JPH03150885A - 半導体レーザ励起固体レーザ装置 - Google Patents
半導体レーザ励起固体レーザ装置Info
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- JPH03150885A JPH03150885A JP1290189A JP29018989A JPH03150885A JP H03150885 A JPH03150885 A JP H03150885A JP 1290189 A JP1290189 A JP 1290189A JP 29018989 A JP29018989 A JP 29018989A JP H03150885 A JPH03150885 A JP H03150885A
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- Japan
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- semiconductor laser
- lasers
- laser
- yag
- excitation
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- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
- H01S3/06—Construction or shape of active medium
- H01S3/0602—Crystal lasers or glass lasers
- H01S3/0606—Crystal lasers or glass lasers with polygonal cross-section, e.g. slab, prism
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/091—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping
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- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、金属・半導体・セラミックス等の加工及びコ
アギユレータとして医療に用いることができる半導体レ
ーザ励起による高出力固体レーザ装置に関するものであ
る。
アギユレータとして医療に用いることができる半導体レ
ーザ励起による高出力固体レーザ装置に関するものであ
る。
従来の技術
固体レーザ装置の励起には、従来アークランプやワラ1
シユランプ等が用いられてきたが、励起に寄与するスペ
クトル以外を多く含むために励起効率が悪く、ランプや
レーザ媒質の放熱の点から装置は大型にならざるを得な
かった。ところが近年、半導体レーザの高出力化に伴い
、これを固体レーザの励起光源として用いる試みがなさ
れるようになってきた。半導体レーザを用いると固体レ
ーザの吸収帯に波長を合わせることができるので、励起
効率が良く、しかも余分なスペクトルの吸収による発熱
がないため放熱が楽になる。
シユランプ等が用いられてきたが、励起に寄与するスペ
クトル以外を多く含むために励起効率が悪く、ランプや
レーザ媒質の放熱の点から装置は大型にならざるを得な
かった。ところが近年、半導体レーザの高出力化に伴い
、これを固体レーザの励起光源として用いる試みがなさ
れるようになってきた。半導体レーザを用いると固体レ
ーザの吸収帯に波長を合わせることができるので、励起
効率が良く、しかも余分なスペクトルの吸収による発熱
がないため放熱が楽になる。
そこで近年多く試みられている方法に第6図に示すよう
な軸端面励起と呼ばれる方法がある。この方法はNd:
YAGロッド5の軸端面に半導体レーザ6の光を集光レ
ンズ7で集めて励起している。共振器は外部反射鏡4と
YAGロッド5の励起側端面とのあいだに形成されてい
る。この方式は、YAGレーザ光と半導体レーザ光との
結合効率がよいために効率よく励起でき、しかも安定に
TEMooモードで動作させることができる。ところが
、1箇所しか励起できる点がないため、YAGレーザ光
の出力を向上させるには、半導体レーザの高出力化が不
可欠であり、半導体レーザの出力で制限されるという問
題点がある。
な軸端面励起と呼ばれる方法がある。この方法はNd:
YAGロッド5の軸端面に半導体レーザ6の光を集光レ
ンズ7で集めて励起している。共振器は外部反射鏡4と
YAGロッド5の励起側端面とのあいだに形成されてい
る。この方式は、YAGレーザ光と半導体レーザ光との
結合効率がよいために効率よく励起でき、しかも安定に
TEMooモードで動作させることができる。ところが
、1箇所しか励起できる点がないため、YAGレーザ光
の出力を向上させるには、半導体レーザの高出力化が不
可欠であり、半導体レーザの出力で制限されるという問
題点がある。
この問題点を解決する方法として提案されているのが第
7図に示すような六角注型のYAGロッド内でYAGレ
