JPH03162596A - 部分メッキ方法及び装置 - Google Patents
部分メッキ方法及び装置Info
- Publication number
- JPH03162596A JPH03162596A JP30234989A JP30234989A JPH03162596A JP H03162596 A JPH03162596 A JP H03162596A JP 30234989 A JP30234989 A JP 30234989A JP 30234989 A JP30234989 A JP 30234989A JP H03162596 A JPH03162596 A JP H03162596A
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- JP
- Japan
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- plating
- sparger
- negative pressure
- lead frame
- partial plating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の目的
〔産業上の利用分野〕
本発明は、部分メッキ方法およびその実施に使用する部
分メッキ装置に関するものであり、特にICその他の電
子部品川リードフレームに、弾力性材でシールして部分
メッキを行う場合に、所定のメッキ必要箇所へだけ高精
度に部分メッキを行えるようにしたものである。
分メッキ装置に関するものであり、特にICその他の電
子部品川リードフレームに、弾力性材でシールして部分
メッキを行う場合に、所定のメッキ必要箇所へだけ高精
度に部分メッキを行えるようにしたものである。
電子部品用リードフレームへの部分メッキは、後でIC
チップその他の電子部品を搭載するため、各ビン表面の
ボンディングパッド部やグイパッド部等のメッキ必要箇
所に、金または銀の部分メッキを高精度に施す必要があ
る。
チップその他の電子部品を搭載するため、各ビン表面の
ボンディングパッド部やグイパッド部等のメッキ必要箇
所に、金または銀の部分メッキを高精度に施す必要があ
る。
その部分メッキ方法および装置については、従来次のも
のが一般的であった。
のが一般的であった。
即ち、リードフレーム聞をシリコンゴム・スポンジ等の
弾性材製の支承用およびマスキング用のシール材(j)
で扶持させる。この状態で、第8図で示すように、開放
型のリザーブM (+’)からメッキ液品を液供給ポン
プにより、液供給バイプOD・スパージャー(2)を介
して、上記の如くシールされたリードフレーム《2)リ
ードフレーム(4)の露出箇所に噴流させ部分メッキを
施す。その後のメッキ液面は、液排出バイプαうを経て
リザーブM(i)へ戻るような構造にしてある。
弾性材製の支承用およびマスキング用のシール材(j)
で扶持させる。この状態で、第8図で示すように、開放
型のリザーブM (+’)からメッキ液品を液供給ポン
プにより、液供給バイプOD・スパージャー(2)を介
して、上記の如くシールされたリードフレーム《2)リ
ードフレーム(4)の露出箇所に噴流させ部分メッキを
施す。その後のメッキ液面は、液排出バイプαうを経て
リザーブM(i)へ戻るような構造にしてある。
上記従来の弾性材製のシール材を用いる部分メッキ方法
および装置では、1つのシール材で繰り返し多数枚のリ
ードフレームをシールでき、生産性の向上とコストダウ
ンを図れる。これは、他のシール手段即ち各リードフレ
ーム毎に打抜きフィルムを貼付したり、フォトレジスト
を塗布・露光・現像するものに比べて、生産性・経済性
の面で優れている。
および装置では、1つのシール材で繰り返し多数枚のリ
ードフレームをシールでき、生産性の向上とコストダウ
ンを図れる。これは、他のシール手段即ち各リードフレ
ーム毎に打抜きフィルムを貼付したり、フォトレジスト
を塗布・露光・現像するものに比べて、生産性・経済性
の面で優れている。
しかし、近時の如くIC等の高密度化に伴い、リードフ
レームも多ビン化・微細化してくると、部分メッキもメ
ッキ必要箇所以外にはメッキが付着しない高精度なもの
が要求される。
レームも多ビン化・微細化してくると、部分メッキもメ
ッキ必要箇所以外にはメッキが付着しない高精度なもの
