JPH03158485A - ウラニル塩の還元方法 - Google Patents
ウラニル塩の還元方法Info
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- JPH03158485A JPH03158485A JP1298698A JP29869889A JPH03158485A JP H03158485 A JPH03158485 A JP H03158485A JP 1298698 A JP1298698 A JP 1298698A JP 29869889 A JP29869889 A JP 29869889A JP H03158485 A JPH03158485 A JP H03158485A
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- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
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- B01J10/007—Chemical processes in general for reacting liquid with gaseous media other than in the presence of solid particles, or apparatus specially adapted therefor in the presence of catalytically active bodies, e.g. porous plates
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01M—PROCESSES OR MEANS, e.g. BATTERIES, FOR THE DIRECT CONVERSION OF CHEMICAL ENERGY INTO ELECTRICAL ENERGY
- H01M8/00—Fuel cells; Manufacture thereof
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- Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、ウラニル塩溶液を電解還元し、ウラナス塩を
得る方法に関するものである。
得る方法に関するものである。
(従来技術とその問題点)
従来、ウラナス塩を得る方法として、ウラン精鉱を硫酸
もしくは塩酸で溶解したのち溶媒抽出法で精製し、硫酸
ウラニルUO,So、または塩化ウラニルUO,C1t
の水溶液を得る。
もしくは塩酸で溶解したのち溶媒抽出法で精製し、硫酸
ウラニルUO,So、または塩化ウラニルUO,C1t
の水溶液を得る。
このウラニル塩を水溶液中で還元してウラナス塩に変化
させるのに電解還元法を用いている。
させるのに電解還元法を用いている。
この方法は、陽極には白金メツキしたチタン板、陰極に
はチタン板を用い陽イオン交換膜で両極液を隔てている
。
はチタン板を用い陽イオン交換膜で両極液を隔てている
。
電流密度はt20mA/ayrであり、陰極でウラニル
塩が還元されウラナス塩となる。
塩が還元されウラナス塩となる。
陽極では酸素発生が生じ、このため浴電圧は高く、4v
以−ヒとなる。
以−ヒとなる。
上記のように、従来法では電解還元に必要な電力量が多
くなるという欠点があった。
くなるという欠点があった。
(発明の目的)
本発明は、上記従来法の欠点を解決するために成された
もので、白金族(Pt、Rh、Pd、Ir)触媒を担持
した反応層とガス供給層から成るガス拡散膜のガス供給
層側より、水素を供給することでウラニル塩溶液をウラ
ナス塩溶液に還元する方法を提供するものである。
もので、白金族(Pt、Rh、Pd、Ir)触媒を担持
した反応層とガス供給層から成るガス拡散膜のガス供給
層側より、水素を供給することでウラニル塩溶液をウラ
ナス塩溶液に還元する方法を提供するものである。
(問題点を解決するための手段)
本発明は、ウラニル塩溶液を還元してウラナス塩溶液を
得る方法に於いて、白金族触媒を担持した親水部と疎水
部から成る反応層と疎水性細孔から成るガス供給層から
成るガス拡散膜の反応層側にウラニル塩溶液を供給し、
ガス供給層側より水素ガスを供給してウラニル塩をウラ
ナス塩に還元することを特徴とするウラニル塩の還元方
法であり、前記ガス拡散膜に代えてガス拡散膜のガス供
給層に酸化ルテニウム被覆チタンメツシュを挟み込み、
反応層側に白金メツシュを付加し、該酸化ルテニウム被
覆チタンメツシュと白金メツシュを導線で接続させたこ
とを特徴とするウラニル塩の還元方法である。
得る方法に於いて、白金族触媒を担持した親水部と疎水
部から成る反応層と疎水性細孔から成るガス供給層から
成るガス拡散膜の反応層側にウラニル塩溶液を供給し、
ガス供給層側より水素ガスを供給してウラニル塩をウラ
ナス塩に還元することを特徴とするウラニル塩の還元方
法であり、前記ガス拡散膜に代えてガス拡散膜のガス供
給層に酸化ルテニウム被覆チタンメツシュを挟み込み、
反応層側に白金メツシュを付加し、該酸化ルテニウム被
覆チタンメツシュと白金メツシュを導線で接続させたこ
とを特徴とするウラニル塩の還元方法である。
以下本発明の詳細について説明する。
第1図はガス拡散膜の断面模式図で、ガス拡散膜lは反
応層2とガス供給層3の2層を有する膜状体のもので、
反応層2は、平均粒径420人の撥水性カーボンブラッ
クと親水性カーボンブラック、平均粒径0.3J、IX
lのポリテトラフルオロエチレン(以下PTFEとよぶ
)と溶媒としてソルベントナフサからなり、その混合比
は7:4:4:20の割合で、混合して圧縮成型したの
ち、280℃で加熱乾燥して溶媒を除去したものである
。さらに白金族ブラック(平均粒径50人)が膜厚0.
