JPH0315178B2 - - Google Patents

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JPH0315178B2
JPH0315178B2 JP3944985A JP3944985A JPH0315178B2 JP H0315178 B2 JPH0315178 B2 JP H0315178B2 JP 3944985 A JP3944985 A JP 3944985A JP 3944985 A JP3944985 A JP 3944985A JP H0315178 B2 JPH0315178 B2 JP H0315178B2
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Japan
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formula
group
synthesis example
synthesis
atom
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Akihiko Kuroiwa
Noryoshi Nanba
Terufumi Kamijo
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TDK Corp
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00Recording-members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat or to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/02Charge-receiving layers
    • G03G5/04Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
    • G03G5/06Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
    • G03G5/0664Dyes
    • G03G5/0696Phthalocyanines

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 発明の背景 技術分野 本発明は、フタロシアニン化合物をキヤリア生
成層に含有させた電子写真感光体に関する。 先行技術とその問題点 複写機やレーザープリンター等には電子写真感
光体が用いられている。このなかには、機能分離
型積層感光体が含まれるが、これは電極上にキヤ
リア生成層とキヤリア移動層とが積層されている
ものである。キヤリア生成層は光を吸収すること
によりキヤリアを生成する層であり、またキヤリ
ア移動層は生成したキヤリアを移動する層であ
る。 ところで、フタロシアニン化合物は熱、光、湿
度等に対し堅牢性に優れ、光導電材料としても注
目されており、このフタロシアニン化合物をキヤ
リア生成層に適用する試みがなされている。 しかし、この化合物は、レーザープリンタ等に
必要とされる近赤外ないし赤外域に吸収を持たな
いため用いることができず、この点の改善が望ま
れている。 発明の目的 本発明の目的は、キヤリア生成層にフタロシア
ニン化合物を含有させることにより近赤外ないし
赤外域に吸収をもつ電子写真感光体を提供するこ
とにある。 発明の開示 このような目的は、下記の本発明によつて達成
される。 すなわち、本発明は、電極上にキヤリア生成層
およびキヤリア移動層を有する電子写真感光体に
おいて、 キヤリア生成層が下記式()または式()
で示されるフタロシアニン化合物を含有すること
を特徴とする電子写真感光体。 式 () 式 () {式()および()中、Pcは、水素原子、
金属もしくは半金属原子またはM1Xに配位した
フタロシアニン核を表わす。 M1はB金属原子を表わし、Xはハロゲン原
子を表わす。 R1およびR3は、それぞれ、置換または非置換
の脂肪族基または芳香族基を表わす。 R2は置換または非置換の2価の脂肪族基また
は芳香族基を表わす。 Yは水素原子またはハロゲン原子を表わす。 nは5〜16、1は1〜8、mは0〜14の正の整
数を表わす} 発明の具体的構成 以下、本発明の具体的構成について詳細に説明
する。 本発明の電子写真感光体はキヤリア生成層を有
し、この層には上記式()または()で示さ
