JPH03154338A - 蒸気洗浄乾燥装置 - Google Patents
蒸気洗浄乾燥装置Info
- Publication number
- JPH03154338A JPH03154338A JP29360989A JP29360989A JPH03154338A JP H03154338 A JPH03154338 A JP H03154338A JP 29360989 A JP29360989 A JP 29360989A JP 29360989 A JP29360989 A JP 29360989A JP H03154338 A JPH03154338 A JP H03154338A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- medium
- cleaning
- steam
- drying
- heating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は半導体製造工程等で利用される蒸気洗浄乾燥装
置、特にはフォトマスク、レチクル、半導体クエへ等の
被洗浄物を精密洗浄するために利用される蒸気洗浄乾燥
装置に関する。
置、特にはフォトマスク、レチクル、半導体クエへ等の
被洗浄物を精密洗浄するために利用される蒸気洗浄乾燥
装置に関する。
［従来の技術１
従来、この種の洗浄装置は、被洗浄物を洗浄乾燥するた
めの処理部の下部又は側部に設けられた貯留部に高揮発
性の媒体を貯留すると共に、この貯留部内の媒体を加熱
して蒸気を発生させることにより処理部内を蒸気雰囲気
としている。そして、処理部内が蒸気７囲気となった後
に、処理部内に被洗浄物を没入して、該被洗浄物の洗浄
乾燥を行うように構成されている。
めの処理部の下部又は側部に設けられた貯留部に高揮発
性の媒体を貯留すると共に、この貯留部内の媒体を加熱
して蒸気を発生させることにより処理部内を蒸気雰囲気
としている。そして、処理部内が蒸気７囲気となった後
に、処理部内に被洗浄物を没入して、該被洗浄物の洗浄
乾燥を行うように構成されている。
［発明が解決しようとしている課題］
しかしながら、上述の従来例では、次のような欠点があ
った。
った。
（１）大量の高揮発性の媒体を貯留部で長時間貯留する
ことが必要となるため、媒体の純度が低下し易く、本来
目的としている精密洗浄を維持しにくい。
ことが必要となるため、媒体の純度が低下し易く、本来
目的としている精密洗浄を維持しにくい。
（２）大量の蒸気を常に発生させることが必要となるた
め、大容量の加熱部を設けることが必要となる。
め、大容量の加熱部を設けることが必要となる。
（３）蒸発または揮発した媒体を、一方では常に冷却、
凝縮して排液することが必要となるので、大量の媒体が
必要となる。
凝縮して排液することが必要となるので、大量の媒体が
必要となる。
（４）大量の媒体を加熱するので、加熱を開始してから
蒸気が発生するまでの初期加熱時間が長くなる。
蒸気が発生するまでの初期加熱時間が長くなる。
（５）段差のある被洗浄物には洗浄効果が少ない。
（６）可熱性媒体を使用する場合、発火、爆破の危険性
がある。
がある。
本発明はこのような事情に鑑みなされたもので、その目
的は、より少ない媒体の使用で、被洗浄物を超精密に効
率良く、且つ安全に洗浄乾燥することのできる蒸気洗浄
乾燥装置を提供することにある。
的は、より少ない媒体の使用で、被洗浄物を超精密に効
率良く、且つ安全に洗浄乾燥することのできる蒸気洗浄
乾燥装置を提供することにある。
［課題を解決するための手段］
この目的を達成するため、本発明は、蒸気洗浄乾燥装置
において、媒体を貯留する貯留手段と、蒸発プレートに
滴下された媒体を蒸発させることにより蒸気を発生する
蒸気発生手段と、媒体を前記貯留手段から前記蒸気発生
手段へ所定量だけ供給する媒体供給手段と、被洗浄物を
収容する洗浄乾燥室を有する洗浄乾燥手段と、前記蒸気
発生手段で発生した蒸気で前記洗浄乾燥室内の被洗浄物
を洗浄及び乾燥するために前記蒸気発生手段で発生した
蒸気を前記洗浄乾燥室に導入する蒸気導入手段を備え、
前記蒸気発生手段は前記蒸発プレートを収容する蒸発室
