JPH03152199A - Cleaner for rosin-based soldering flux - Google Patents
Cleaner for rosin-based soldering fluxInfo
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- JPH03152199A JPH03152199A JP1291903A JP29190389A JPH03152199A JP H03152199 A JPH03152199 A JP H03152199A JP 1291903 A JP1291903 A JP 1291903A JP 29190389 A JP29190389 A JP 29190389A JP H03152199 A JPH03152199 A JP H03152199A
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- nonionic surfactant
- cleaning agent
- rosin
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、ロジン系ハンダフラックスの洗浄剤、特にア
ッセンブリー用ロジン系ハンダフラックスの洗浄剤に関
する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to a cleaning agent for rosin-based solder flux, and particularly to a cleaning agent for rosin-based solder flux for assembly.
(従来の技術)
ロジン系ハンダフラックスはプリント回路板やプリント
配線基板などのモジュールの製作にあたって使用される
。ハンダ処理の目的は、一般には基板と入出力ビンとの
接着強度を高めたり、接点の酸化を防止して導電性を維
持するためであり、かかるハンダ処理の実効を図らんと
してハンダ付けに際してロジン系′ハンダフラックスカ
り吏用される。ハンダ付は終了後は、基板面からフラッ
クスのみを選択的にしかも完全に除去すべく洗浄剤が使
用される。すなわち、フラックスの洗浄が不充分である
場合には、残留フラックスによる悪影響として、回路腐
食が起こったり、あるいは基へ表向の電気絶縁性が低下
し、最終的には回路破損につながるという不利がある。(Prior Art) Rosin-based solder flux is used in the production of modules such as printed circuit boards and printed wiring boards. The purpose of soldering is generally to increase the adhesive strength between the board and the input/output bottle, and to prevent oxidation of the contacts and maintain conductivity. The system is used for solder flux removal. After soldering is completed, a cleaning agent is used to selectively and completely remove only the flux from the board surface. In other words, if the flux is insufficiently cleaned, the residual flux may cause circuit corrosion, or the electrical insulation on the surface of the substrate may deteriorate, ultimately leading to circuit damage. be.
そのため、洗浄剤を使用して、残留フラックス、特にそ
れに含有されている活性剤成分を除去することにより、
前記不和を解消せんとする。α4がある。Therefore, by using cleaning agents to remove the residual flux, especially the activator components contained in it,
We will try to resolve the above-mentioned differences. There is α4.
従来、ロジン系ハンダフラックスの洗浄剤としてはトリ
クロロエチレン、トリクロロトリフルオロエタン等のハ
ロゲン化炭止水Jiift剤が使用されている。ところ
が、オゾン層破壊などの環境汚染の問題から、かかるハ
ロゲン化炭化水素溶剤の使用規制が本格化されつつあり
、電気業界においてもいわゆるフロン代替のハンダフラ
ックスの洗浄剤の開発が急務となってきた。Conventionally, halogenated carbon water stopping agents such as trichlorethylene and trichlorotrifluoroethane have been used as cleaning agents for rosin-based solder flux. However, due to environmental pollution problems such as ozone layer depletion, restrictions on the use of such halogenated hydrocarbon solvents are becoming more serious, and the development of so-called fluorocarbon substitute solder flux cleaning agents has become an urgent need in the electrical industry. .
近時、非ハロゲン系のハンダフラックス洗浄剤が種り開
発されているが、洗浄力、毒性、臭ス、引火性などのす
べての要求性能を完全に満足しつるものはいまだ見い出
されていないのが現状である。Recently, non-halogen solder flux cleaning agents have been developed, but no one has yet been found that completely satisfies all required performance such as cleaning power, toxicity, odor, and flammability. is the current situation.