れるフタロシアニン化合物が含有される。 上記およびにおいて、Pcは水素原子、金
属もしくは半金属原子またはM1Xに配位したフ
タロシアニン核を表わす。 M1はB金属原子を表わし、Xはハロゲン原
子を表わす。 金属または半金属原子としては、例えば、Zn、
Pb、Cu、Ni、Fe、Co、Sr、Ca、Yb、Li、Ag、
Ru、Sm、Tb、Dy、U、T、Cs、Pd、Nd、
Ga、In、Sn、Si、Pt、Mn、Ge、Be、A、
V、Sn、Mg、Ti等; であり、このなかでCu、Ni、Co、Fe、Zn、A
、Pt、V、水素が好ましい。 M1はB金属原子(A、Ga、In、T、)
であり、このなかで特にA、Ga、Inが好まし
い。 Xはハロゲン原子、例えばF、C、Br、I
等; であり、なかでもC、Br、Iが好ましい。 中心原子が、例えば、1価の水素原子または金
属原子であるときには、2個存在し、2価の金属
原子であるときには1個存在し、MがM1Xであ
るときには中心に1つ存在する。 フタロシアニン核は、中心原子がH2であると
き、下記式で表わされる。 式 () 上記式()で、−OR1、 −OR2O−、−OR3もしくはYが置換する位置は
1〜16のいずれかである。 R1およびR3は1価、R2は2価であつて、炭素
数1〜20の置換もしくは非置換の脂肪族基、例え
ば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ペンチル基、ヘキシル基、エチレン基、プロ
ピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレ
ン基、ベンジル基、フエネチル基、シクロヘキシ
ル基、アリル基、ドデシル基、 −CH2CH2CH=CH−CH2−、シクロヘキセン
基、
【式】イソプロペニル基、− C2H4−C、−CH2−NH2等; 炭素数6〜24の置換もしくは非置換の芳香族
基、例えば、フエニル基、トリル基、フエニレン
基、ナフチレン基、メトキシフエニル基、ナフチ
ル基、塩化、フエニル基、キシリル基、
【式】
【式】
【式】スチリル基、シンナミル 基、フエネチル基、メチルフエニレン基、
【式】ピリジル基、ピロリル 基、キノリル基、フリル基、フルフリル基、フエ
ニル基、ピペリジル基、ピリミジル基等; である。 Yは、水素原子; ハロゲン原子、例えば、C、Br、I、F
等; であり、なかでも、H、C、Br、Iが好まし
い。 nは、5〜16の正の整数を表わし、なかでも8
〜16であることが好ましい。 1は1〜8、mは0〜14の正の整数を表わす。 以下に本発明のフタロシアニン化合物の具体例
を挙げる。 (1) オクター(4−メチルフエノキシ)−CuPc (2) オクタ−(メトキシ)−CuPc (3) オクタ−(−OC2H5)−CuPc (4) オクタ−(−OC3H7)−CuPc (5) オクタ−(−OC4H9)−H2Pc (6) オクタ−(
【式】)−CuPc (7) オクタ−(
【式】)−CuPc (8) オクタ−(
【式】)−NiPc (9) デカー(
【式】)−CoPc (10) デカー(−OC5H11)−H2Pc (11) ウンデカー(
【式】)−CoPc (12) ペンタデカー(−OC2H5)−H2Pc (13) ペンタデカー
【式】)−PbPc (14) ペンタデカー(−OC3H7)−ZnPc (15) オクタ−(
【式】)−H2Pc (16) ペンタデカー(
【式】)−CuPc (17) ペンタデカー(
【式】)− CuPc (18) ペンタデカー(−O−C2H5)−CuPc (19) ペンタデカー(−O−CH3)−CuPc (20) ペンタデカー(−O−CH3)−H2Pc (21) ペンタデカー(
【式】)− CuPc (22) ペンタデカー(
【式】)− H2Pc (23) ヘキサデカー(
【式】)ーCuPc (24) ヘキサデカー(
【式】)− H2Pc (25) ヘキサデカー(−O−CH3)−CuPc (26) ヘキサデカー(−O−C2H5)−CuPc (27) オクタ−3,6−(
【式】) −CuPc (28) オクタ−3,6−(
【式】) −CoPc (29) ヘキサデカー(−OC3H7)−FePc (30) ヘキサデカ−(
【式】)− CuPc (31) オクタ−(−O−C2H5)テトラ−4,5−
【式】))−CuPc (32) デカー(
【式】)ジ−4, 5−(−O−C6H12−O−)−CuPc (33) ヘキサデカー(
【式】)モ ノー(
【式】)−H2Pc (34) オクタ−(−OCH3)−ACPc (35) オクタ−(−OC2H5)−InCPc (36) オクタ−(