と、前記蒸発プレートを前記蒸発室の外部から加熱する
加熱手段を有することを特徴としている。
において、媒体を貯留する貯留手段と、蒸発プレートに
滴下された媒体を蒸発させることにより蒸気を発生する
蒸気発生手段と、媒体を前記貯留手段から前記蒸気発生
手段へ所定量だけ供給する媒体供給手段と、被洗浄物を
収容する洗浄乾燥室を有する洗浄乾燥手段と、前記蒸気
発生手段で発生した蒸気で前記洗浄乾燥室内の被洗浄物
を洗浄及び乾燥するために前記蒸気発生手段で発生した
蒸気を前記洗浄乾燥室に導入する蒸気導入手段を備え、
前記蒸気発生手段は前記蒸発プレートを収容する蒸発室
と、前記蒸発プレートを前記蒸発室の外部から加熱する
加熱手段を有することを特徴としている。
［実施例］
第１図は本発明に係わる蒸気洗浄乾燥装置の実施例の断
面を示している。この実施例は発生蒸気が比較的重い媒
体を使用する場合に特に有効であるが、特にこれを限る
わけではなく、洗浄用媒体はＩＰＡ等のアルコール類、
またはフロン等で良い、なお、この図では、洗浄乾燥室
１３の両側に媒体供給部６０と蒸気発生部７０がそれぞ
れ設けられているが、蒸気導入管１０を分岐することに
より、どちらか−組にしても良い。
面を示している。この実施例は発生蒸気が比較的重い媒
体を使用する場合に特に有効であるが、特にこれを限る
わけではなく、洗浄用媒体はＩＰＡ等のアルコール類、
またはフロン等で良い、なお、この図では、洗浄乾燥室
１３の両側に媒体供給部６０と蒸気発生部７０がそれぞ
れ設けられているが、蒸気導入管１０を分岐することに
より、どちらか−組にしても良い。
本実施例では、蒸発室９．９′の周囲に加熱媒体溝り３
６，３６°が設けられている。この加熱媒体溝り３６．
３６’ には、タンク５０に貯留されている例えばシリ
コンオイル等の加熱媒体５１が、バキュームタンク４６
内の真空圧によって導入される。バキュームタンク４６
は電磁バルブ４３を介して加熱媒体溝り３６．３８°に
連通していると共に、電磁バルブ４４を介して大気に開
放可能とされている。
６，３６°が設けられている。この加熱媒体溝り３６．
３６’ には、タンク５０に貯留されている例えばシリ
コンオイル等の加熱媒体５１が、バキュームタンク４６
内の真空圧によって導入される。バキュームタンク４６
は電磁バルブ４３を介して加熱媒体溝り３６．３８°に
連通していると共に、電磁バルブ４４を介して大気に開
放可能とされている。
コントローラ４０は電磁バルブ４３．４４を閉状態とし
た状態で、電磁バルブ４５を開とし、真空ポンプ４２を
動作させることにより、バキュームタンク４６内を所望
の真空状態とする。それ以外は、電磁バルブ４５は閉状
態にされると共に、真空ポンプ４２は停止している。
た状態で、電磁バルブ４５を開とし、真空ポンプ４２を
動作させることにより、バキュームタンク４６内を所望
の真空状態とする。それ以外は、電磁バルブ４５は閉状
態にされると共に、真空ポンプ４２は停止している。
また、加熱媒体溝り３６．３６″は電磁バルブ５４を介
してタンク５０内に連通している。タンク５０内の加熱
媒体５１はヒーター５２により媒体貯留部４１内の洗浄
媒体の沸点以上で発火点以下の所望の温度に加熱されて
いる。タンク５０内の加熱媒体５１の温度を検出してい
る温度検出器５３の出力は、コントローラ４０に送られ
、コントローラ４０はこれに基づいてヒーター５２の発
熱を制御し、加熱媒体５１の温度を所望の温度に維持し
ている。
してタンク５０内に連通している。タンク５０内の加熱
媒体５１はヒーター５２により媒体貯留部４１内の洗浄
媒体の沸点以上で発火点以下の所望の温度に加熱されて
いる。タンク５０内の加熱媒体５１の温度を検出してい
る温度検出器５３の出力は、コントローラ４０に送られ
、コントローラ４０はこれに基づいてヒーター５２の発
熱を制御し、加熱媒体５１の温度を所望の温度に維持し
ている。
ヒーター５，５゛は加熱媒体溝り３８．３６’に導入さ
れた加熱媒体の温度が所望温度以下となった場合に、こ
れを加熱するために設けられている。ヒーター５．５°
は加熱媒体溝り３６゜３６°内に設けられている温度検
出器３７゜３７°の出力に基づいてコントローラ４０に