(発明が解決しようとする課題)
本発明は1.先浄力に優れ、しかもf順境特性、毒性な
どの点でもほぼ満足しつる非ハロゲン系のハンダフラッ
クス洗浄剤を提供することを目的とする。(Problems to be Solved by the Invention) The present invention has 1. It is an object of the present invention to provide a non-halogen solder flux cleaning agent which has excellent pre-cleaning power and is almost satisfactory in terms of F-friendly characteristics and toxicity.
(課題を解決するための手段)
本発明者らは前記目的を達成すべ(鋭意検討を重ねた結
果、意外にも特定の炭化水素成分とノニオン性界面活性
剤とを必須成分として使用した場合には、前記課題を悉
く解決しうることを見出し、本発明を完成するに至った
。(Means for Solving the Problems) The present inventors have achieved the above-mentioned object (as a result of extensive studies, we have surprisingly found that when a specific hydrocarbon component and a nonionic surfactant are used as essential components) discovered that all of the above problems could be solved and completed the present invention.
すなわち本発明は、石油ナフサの熱分解または改質によ
り副生ずる沸点 150〜300℃の留分を水素化して
得られる水素化留分[b]、および/または石油ナフサ
の熱分解または改質により副生する沸点150〜300
℃の留分をカチオン1合して得られる石油樹脂を水素化
して得られる水素化石油樹脂を製造する際に副生する分
解油[b]、ならびにノニオン性界面活性剤とからなる
混合物を有効成分とすることを特徴とするロジン系ハン
ダフラックスの洗浄剤に係る。That is, the present invention provides a hydrogenated fraction [b] obtained by hydrogenating a fraction with a boiling point of 150 to 300°C that is produced as a by-product by thermal decomposition or reforming of petroleum naphtha, and/or a hydrogenated fraction [b] obtained by thermal cracking or reforming of petroleum naphtha. By-product boiling point 150-300
A mixture consisting of cracked oil [b], which is a by-product during the production of hydrogenated petroleum resin obtained by hydrogenating petroleum resin obtained by combining cationic fractions of °C, and a nonionic surfactant, is effectively used. The present invention relates to a cleaning agent for rosin-based solder flux, which is characterized by containing a rosin-based solder flux as a component.
本発明のロジン系ハンダフラックスの洗浄剤の成分のう
ち、石油ナフサの熱分解または改質により副生する沸点
150〜300℃の留分を水素化して得られる水素化留
分■(以下、成分■という)は、いわゆるC9留分と称
される留分を、水素化して得られる水素化C9留分であ
るとされる。ここに、上記のC,留分は、−船釣には1
例えばスチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン
、ビニルキシレン、プロペニルベンゼン、インデン、メ
チルインデン、エチルインデンなどの各種重合性芳香族
炭化水素を主成分として含有する炭化水素の混合物であ
る。なお、該C3留分は、副成分として、少量のブテン
、ペンテン、ヘキセン、ヘプテン、オクテン、ブタジェ
ン、ペンタジェン、シクロペンタジェン、ジシクロペン
タジェンなどの脂肪族炭化水素が含有されていても良い
、したがって、成分■とは、上記C9留分な公知の方法
により水素化せしめて得られる脂環族系炭化水素を主成
分として含有する炭化水素混合物である。水素化反応は
、ニッケル、パラジウム、コバルト、白金、ルテニウム
、ロジウムなどの金属触媒またはこれら金属の酸化物触
媒の存在下に前記C1留分を0〜300にg/Cr重量
1′の水素圧で、30〜300℃で加熱反応させること
により行うことができ、これにより容易に成分■を収得
しつる。Among the components of the rosin-based solder flux cleaning agent of the present invention, the hydrogenated fraction (hereinafter referred to as component (2) is said to be a hydrogenated C9 fraction obtained by hydrogenating a so-called C9 fraction. Here, the above C, fraction is -1 for boat fishing.
