JPH03159933A - 釉薬剤及び釉形成方法 - Google Patents
釉薬剤及び釉形成方法Info
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- JPH03159933A JPH03159933A JP29847889A JP29847889A JPH03159933A JP H03159933 A JPH03159933 A JP H03159933A JP 29847889 A JP29847889 A JP 29847889A JP 29847889 A JP29847889 A JP 29847889A JP H03159933 A JPH03159933 A JP H03159933A
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 48
- 229910021486 amorphous silicon dioxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 15
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 17
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 7
- 229910021488 crystalline silicon dioxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 abstract description 14
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 abstract description 12
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract description 12
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 abstract description 12
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 abstract description 12
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 abstract description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 8
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 7
- FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N Li2O Inorganic materials [Li+].[Li+].[O-2] FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- XUCJHNOBJLKZNU-UHFFFAOYSA-M dilithium;hydroxide Chemical compound [Li+].[Li+].[OH-] XUCJHNOBJLKZNU-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract description 4
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 7
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 3
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 229910000502 Li-aluminosilicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 239000007790 solid phase Substances 0.000 description 1
- 238000003746 solid phase reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
- C03C8/14—Glass frit mixtures having non-frit additions, e.g. opacifiers, colorants, mill-additions
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
この発明は釉薬剤及び釉の形成方法に関する．（従来の
技術及び発明が解決しようとする課題）従来より、釉の
熱膨張係数を低くするために種々の方法が講じられてい
るが、その多くは釉薬剤中に低熱膨張物質を含有させ、
その低熱膨張物質の熱膨張係数及びその含有量に応じて
，釉全体の熱膨張係数を低下させるものであった。即ち
物質添加により、熱膨張係数の加成性により釉全体の熱
膨張係数を低下させるものであった．この場合、得られ
る熱膨張係数は十分に低くはな〈、従って得られる耐熱
衝撃温度差もせいぜい６００℃程度までであった。
技術及び発明が解決しようとする課題）従来より、釉の
熱膨張係数を低くするために種々の方法が講じられてい
るが、その多くは釉薬剤中に低熱膨張物質を含有させ、
その低熱膨張物質の熱膨張係数及びその含有量に応じて
，釉全体の熱膨張係数を低下させるものであった。即ち
物質添加により、熱膨張係数の加成性により釉全体の熱
膨張係数を低下させるものであった．この場合、得られ
る熱膨張係数は十分に低くはな〈、従って得られる耐熱
衝撃温度差もせいぜい６００℃程度までであった。
ところで本発明者は先の特許願（特願昭６３−７２５４
０号）において、低熱膨張且つ緻密で耐熱衝撃性の高い
（耐熱衝撃温度差で８００℃以上が可能）セラミックス
材を提案している．かかるセラミックス材は、熱膨張が
低く優れた耐熱衝撃性を有することから、電気調理器用
天板その他耐熱衝撃製品の材料として用途が考えられて
いる。
０号）において、低熱膨張且つ緻密で耐熱衝撃性の高い
（耐熱衝撃温度差で８００℃以上が可能）セラミックス
材を提案している．かかるセラミックス材は、熱膨張が
低く優れた耐熱衝撃性を有することから、電気調理器用
天板その他耐熱衝撃製品の材料として用途が考えられて
いる。
ところがこのセラミックス材のみにて電気調理器天板を
＃成した場合、鍋からのこぼれものによって表面が汚れ
易く、そこでこのようなセラミックス材の表面に釉を施
すことができれば、表面に付着した汚れものを容易に拭
き取って天板表面を常に清浄に保つことができ、また天
板表面を美しく仕上げることができて好都合である。
＃成した場合、鍋からのこぼれものによって表面が汚れ
易く、そこでこのようなセラミックス材の表面に釉を施
すことができれば、表面に付着した汚れものを容易に拭
き取って天板表面を常に清浄に保つことができ、また天
板表面を美しく仕上げることができて好都合である。
しかしながら従来の釉の場合、熱膨張係数の点で、従っ
て耐熱衝撃性の点で不十分であって、かかる釉を施した
セラミックス材を電気調理器天板として用いた場合、鍋
等からのこぼれものによって表面が急冷されたとき、釉
面に割れ等損傷を生じる恐れがある． そこでこのような低熱膨張のセラミックス素地に対して
も適用し得るような低熱膨張の釉の開発が望まれていた
． （課題を解決するための手段） 本発明はこのような課題を解決するためになされたもの
であり、而して本願の第一の解決手段は釉薬剤に係るも
のであって，その要旨は、ＳｉＯ２， Ａｌ２０３ ，
Ｌｆ２０を主成分とし、且つＳｉＯ２威分の少な〈と
も一部とレて石英ガラス等の非晶質ＳｉＯ２を含有させ
て或ることにある．（第一解決手段の作用及び効果） 本発明者は，釉薬剤中に種々の物質ないし威分を含有さ
せて、焼成により得られる釉の熱膨張係数を低下させる
実験を行った．その際に石英ガラス等の非晶質ＳｉＯ２
を含有させたところ、熱膨張係数が飛躍的に低下するこ
とが認められた．本発明はこのような知見に基づいて威
されたものである。
て耐熱衝撃性の点で不十分であって、かかる釉を施した
セラミックス材を電気調理器天板として用いた場合、鍋