より制御される。媒体散布ノズル７．７°から蒸発プレ
ート６．６°に散布された洗浄媒体は、加熱媒体溜り３
６．３６’内の加熱媒体が有する熱により蒸発される。
れた加熱媒体の温度が所望温度以下となった場合に、こ
れを加熱するために設けられている。ヒーター５．５°
は加熱媒体溝り３６゜３６°内に設けられている温度検
出器３７゜３７°の出力に基づいてコントローラ４０に
より制御される。媒体散布ノズル７．７°から蒸発プレ
ート６．６°に散布された洗浄媒体は、加熱媒体溜り３
６．３６’内の加熱媒体が有する熱により蒸発される。
この方法は、洗浄媒体が発火性の高いものである場合に
は、直接ヒーター等によって加熱する方法に比して、安
全性が高く好ましい。
は、直接ヒーター等によって加熱する方法に比して、安
全性が高く好ましい。
蒸発プレート６．６°で蒸発した洗浄媒体は、蒸気導入
管１０．１０’を介して被洗浄物（例えば、フォトマス
ク、レチクル、半導体ウェハ）２０の上方部分に向けて
噴出されるように、被洗浄物２０を保持するホルダ２４
の位置が、調整される。ホルダ２４はロッド３０を介し
て駆動機構３５により上下動される。運動機構３５はコ
ントローラ４０により制御される。
管１０．１０’を介して被洗浄物（例えば、フォトマス
ク、レチクル、半導体ウェハ）２０の上方部分に向けて
噴出されるように、被洗浄物２０を保持するホルダ２４
の位置が、調整される。ホルダ２４はロッド３０を介し
て駆動機構３５により上下動される。運動機構３５はコ
ントローラ４０により制御される。
次に、この実施例の動作を説明する。コントローラ４０
が出口側のエアーオペレーションバルブ（空気圧によっ
て開閉が切換えられるバルブ）４．４′を閉じた状態で
入口側のエアーオペレーションバルブ１．１′を開くと
、媒体貯留部４１．４１°から洗浄媒体が媒体供給部６
０゜６０°内にガス留り２．２′の圧力が媒体貯留部４
１．４１°の圧力と等しくなるまで供給される。この後
、コントローラ４０はバルブ１，１゛を閉じ状態とする
。一方、コントローラ４ｏは上部シャッタ３１が開いて
いる状態で、駆動機構３５によりホルダ２４を図示位置
から上昇させ、被洗浄物２０をホルダ２４に保持させた
後、図示位置に降下させる。この状態では洗浄乾燥室１
３を形成している内筒３３の底部の開口は、ロッド３０
と一体的なシャッタ５９により遮閉される。
が出口側のエアーオペレーションバルブ（空気圧によっ
て開閉が切換えられるバルブ）４．４′を閉じた状態で
入口側のエアーオペレーションバルブ１．１′を開くと
、媒体貯留部４１．４１°から洗浄媒体が媒体供給部６
０゜６０°内にガス留り２．２′の圧力が媒体貯留部４
１．４１°の圧力と等しくなるまで供給される。この後
、コントローラ４０はバルブ１，１゛を閉じ状態とする
。一方、コントローラ４ｏは上部シャッタ３１が開いて
いる状態で、駆動機構３５によりホルダ２４を図示位置
から上昇させ、被洗浄物２０をホルダ２４に保持させた
後、図示位置に降下させる。この状態では洗浄乾燥室１
３を形成している内筒３３の底部の開口は、ロッド３０
と一体的なシャッタ５９により遮閉される。
この後、シャッター３１が閉じられると、コントローラ
４０はエアーオペレーションバルブ４゜４°に開指令を
出し、バルブ４．４°を開いて、ノズル７．７°から媒
体供給部６０．６０’内の洗浄媒体全量を蒸発室９．９
′内の蒸発プレート６．６°上に摘下もしくは散布させ
、これが終了するのに見合う所定時間後にバルブ４．４
°を閉じる。そして、この後、コントローラ４０は蒸発
室９，９゛に滞留した洗浄媒体を、その沸点以上発火点
以下に加熱するために、電磁バルブ４３゜５４を開いて
、バキュームタンク４６の真空圧を加熱媒体溜り３６．
３６’を介してタンク５０内の加熱媒体５貫に作用させ
る。これにより、洗浄媒体の沸点以上、発火点以下の所
望の温度に加熱されている加熱媒体は加熱媒体溜り３６
．３６’に導入され、その熱で蒸発室９，９゛内の洗浄
媒体を徐々に昇温し、蒸気状態とする。
４０はエアーオペレーションバルブ４゜４°に開指令を
出し、バルブ４．４°を開いて、ノズル７．７°から媒