For example, it is a mixture of hydrocarbons containing various polymerizable aromatic hydrocarbons such as styrene, α-methylstyrene, vinyltoluene, vinylxylene, propenylbenzene, indene, methylindene, and ethylindene as a main component. Note that the C3 fraction may contain a small amount of aliphatic hydrocarbons such as butene, pentene, hexene, heptene, octene, butadiene, pentadiene, cyclopentadiene, dicyclopentadiene, etc. as a subcomponent. Therefore, component (2) is a hydrocarbon mixture containing as a main component an alicyclic hydrocarbon obtained by hydrogenating the above-mentioned C9 fraction by a known method. In the hydrogenation reaction, the C1 fraction is heated to 0 to 300 g/Cr weight 1' hydrogen pressure in the presence of a metal catalyst such as nickel, palladium, cobalt, platinum, ruthenium, or rhodium or an oxide catalyst of these metals. , can be carried out by heating the reaction at 30 to 300°C, whereby component (1) can be easily obtained.
本発明のロジン系ハンダフラックスの洗浄剤の成分のう
ち、石油ナフサの熱分解または改質により副生ずる沸点
150〜300℃の留分なカチオン重合して得られる石
油樹脂を水素化して得られる水素化石油樹脂を製造する
際に副生する分解油■(以下、成分■という)とは、前
記C9留分を公知のカチオン重合方法により重合させて
、いわゆるC9系石油樹脂とした後、該石油樹脂を公知
の水素化方法を採用して製造される、いわゆる水素化C
1系石油樹脂をいう、ここに、カチオン重合方法として
は、特に制限なく各種公知の方法な採用することができ
1例えば、三フッfヒホウ素、無水塩化アルミニウムな
どに代表されるルイス酸触媒の存在下に、C,留分を加
熱反応させる方法が一般的である。また水素化条件とし
ては、@記成分(〜と近似の条件を採用できるが、水素
圧はより厳しい条件とする必要があり、通常50〜30
0Kg/crr1′程度とされる。しかして成分■は、
C9系石油樹脂を上記水製化条件下に副生する、いわゆ
る水素化分解油と称するものをいう。したがって、成分
■と成分■とを比較した場合には、成分■には原料留分
の2雀体あるいはそれ以上の多頃体の水素化物を少礒含
有している点で成分■と若モの相違点があるものの、両
者は実質的には同一の炭化水素混合物と考えられる。Among the components of the cleaning agent of the rosin-based solder flux of the present invention, hydrogen is obtained by hydrogenating a petroleum resin obtained by cationic polymerization, which is a by-product with a boiling point of 150 to 300°C by thermal decomposition or reformation of petroleum naphtha. The cracked oil (hereinafter referred to as component ()) which is produced as a by-product during the production of fossil petroleum resin is the C9 fraction that is polymerized by a known cationic polymerization method to form a so-called C9-based petroleum resin. So-called hydrogenated C, which is produced by employing a known hydrogenation method for resin.
The cationic polymerization method here refers to a cationic polymerization method that may be any known method without any particular limitation. A common method is to heat-react the C fraction in the presence of C. In addition, as hydrogenation conditions, conditions similar to the components listed in (~) can be adopted, but the hydrogen pressure needs to be under stricter conditions, usually 50 to 30
It is estimated to be around 0Kg/crr1'. However, the ingredient ■ is
It refers to what is called a so-called hydrocracked oil, which is a by-product of C9 petroleum resin under the above-mentioned water production conditions. Therefore, when comparing component ■ with component Although there are differences, both are considered to be essentially the same hydrocarbon mixture.