等からのこぼれものによって表面が急冷されたとき、釉
面に割れ等損傷を生じる恐れがある． そこでこのような低熱膨張のセラミックス素地に対して
も適用し得るような低熱膨張の釉の開発が望まれていた
． （課題を解決するための手段） 本発明はこのような課題を解決するためになされたもの
であり、而して本願の第一の解決手段は釉薬剤に係るも
のであって，その要旨は、ＳｉＯ２， Ａｌ２０３ ，
Ｌｆ２０を主成分とし、且つＳｉＯ２威分の少な〈と
も一部とレて石英ガラス等の非晶質ＳｉＯ２を含有させ
て或ることにある．（第一解決手段の作用及び効果） 本発明者は，釉薬剤中に種々の物質ないし威分を含有さ
せて、焼成により得られる釉の熱膨張係数を低下させる
実験を行った．その際に石英ガラス等の非晶質ＳｉＯ２
を含有させたところ、熱膨張係数が飛躍的に低下するこ
とが認められた．本発明はこのような知見に基づいて威
されたものである。
前述したように、通常は釉薬剤中に或る物質ないし威分
を含有させた場合、加或性が威り立ち、その含有物質，
成分の熱膨張係数及び含有割合に応じて釉全体の熱膨張
係数が低下する．しかしながら石英ガラス等の非晶賀Ｓ
ｉＯ２を含有させた場合，その熱膨張係数及び含有量か
ら予期される値に比べて、釉全体の熱膨張係数が飛躍的
に低下していた．即ち、生威する釉の熱膨張係数が１．
２Ｘ １０−６℃−１となるような釉薬剤に対して、熱
膨張係数０．５Ｘ１０−６℃−１の石英ガラス等の非晶
質ＳｉＯ２を２０％だけ含有させた場合、加威性から予
想される釉全体の熱膨張係数は１．ＩＸ１０−６℃とな
るが、実際には釉全体の熱膨張係数は０．６ ＸＩＯ−
６℃−１まで低下していた。
を含有させた場合、加或性が威り立ち、その含有物質，
成分の熱膨張係数及び含有割合に応じて釉全体の熱膨張
係数が低下する．しかしながら石英ガラス等の非晶賀Ｓ
ｉＯ２を含有させた場合，その熱膨張係数及び含有量か
ら予期される値に比べて、釉全体の熱膨張係数が飛躍的
に低下していた．即ち、生威する釉の熱膨張係数が１．
２Ｘ １０−６℃−１となるような釉薬剤に対して、熱
膨張係数０．５Ｘ１０−６℃−１の石英ガラス等の非晶
質ＳｉＯ２を２０％だけ含有させた場合、加威性から予
想される釉全体の熱膨張係数は１．ＩＸ１０−６℃とな
るが、実際には釉全体の熱膨張係数は０．６ ＸＩＯ−
６℃−１まで低下していた。
このことは、ＳｉＯ２ ， ＡＩ２０３ ， Ｌ＋
２０を主成分とする釉において，含有ｉせた石英ガラス
等の非晶質ＳｉＯ２が自身のｓＷｌ張係数に基づいて釉
全体の熱膨張係数を低下させたものとは考えられず、非
蟲質ＳｉＯ２（一部或いは全体）が釉薬剤中の他成分と
反応して極低熱膨張物質（リチウムアルミノ珪酸塩（Ｘ
Ｌｉ２０＊ ＹＡ１２０３ ＊ ＺＳｉＯｚ） ）を析
出し、この析出物の熱膨張係数に基づいて、釉全体の熱
膨張係数が低下したものと考えられる． 但し新しく生威した極低熱膨張物質が具体的に何である
か、或いはその生成のメカニズムについては現段階では
分っ゛ていない． 本発明においては、含有させた石英ガラス等の非晶質Ｓ
ｉＯ２が、焼威時に全体的に又は一部溶けた上で他成分
と反応して極低熱膨張物質を析出する場合、或いは溶け
ることな〈他成分と固相反応して極低熱膨張物質を析出
する場谷の何れの場合も含まれる． 更に固相反応の場合、表層部のみが部分的に反応して芯
の部分が非晶質ＳｉＯ２のまま残存している場合、及び
非晶ｊｊｓｉ０２粒が芯の部分まで全体的に反応した場
合の何れも含まれる．要するに、少な〈とも合有せしめ
た非晶質ＳｉＯ２の一部が反応して極低熱膨張物質を析
出する何れの場合も含むものである．これにより生威す
る釉全体の熱膨張係数が飛躍的に低下する効果が得られ
る． 尚、本発明者は石英ガラス等の非品質のＳｉＯ２のみな
らず、結晶質のＳｉＯ２の含有実験も併せて行った．し
かしながら本発明者が行った実験の範囲内では良好な結
果は得られなかった。その理由は、結品質のＳｉＯ２の
場合他成分との反応性が乏しく、十分に極低熱膨張物質
を析出し得なかったことによるものと考えられる．即ち
釉薬剤に含有させるＳｉＯ２分としては、石英ガラス等
の非晶質ＳｉＯ２が良好なのである．これは非晶質Ｓｉ
Ｏｚの場合、結晶構造をとっていないので焼成時に他威