体供給部６０．６０’内の洗浄媒体全量を蒸発室９．９
′内の蒸発プレート６．６°上に摘下もしくは散布させ
、これが終了するのに見合う所定時間後にバルブ４．４
°を閉じる。そして、この後、コントローラ４０は蒸発
室９，９゛に滞留した洗浄媒体を、その沸点以上発火点
以下に加熱するために、電磁バルブ４３゜５４を開いて
、バキュームタンク４６の真空圧を加熱媒体溜り３６．
３６’を介してタンク５０内の加熱媒体５貫に作用させ
る。これにより、洗浄媒体の沸点以上、発火点以下の所
望の温度に加熱されている加熱媒体は加熱媒体溜り３６
．３６’に導入され、その熱で蒸発室９，９゛内の洗浄
媒体を徐々に昇温し、蒸気状態とする。
媒体蒸気は蒸気導入管ｔｏ、ｔｏ’ を通って被洗浄物
２０に噴射され、洗浄乾燥室１３を満たす。洗浄乾燥室
１３の開口部３２よりも上方に達っした分の蒸気は、開
口部３２からあふれ、外筒３４によって形成されている
蒸気捕捉室１５に流れ込む。排気管１８は不図示の排気
ポンプによって常に排気されており、捕捉室１５内の余
剰蒸気は、冷却管１６で凝縮されながら排気管１８から
排気される。
２０に噴射され、洗浄乾燥室１３を満たす。洗浄乾燥室
１３の開口部３２よりも上方に達っした分の蒸気は、開
口部３２からあふれ、外筒３４によって形成されている
蒸気捕捉室１５に流れ込む。排気管１８は不図示の排気
ポンプによって常に排気されており、捕捉室１５内の余
剰蒸気は、冷却管１６で凝縮されながら排気管１８から
排気される。
コントローラ４０は蒸発室９．９°内の洗浄媒体が完全
に蒸発して洗浄乾燥が終了するのに見合った時間経過後
に、電磁バルブ４４を開いてバキュームタンク４６を大
気に開放し、加熱媒体溜り３６．３６°内の加熱媒体を
タンク５０内に戻し、その後、バルブ４３，４４．５４
を閉じると同時に、バルブ４５を開け、再び真空ポンプ
４２によりバキュームタンク４６内を所望の真空圧とす
る。一方、これと平行して、コントローラ４０は駆動機
構３５によりロッド３０を半工程分だけ上昇させ、内筒
３３の下部開口を開き、洗浄乾燥室１３に満たされてい
る蒸気及び廃液を外筒３４内に排気、排液させる。外筒
３４の底部には冷却手段１７が設けられ、これによって
凝縮された蒸気及び廃液は排出管１９を介して装置外部
に排出される。
に蒸発して洗浄乾燥が終了するのに見合った時間経過後
に、電磁バルブ４４を開いてバキュームタンク４６を大
気に開放し、加熱媒体溜り３６．３６°内の加熱媒体を
タンク５０内に戻し、その後、バルブ４３，４４．５４
を閉じると同時に、バルブ４５を開け、再び真空ポンプ
４２によりバキュームタンク４６内を所望の真空圧とす
る。一方、これと平行して、コントローラ４０は駆動機
構３５によりロッド３０を半工程分だけ上昇させ、内筒
３３の下部開口を開き、洗浄乾燥室１３に満たされてい
る蒸気及び廃液を外筒３４内に排気、排液させる。外筒
３４の底部には冷却手段１７が設けられ、これによって
凝縮された蒸気及び廃液は排出管１９を介して装置外部
に排出される。
この後、シャッター３１が開かれると、コントローラ４
０は駆動機構３５によりロッド３０を全行程上昇させ、
ホルダー２４から被洗浄物２０を取り外すことを可能に
する。ここで新たな被洗浄物２０がホルダー２４にセッ
トされると、上述の動作が再び繰り返される。
０は駆動機構３５によりロッド３０を全行程上昇させ、
ホルダー２４から被洗浄物２０を取り外すことを可能に
する。ここで新たな被洗浄物２０がホルダー２４にセッ
トされると、上述の動作が再び繰り返される。
［発明の効果］
以上説明したように、本発明によれば、大量の高揮発性
媒体を長時間貯留加熱する必要がなくなるので、洗浄用
の高揮発性媒体を常に高純度に保つことができ、より精
密な洗浄乾燥を可能とすると共に、媒体の発火等の危険
性も小さくできる。
媒体を長時間貯留加熱する必要がなくなるので、洗浄用
の高揮発性媒体を常に高純度に保つことができ、より精
密な洗浄乾燥を可能とすると共に、媒体の発火等の危険
性も小さくできる。
また、媒体の長時間の貯留がないため、貯留部を高価な
石英ガラスにする必要がなく、安価なステンレス製でも
析出物を最小限にすることができるため、製作コストを