1mm内に形成されるようにして、白金を0.56■/
Cイ担持する。
応層2とガス供給層3の2層を有する膜状体のもので、
反応層2は、平均粒径420人の撥水性カーボンブラッ
クと親水性カーボンブラック、平均粒径0.3J、IX
lのポリテトラフルオロエチレン(以下PTFEとよぶ
)と溶媒としてソルベントナフサからなり、その混合比
は7:4:4:20の割合で、混合して圧縮成型したの
ち、280℃で加熱乾燥して溶媒を除去したものである
。さらに白金族ブラック(平均粒径50人)が膜厚0.
1mm内に形成されるようにして、白金を0.56■/
Cイ担持する。
該反応層2の特性は、電極としての導電性を持たせるた
めにカーボンブラックが用いられている。
めにカーボンブラックが用いられている。
親水性カーボンブラックはウラニル塩溶液との濡れ性を
良くするためであり、撥水性カーボンブラックは膜とし
ての性能を損なうことな(該溶液の漏れを防ぐことがで
き、さらに、適度の撥水性を持たせるためにPTFEを
加えている。
良くするためであり、撥水性カーボンブラックは膜とし
ての性能を損なうことな(該溶液の漏れを防ぐことがで
き、さらに、適度の撥水性を持たせるためにPTFEを
加えている。
また、白金族は全体に均一分散しており、酸化還元反応
を促進すると共に電子伝導性を持たせるためである。
を促進すると共に電子伝導性を持たせるためである。
ガス供給層3は、0.1ミクロン以下の疎水性細孔のみ
を有する膜で、平均粒径420人の撥水性カーボンブラ
ックと平均粒径0.3unのPTFEと溶媒としてソル
ベントナフサとを7:3:18の割合で混合し、厚さ0
.5mmに成型し、280℃で加熱乾燥して溶媒を除去
したものである。
を有する膜で、平均粒径420人の撥水性カーボンブラ
ックと平均粒径0.3unのPTFEと溶媒としてソル
ベントナフサとを7:3:18の割合で混合し、厚さ0
.5mmに成型し、280℃で加熱乾燥して溶媒を除去
したものである。
該ガス供給層3は、前記溶液の漏れを防ぐために撥水性
カーボンブラックとPTFEを用いている。特に、ガス
の通過性を高めるための細孔を有するものである。
カーボンブラックとPTFEを用いている。特に、ガス
の通過性を高めるための細孔を有するものである。
ガス拡散膜lは、上記の反応層2とガス供給層3を接合
したもので、該ガス拡散膜は補強を施して用いることも
できる。例えば金属の網状体に耐酸性の樹脂被覆をした
ものを用いて該ガス拡散膜を挟み固定すればよい。
したもので、該ガス拡散膜は補強を施して用いることも
できる。例えば金属の網状体に耐酸性の樹脂被覆をした
ものを用いて該ガス拡散膜を挟み固定すればよい。
上記で作製したガス拡散膜を用いたウラニル塩溶液の還
元装置の断面模式図が第2図である。
元装置の断面模式図が第2図である。
還元装置4はガス拡散膜lで隔てられた溶液槽5とガス
供給室6とガス供給ロアと排出ロア′とから成っている
。
供給室6とガス供給ロアと排出ロア′とから成っている
。
ウラニル塩溶液8はウラニル塩と酸と水から成るもので
、ウラニル塩はウランとして300 g/l程度の濃度
で酸は1〜4mol/lの濃度で硝酸系の場合はヒドラ
ジンは10〜20g/lあることが好ましく、還元中に
ガス供給ロアより水素ガスを供給して還元する。
、ウラニル塩はウランとして300 g/l程度の濃度
で酸は1〜4mol/lの濃度で硝酸系の場合はヒドラ
ジンは10〜20g/lあることが好ましく、還元中に
ガス供給ロアより水素ガスを供給して還元する。
前記還元反応は水素ガスの化学エネルギを用いる水素−