本発明のロジン系ハンダフラックスの洗浄剤の成分のう
ち、ノニオン性界面活性剤(以下、成分(Φという)と
しては、特に制限はなく、各種公知のものを採用しつる
。その具体例としては、ポリオキシエチレンアルキルエ
ーテル、ポリオキシエチレンフェノールエーテル、ポリ
オキシエチレンアルキルフェノールエーテルなどのポリ
エチレングリコールエーテルをノニオン性界面活性剤;
ポリエチレングリコールモノエステル、ポリエチレング
リコールジエステルなどのポリエチレングリコールエス
テル型ノニオン性界面活性剤;高級脂肪族アミンのエチ
レンオキサイド付カロ物;脂肪酸アミドのエチレンオキ
サイド付加物;ソルビタン脂肪酸エステル、ショ糖脂肪
酸エステルなどの多価アルコール型ノニオン性界面活性
剤;脂肪酸アルカノールアミドなど一更にはこれらに対
応するポリオキシプロピレン系ノニオン性界面活性剤お
よびポリオキシエチレンポリオキシプロピレン共重合を
ノニオン性界面活性剤をあげることができる。これらの
うち、洗浄力の点から好ましいものとしては、ポリエチ
レングリコールエーテル型ノニオン性界面活性剤であり
、川に好ましいものとしては下記−数式で表されるもの
が該当する。Among the components of the cleaning agent for the rosin-based solder flux of the present invention, the nonionic surfactant (hereinafter referred to as component (Φ)) is not particularly limited, and various known ones may be employed.Specific examples thereof include: , polyethylene glycol ether such as polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene phenol ether, polyoxyethylene alkyl phenol ether, etc. as a nonionic surfactant;
Polyethylene glycol ester type nonionic surfactants such as polyethylene glycol monoester and polyethylene glycol diester; ethylene oxide-attached carboxylates of higher aliphatic amines; ethylene oxide adducts of fatty acid amides; Hydrolic alcohol type nonionic surfactants; fatty acid alkanolamides and the like; corresponding polyoxypropylene type nonionic surfactants and polyoxyethylene polyoxypropylene copolymerization nonionic surfactants can also be mentioned. Among these, polyethylene glycol ether type nonionic surfactants are preferred from the viewpoint of detergency, and those represented by the following formula are preferred for cleaning purposes.
R=O−(CH□ CH,O) 。 −[1(式中、
Rは炭素数5〜20の直鎖もしくは分岐鎖アルキル基、
フェニル基、または炭素数7〜12の直鎖もしくは分岐
鎖アルキル基で置換されたフェニル基を、nは5〜20
の整数を示す、)前記の成分Oおよび/または成分(ゆ
と、成分(◇との使用割合は、特に制限はされないが、
通常はIi?iと:復習が95〜50重壁%: 5〜5
0重!%、好ましくは90〜80!II 31%:10
〜2010である。R=O-(CH□CH,O). −[1 (in the formula,
R is a straight chain or branched alkyl group having 5 to 20 carbon atoms,
A phenyl group or a phenyl group substituted with a straight chain or branched alkyl group having 7 to 12 carbon atoms, where n is 5 to 20
The proportion of the above-mentioned component O and/or component (◇, which represents an integer of ◇) is not particularly limited, but
Usually Ii? i: Review is 95-50 heavy%: 5-5
0 weight! %, preferably 90-80! II 31%:10
~2010.
前記の成分■および/または成分■ならびに成分(Φか
ら構成される本発明の洗浄剤は、ロジン系ハンダフラッ
クス、特にアッセンブリー用ロジン系ハンダフラックス
の洗浄に適用される。該フラックスとしては、ロジン、
変性ロジンなどのロジン類を主成分とする非活性ロジン
フラックス、該ロジン類と活性化剤とを主成分として構
成された活性ロジンフラックスが一般的であるが、本発
明の洗浄剤は、アッセンブリー用の活性ロジンフラック
スに適用した場合その使用意義が大きい。The cleaning agent of the present invention, which is composed of the above component (1) and/or component (2) and component (Φ), is applicable to cleaning rosin-based solder flux, particularly rosin-based solder flux for assembly.The flux includes rosin,
Inactive rosin fluxes whose main components are rosins such as modified rosin, and activated rosin fluxes whose main components are rosins and an activator are common, but the cleaning agent of the present invention is suitable for use in assemblies. It has great significance when applied to activated rosin flux.
