトリ
メチルクロロシランOAxlの溶液が50z^で2時間
前電解された。メチルトリクロロシラン4.48mlが
加えられて、電気分解は501^で12.5時間(シラ
ン1モル当たり2.2 ファラデーを与える)続けられ
た。生じた反応混合物はガスクロマトグラフィー/質量
分析により分析されて、メチルジクロロクロロメチルシ
ラン62%およびメチルクロロジクロロメチルシラン1
3%を与えた。
夫11」ユ 実施例9の装置が用いられた。テトラヒドロフラン11
.8ml、テトラエチルアンモニウムテトラフルオロボ
ーレート0.08g、ヘキサメチルホ。
スホルアミド2.95ml、ジクロロメタン0.64m
lおよびトリメチルクロロシランO,Lmlの溶液が5
0g^で2時間前電解された¥テトラクロロシランロー
フ9fが加えられて、電気分解は50m^で12.5時
間(シラン1モル当たり2.2 ファラデーを与える)
続けられた。生じた反応混合物はクロマトグラフィー/
質量分析により分析されて、トリクロロクロロメチルシ
ラン58%、ジクロロジクロロメチルシラン15%およ
びクロロトリクロロメチルシラン3%を与えた。
支11」ユ 実施例9の装置が用いられた。テトラしドロフラン12
−37mZ、テトラエチルアンモニウムテトラフルオロ
ボーレート0.08y、ヘキサメチルホスホルアミド3
.09xl、塩化フェニル1−12zjlおよびトリメ
チルクロロシランOAxlが5011^で2時間前電解
された。メチルトリクロロシラン4.48gが加えられ
て、電気分解は501^で12時間(シラン1モル当た
り2.2 ファラデーを与える)続けられた。生した反
応混合物はガスクロマトグラフィー/質量分析により分
析されて、ジクロロフェニルメチルシラン65%、メチ
ルクロロジフェニルシラン10%およびジクロロメチル
シルフェニレン6%を与えた。
塞lul二りま 実施例9の装置が用いられた。テトラしドロフラン11
.52mN、テトラエチルアンモニウムテトラフルオロ
ボーレート0.08f、ヘキザメチルホスホルアミド2
.88mN、塩化フェニル1−12zfおよびトリメチ
ルクロロシランQ4dの溶液が50i+^で2時間前電
解された。メチルトリクロロシラン6.79gが加えら
れて、電気分解は501^で12.5時間(シラン1モ
ル当たり2.2 ファラデーを与える)続けられた。生
じた反応混合物はガスクロマトグラフィー/質量分析で
分析されたトリクロロフェニルシラン68%、ジクロロ
ジフェニルシラン10%およびトリクロロシルフェニレ
ン8%を与えた。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、Si−C結合を介して珪素原子に結び付いた少なく
    とも1個の珪素結合した有機基を持つオルガノシリコン
    化合物を製造する方法において、一般式−RX(式中、
    Rは二価の炭素または置換されてもよい炭化水素化合物
    を表わし、かつXはハロゲン原子である)なる置換基を
    持つ化合物( I )が、 一般式 R’_4_−_a_−_bSiX_a(RX)_b(式
    中、Rは水素、炭化水素基、H、CおよびO原子、S原
    子および/またはP原子を含む基、ならびにC、Hおよ
    びN原子さらに所望によりO原子(但し、Nはアミノ基
    の部分は形成しない)からなる基、XおよびRは上に定
    義されるとおりであり、aは1、2、3または4の値を
    持ち、bは0、1、2または3、かつa+bは2、3ま
    たは4の値を持つ)なるシラン(II)の存在下に、電気
    的還元に付されることを特徴とする、オルガノシリコン
    化合物の製造方法 2、化合物( I )のR基が芳香族的に不飽和であるか
    脂肪族的に不飽和であるか、または脂肪族的に飽和の炭
    化水素であり、かつ化合物(II)ではR’が水素、アル
    キルまたはアリールであることを特徴とする、請求項第
    1項による方法。 3、化合物(II)においてa+bの値が2に等しいこと
    を特徴とする、請求項第1項または第2項による方法。 4、陰極が銀またはステンレススチールで作られており
    、かつ陽極が炭素またはアルミニウムから作られており
    、膜により分けられた2つの隔室を持つ電解槽中で行わ
    れることを特徴とする、請求項第1項から第3項までの
    いずれかによる方法。 5、錯化剤が用いられることを特徴とする、請求項第1
    項から第4項までのいずれかによる方法。
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