分との反応性が高く、極低熱膨張物質をより析出させ易
いことによるものである． 本発明においては、ＳｉＯ２， ＡＩ２０３ ，
Ｌｉ２０として夫々重量％でＳｉＯ２：５０〜８ ５
， ＡＩ２０３： ５〜２５％ 、Ｌｉ２Ｏ：２〜２
０％とするのが望まし〈、また他の成分としてＺｎＯ：
Ｏ−１０％，ＭｇＯ ： Ｏ〜５％の各範囲で含有させ
るのが望ましい．このような組成範囲において特に良好
な結果の得られることが確認されている． 一方含有させる石英ガラス等の非晶質ＳｉＯ２とし？は
、その量を６０重量％以下とするのか望ましい。石英ガ
ラス等の非晶質Ｓｉｎ２はもともと融点の高い物質であ
り、従ってこれを６０％より多く含有させた場合、非晶
質Ｓｉｎ２か焼成時に釉中に十分に溶け込んでくれず、
釉か多孔質のいわゆるガサガサの釉となってしまう。尚
非晶賀ＳｉＯ■の含有量としてより望ましいのは５〜４
０重量％の範囲である。５重量％以上において効果が高
く現れ、また４０重量％以下とすることによってクリス
トバライト等の結晶の析出を可及的に低く抑えるととか
てきる。
２０を主成分とする釉において，含有ｉせた石英ガラス
等の非晶質ＳｉＯ２が自身のｓＷｌ張係数に基づいて釉
全体の熱膨張係数を低下させたものとは考えられず、非
蟲質ＳｉＯ２（一部或いは全体）が釉薬剤中の他成分と
反応して極低熱膨張物質（リチウムアルミノ珪酸塩（Ｘ
Ｌｉ２０＊ ＹＡ１２０３ ＊ ＺＳｉＯｚ） ）を析
出し、この析出物の熱膨張係数に基づいて、釉全体の熱
膨張係数が低下したものと考えられる． 但し新しく生威した極低熱膨張物質が具体的に何である
か、或いはその生成のメカニズムについては現段階では
分っ゛ていない． 本発明においては、含有させた石英ガラス等の非晶質Ｓ
ｉＯ２が、焼威時に全体的に又は一部溶けた上で他成分
と反応して極低熱膨張物質を析出する場合、或いは溶け
ることな〈他成分と固相反応して極低熱膨張物質を析出
する場谷の何れの場合も含まれる． 更に固相反応の場合、表層部のみが部分的に反応して芯
の部分が非晶質ＳｉＯ２のまま残存している場合、及び
非晶ｊｊｓｉ０２粒が芯の部分まで全体的に反応した場
合の何れも含まれる．要するに、少な〈とも合有せしめ
た非晶質ＳｉＯ２の一部が反応して極低熱膨張物質を析
出する何れの場合も含むものである．これにより生威す
る釉全体の熱膨張係数が飛躍的に低下する効果が得られ
る． 尚、本発明者は石英ガラス等の非品質のＳｉＯ２のみな
らず、結晶質のＳｉＯ２の含有実験も併せて行った．し
かしながら本発明者が行った実験の範囲内では良好な結
果は得られなかった。その理由は、結品質のＳｉＯ２の
場合他成分との反応性が乏しく、十分に極低熱膨張物質
を析出し得なかったことによるものと考えられる．即ち
釉薬剤に含有させるＳｉＯ２分としては、石英ガラス等
の非晶質ＳｉＯ２が良好なのである．これは非晶質Ｓｉ
Ｏｚの場合、結晶構造をとっていないので焼成時に他威
分との反応性が高く、極低熱膨張物質をより析出させ易
いことによるものである． 本発明においては、ＳｉＯ２， ＡＩ２０３ ，
Ｌｉ２０として夫々重量％でＳｉＯ２：５０〜８ ５
， ＡＩ２０３： ５〜２５％ 、Ｌｉ２Ｏ：２〜２
０％とするのが望まし〈、また他の成分としてＺｎＯ：
Ｏ−１０％，ＭｇＯ ： Ｏ〜５％の各範囲で含有させ
るのが望ましい．このような組成範囲において特に良好
な結果の得られることが確認されている． 一方含有させる石英ガラス等の非晶質ＳｉＯ２とし？は
、その量を６０重量％以下とするのか望ましい。石英ガ
ラス等の非晶質Ｓｉｎ２はもともと融点の高い物質であ
り、従ってこれを６０％より多く含有させた場合、非晶
質Ｓｉｎ２か焼成時に釉中に十分に溶け込んでくれず、
釉か多孔質のいわゆるガサガサの釉となってしまう。尚
非晶賀ＳｉＯ■の含有量としてより望ましいのは５〜４
０重量％の範囲である。５重量％以上において効果が高
く現れ、また４０重量％以下とすることによってクリス
トバライト等の結晶の析出を可及的に低く抑えるととか
てきる。
石英ガラス等の非晶質Ｓｉｎ２が結晶化する場合、一般
にこのようなクリストバライト等の結晶を析出するか、
この結晶は熱膨張係数が高く、従ってこのような結晶の