ウラニルイオン局部電池によるもので、供給された水素
ガスはガス供給室6に入りガス拡散膜1のガス供給層3
を通過して反応層2に入り反応層内で(1)式によって
ウラニルイオンからウラナスイオンに還元される。
ウラニルイオン局部電池によるもので、供給された水素
ガスはガス供給室6に入りガス拡散膜1のガス供給層3
を通過して反応層2に入り反応層内で(1)式によって
ウラニルイオンからウラナスイオンに還元される。
(1)式の起電力はEo =0. 33 vテある。
UO2” +Ht +2H” =U”+2Ht O(1
)これを陰極、陽極両反応に分けると(2)、。
)これを陰極、陽極両反応に分けると(2)、。
(3)式に示すように陰極反応でウラニルイオンはウラ
ナスイオンに還元され、陽極で水素酸化反応が進行する
。
ナスイオンに還元され、陽極で水素酸化反応が進行する
。
UO2” +4H” +2 e−=IJ”−)−2H2
0(2)H2=2H” +28− (3)ウラ
ナスイオンの生成速度の大小は陽極反応(3)から陰極
反応(2)にうけわたされる電流値■の大小で決まる。
0(2)H2=2H” +28− (3)ウラ
ナスイオンの生成速度の大小は陽極反応(3)から陰極
反応(2)にうけわたされる電流値■の大小で決まる。
この電流値Iが大きいほど局部電池の性能は優れるもの
で、性能を向上させる方法はウラニル塩溶液に接するガ
ス拡散膜の反応層側に白金メ・ソシュを密着させる方法
、あるいはガス拡散膜のガス供給層にRu Oを被覆T
iメツシュを挟み込み集電体とし、ウラニル塩溶液中に
白金メツシュを付加し、該Ru Oを被覆Tiメツシュ
と白金メツシュを導線で接続させる方法で性能を向上さ
せることができ、還元速度を高めることもできる。
で、性能を向上させる方法はウラニル塩溶液に接するガ
ス拡散膜の反応層側に白金メ・ソシュを密着させる方法
、あるいはガス拡散膜のガス供給層にRu Oを被覆T
iメツシュを挟み込み集電体とし、ウラニル塩溶液中に
白金メツシュを付加し、該Ru Oを被覆Tiメツシュ
と白金メツシュを導線で接続させる方法で性能を向上さ
せることができ、還元速度を高めることもできる。
また隔膜を間にはさむことで電池としても動作させるこ
とができる。
とができる。
以下、本発明の実施例を記載するが、該実施例は本発明
を限定するものではない。
を限定するものではない。
(実施例)
反応層の親水部は親水性カーボンブラックのAB12
(電気化学工業製試作品)と結着剤のポリテトラフルオ
ロエチレンディスバージョン(ダイキン工業製、D−1
)(以下「PTFE」という。)を重量比AB12:P
TFE=72.5+27.5で分散混合する(原料粉末
a)。
(電気化学工業製試作品)と結着剤のポリテトラフルオ
ロエチレンディスバージョン(ダイキン工業製、D−1
)(以下「PTFE」という。)を重量比AB12:P
TFE=72.5+27.5で分散混合する(原料粉末
a)。
疎水部は疎水性カーボンブラック(AB?、電気化学工
業製試作品)とPTFEを重量比AB7 :PTFE=
6.5 : 3.5で分散混合する(原料粉末b)。
業製試作品)とPTFEを重量比AB7 :PTFE=
6.5 : 3.5で分散混合する(原料粉末b)。
これらを原料粉末a:原料粉末b=7:3で分散混合し
て反応層原料粉末とした。
て反応層原料粉末とした。
ガス供給層は疎水性カーボンブラック(AB7)とPT
FE (、組成:AB7 :PTFE=6.5 :3.
5)で分散混合して原料粉末とした。
FE (、組成:AB7 :PTFE=6.5 :3.