ーザ光を各側面で反射させ、YAGレーザ光がスパイラ
ル状の光路を描く方式である。この方式を用いると各面
での反射点を励起点にできるので、従来から知られてい
る軸励起方式(第6図)の1箇所しか励起点がないとい
う欠点ヲカハーでき、しかも安定にTEMooモートチ
動作させることができる。
7図に示すような六角注型のYAGロッド内でYAGレ
ーザ光を各側面で反射させ、YAGレーザ光がスパイラ
ル状の光路を描く方式である。この方式を用いると各面
での反射点を励起点にできるので、従来から知られてい
る軸励起方式(第6図)の1箇所しか励起点がないとい
う欠点ヲカハーでき、しかも安定にTEMooモートチ
動作させることができる。
発明が解決しようとする課題
第7図で示す従来のYAGレーザでは、各励起点を個別
の半導体レーザで励起している。そのため個々の半導体
レーザの波長を最適励起波長に合わせることができると
いう利点があるが、個々の半導体レーザに温度調整装置
や電源を必要とするため、大型化するという問題点があ
った。
の半導体レーザで励起している。そのため個々の半導体
レーザの波長を最適励起波長に合わせることができると
いう利点があるが、個々の半導体レーザに温度調整装置
や電源を必要とするため、大型化するという問題点があ
った。
課題を解決するための手段
本発明の半導体レーザ励起固体レーザ装置は励起用の半
導体レーザをアレイ状に並ベモノリシック化したものを
使用し、各励起面を1組のアレイ型半導体レーザで励起
する。
導体レーザをアレイ状に並ベモノリシック化したものを
使用し、各励起面を1組のアレイ型半導体レーザで励起
する。
アレイ型半導体レーザからのレーザ光をY 、A Cロ
ッドの励起点に集光するには、シリンドリカル・レンズ
やファイバー・レンズを用いる。
ッドの励起点に集光するには、シリンドリカル・レンズ
やファイバー・レンズを用いる。
作用
アレイ型の半導体レーザを用い、同一面内にある励起点
を個々の半導体レーザに対応するように配置することに
より、アレイ型半導体レーザの数を励起面の数だけ使用
すればよくなり、半導体レーザの数を減らすことができ
る。この方法を用いることにより、温度調整装置や電源
の数も減らすことができるので、装置全体の簡素化、小
型化を図ることができる。
を個々の半導体レーザに対応するように配置することに
より、アレイ型半導体レーザの数を励起面の数だけ使用
すればよくなり、半導体レーザの数を減らすことができ
る。この方法を用いることにより、温度調整装置や電源
の数も減らすことができるので、装置全体の簡素化、小
型化を図ることができる。
アレイ型半導体レーザで励起する場合、各レーザの波長
のばらつきが心配と思われるが、MBEやMOCVDの
気相結晶成長技術によって作製されたアレイ型半導体レ
ーザでは、各レーザの均一性がよいので特性がそろって
いるため、波長もほぼ一致しており、そのような問題は
生じない。
のばらつきが心配と思われるが、MBEやMOCVDの
気相結晶成長技術によって作製されたアレイ型半導体レ
ーザでは、各レーザの均一性がよいので特性がそろって
いるため、波長もほぼ一致しており、そのような問題は
生じない。
実施例
以下、本発明の一実施例について図面を引用しながら説
明する。第1図に本発明の半導体レーザ励起固体レーザ
装置の構造図を示す。六角注型に加工したNd:YAG
ロッド1内において、第2図に示すようにYAGレーザ
光C光線m線、互いに60度で交わる3側面で反射する
ことにより、螺旋状の光路を描きながら進行している。
明する。第1図に本発明の半導体レーザ励起固体レーザ
装置の構造図を示す。六角注型に加工したNd:YAG
ロッド1内において、第2図に示すようにYAGレーザ
光C光線m線、互いに60度で交わる3側面で反射する
ことにより、螺旋状の光路を描きながら進行している。
この六角注型のYAGロッド1は第4図の見取図に示す
ように、底面は2IIff11と3.8miの各3辺を
交互につないだ六角形であり、高さは11閣である。共
振器は、YAGロッドlの底面近傍の側面に形成した反
射面1aと外部反射鏡4のあいだで形成されている。Y
AGロッドの側面に形成した反射面1aと、出射側の側
面に形成した出射面1bは、YAG光線の光路がYAG
ロッド内で螺旋状になるように、YAGロッドの高さ方
向に対して角度θ=4度だけ傾きをもっており、YAG
レーザの光路は、この反射面1−1と出射面1bに対し
て垂直に交わっている。
ように、底面は2IIff11と3.8miの各3辺を
交互につないだ六角形であり、高さは11閣である。共
振器は、YAGロッドlの底面近傍の側面に形成した反
射面1aと外部反射鏡4のあいだで形成されている。Y
AGロッドの側面に形成した反射面1aと、出射側の側
面に形成した出射面1bは、YAG光線の光路がYAG
ロッド内で螺旋状になるように、YAGロッドの高さ方
向に対して角度θ=4度だけ傾きをもっており、YAG
レーザの光路は、この反射面1−1と出射面1bに対し
て垂直に交わっている。
反射面1aは平面で波長1.06μmに対して99%以
上の反射率をもち、出射面1bは平面であり、波長1.