本発明の洗浄剤を基板に具体的に適用するには以下のt
段を採用しつる。すなわち、本発明の洗浄剤をそのまま
でまたは水で乳化して、有りカ成分の濃度が通常 10
i)〜50.[fE1%となるよう調整する。か(して
得られた調整液に基板を直接浸漬して洗浄する方法、該
水溶液をスプレー装置を使用してフラッシュする方法、
あるいはiw的手段によりブラッシングする方法などを
適宜選択して採用することができる0本発明の洗浄剤は
、非ハロゲン系のハンダフラックス洗浄剤であるため、
フロン系洗浄剤に見られるようなオゾン層の破壊の問題
はな(、また非芳香族炭化水素系であるため大気汚染の
問題も比較的少ないという利点がある0本発明の洗浄剤
は、引火点を有するものではあるが、洗浄剤使用時の作
業環境や引火点の関係を考慮して、前記成分■および成
分■につき、所望の引火点となるよう蒸留操作などによ
り低沸点分や低引火点分を適宜除去することにより、成
分組成を適宜調整することができる。しかして引火点が
70℃以上となる場合には、特別に防爆設計された専用
の洗浄装置を使用する必要はな(、従来のフロン洗浄に
際して使用されていた各種の市販洗浄装置をそのままで
、または行千佳F、If変史することにより容易に使用
できるという利点がある。To specifically apply the cleaning agent of the present invention to a substrate, follow the steps below.
Adopt a dan. That is, when the cleaning agent of the present invention is used as it is or when emulsified with water, the concentration of active ingredients is usually 10.
i) ~50. [Adjust so that fE is 1%. A method of washing the substrate by directly immersing the substrate in the prepared solution obtained by (1), a method of flushing the aqueous solution using a spray device,
Alternatively, the cleaning agent of the present invention is a non-halogen solder flux cleaning agent.
The cleaning agent of the present invention does not have the problem of ozone layer depletion that occurs with fluorocarbon-based cleaning agents (and has the advantage of being relatively free of air pollution problems because it is a non-aromatic hydrocarbon-based cleaning agent). However, in consideration of the working environment and flash point relationship when using the cleaning agent, low boiling point components and low flammable components are removed by distillation etc. to achieve the desired flash point for component (1) and component (2). The component composition can be adjusted appropriately by removing the point components appropriately.However, if the flash point is 70°C or higher, there is no need to use a dedicated cleaning device that is specially designed to be explosion-proof. There is an advantage that various commercially available cleaning devices used in conventional fluorocarbon cleaning can be used as they are or by modifying them.
1′/c浄削の1φ用時の温度は、一般には室温付近で
あるが、1先浄剤の引火点が室温以上となるようAg!
されている場合にはその引火点を越えない限りにおいて
所望温度に加(−することにより一層洗浄効枳を向上で
きる。The temperature for 1φ of 1′/c cleaning is generally around room temperature, but Ag!
If the temperature is higher than the flash point, the cleaning effect can be further improved by adding the desired temperature.
(実施例
以下、実施例を挙げ、本発明を重に詳しく説明するが、
本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。(Examples Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples.
The present invention is not limited only to these examples.
実施例I
C3系水素(ヒ石油樹脂製造時の副生分解油(弓火点3
5℃)85iRi1部とポリエチレングリコールアルキ
ルエーテルヤノニオン性界面活性剤(第−工支製襲■製
、商品名ノイゲン[[ミT−+35J ) In礒部を
混合して本発明の洗浄剤を調製した。Example I C3-based hydrogen (by-product cracked oil during petroleum resin production (boiling point 3)
The cleaning agent of the present invention was prepared by mixing 1 part of 85iRi (5°C) with 1 part of polyethylene glycol alkyl ether yanonionic surfactant (manufactured by Dai-Koshi Seisaku, trade name: Noigen [[MiT-+35J]). .