低減できる。更に、本発明によれば、媒体蒸発室は小さ
くてすみ、加熱容量も小さくできるので、加熱時間も短
縮され、効率的な洗浄が達成される。
石英ガラスにする必要がなく、安価なステンレス製でも
析出物を最小限にすることができるため、製作コストを
低減できる。更に、本発明によれば、媒体蒸発室は小さ
くてすみ、加熱容量も小さくできるので、加熱時間も短
縮され、効率的な洗浄が達成される。
第１図は本発明に係る蒸気洗浄乾燥装置の一実施例を示
す断面図である。 ９・・蒸発室、 １０・・蒸気導入管、２０・・被洗
浄物、３６・・加熱媒体溝り、６０・・媒体供給部
す断面図である。 ９・・蒸発室、 １０・・蒸気導入管、２０・・被洗
浄物、３６・・加熱媒体溝り、６０・・媒体供給部
Claims (3)
- （１）媒体を貯留する貯留手段と、蒸発プレートに滴下
された媒体を蒸発させることにより蒸気を発生する蒸気
発生手段と、媒体を前記貯留手段から前記蒸気発生手段
へ所定量だけ供給する媒体供給手段と、被洗浄物を収容
する洗浄乾燥室を有する洗浄乾燥手段と、前記蒸気発生
手段で発生した蒸気で前記洗浄乾燥室内の被洗浄物を洗
浄及び乾燥するために前記蒸気発生手段で発生した蒸気
を前記洗浄乾燥室に導入する蒸気導入手段を備え、前記
蒸気発生手段は前記蒸発プレートを収容する蒸発室と、
前記蒸発プレートを前記蒸発室の外部から加熱する加熱
手段を有していることを特徴とする蒸気洗浄乾燥装置。 - （２）前記加熱手段は所望の温度に加熱されている加熱
媒体を前記蒸発室の周囲に供給する請求項１記載の蒸気
洗浄乾燥装置。 - （３）前記洗浄乾燥手段は前記洗浄乾燥室の上面に開閉
可能なシャッタを備えた被洗浄物の出入口と、この出入
口を通して被洗浄物を搬出入する鉛直方向搬送手段を有
する請求項２記載の蒸気洗浄乾燥装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29360989A JPH03154338A (ja) | 1989-11-10 | 1989-11-10 | 蒸気洗浄乾燥装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29360989A JPH03154338A (ja) | 1989-11-10 | 1989-11-10 | 蒸気洗浄乾燥装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03154338A true JPH03154338A (ja) | 1991-07-02 |
Family
ID=17796929
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29360989A Pending JPH03154338A (ja) | 1989-11-10 | 1989-11-10 | 蒸気洗浄乾燥装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03154338A (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62106630A (ja) * | 1985-11-05 | 1987-05-18 | Hitachi Ltd | 処理装置 |
| JPS62260324A (ja) * | 1986-05-07 | 1987-11-12 | Sigma Gijutsu Kogyo Kk | 基板乾燥装置 |
| JPS63182818A (ja) * | 1987-01-26 | 1988-07-28 | Hitachi Ltd | 乾燥装置 |
-
1989
- 1989-11-10 JP JP29360989A patent/JPH03154338A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62106630A (ja) * | 1985-11-05 | 1987-05-18 | Hitachi Ltd | 処理装置 |