06μmに対して90%以上の透過率をもつ。また外部
反射鏡4の曲率半径は1.5mであり、波長1.06μ
mに対して80%の反射率をもつ。YAGロッドを励起
するために側面(励起面1c)は励起波長0.809μ
mに対して90%以上の透過率をもち、波長1゜06μ
mに対して99%以上の反射率をもつ。
上の反射率をもち、出射面1bは平面であり、波長1.
06μmに対して90%以上の透過率をもつ。また外部
反射鏡4の曲率半径は1.5mであり、波長1.06μ
mに対して80%の反射率をもつ。YAGロッドを励起
するために側面(励起面1c)は励起波長0.809μ
mに対して90%以上の透過率をもち、波長1゜06μ
mに対して99%以上の反射率をもつ。
半導体レーザ光による励起点は、第2図及び第4図の・
印で示すように3側面上にあり、YAGレーザ光がYA
Gロッドの側面で反射する点に相当している。同一側面
上での各励起点の間隔は、アレイ型半導体レーザ2の各
レーザの間隔と一致しており、両方ともIIIIIであ
る。各半導体レーザ光はファイバー・レンズ3を用いて
YAGロッド1の側面に集光している。その説明図を第
3図に示す。ファイバー・レンズ3は直径200μmを
使用し、各半導体レーザ光がほぼ平行ビームにそろうよ
うに調整して、YAGロッド側面上の励起点に照射して
いる。このとき各ビーム径は約200μmであった。励
起用のアレイ型半導体レーザ2はストライブ幅150μ
mのGRIN−8CH−8QWレーザを10個並べたも
のであり、各レーザの中心どうしの間隔がlll11に
なっている。各レーザの波長は、0.806μm〜0.
809μmの間にはいっている。この各アレイ型半導体
レーザ2の最大出力は約5W(各レーザあたり0.5W
)であり、YAGロッド1の3側面を励起している。
印で示すように3側面上にあり、YAGレーザ光がYA
Gロッドの側面で反射する点に相当している。同一側面
上での各励起点の間隔は、アレイ型半導体レーザ2の各
レーザの間隔と一致しており、両方ともIIIIIであ
る。各半導体レーザ光はファイバー・レンズ3を用いて
YAGロッド1の側面に集光している。その説明図を第
3図に示す。ファイバー・レンズ3は直径200μmを
使用し、各半導体レーザ光がほぼ平行ビームにそろうよ
うに調整して、YAGロッド側面上の励起点に照射して
いる。このとき各ビーム径は約200μmであった。励
起用のアレイ型半導体レーザ2はストライブ幅150μ
mのGRIN−8CH−8QWレーザを10個並べたも
のであり、各レーザの中心どうしの間隔がlll11に
なっている。各レーザの波長は、0.806μm〜0.