【式】)−GaCPc (37) オクタ−(−OC3H7)−InBrPc (38) オクタ−(−OC2H5)−TCPc (39) オクタ−(
【式】)−AC Pc (40) デカー(
【式】)−A BrPc (41) デカー(−O−C2H5)AIPc (42) ウンデカー(
【式】) GaBrPc (43) ペンタデカー(
【式】)InC Pc (44) ペンタデカー(
【式】) ACPc (45) ペンタデカー(
【式】) CaCPc (46) ペンタデカー(−O−C2H5)InIPc (47) ペンタデカー(−O−C2H5)GaIPc (48) ヘキサデカー(
【式】)InC Pc (49) ヘキサデカー(
【式】)GaC Pc (50) ヘキサデカー(−O−C2H5)InBrPc (51) ヘキサデカー(−OC3H7)ACPc (52) ヘキサデカー(
【式】) GaBrPc (53) ヘキサデカー(
【式】)A BrPc (54) ウンデカー(−O−C2H5)InCPc (55) オクタ−3,6−(−O−C2H5)テトラー
4,5− (
【式】)−ACPc (56) デカー(
【式】)ジ− (
【式】) (57) ヘキサデカー(
【式】)モ ノー (
【式】)ABrPc 本発明のフタロシアニン化合物は、一般に次の
スキームに従う方法で合成することができる。 スキーム 1 R1OH+KOHキノリン中 ―――――――→ 140℃、1hr.R1O-K+nR1O-K++MkPc(Y)16 ―――――――――――→ ―――――――――――→ 160〜180℃、1hr.Mk−Pc(−OR1o(Y)16-o+副生成
物 この方法を用いた場合の反応生成物の精製は次
のように行なう。 反応生成物を100℃に冷却し、エタノールで希
釈した後、、室温に戻して濾過する。この濾別し
たものをエタノールで洗浄し、さらにエタノール
−水溶液で洗浄し、乾燥する。こうして得られた
組生成物をシリカカラムでトルエンによつて展開
し、分離して精製する。 スキーム 2 この場合の反応生成物の精製は、スキーム1と
同様に行なう。 スキーム 3 この場合の反応生成物の精製は、スキーム1と
同様に行う。 次に、本発明のフタロシアニン化合物の合成例
を挙げる。 合成例1 例示化合物(3)の合成 エタノール12gとKOH 6gとをキノリン中で
145℃にて2時間反応させた。これにCuPc(C)
16 7gを加え、160〜180℃にて2時間反応させた 得られた反応生成物を100℃に冷却した後、エ
タノール(EtOH)で希釈して室温に戻し、濾過
した。濾別したものをEtOHで洗浄し、さらに
EtOH−H2O(1:1)溶液で洗浄し、乾燥した。 このようにして得られた粗生成物をシリカカラ
ムでトルエンによつて展開し、分離、精製した。
これを2回繰り返して目的物を得た。 収 率 35% 元素分析 C O N Cu 計算値/% 49.52 11.01 9.63 5.46 実測値/% 47.21 11.31 9.69 5.52 吸収極大 λmax 710nm(スピンナー塗布により0.1μm厚の
薄膜を形成して測定) 合成例2 例示化合物(6)の合成 合成例1と同様にして目的物を得た。 収 率 42% 元素分析 C O N Cu 計算値/% 62.05 8.27 7.24 4.10 実測値/% 60.03 8.41 7.21 4.24 合成例3 例示化合物(15)の合成 合成例1と同様にして目的物を得た。 収 率 18% 元素分析 C O N H 計算値/% 59.81 14.50 6.34 3.29 実測値/% 60.21 14.01 6.52 3.01 合成例4 例示化合物(11)の合成 合成例1と同様にして目的物を得た。 収 率 19.7% 元素分析 C H N Cu 計算値/% 73.77 3.33 4.85 2.75 実測値/% 71.68 3.71 4.83 2.98 合成例5 例示化合物(18)の合成 合成例1と同様にして目的物を得た。 収 率 18.4% 元素分析 C H N Cu 計算値/% 58.58 5.91 8.82 5.00 実測値/% 58.62 5.81 8.80 5.03 合成例6 例示化合物(26)の合成 1モルとエタノール(EtOH)4モルとを130
℃で3時間反応させ、 を得た。この化合物4モルにLi+(CO5H11-2モル
を加えて、130℃で2時間反応させ、 Li2Pc(−OEt)16を得た。さらに、この化合物1
モルにCuC21モルを加えてアミルアルコール中
で120℃で2時間反応させ、目的物を得た。 精製は実施例1と同様に行なつた。 収 率 23.9% 元素分析 C H N Cu 計算値/% 60.02 6.25 8.75 4.96 実測値/% 60.14 6.20 8.69 4.91 吸収極大 λmax 810nm(スピンナ−塗布により0.1μm厚の