が要求される。
ところが、上記弾性材製のシール材ではビンとの境界部
に僅かな間隙がある。また多ビン化・微細化したり厚め
のリードフレームでは、シール材がビン間の奥まで入ら
ず、ピン側面に間隙が生じやすい。そのため、スパージ
ャー内でリードフレームに向けて噴流したメッキ液の一
部が、上記間隙に侵入し易い。その結果第9図で示す如
く、特にビン6側面に置換メッキ07)が析出した。
に僅かな間隙がある。また多ビン化・微細化したり厚め
のリードフレームでは、シール材がビン間の奥まで入ら
ず、ピン側面に間隙が生じやすい。そのため、スパージ
ャー内でリードフレームに向けて噴流したメッキ液の一
部が、上記間隙に侵入し易い。その結果第9図で示す如
く、特にビン6側面に置換メッキ07)が析出した。
この置換メッキは剥離し易いので、リードフレームの多
ビン化・微細化により接近した隣のビンと接触してリー
クの原因となる。また多ビン化・微細化でビン長も短く
なっているので、置換メッキが樹脂モールドからはみ出
し、封止効果を損なう等、の問題点があった。
ビン化・微細化により接近した隣のビンと接触してリー
クの原因となる。また多ビン化・微細化でビン長も短く
なっているので、置換メッキが樹脂モールドからはみ出
し、封止効果を損なう等、の問題点があった。
そこで、置換メッキを除去するため、従来は部分メッキ
を予め所要の厚みより厚く形威させておき、後で置換メ
ッキの剥離処理を行うことで、部分メッキ表面も同時に
剥離させて所要の厚みにしている。
を予め所要の厚みより厚く形威させておき、後で置換メ
ッキの剥離処理を行うことで、部分メッキ表面も同時に
剥離させて所要の厚みにしている。
しかしこの剥離処理をするためには、予め部分メッキの
厚みを必要以上に厚くしておかねばならず、メッキ処理
時間が長くなり生産性を悪くし、またメッキ液その他の
材料費が余計にかかり不経済でもあった。さらに銅が主
材のリードフレームでは、銀の置換メッキを剥離時に銅
の素地も傷めるため、この剥離処理ができない。一般的
な鉄が主材のリードフレームでも、剥離時間が長いと肝
心の部分メッキの表面を荒らすという別の問題が生じて
しまった。
厚みを必要以上に厚くしておかねばならず、メッキ処理
時間が長くなり生産性を悪くし、またメッキ液その他の
材料費が余計にかかり不経済でもあった。さらに銅が主
材のリードフレームでは、銀の置換メッキを剥離時に銅
の素地も傷めるため、この剥離処理ができない。一般的
な鉄が主材のリードフレームでも、剥離時間が長いと肝
心の部分メッキの表面を荒らすという別の問題が生じて
しまった。
本発明の課題は、上記弾性材製のシール材を用いる部分
メッキ方法および装置が、生産性と経済性に優れている
ことに鑑み、これがもつ上記問題点を解決することにあ
る。
メッキ方法および装置が、生産性と経済性に優れている
ことに鑑み、これがもつ上記問題点を解決することにあ
る。
そして本発明の主たる目的は、弾性材製シール材を用い
る部分メッキ方法および装置において、シールされた箇
所へのメッキ液漏れを防止し、置換メッキの析出を無く
すことである。その結果、置換メッキによるリークその
他の不良品の発生を無くして、微細化・多ピン化したリ
ードフレームに高精度で部分メッキを行えるようにし、
かつ置換メッキの2qm処理に伴う生産性の低下や不経
済性、リードフレーム主材や部分メッキの素地を荒らす
等の問題点も解消させることにある。
る部分メッキ方法および装置において、シールされた箇
所へのメッキ液漏れを防止し、置換メッキの析出を無く
すことである。その結果、置換メッキによるリークその
他の不良品の発生を無くして、微細化・多ピン化したリ
ードフレームに高精度で部分メッキを行えるようにし、
かつ置換メッキの2qm処理に伴う生産性の低下や不経
済性、リードフレーム主材や部分メッキの素地を荒らす
等の問題点も解消させることにある。
A 本発明の部分メッキ方法は、
リザーブ槽(1)からのメッキ液(8)を、部分メッキ
不要箇所が弾力材製シール材(3)でシールされたリー
ドフレーム(4)に噴流させ、該リードフレーム(2)
リードフレーム(4)に部分メッキ(5)を施した後、
リザーブM(1)へ戻して循環させるようにした部分メ
ッキ方法において、 上記メッキ液(8)の循環を密閉状態下で行わせるとと
もに、 液循環路{6}の帰路(7)側内を、スパージャー(2