809μmの間にはいっている。この各アレイ型半導体
レーザ2の最大出力は約5W(各レーザあたり0.5W
)であり、YAGロッド1の3側面を励起している。
以上のような構成のもとての本実施例における入出力特
性を第5図に示す。最大入力15Wのときに、最大出力
6Wが得られた。なお、入力10W以上になると出力が
飽和しているが、これは熱のためと考えられる。YAG
ロッドの放熱をよくすると改善できる。また、出力3W
までTEMo。
性を第5図に示す。最大入力15Wのときに、最大出力
6Wが得られた。なお、入力10W以上になると出力が
飽和しているが、これは熱のためと考えられる。YAG
ロッドの放熱をよくすると改善できる。また、出力3W
までTEMo。
モードでの発振が得られた。
発明の効果
本発明は多角柱型固体レーザの励起点の間隔とアレイ型
半導体レーザの各レーザの間隔を一致させ、各半導体レ
ーザ光をファイバー・レンズで集光して励起することに
より、従来の励起方法に比べて、少ない部品数で構成す
ることができる。そのため小型の高出力固体レーザを実
現することができる。
半導体レーザの各レーザの間隔を一致させ、各半導体レ
ーザ光をファイバー・レンズで集光して励起することに
より、従来の励起方法に比べて、少ない部品数で構成す
ることができる。そのため小型の高出力固体レーザを実
現することができる。
また本発明における本構造はNd : YAG以外の固
体レーザ媒質においても有効である。
体レーザ媒質においても有効である。
本発明は高出力を要する加工、医療用の固体レーザとし
て大きな効果を有する。
て大きな効果を有する。
第1図は本発明の半導体レーザ励起固体レーザ装置の構
造図、第2図は本発明の装置の一部である固体レーザ媒
質内におけるYAGレーザ光の光路を説明する図、第3
図は本発明の固体レーザ装置の一部であるアレイ型半導
体レーザとファイバー・レンズとYAGロッドの励起面
の断面図、第4図は本発明の装置の一部である固体レー
ザ媒質の見取図、第5図は本発明の装置の入出力特性図
、第6図は従来の軸励起固体レーザ装置の構造図、第7
図は従来の多角柱型固体レーザ装置の構造図である。 1・・・・・・六角柱型Nd:YAGロッド、1a・・
・・・・反射面、1b・・・・・・出射面、IC・・・
・・・励起面、2・・・・・・アレイ型半導体レーザ、
3・・・・・・ファイバー・レンズ、4・・・・・・外
部反射鏡、5・・・・・・Nd:YAGロッド、6・・
・・・・半導体レーザ、7・・・・・・集光レンズ。
造図、第2図は本発明の装置の一部である固体レーザ媒
質内におけるYAGレーザ光の光路を説明する図、第3
図は本発明の固体レーザ装置の一部であるアレイ型半導
体レーザとファイバー・レンズとYAGロッドの励起面
の断面図、第4図は本発明の装置の一部である固体レー
ザ媒質の見取図、第5図は本発明の装置の入出力特性図
、第6図は従来の軸励起固体レーザ装置の構造図、第7
図は従来の多角柱型固体レーザ装置の構造図である。 1・・・・・・六角柱型Nd:YAGロッド、1a・・
・・・・反射面、1b・・・・・・出射面、IC・・・
・・・励起面、2・・・・・・アレイ型半導体レーザ、
3・・・・・・ファイバー・レンズ、4・・・・・・外
部反射鏡、5・・・・・・Nd:YAGロッド、6・・
・・・・半導体レーザ、7・・・・・・集光レンズ。
Claims (1)
- 互いに60度で交わる関係にある3側面を有する多角柱
型の固体レーザ媒質と、前記固体レーザ媒質の底面上あ
るいは側面上あるいは外部に設けられた共振器とを有し
、固体レーザ光が前記固体レーザ媒質の側面で反射され
る各点に半導体レーザ光がそれぞれ対応して集光される
ようにアレイ型半導体レーザが設けられていることを特
徴とする半導体レーザ励起固体レーザ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1290189A JPH03150885A (ja) | 1989-11-08 | 1989-11-08 | 半導体レーザ励起固体レーザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1290189A JPH03150885A (ja) | 1989-11-08 | 1989-11-08 | 半導体レーザ励起固体レーザ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03150885A true JPH03150885A (ja) | 1991-06-27 |
Family
ID=17752904
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1290189A Pending JPH03150885A (ja) | 1989-11-08 | 1989-11-08 | 半導体レーザ励起固体レーザ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03150885A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01105586A (ja) * | 1987-08-28 | 1989-04-24 | General Electric Co <Ge> | 固体レーザ媒質 |
| JPH01122180A (ja) * | 1987-09-30 | 1989-05-15 | Spectra Physics Inc | 横方向ポンピングによる高能率のモード調和形固体レーザ |
-
1989
- 1989-11-08 JP JP1290189A patent/JPH03150885A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01105586A (ja) * | 1987-08-28 | 1989-04-24 | General Electric Co <Ge> | 固体レーザ媒質 |
| JPH01122180A (ja) * | 1987-09-30 | 1989-05-15 | Spectra Physics Inc | 横方向ポンピングによる高能率のモード調和形固体レーザ |
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