方、プリント配線基鈑($1重積層板)の全面に、ロジ
ン系フラックス(LONCO社製、商品名r Re5i
n Flux #77−25 J )を塗布し、130
℃で2分間乾燥した後、260 ’Cで5秒間、ハンダ
フローを行ない供試基板を調製した。On the other hand, apply rosin-based flux (manufactured by LONCO, trade name: Re5i) to the entire surface of the printed wiring board ($1 laminated board).
n Flux #77-25 J) and apply 130
After drying at 260'C for 2 minutes, solder flow was performed at 260'C for 5 seconds to prepare a test board.
この基板を室温下に、上記の洗浄剤に浸漬し、フラック
スの除去の度合いを以下の1!重量定基準に塙づき目視
判定した。結果は第1表に示す。This board is immersed in the above cleaning agent at room temperature, and the degree of flux removal is determined as follows: Judgment was made visually based on weight standards. The results are shown in Table 1.
○ 良好に除去できる
Δ 苔モ残存する
X かなり残存する
次いで、上記基板を水洗および乾燥した後、オメガメー
ター6003E(KENKO社製、商品名)を用いて、
基板の清浄度(残留イオン濃度)を測定した。結果は第
1表に示す。○ Can be removed well Δ Moss moss remains
The cleanliness (residual ion concentration) of the substrate was measured. The results are shown in Table 1.
実施例2〜3
実施例1において、洗浄剤組成比を第1表に示すように
変化させた池は同様にして評価を行った。結果は第1表
に示す。Examples 2 to 3 In Example 1, ponds in which the cleaning agent composition ratio was changed as shown in Table 1 were evaluated in the same manner. The results are shown in Table 1.
実施例4〜6
実施例1において、第1表に示すような引火点を有する
各種のC,系水素化石油樹脂製造時の副生分解油に代え
、あるいは洗浄温度を変化させた他は同様にして評価を
行った。結果は第1kに示す。Examples 4 to 6 The same procedure as in Example 1 was used except that various C-based hydrogenated petroleum resins having flash points as shown in Table 1 were replaced with by-product cracked oils during the production of hydrogenated petroleum resins, or the washing temperature was changed. The evaluation was carried out as follows. The results are shown in 1k.
実施例7
実施例!において、C,J系水素化石油樹脂製造時の副
生分解油に代えて1石油ナフサの熱分解により副生じた
沸点150〜300℃の留分を水素化して(1られた水
素化留分(引火点33℃)を使用した他は同様にして、
7価を行った。結果は第1表に示す。Example 7 Example! In place of the by-product cracked oil during the production of C, J-based hydrogenated petroleum resins, a fraction with a boiling point of 150 to 300°C produced by the thermal decomposition of 1 petroleum naphtha was hydrogenated (1 produced hydrogenated fraction (flash point 33℃) was used in the same manner,
A heptavalent test was performed. The results are shown in Table 1.
実施例8〜9
実5mtfl15において、使用界面活性剤の種類を順
に、ポリエチレングリコールドデシルフェニルエーテル
型ノニオン性界面活性剤(第−工業装薬■製、商品名[
ノイゲンEA−143J > 、ポリエチレングリコー
ルノニルフェニルエーテル型ノニオン性界面活性剤(第
−工支製薬掬製、商品名「ノイゲンEA−+20J )
に変化させた他は同様にして評価を行った。結果は第1
表に示す。Examples 8 to 9 In Example 5mtfl15, the types of surfactants used were, in order, polyethylene glycol decylphenyl ether type nonionic surfactant (manufactured by Dai-Kogyo Sohaku ■, trade name [
Noigen EA-143J > Polyethylene glycol nonylphenyl ether type nonionic surfactant (manufactured by Dai-Koushi Pharmaceutical Co., Ltd., trade name: Noigen EA-+20J)
The evaluation was carried out in the same manner except that it was changed to . The result is the first
Shown in the table.