)内のメ,キ液(8)がリードフレーム(2)リードフ
レーム(4)へ噴流後に強制的に吸い出され得る負圧に
することにより、スパージャー(2)内の液圧を下げて
メッキ処理を行わせるようにしたものである。
不要箇所が弾力材製シール材(3)でシールされたリー
ドフレーム(4)に噴流させ、該リードフレーム(2)
リードフレーム(4)に部分メッキ(5)を施した後、
リザーブM(1)へ戻して循環させるようにした部分メ
ッキ方法において、 上記メッキ液(8)の循環を密閉状態下で行わせるとと
もに、 液循環路{6}の帰路(7)側内を、スパージャー(2
)内のメ,キ液(8)がリードフレーム(2)リードフ
レーム(4)へ噴流後に強制的に吸い出され得る負圧に
することにより、スパージャー(2)内の液圧を下げて
メッキ処理を行わせるようにしたものである。
B 本発明の部分メッキ装置は、
リードフレーム(4)の部分メッキ不要箇所をシールす
る弾性材製のシール材(3)を有し、リザーブ槽(1)
とスパージャー(2)間に液循環路(6)を設けてなる
部分メッキ装置において、 上記液循環路(6)を密閉型にするとともに、そのうち
の帰路(7)側の一部に、スパージャー(2)内のメッ
キ液(8)をリードフレーム(4)へ噴流後に強制的に
吸い出し得る程度の帰路内負圧手段(9)を設けてなる
ものである。
る弾性材製のシール材(3)を有し、リザーブ槽(1)
とスパージャー(2)間に液循環路(6)を設けてなる
部分メッキ装置において、 上記液循環路(6)を密閉型にするとともに、そのうち
の帰路(7)側の一部に、スパージャー(2)内のメッ
キ液(8)をリードフレーム(4)へ噴流後に強制的に
吸い出し得る程度の帰路内負圧手段(9)を設けてなる
ものである。
上記本発明に係る部分メッキ方法および装置の構威にお
いて、弾性材製のシール材(3》とは、例えばシリコン
ゴムやスポンジの如き弾性材製で、機械的手段でリード
フレーム(4)へ押圧させ、メッキ不要箇所をシールす
るものを指す。
いて、弾性材製のシール材(3》とは、例えばシリコン
ゴムやスポンジの如き弾性材製で、機械的手段でリード
フレーム(4)へ押圧させ、メッキ不要箇所をシールす
るものを指す。
リザーブ槽(1)とはメッキ液(8》を循環させながら
メッキ処理する場合に、メッキ液(8)が一時的に溜ま
る槽を意味する。
メッキ処理する場合に、メッキ液(8)が一時的に溜ま
る槽を意味する。
液循環路(6)とは、リザーブ槽(1)からスパージャ
ー(2》を経て再びリザーブ槽(1)へ戻る経路の全体
をいう。またその帰路(7)とは、メッキ液(8)がス
パージャー(2)内でリードフレーム(4)へ噴流後か
ら、液排出バイプ0!9を経てリザーブ槽(1)へ戻り
、かつリザーブ槽(1)内にある間の各部を指す。
ー(2》を経て再びリザーブ槽(1)へ戻る経路の全体
をいう。またその帰路(7)とは、メッキ液(8)がス
パージャー(2)内でリードフレーム(4)へ噴流後か
ら、液排出バイプ0!9を経てリザーブ槽(1)へ戻り
、かつリザーブ槽(1)内にある間の各部を指す。
液循環路(6)を密閉型にするとは、この種のメ,キ装
置においては、リザーブ槽(1)を密閉することでよい
。
置においては、リザーブ槽(1)を密閉することでよい
。
帰i73f7)内の負圧手段(9)は、例えば真空ポン
プである。負圧の程度は、減圧し過ぎるとメッキ液(8
》はスパージャー(2)内でリードフレーム(4)に当
たることなく吸い出されてしまうので、上記の如くスパ
ージャー(2)内でリードフレーム(4)に噴流後のメ
ッキ液(8)が強制的にスパージャー(2)外へ吸い出
される程度でよい。
プである。負圧の程度は、減圧し過ぎるとメッキ液(8
》はスパージャー(2)内でリードフレーム(4)に当
たることなく吸い出されてしまうので、上記の如くスパ
ージャー(2)内でリードフレーム(4)に噴流後のメ
ッキ液(8)が強制的にスパージャー(2)外へ吸い出
される程度でよい。
図において、(3a)は支承用シール材、(3b)はマ
スキング用シール材、α噂は循環路内の空気を抜く負圧
用パイプを示す. 〔作 用〕 本発明の部分メッキ方法および装置でメッキを行う場合
の作用を述べる. メッキ液《8》は従来のこの種のものと同様に、リザー
ブ槽(1)から液供給ポンプaωにより液供給パイプα