析出を極力抑えることによって、釉全体の熱膨張係数を
大きく低下させることができる。
にこのようなクリストバライト等の結晶を析出するか、
この結晶は熱膨張係数が高く、従ってこのような結晶の
析出を極力抑えることによって、釉全体の熱膨張係数を
大きく低下させることができる。
（弟二解決手段）
本願の第二解決手段は釉の形戊方法に係り、その要旨は
，Ｓｌ０２１ ＡＩ２ｏ３． ＬｊＪを主成分とす
る？薬剤を被施釉物表面に施して焼威することにより、
該被施釉物表面に釉を形戒するに際して、該釉薬剤の戊
分として石英ガラス等の非晶質Ｓｉｎ，を被施釉物表面
に施し、焼成時に該石英ガラス等の非晶質ＳｉＯ２と他
威分とを反応させて低熱膨張物質を析出させることにあ
る。
，Ｓｌ０２１ ＡＩ２ｏ３． ＬｊＪを主成分とす
る？薬剤を被施釉物表面に施して焼威することにより、
該被施釉物表面に釉を形戒するに際して、該釉薬剤の戊
分として石英ガラス等の非晶質Ｓｉｎ，を被施釉物表面
に施し、焼成時に該石英ガラス等の非晶質ＳｉＯ２と他
威分とを反応させて低熱膨張物質を析出させることにあ
る。
（第二解決手段の作用及び効果）
本解決手段の態様としては、上記のようにーの釉薬調合
物全体中に予め石英ガラス等の非晶質Ｓｉｎ２を含有さ
せておき、これを被施釉物表面に施して焼成する方法と
、釉薬剤な二液、例えば石英ガラス等の非晶質Ｓｉｎ２
を含む液とこれを含有しない液とに分け、それらを別々
に被施釉物表面に施した上、これを焼威し、そのときに
非晶質ＳｉＯ■を他の戒分と反応させて釉形威と同時に
釉中に極低熱膨張物質を析出させる方法とが考えられる
。
物全体中に予め石英ガラス等の非晶質Ｓｉｎ２を含有さ
せておき、これを被施釉物表面に施して焼成する方法と
、釉薬剤な二液、例えば石英ガラス等の非晶質Ｓｉｎ２
を含む液とこれを含有しない液とに分け、それらを別々
に被施釉物表面に施した上、これを焼威し、そのときに
非晶質ＳｉＯ■を他の戒分と反応させて釉形威と同時に
釉中に極低熱膨張物質を析出させる方法とが考えられる
。
（実施例）
次に本発明の特徴をより明確にすべく、以下にその実施
例を詳述する。
例を詳述する。
第１表に示ず組威で釉薬剤な調合して第２表（Ａ）の■
の組威の低熱膨張セラミックス素地（使用原料の組威に
ついては第２表（Ｂ）を参照）に施し、これを第１表に
示す温度条件で焼威して、生威した釉の熱膨張係数測定
，耐熱衝撃試験を行った。結果か第１表に併せて示して
ある。
の組威の低熱膨張セラミックス素地（使用原料の組威に
ついては第２表（Ｂ）を参照）に施し、これを第１表に
示す温度条件で焼威して、生威した釉の熱膨張係数測定
，耐熱衝撃試験を行った。結果か第１表に併せて示して
ある。
（以下余白）
ｌ
１
ｌ
２
１
３
尚、第１表において予想熱膨張係数とは、石英ガラスを
含有させた場合に、その石英ガラスの熱膨張係数（ ０
．５Ｘ１０−６゜Ｃ−１）とその添加量とに基づいて、
加成性により釉全体の熱膨張係数が下がるとした場合の
予想熱膨張係数を意味している。
含有させた場合に、その石英ガラスの熱膨張係数（ ０
．５Ｘ１０−６゜Ｃ−１）とその添加量とに基づいて、
加成性により釉全体の熱膨張係数が下がるとした場合の
予想熱膨張係数を意味している。
この結果から、生威した釉全体の熱膨張係数は予想され
る値より飛躍的に低下しており、従ってまた耐熱衝豪性
能も飛躍的に向上していることが解る。
る値より飛躍的に低下しており、従ってまた耐熱衝豪性
能も飛躍的に向上していることが解る。
尚、素地としては第２表（Ａ）の■．■，■を用いた場
合にも結果は素地■の場合とほぼ同様であった。
合にも結果は素地■の場合とほぼ同様であった。
以上本発明の実施例を詳述したが、本発明はその他の態
様で実施することも可能である。
様で実施することも可能である。
例えば本発明の釉の用途として電気調理器用天板を例示
したが、本発明はその他各種用途に供される施釉製品に
も適用可能であるし、釉薬剤の組或も上記例示した以外
の種々の組或が可能であるなど、本発明はその主旨を逸
脱しない範囲において、当業者の知識に基づき様々な変
更を加えた態ｌ ４ 様において実施可能てある。
したが、本発明はその他各種用途に供される施釉製品に