5)で分散混合して原料粉末とした。
反応層とガス供給の原料粉末を層状にし、ガス供給層中
に集電体としてRu O!被覆Tiメツシュを入れ、3
80℃、600kg/cutでホットプレスすることで
ガス拡散膜を得た。
に集電体としてRu O!被覆Tiメツシュを入れ、3
80℃、600kg/cutでホットプレスすることで
ガス拡散膜を得た。
反応層には触媒として白金を0. 56mg/cn?担
持した。
持した。
第3図に実験装置の断面図を示す。
反応槽は長方形のアクリル製である。ガス拡散膜1の反
応層2がウラニル塩溶液8に接する有効面積は50cn
fである。ウラニル塩溶液8は350g/dm’硝酸ウ
ラニル+3mol/dm’硝酸を含む溶液を100ml
充填される。安定剤としてヒドラジン0.35mol/
dm3を加えた。
応層2がウラニル塩溶液8に接する有効面積は50cn
fである。ウラニル塩溶液8は350g/dm’硝酸ウ
ラニル+3mol/dm’硝酸を含む溶液を100ml
充填される。安定剤としてヒドラジン0.35mol/
dm3を加えた。
溶液8はポンプ9で流通させた。装置の気室lOに水素
ガスを供給した後、イオン濃度の経時変化およびガス拡
散膜1の電位変化を測定した。
ガスを供給した後、イオン濃度の経時変化およびガス拡
散膜1の電位変化を測定した。
ウラニルイオンおよびウラナスイオンの分析は吸光光度
法でおこない、測定波長はそれぞれ416nm、627
nmである。参照電極は水素電極(0,5M H,S
o、)を用い、3M KNO。
法でおこない、測定波長はそれぞれ416nm、627
nmである。参照電極は水素電極(0,5M H,S
o、)を用い、3M KNO。
を含む寒天塩橋で液絡して電位を測定した。
白金メツシュ11は50メツシユ、40a+fでこの白
金メツシュ11はガス拡散膜1に対向して設置されガス
拡散膜lの酸化ルテニウム被覆チタンメツシュ12と0
.001オームの抵抗13で接続した。
金メツシュ11はガス拡散膜1に対向して設置されガス
拡散膜lの酸化ルテニウム被覆チタンメツシュ12と0
.001オームの抵抗13で接続した。
まず、ガス拡散膜1を実験装置にセットし、350g/
dm’硝酸ウラニル+3mol/dm3硝酸を含む溶液
を充填して気室に水素ガスを供給し溶液は変色し、ウラ
ニルイオンはウラナスイオンに還元された。
dm’硝酸ウラニル+3mol/dm3硝酸を含む溶液
を充填して気室に水素ガスを供給し溶液は変色し、ウラ
ニルイオンはウラナスイオンに還元された。
分析の結果ウラニルイオンの減少量とウラナスイオンの
増加量が一致し、第4図に示すようにウラニルイオン濃
度の対数は時間に対し直線的となったことからウラニル
イオンの拡散律速である。
増加量が一致し、第4図に示すようにウラニルイオン濃
度の対数は時間に対し直線的となったことからウラニル
イオンの拡散律速である。
なお、ガス拡散膜の電位変化を第4図の下部に示した。
電極電位は50mVと水素電位に近いことから水素酸化
反応はそれほど分極していないことが判る。
反応はそれほど分極していないことが判る。
次に、白金メツシュをガス拡散膜に対向して設置し上記
と同様に350g/dm’硝酸ウラニル+3mol/d
m’硝酸を含む溶液を充填し、攪拌しながら気室に水素
ガスを供給するとガス拡散膜と白金メツシュの間に接続
した0、001オームの基準抵抗に生じた電位差から白
金メツシュとガス拡散膜が局部電池として動作すること
が確認された。
と同様に350g/dm’硝酸ウラニル+3mol/d
m’硝酸を含む溶液を充填し、攪拌しながら気室に水素
ガスを供給するとガス拡散膜と白金メツシュの間に接続
した0、001オームの基準抵抗に生じた電位差から白
金メツシュとガス拡散膜が局部電池として動作すること
が確認された。
その結果、反応時間に対してウラニルイオン濃度の対数
をプロットすると第5図となる。
をプロットすると第5図となる。
また、第5図の下部にガス拡散膜の電位の経時変化を示
した。
した。
初期に250mVをとり以後減少している。
ガス拡散膜だけの場合に比べ電位は前側にシフトしてい
る。
る。
第6図に白金メツシュとガス拡散膜間にながれた電流値
の経時変化を示す。
の経時変化を示す。
白金メツシュはウラニルイオンの還元極として作用する
。
。
初期には6Aという大きな値を示し、時間の経過と共に
小さくなり、この曲線はウラニルイオンの減少と酷似す
る。
小さくなり、この曲線はウラニルイオンの減少と酷似す
る。
第7図に白金メツシュとガス拡散膜間の電流値とウラナ
スイオンの濃度の関係を示した。
スイオンの濃度の関係を示した。
反応開始後20分までは直線からずれており拡散律速で
はないが、20分以後は生成したウラナスイオン濃度と
白金メツシュとガス拡散膜とに流れる電流値との間には
比例関係がありウラニルイオンの拡散律速であることが
明らかである。
はないが、20分以後は生成したウラナスイオン濃度と
白金メツシュとガス拡散膜とに流れる電流値との間には
比例関係がありウラニルイオンの拡散律速であることが
明らかである。
また、第7図の有軸にウラナスイオン濃度を目盛った。