Dを経てスパージャー(2)へ供給される。スパージャ
ー(2)内では、メッキ液(8)は部分メッキ必要箇所
のみが開口の弾性材製シール材《3)でシールしたリー
ドフレーム(4)へ噴流して(第2図参照)、露出した
箇所にだけ部分メッキ(5)を施し、その後スパージャ
ー(2)外へ流出し帰路(7)を経てリザーブ槽(11
へ戻る(第1図・第3図・第4図参照)。
スキング用シール材、α噂は循環路内の空気を抜く負圧
用パイプを示す. 〔作 用〕 本発明の部分メッキ方法および装置でメッキを行う場合
の作用を述べる. メッキ液《8》は従来のこの種のものと同様に、リザー
ブ槽(1)から液供給ポンプaωにより液供給パイプα
Dを経てスパージャー(2)へ供給される。スパージャ
ー(2)内では、メッキ液(8)は部分メッキ必要箇所
のみが開口の弾性材製シール材《3)でシールしたリー
ドフレーム(4)へ噴流して(第2図参照)、露出した
箇所にだけ部分メッキ(5)を施し、その後スパージャ
ー(2)外へ流出し帰路(7)を経てリザーブ槽(11
へ戻る(第1図・第3図・第4図参照)。
上記場合に、本発明の部分メッキ方法および装置では、
従来のものと異なり液循環路(6)を密閉状にするとと
もに、帰路(7) {IIの一部に、スパージャー(2
)内でリードフレーム(4)へ噴流後のメッキ液(8)
を、強制的に吸い出し得る程度に帰路(7)内を負圧に
する帰路内負圧手段(9)を設けてある。
従来のものと異なり液循環路(6)を密閉状にするとと
もに、帰路(7) {IIの一部に、スパージャー(2
)内でリードフレーム(4)へ噴流後のメッキ液(8)
を、強制的に吸い出し得る程度に帰路(7)内を負圧に
する帰路内負圧手段(9)を設けてある。
この負圧手段(9)により、帰路(7)内の気圧は、ス
パージャー(2)内でリードフレーム(4)へllm後
のメッキ液(8)が、液供給ボンプα呻による液自体の
自然な流れではなく、強制的にスパージャー《2》外へ
吸い出される程度の負圧になっている。
パージャー(2)内でリードフレーム(4)へllm後
のメッキ液(8)が、液供給ボンプα呻による液自体の
自然な流れではなく、強制的にスパージャー《2》外へ
吸い出される程度の負圧になっている。
そのため、スパージャー(2)内でリードフレーム(4
)へ噴流後のメッキ液(8)は、噴流後は直ちにスパー
ジャー(2)内から流出することになり、スパージャー
(2)内でのメッキ液は、流速が増し流量も増えるが、
液圧は低下している。
)へ噴流後のメッキ液(8)は、噴流後は直ちにスパー
ジャー(2)内から流出することになり、スパージャー
(2)内でのメッキ液は、流速が増し流量も増えるが、
液圧は低下している。
このスパージャー(2)内での液圧の低下により、メッ
キ液は弾性材製シール材(3)とビン(自)との間の間
隙へ殆ど侵入しなくなる。これで、ビン(自)側面等へ
の液漏れによる置換メッキonの析出がなくな゜る(第
5図参照)。
キ液は弾性材製シール材(3)とビン(自)との間の間
隙へ殆ど侵入しなくなる。これで、ビン(自)側面等へ
の液漏れによる置換メッキonの析出がなくな゜る(第
5図参照)。
なお、リードフレーム(4)に当たるメッキ液の流量は
増えても減らぬために、部分メッキ必要箇所へのメッキ
析出量・スピードは、向上しても低下はない。
増えても減らぬために、部分メッキ必要箇所へのメッキ
析出量・スピードは、向上しても低下はない。
液循環路(6)を密閉状態にするには、第l図・第3図
で示すように、リザーブ[(1)を密閉しておけばよい
。
で示すように、リザーブ[(1)を密閉しておけばよい
。
帰路内負圧手段(9)として、第1図では真空ボンブを
上記リザーブ櫂(1)に、また第3図では真空ポンプを
液排出パイプαタに、各々負圧用パイプa!により圧力
ゲージαj・圧力バルブ(自)とともに設けてある。
上記リザーブ櫂(1)に、また第3図では真空ポンプを
液排出パイプαタに、各々負圧用パイプa!により圧力
ゲージαj・圧力バルブ(自)とともに設けてある。
また第4図は、帰路内負圧手段(9》として真空ボンブ
(9》を用いず、リザーブ!ff (+)からの負圧川
パイプ0!を、処理槽(21)で循環している洗浄液の
洗浄液パイプ(2mに、アスビレータ(22)を介して
接続させてある。これは、メッキ工場で多くある水洗処
理工程の一部を利用して負圧を形成するもので、簡易に