| JPS62260324A (ja) * | 1986-05-07 | 1987-11-12 | Sigma Gijutsu Kogyo Kk | 基板乾燥装置 |
| JPS63182818A (ja) * | 1987-01-26 | 1988-07-28 | Hitachi Ltd | 乾燥装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5749159A (en) | Method for precision cleaning and drying surfaces | |
| US5752532A (en) | Method for the precision cleaning and drying surfaces | |
| US6418942B1 (en) | Solvent and aqueous decompression processing system | |
| JP5614418B2 (ja) | 液処理装置、液処理方法及び記憶媒体 | |
| US20010037822A1 (en) | Vapor drying system and method | |
| US6920703B2 (en) | Microstructure drying treatment method and its apparatus and its high pressure vessel | |
| US6739073B2 (en) | Method and apparatus for performing multiple cleaning and vacuum drying operations in enclosed vessels | |
| KR100481858B1 (ko) | 공비혼합 효과를 이용하여 반도체기판을 건조시키는 장비및 상기 장비를 사용하는 건조방법 | |
| US6161300A (en) | Alcohol vapor dryer system | |
| JP7580619B2 (ja) | 半導体チャンバ部品を洗浄するための高圧洗浄方法及び装置 | |
| JPH03154338A (ja) | 蒸気洗浄乾燥装置 | |
| US20140299162A1 (en) | Hyperbaric Methods and Systems for Surface Treatment, Cleaning, and Drying: Thin Liquid H-CNX | |
| KR930007614B1 (ko) | 증기청소 및 건조방법과 장치 | |
| KR20170065198A (ko) | 증기 응축 방식 고형물 세척 및 건조 장치 | |
| US6413322B1 (en) | Machine for vapor degreasing and process for doing same using an inflammable fluid | |
| JP2651653B2 (ja) | 真空乾燥装置及び真空乾燥方法 | |
| JP3964862B2 (ja) | 洗浄乾燥装置および洗浄乾燥方法 | |
| JP3818876B2 (ja) | 乾燥装置 | |
| KR100530019B1 (ko) | 용제 재생기가 장착된 세정장치 | |
| JPH02185031A (ja) | 水蒸気乾燥装置 | |
| WO2014205143A1 (en) | Hyperbaric methods and systems for surface treatment, cleaning, and drying: thin liquid h-cnx | |
| JPH06134418A (ja) | 洗浄槽への過熱蒸気供給装置 | |
| JPH03127673A (ja) | 洗浄方法 | |
| KR19990018009U (ko) | 웨이퍼 건조장치 | |
| EP0747140A2 (en) | A process and an apparatus for rinsing and/or drying articles that have been subjected to a washing process |