も適用可能であるし、釉薬剤の組或も上記例示した以外
の種々の組或が可能であるなど、本発明はその主旨を逸
脱しない範囲において、当業者の知識に基づき様々な変
更を加えた態ｌ ４ 様において実施可能てある。
Claims (5)
- （１）ＳｉＯ＿２、Ａｌ＿２Ｏ＿３、Ｌｉ＿２Ｏを主成
分とし、且つＳｉＯ＿２成分の少なくとも一部として石
英ガラス等の非晶質ＳｉＯ＿２を含有させて成ることを
特徴とする釉薬剤。 - （２）ＳｉＯ＿２、Ａｌ＿２Ｏ＿３、Ｌｉ＿２Ｏを夫々
重量％でＳｉＯ＿２：５０〜８５％、Ａｌ＿２Ｏ＿３：
５〜２５％、Ｌｉ＿２Ｏ：２〜２０％の各量範囲で含有
させ、且つＳｉＯ＿２成分の少なくとも一部として石英
ガラス等の非晶質ＳｉＯ＿２を含有させて成ることを特
徴とする釉薬剤。 - （３）前記石英ガラス等の非晶質ＳｉＯ＿２を６０重量
％以下の範囲で含有させて成ることを特徴とする請求（
１）又は（２）に記載の釉薬剤。 - （４）前記石英ガラス等の非晶質ＳｉＯ＿２を３〜４０
重量％の範囲で含有させて成ることを特徴とする請求項
（１）又は（２）に記載の釉薬剤。 - （５）ＳｉＯ＿２、Ａｌ＿２Ｏ＿３、Ｌｉ＿２Ｏを主成
分とする釉薬剤を被施釉物表面に施して焼成することに
より該被施釉物表面に釉を形成するに際して、該釉薬剤
の成分として石英ガラス等の非晶質ＳｉＯ＿２を被施釉
物表面に施し、焼成時に該石英ガラス等の非晶質ＳｉＯ
＿２と他成分とを反応させて低熱膨張物質を析出させる
ことを特徴とする釉の形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29847889A JPH03159933A (ja) | 1989-11-16 | 1989-11-16 | 釉薬剤及び釉形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29847889A JPH03159933A (ja) | 1989-11-16 | 1989-11-16 | 釉薬剤及び釉形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03159933A true JPH03159933A (ja) | 1991-07-09 |
| JPH0582335B2 JPH0582335B2 (ja) | 1993-11-18 |
Family
ID=17860219
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29847889A Granted JPH03159933A (ja) | 1989-11-16 | 1989-11-16 | 釉薬剤及び釉形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03159933A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7591918B2 (en) * | 2002-06-17 | 2009-09-22 | Hitachi Metals, Ltd. | Ceramic honeycomb structure and its production method and coating material used therefor |
-
1989
- 1989-11-16 JP JP29847889A patent/JPH03159933A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7591918B2 (en) * | 2002-06-17 | 2009-09-22 | Hitachi Metals, Ltd. | Ceramic honeycomb structure and its production method and coating material used therefor |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0582335B2 (ja) | 1993-11-18 |
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