帰路内負圧をつくることができる手段である。
(9》を用いず、リザーブ!ff (+)からの負圧川
パイプ0!を、処理槽(21)で循環している洗浄液の
洗浄液パイプ(2mに、アスビレータ(22)を介して
接続させてある。これは、メッキ工場で多くある水洗処
理工程の一部を利用して負圧を形成するもので、簡易に
帰路内負圧をつくることができる手段である。
帰路内負圧手段(9)として、上記帰路内負圧手段(9
)で帰路(7)内を負圧にする程度は、スパージャー{
2}内のメッキ液(8)をリードフレーム(4)へ噴流
後に強制的に吸い出し得る程度である。減圧し過ぎると
メッキ液(8)はスパージャー(2)内でリードフレー
ム(4)に当たることなく吸い出されてしまうので、具
体的には1気圧と0.5気圧の間位とするのがよい。
)で帰路(7)内を負圧にする程度は、スパージャー{
2}内のメッキ液(8)をリードフレーム(4)へ噴流
後に強制的に吸い出し得る程度である。減圧し過ぎると
メッキ液(8)はスパージャー(2)内でリードフレー
ム(4)に当たることなく吸い出されてしまうので、具
体的には1気圧と0.5気圧の間位とするのがよい。
なお、本発明の部分メッキ方法および装置で用いる弾性
材製シール材(3)は、従来の平板状のものでよい。し
かし第6図で示す如く、部分メッキするリードフレーム
自体を雄型として成形した雌型パターンαeをもつ弾性
材製シール材(3)を用いれば、第7図で示すようにリ
ードフレー(4)との間で完全な係合状態になり、間隙
が殆ど生じない.該弾性材製シール材(3)を本発明の
部分メッキ方法および装置に用いると、一層よい結果が
得られる.発明の効果 以上で明らかな如く本発明によれば、弾性材製シール材
を用いた部分メッキ方法および装置を、従来より一層優
れたものにできる。
材製シール材(3)は、従来の平板状のものでよい。し
かし第6図で示す如く、部分メッキするリードフレーム
自体を雄型として成形した雌型パターンαeをもつ弾性
材製シール材(3)を用いれば、第7図で示すようにリ
ードフレー(4)との間で完全な係合状態になり、間隙
が殆ど生じない.該弾性材製シール材(3)を本発明の
部分メッキ方法および装置に用いると、一層よい結果が
得られる.発明の効果 以上で明らかな如く本発明によれば、弾性材製シール材
を用いた部分メッキ方法および装置を、従来より一層優
れたものにできる。
即ち、従来は弾性材製シール材を用いてリードフレーム
に部分メッキすると、シール材とビンとの境界面の間隙
にメッキ液が侵入し、特にビン側面に置換メッキが析出
したー。この置換メッキは、多ビン化・′aLm化した
リードフレームでは、リークその他の不良品を生む原因
となっていた。また置換メッキを剥離・除去すると、生
産性や経済性を低下させ、リードフレーム主材や部分メ
ッキ素地も荒していた。
に部分メッキすると、シール材とビンとの境界面の間隙
にメッキ液が侵入し、特にビン側面に置換メッキが析出
したー。この置換メッキは、多ビン化・′aLm化した
リードフレームでは、リークその他の不良品を生む原因
となっていた。また置換メッキを剥離・除去すると、生
産性や経済性を低下させ、リードフレーム主材や部分メ
ッキ素地も荒していた。
これに対して本発明に係る部分メッキ方法および装置は
、液循環路の帰路側内を負圧とすることにより、メッキ
液はスパージャー内でリードフレームへ噴流後に、強制
的にスパージャー外へ吸い出している. そのため、メッキ液はスパージャー内で流速が増し流量
も増えるが液圧は低下するので、弾性材製シール材を川
いて部分メッキをする場合に、従来と異なり、弾性材製
シール材とビンと間の間隙へメッキ液が侵入することを
殆ど無くすことができる. したがって、本発明に係る部分メッキ方法および装置で
は、ビン側面等への液漏れによる置換メッキの析出が無
くなり、置換メッキに伴う上記諸問題を解決できること
になる。それゆえ、生産性・経済性に優れた弾性材製シ
ール材を用いた部分メッキ方法および装置が、より一層
有効な部分メッキ手段となる。
、液循環路の帰路側内を負圧とすることにより、メッキ
液はスパージャー内でリードフレームへ噴流後に、強制
的にスパージャー外へ吸い出している. そのため、メッキ液はスパージャー内で流速が増し流量
も増えるが液圧は低下するので、弾性材製シール材を川
いて部分メッキをする場合に、従来と異なり、弾性材製