(本発明の効果)
本発明によれば、洗浄力に優れるとともに、1境特性な
どの点でも十分に満足しつる非ハロゲン系のハンダフラ
ックス洗浄剤を容易に提供することが出来るという効果
を奏する。(Effects of the Present Invention) According to the present invention, it is possible to easily provide a non-halogen solder flux cleaning agent that has excellent cleaning power and is fully satisfactory in terms of one-line properties. .
荒川化字工業株式会社Arakawa Kaji Industries Co., Ltd.
Claims (1)
点150〜300℃の留分を水素化して得られる水素化
留分[a]、および/または石油ナフサの熱分解または
改質により副生する沸点150〜300℃の留分をカチ
オン重合して得られる石油樹脂を水素化して得られる水
素化石油樹脂を製造する際に副生する分解油[b]、な
らびにノニオン性界面活性剤とからなる混合物を有効成
分とすることを特徴とするロジン系ハンダフラックスの
洗浄剤。 [2]前記ノニオン性界面活性剤が、 一般式: R−O−(CH_2CH_2O)_n−H (式中、Rは炭素数5〜20の直鎖もしくは分岐鎖アル
キル基、フェニル基、または炭素数7〜12の直鎖もし
くは分岐鎖アルキル基で置換されたフェニル基を、nは
5〜20の整数を示す。)で表される界面活性剤である
請求項1記載の洗浄剤。 [3]前記ノニオン性界面活性剤の含有率が5〜50重
量である請求項1または2記載の洗浄剤。[Claims] [1] Hydrogenated fraction [a] obtained by hydrogenating a fraction with a boiling point of 150 to 300°C produced by thermal decomposition or reforming of petroleum naphtha, and/or heat of petroleum naphtha Cracked oil [b] that is produced as a by-product when producing hydrogenated petroleum resin obtained by hydrogenating petroleum resin obtained by cationic polymerization of a fraction with a boiling point of 150 to 300 ° C. that is produced as a by-product by cracking or reforming, and A rosin-based solder flux cleaning agent characterized by containing a mixture of a nonionic surfactant and a nonionic surfactant as an active ingredient. [2] The nonionic surfactant has the general formula: R-O-(CH_2CH_2O)_n-H (wherein R is a straight or branched alkyl group having 5 to 20 carbon atoms, a phenyl group, or a carbon number The cleaning agent according to claim 1, which is a surfactant represented by a phenyl group substituted with 7 to 12 linear or branched alkyl groups, where n is an integer of 5 to 20. [3] The cleaning agent according to claim 1 or 2, wherein the content of the nonionic surfactant is 5 to 50% by weight.
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1291903A JPH03152199A (en) | 1989-11-08 | 1989-11-08 | Cleaner for rosin-based soldering flux |
| EP90111021A EP0426942A1 (en) | 1989-11-08 | 1990-06-11 | Agent for cleaning rosin-base solder flux |
| KR1019900008883A KR910011100A (en) | 1989-11-08 | 1990-06-16 | Rosin Solder Cleaning Agent |
| PT94475A PT94475A (en) | 1989-11-08 | 1990-06-25 | PROCESS FOR PREPARING CLEANING AGENTS FOR RESIN BASED WELDING FUNDS (COLOPHONY) |
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
| JP1291903A JPH03152199A (en) | 1989-11-08 | 1989-11-08 | Cleaner for rosin-based soldering flux |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03152199A true JPH03152199A (en) | 1991-06-28 |
Family
ID=17774954
Family Applications (1)
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| JP1291903A Pending JPH03152199A (en) | 1989-11-08 | 1989-11-08 | Cleaner for rosin-based soldering flux |
Country Status (1)
| Country | Link |
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| JP (1) | JPH03152199A (en) |
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- 1989-11-08 JP JP1291903A patent/JPH03152199A/en active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006160852A (en) * | 2004-12-06 | 2006-06-22 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | Liquid encapsulating resin composition and semiconductor device using the same |
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