この白金メツシュとガス拡散膜とに流れる電流値を用い
ることで分光光度計等で分析をせずにウラナスイオン濃
度を知ることができるものである。
ることで分光光度計等で分析をせずにウラナスイオン濃
度を知ることができるものである。
以上の結果から白金メツシュのある方が白金メツシュの
ない場合よりもウラニルイオンの還元速度は速いことが
判る。
ない場合よりもウラニルイオンの還元速度は速いことが
判る。
尚、本発明はガス拡散膜の反応層にイオン交換体(例え
ば液体ナフィオン)を塗布し、反応層の表面にイオン交
換膜層を設けてもよいものである。
ば液体ナフィオン)を塗布し、反応層の表面にイオン交
換膜層を設けてもよいものである。
(発明の効果)
本発明は、ウラニル塩溶液を還元してウラナス塩溶液を
得る方法で、ガス拡散膜を用い、水素−ウラニルイオン
局部電池により、従来の電解法に比較し極めて簡便な装
置で還元することができ、しかも還元速度を白金メツシ
ュとガス拡散膜のガス供給層に挟み込んだ酸化ルテニウ
ム被覆チタンメツシュを導線で接続することで4倍以上
の速度が得られると共に電力も回収できることは、生産
コスト等に対しても極めて効果があり貢献度の高いもの
といえる。
得る方法で、ガス拡散膜を用い、水素−ウラニルイオン
局部電池により、従来の電解法に比較し極めて簡便な装
置で還元することができ、しかも還元速度を白金メツシ
ュとガス拡散膜のガス供給層に挟み込んだ酸化ルテニウ
ム被覆チタンメツシュを導線で接続することで4倍以上
の速度が得られると共に電力も回収できることは、生産
コスト等に対しても極めて効果があり貢献度の高いもの
といえる。
第1図はガス拡散膜の拡大断面模式図、第2図は還元装
置の断面模式図、第3図は実験装置の断面図、第4図は
ウラニルイオンの濃度と時間の関係及びガス拡散膜の電
位変化と時間の関係を示すグラフ、第5図は白金メツシ
ュをガス拡散膜に設定した実験装置でのウラニルイオン
の濃度変化と時間の関係及びガス拡散膜の電位変化と時
間の関係を示すグラフ、第6図は白金メツシュとガス拡
散膜間に流れた電流値の経時変化を示すグラフ、第7図
は白金メツシュとガス拡散膜間の電流値とウラナスイオ
ンの濃度の関係を示すグラフである。
置の断面模式図、第3図は実験装置の断面図、第4図は
ウラニルイオンの濃度と時間の関係及びガス拡散膜の電
位変化と時間の関係を示すグラフ、第5図は白金メツシ
ュをガス拡散膜に設定した実験装置でのウラニルイオン
の濃度変化と時間の関係及びガス拡散膜の電位変化と時
間の関係を示すグラフ、第6図は白金メツシュとガス拡
散膜間に流れた電流値の経時変化を示すグラフ、第7図
は白金メツシュとガス拡散膜間の電流値とウラナスイオ
ンの濃度の関係を示すグラフである。
Claims (2)
- (1)ウラニル塩溶液を還元してウラナス塩溶液を得る
方法に於いて、白金族触媒を担持した親水部と疎水部か
ら成る反応層と疎水性細孔から成るガス供給層から成る
ガス拡散膜の反応層側にウラニル塩溶液を供給し、ガス
供給層側より水素ガスを供給してウラニル塩をウラナス
塩に還元することを特徴とするウラニル塩の還元方法。 - (2)前記ガス拡散膜に代えてガス拡散膜のガス供給層
に酸化ルテニウム被覆チタンメッシュを挟み込み、反応
層側に白金メッシュを付加し、該酸化ルテニウム被覆チ
タンメッシュと白金メッシュを導線で接続させたことを
特徴とする請求項1に記載のウラニル塩の還元方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1298698A JPH03158485A (ja) | 1989-11-16 | 1989-11-16 | ウラニル塩の還元方法 |
| EP90830528A EP0432109A1 (en) | 1989-11-16 | 1990-11-16 | Process for reducing uranyl salt |
| US07/614,272 US5035869A (en) | 1989-11-16 | 1990-11-16 | Process for reducing uranyl salt |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1298698A JPH03158485A (ja) | 1989-11-16 | 1989-11-16 | ウラニル塩の還元方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03158485A true JPH03158485A (ja) | 1991-07-08 |
Family
ID=17863124
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1298698A Pending JPH03158485A (ja) | 1989-11-16 | 1989-11-16 | ウラニル塩の還元方法 |
Country Status (3)
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