シール材とビンと間の間隙へメッキ液が侵入することを
殆ど無くすことができる. したがって、本発明に係る部分メッキ方法および装置で
は、ビン側面等への液漏れによる置換メッキの析出が無
くなり、置換メッキに伴う上記諸問題を解決できること
になる。それゆえ、生産性・経済性に優れた弾性材製シ
ール材を用いた部分メッキ方法および装置が、より一層
有効な部分メッキ手段となる。
第1図は本発明の部分メッキ装置の一実施例を示す概略
正面図、第2図はその一部拡大縦断面図、第3図は本発
明の部分メッキ装置の他の実施例を示す概略正面図、第
4図は部分メッキ装近のさらに別の実施例を示す概略正
面図、第5図は本発明の部分メッキ方法により部分メッ
キしたビンの一部拡大斜視図、第6図は他の弾性材製シ
ール材の一部拡大斜視図、第7図はそのシール材を使用
時の一部拡大縦断面、第8図は従来の部分めっき装置の
概略正面図、第9図は従来の部分メッキ装置により部分
メッキしたビンの一部拡大斜視図である。 図面符号 (1)一リザーブ槽 {2}−スパージャー(3
)一シール材 (3a)一支持用シール材(3
b)一マスキング用シール材 (4)一リードフレーム (5)一部分メッキ(6)
一液循環路 (7)一帰路(8)一メッキ液
(9)一帰路内負圧手段αω一液供給ボンプ
αD一液供給パイプ(自)一ビン 0
3一圧カゲージαり一圧カバルブ α9一液排出
パイプαl一雌型パターン a6一置換メッキα樽
一一時保留槽 01一負圧用パイプ Q呻 洗浄液パイプ (2l)一処理槽 (22)一アスビレータ 図餌符号 (1)−リザーブ槽 《力−スバージ中一 {4}−リードフレーム (61一液wIri路 (5)一部分メ,キ {力一帰路 (自)一ビン 圓一圧カバルブ Oe−#型パターン a●一一時保留槽 a3−圧力ゲージ (自)一液排出パイプ on−z換メッキ Ql−負圧用バイプ 図面符号 (1)一リザーブpl(2+−スパーノヤー(:n一ノ
ール材 (3a)一支待川ノール材(3b)−
マスキング用ノール材 {41−リードフレーム {5}一部分メッキ+61
−[[m lyl−帰路1g+−メッキ液
(9)一帰路内負圧手段0@一液供給ポンプ
αO−液供給バイプO−ビン 03=
圧力ゲージa〇一圧力バルブ G′3−nn出バ
イプαl−雌型パターン On−置換メッキ0一一
一時保HIJ Ql−ft圧Mt<イブ■一唐
浄液バイプ (21)一処FIIIJ(22)一ア
スビレータ 3(3. ))訃 Nil面符号 (1)一リザーブ槽 (2)−スバーノヤー{3
}一ノール材 (3a》一支持川ノール材(3
b)−マスキング用ソール材 (41−リードフレーム (5)一部分メッキ(6}
一液循環路 (7)一帰路(8}−メッキ液
(9)一帰路内負圧手段01一液供給ポンプ
αD一液供給パイプOB−ビン 03
−圧力ゲージ041一圧カバルブ a9一液徘出
パイプOe一雌型パターン 0η−l換メッキ0●
一一時保留V!贈一負圧川パイプ (至)一洗浄液パイプ (21)一処理槽(22)
一アスビレータ 第 7 図 6 一麿QQ− 図面符号 (1》−リザーブWI (2)一スパージャー
{3》−7ール材 (3a)一文1.7川ンー
ル材(3b)一マスキング用シール材 (2)リードフレーム(4)−リードフレーム (5
1一部分メ,キ(6)一液循環路 (7)一帰
路(8+−メッキTli +91一帰路内負
圧手段0●一液供給ポンプ αu−+11m給パイ
プ(自)一ビン 0一圧カゲーノ圓一圧カ
バルブ (自)一jlkK出バイプ01B−8’
lハP−ン071−Zllk/ yキQl−−Li保留
WQ彎一負圧用バイプ■一浣浄岐パイプ (2l)
一処理槽(22)一アスビレータ 12
正面図、第2図はその一部拡大縦断面図、第3図は本発
明の部分メッキ装置の他の実施例を示す概略正面図、第
4図は部分メッキ装近のさらに別の実施例を示す概略正
面図、第5図は本発明の部分メッキ方法により部分メッ
キしたビンの一部拡大斜視図、第6図は他の弾性材製シ
ール材の一部拡大斜視図、第7図はそのシール材を使用
時の一部拡大縦断面、第8図は従来の部分めっき装置の
概略正面図、第9図は従来の部分メッキ装置により部分
メッキしたビンの一部拡大斜視図である。 図面符号 (1)一リザーブ槽 {2}−スパージャー(3
)一シール材 (3a)一支持用シール材(3