薄膜を形成して測定) 合成例7 例示化合物(28)の合成 合成例6と同様にして目的物を得た。 収 率 33.5% 元素分析 C H N Co 計算値/% 67.79 2.82 5.65 2.97 実測値/% 66.99 2.85 5.70 2.91 合成例8 例示化合物(23)の合成 合成例6と同様にして目的物を得た。 収 率 19.8% 元素分析 C H N Cu 計算値/% 75.02 3.91 5.47 3.10 実測値/% 73.82 3.93 5.52 3.06 合成例9 例示化合物(29)の合成 合成例6と同様にして目的物を得た。 収 率 28.4% 元素分析 C H N Fe 計算値/% 64.18 7.49 7.49 3.73 実測値/% 62.94 7.45 7.38 3.84 合成例10 例示化合物(30)の合成 合成例6と同様にして目的物を得た。 収 率 36.4% 元素分析 C H N Cu 計算値/% 80.91 3.93 39.30 2.23 実測値/% 82.90 3.92 39.10 2.21 合成例11 例示化合物(50)の合成
【式】1モルと、 エタノール(EtOH)4モルとを140℃、2時間
で反応させ、
【式】を得た。 この化合物4モルにLi+(OC5H11-2モルを加え
て150℃で2時間反応させ、Li2Pc(−OEt)16を得
た。さらに、この化合物1モにInC31モルを加
えて、アミルアルコール中で130℃で1時間反応
させ、目的物を得た。この反応生成物を100℃に
冷却した後、エタノール(EtOH)で希釈して室
温に戻し、濾過した。濾別したものをEtOHで洗
浄し、さらにEtOH−H2O(1:1)溶液で洗浄
し、乾燥した。このようにして得られた粗生成物
をシリカカラムでトルエンによつて展開し、分
離、精製して目的物を得た。 収 率 18.6% 元素分析 C H N In 計算値/% 54.44 5.67 7.94 8.14 実測値/% 54.52 5.66 7.91 8.16 吸収極大 λmax 830nm(スピンナー塗布により0.1μm厚の
薄膜を形成して測定) 合成例12 例示化合物(35)の合成 合成例11と同様にして目的物を得た。 収 率 23.2% 元素分析 C H N In 計算値/% 44.66 3.10 8.68 8.90 実測値/% 43.92 3.11 8.66 8.94 合成例13 例示化合物(36)の合成 合成例11と同様にして目的物を得た。 収 率 28.4% 元素分析 C H N Ga 計算値/% 58.94 2.46 6.88 4.28 実測値/% 57.94 2.47 6.91 4.30 合成例14 例示化合物(39)の合成 合成例11と同様にして目的物を得た。 収 率 31.08% 元素分析 C H N Ga 計算値/% 66.25 2.76 5.52 3.44 実測値/% 65.84 2.72 5.58 3.49 合成例15 例示化合物(48)の合成 βナフトール16モルとKOH16モルとをキノリ
ン中で140℃にて1時間反応させた。 これにInCPc(C)16Iモルを加え、160〜180
℃にて1時間反応させた。 得られた反応生成物の精製は合成例11と同様に
行つた。 収 率 23.6% 元素分析 C H N In 計算値/% 78.52 3.82 3.82 3.91 実測値/% 77.94 3.85 3.88 3.89 吸収極大 λmax 840nm(スピンナー塗布により0.1μm厚の
薄膜を形成して測定)合成例16 例示化合
物(44)の合成 合成例15と同様にして目的物を得た。 収 率 28.5% 元素分析 C H N A 計算値/% 69.11 1.89 4.71 1.13 実測値/% 69.25 1.87 4.70 1.13 合成例17 例示化合物(37)の合成 合成例15と同様にして目的物をを得た。 収 率 22.8% 元素分析 C H N In 計算値/% 37.29 3.10 6.22 6.37 実測値/% 37.11 3.12 6.21 6.39 合成例18 例示化合物(54)の合成 合成例15と同様にして目的物を得た。 収 率 29.4% 元素分析 C H N In 計算値/% 49.15 4.17 8.49 8.71 実測値/% 48.93 4.19 8.51 8.70 キヤリア生成層は上述したフタロシアニン化合
物のみで構成してもよく、さらにはアゾ系、イン
ジゴ系、シアニン系、ペリレン系染顔料あるい
