JPH03154335A - プラズマ処理方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、プラズマ処理装置に係り、特に常時清浄な環
境を保つのに好適なプラズマ処理装置に関するものであ
る。

〔従来の技術〕

半導体デバイスの微細化が進むにつれて、ウユーハに付
着する異物が製品歩留りや品質、信順性にますます強（
影響を及ぼすこととなり、プラズマ処理装置等のクリー
ン化が重要課題になりつつある。このため試料を処理す
る時、処理室等を頻繁にクリーニングしないと、発生異
物数を所定レベル以下に保持しにくい。そのため、試料
を処理するまでの準備作業にかなり時間を賛いヤしてい
た。

なお、この種の装置として関連するものには、例えば特
願昭６３−１２５７７８号公報等が挙げられる。

〔発明が解決しようとする課題〕

上記従来技術は、エツチングの異物管理の点について配
慮がされておらず何等かの原因で各室内の汚染が激しく
なっていても、これがオペレータに全くわからないとい
った問題があ昏ハ製品不良を生じる恐れがある。

本発明の目的は、汚染が激しい状況で試料を誤って処理
するという誤作業を防止することのできるプラズマ処理
装置を提供することにある。

〔課題を解決するための手段〕

上記目的は、試料の搬送系路に、異物数を検出する検出
手段を設けるとともに、該検出手段からの信号により試
料を処理する前に、処理可能状態を判定し処理を選択す
る制御手段を設けることにより、達成される。

〔作　　用〕

試料を搬入する前に各室の塵埃の数を検出手段によって
検出し、該検出信号を制御手段に送って各室の汚染度合
を判定し、汚染が所定値を越えている場合はクリーニン
グ指示をし、所定値以下であれば試料を送って処理を進
める。これによって、汚染が激しい状況で試料を誤って
処理するという誤作業を未然に防く゛ことができる。

〔実　施　例〕

以下、本発明の一実施例を第１図により説明する。

プラズマ処理装置として、この場合、ロード室３、処理
室５、アンロード室４を順次配置して構成したものとな
っており、ロード室３側にロードカセット１が配置され
、アンロード室４側にアンロードカセット２が配置され
る。また、処理室５、ロード室３、およびアンロード室
４内に異物数を自動的に確認可能な検出手段であるカウ
ンター７を設けている。

１１１図で、ロードカセット１内には処理すべきウェー
ハ８がセプトされている。払い出されたウェーハ８はロ
ード室３に搬入される。このとき、ロード室３に設けた
ダストカウンター７によって、ロード室３内の異物数を
検出し、この情報を制御装置ｔ６に送信する。制御装５
ｉ６によってロード室３内の異物数が所定値以下である
かどうかを判断し、所定値以下であればウェーハ８をロ
ード室３に搬入する。なお、所定値以上であったらオペ
レータに警告を発しクリーニングの指示を出す。次に、
同様に処理室５内の異物数を検出する。きれいであれば
つ、−ハ８を処理室５に搬入し、処理を行なう。汚れて
いれば、自動的にプラズマクリーニングの指示を出す。

次に、同様にアンロード室４の異物数を検出し、ロード
室３と同様の処理を行なう。きれいであれば、ウェーハ
８は、アンロード室４を介してアンロードカセット２に
収納される。

このようにして集められた異物データを基に、制御装置
６によってオペレータへロード室３ｔたはアンロード室
４のクリーニングの要否、または処理室５のプラズマク
リーニングの要否を指示する。以上の動作により試料は
自動的に処理される。

以上、本実施例によれば、汚染が激しい状況で試料を誤
って処理するという誤作業を未然に防止することができ
る。

〔発明の効果〕

本発明によれば、試料を処理する前に試料の搬送経絡の
汚染度合を検出することができ、かつ、自動的に所定の
処理を行なうことができるので、汚染が激しい状況で試
料を誤って処理するという誤作業を防止することができ
るという効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例のプラズマ処理装置を示す系
統図である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、試料を処理するための処理室と、該処理室への試料
   搬出入を自動的に行う手段とを有するプラズマ処理装置
   において、前記試料の搬送経路に塵埃の数を検出する検
   出手段を設け、該検出手段からの信号により前記試料を
   処理する前に、処理可能状態を判定し処理を選択する制
   御手段を設けたことを特徴とするプラズマ処理装置。