b)一マスキング用シール材 (4)一リードフレーム (5)一部分メッキ(6)
一液循環路 (7)一帰路(8)一メッキ液
(9)一帰路内負圧手段αω一液供給ボンプ
αD一液供給パイプ(自)一ビン 0
3一圧カゲージαり一圧カバルブ α9一液排出
パイプαl一雌型パターン a6一置換メッキα樽
一一時保留槽 01一負圧用パイプ Q呻 洗浄液パイプ (2l)一処理槽 (22)一アスビレータ 図餌符号 (1)−リザーブ槽 《力−スバージ中一 {4}−リードフレーム (61一液wIri路 (5)一部分メ,キ {力一帰路 (自)一ビン 圓一圧カバルブ Oe−#型パターン a●一一時保留槽 a3−圧力ゲージ (自)一液排出パイプ on−z換メッキ Ql−負圧用バイプ 図面符号 (1)一リザーブpl(2+−スパーノヤー(:n一ノ
ール材 (3a)一支待川ノール材(3b)−
マスキング用ノール材 {41−リードフレーム {5}一部分メッキ+61
−[[m lyl−帰路1g+−メッキ液
(9)一帰路内負圧手段0@一液供給ポンプ
αO−液供給バイプO−ビン 03=
圧力ゲージa〇一圧力バルブ G′3−nn出バ
イプαl−雌型パターン On−置換メッキ0一一
一時保HIJ Ql−ft圧Mt<イブ■一唐
浄液バイプ (21)一処FIIIJ(22)一ア
スビレータ 3(3. ))訃 Nil面符号 (1)一リザーブ槽 (2)−スバーノヤー{3
}一ノール材 (3a》一支持川ノール材(3
b)−マスキング用ソール材 (41−リードフレーム (5)一部分メッキ(6}
一液循環路 (7)一帰路(8}−メッキ液
(9)一帰路内負圧手段01一液供給ポンプ
αD一液供給パイプOB−ビン 03
−圧力ゲージ041一圧カバルブ a9一液徘出
パイプOe一雌型パターン 0η−l換メッキ0●
一一時保留V!贈一負圧川パイプ (至)一洗浄液パイプ (21)一処理槽(22)
一アスビレータ 第 7 図 6 一麿QQ− 図面符号 (1》−リザーブWI (2)一スパージャー
{3》−7ール材 (3a)一文1.7川ンー
ル材(3b)一マスキング用シール材 (2)リードフレーム(4)−リードフレーム (5
1一部分メ,キ(6)一液循環路 (7)一帰
路(8+−メッキTli +91一帰路内負
圧手段0●一液供給ポンプ αu−+11m給パイ
プ(自)一ビン 0一圧カゲーノ圓一圧カ
バルブ (自)一jlkK出バイプ01B−8’
lハP−ン071−Zllk/ yキQl−−Li保留
WQ彎一負圧用バイプ■一浣浄岐パイプ (2l)
一処理槽(22)一アスビレータ 12
Claims (6)
- (1)リザーブ槽(1)からのメッキ液(8)を、部分
メッキ不要箇所が弾力材製シール材(3)でシールされ
たリードフレーム(4)に噴流させ、該リードフレーム
(4)に部分メッキ(5)を施した後、リザーブ槽(1
)へ戻して循環させるようにした部分メッキ方法におい
て、 上記メッキ液(8)の循環を密閉状態下で行わせるとと
もに、 液循環路(6)の帰路(7)側内を、スパージャー(2
)内のメッキ液(8)がリードフレーム(4)へ噴流後
に強制的に吸い出され得る負圧にすることにより、スパ
ージャー(2)内の液圧を下げてメッキ処理を行わせる
ことを特徴とする、部分メッキ方法。 - (2)リードフレーム(4)の部分メッキ不要箇所をシ
ールする弾性材製のシール材(3)を有し、リザーブ槽
(1)とスパージャー(2)間に液循環路(6)を設け
てなる部分メッキ装置において、 上記液循環路(6)を密閉型にするとともに、そのうち
の帰路(7)側の一部に、スパージャー(2)内のメッ
キ液(8)をリードフレーム(4)へ噴流後に強制的に
吸い出し得る程度の帰路内負圧手段(9)を設けたこと
を特徴とする、部分メッキ装置。 - (3)帰路内負圧手段(9)を、リザーブ槽(1)に設
けてなる、請求項(2)に記載の部分メッキ装置。 - (4)帰路内負圧手段(9)を、帰路(7)における排
出パイプ(15)に設けるとともに、リザーブ槽(1)
へ戻す迄の一時保留槽(18)を設けてなる、請求項(
2)に記載の部分メッキ装置。 - (5)帰路内負圧手段(9)として、真空ポンプを設け
てなる、請求項(2)、(3)、(4)の何れかに記載
の部分メッキ装置。 - (6)帰路内負圧手段(9)として、リザーブ槽(1)
からの負圧用パイプ(19)を、処理槽(21)で循環
している洗浄液の洗浄液パイプ(20)に、アスピレー