は、各種樹脂、オリゴマー、各種添加剤等を混合
して用いてもよい。混合する場合はフタロシアニ
ン化合物が50〜100wt%含まれることが望まし
い。 キヤリア生成層の厚さは0.03〜10μmとするの
がよい。 本発明の電子写真感光体はキヤリア移動層を有
する。キヤリア移動層は静電荷受容性や帯電保持
正に優れ、キヤリア移動層が大きく、可視および
近赤外光に分光感度を持さないか非常に小さいか
のいずれかであり、イオン化ポテンシヤルが小さ
いことが必要である。 この層を構成する料材としては上記フタロシア
ニン化合物を用いてもよいが通常は、TNF系化
合物、ヒドラゾン系化合物、ポリビニルカルバゾ
ール(PVK)系化合物、オキサゾール系化合物、
ジヒドロキシ化合物、ジカルボン酸含有ポリエス
テル等が挙げられる。 以下に具体例を示す。 (a) 2,5−ビス−(4−ジエチルアミノフエニ
ル)−オキサジアゾール−1,3,4 (b) ポリ−ビニル−カルバゾール(PVK) (c) 1−フエニル−3−(p−ジエチルアミノス
チリル〕−5−(p−ジエチルアミノフエニル)
ピラゾリン (d) N−メチル−N−フエニルヒドラゾノ−3−
メチリデン−9−エチルカルバゾール (e) 4,4′ジエチルアミノ−トリフエニルメタン (j) 〔3−(N−メチル−N−フエニルヒドラゾ
ン)メチル−9−エチルカルバゾール〕 (k) 1−フエニレン3−(p−ジエチルアミノス
チリル)−5−(p−ジエチルアミノフエ (n) ポリエステル中に分散した2・5−ビス
−(4−ジエチルアミノフエニル)−1・3・4
−オキサジアゾール このキヤリア移動層の厚さは4〜35μmとする
のがよい。 本発明の電子写真感光体に用いる電極は、金属
材質からなり、通常ドラム状をなす。 本発明の電子写真感光体は電極上にキヤリア生
成層とキヤリア移動層とを設置するが、どちらを
上に設置してもかまわない。 上述の層の他に保護層、バリアー層等を設けて
もよい。 このような感光体を用いて、画像を形成するに
は常法に従えばよい。 発明の具体的作用効果 本発明によれば、キヤリア生成層に前記式
()または()で示されるフタロシアニン化
合物を含有させているため、近赤外ないし赤外域
用のきわめて高い光ないし熱に対する堅牢性をも
つ電子写真感光体が得られる。 発明の具体的実施例 以下、本発明の具体的実施例を示し、、本発明
の効果をさらに詳細に説明する。 実施例 アルミ電極上に、表1に示すフタロシアニン化
合物からなる厚さ0.1μmのキヤリア生成層を設置
した。さらに、その上に2,5−ビス−(4ジエ
チルアミノフエニル)−オキサジアゾール−1,
3,4を用い、ポリカーボネートをバインダとし
た厚さ12μmのキヤリア移動層を設置して感光体
とした。このようにして得られた電子写真感光体
を表1に示すように試料1〜20、111および112と
する。 各ピーク感度波長での感度を表1に示す。
【表】
【表】 これらの試料を実際レーザープリンターに実装
して画像形成を行い、画質を評価した。 この結果、本発明の試料を用いると、いずれも
良好な画像が得られたが、比較の試料の場合はレ
ーザー光を吸収しないためキヤリアを生成せず、
画像は得られなかつた。 また、電極上にキヤリア移動層、キヤリア生成
層の順に設置した以外は上記と同様に試料を作成
し、同様に処理したが、上記と同じ結果が得られ
た。 以上より本発明の効果は明らかである。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 電極上にキヤリア生成層およびキヤリア移動
    層を有する電子写真感光体において、 キヤリア生成層が下記式()または式()で
    示されるフタロシアニン化合物を含有することを
    特徴とする電子写真感光体。 式 () 式 () {式()および()中、Pcは、水素原子、
    金属もしくは半金属原子またはM1Xに配位した
    フタロシアニン核を表わす。 M1はB金属原子を表わし、Xはハロゲン原
    子を表わす。 R1およびR3は、それぞれ、置換または非置換
    の脂肪族基または芳香族基を表わす。 R2は置換または非置換の2価の脂肪族基また
    は芳香族基を表わす。 Yは水素原子またはハロゲン原子を表わす。 nは5〜16、1は1〜8、mは0〜14の正の整
    数を表わす}
JP3944985A 1985-02-28 1985-02-28 電子写真感光体 Granted JPS61198241A (ja)

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