タ(22)を介して接続させてなる、請求項(2)また
は(3)に記載の部分メッキ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30234989A JPH03162596A (ja) | 1989-11-21 | 1989-11-21 | 部分メッキ方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30234989A JPH03162596A (ja) | 1989-11-21 | 1989-11-21 | 部分メッキ方法及び装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03162596A true JPH03162596A (ja) | 1991-07-12 |
Family
ID=17907850
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30234989A Pending JPH03162596A (ja) | 1989-11-21 | 1989-11-21 | 部分メッキ方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03162596A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003155591A (ja) * | 2001-11-15 | 2003-05-30 | Sanyo Electric Co Ltd | 板状体の製造方法およびそれを用いた回路装置の製造方法 |
| KR100691571B1 (ko) * | 2003-04-14 | 2007-03-12 | 산요덴키가부시키가이샤 | 판상체의 제조 방법 및 그것을 이용한 회로 장치의 제조방법 |
| JP2008045218A (ja) * | 2007-10-01 | 2008-02-28 | Dowa Holdings Co Ltd | 金属セラミック複合部材に対するメッキ方法、パターン製造方法、および湿式処理装置、並びにパワーモジュール用金属セラミックス複合部材 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5125434A (ja) * | 1974-08-28 | 1976-03-02 | Inoue Japax Res | Renzokumetsukisochi |
| JPS5827364B2 (ja) * | 1980-06-04 | 1983-06-09 | 株式会社 エヌ・アイ・テイ | 地盤改良工法及びその装置 |
-
1989
- 1989-11-21 JP JP30234989A patent/JPH03162596A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5125434A (ja) * | 1974-08-28 | 1976-03-02 | Inoue Japax Res | Renzokumetsukisochi |
| JPS5827364B2 (ja) * | 1980-06-04 | 1983-06-09 | 株式会社 エヌ・アイ・テイ | 地盤改良工法及びその装置 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003155591A (ja) * | 2001-11-15 | 2003-05-30 | Sanyo Electric Co Ltd | 板状体の製造方法およびそれを用いた回路装置の製造方法 |
| KR100691571B1 (ko) * | 2003-04-14 | 2007-03-12 | 산요덴키가부시키가이샤 | 판상체의 제조 방법 및 그것을 이용한 회로 장치의 제조방법 |
| JP2008045218A (ja) * | 2007-10-01 | 2008-02-28 | Dowa Holdings Co Ltd | 金属セラミック複合部材に対するメッキ方法、パターン製造方法、および湿式処理装置、並びにパワーモジュール用金属セラミックス複合部材 |
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