JPH0316280Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 本考案は、半導体ウエハを処理するためのバス
ケツトに関するもので、さらに詳しくは例えば薄
い円盤状に形成されたシリコン半導体ウエハの表
面処理を行うに際し、これが一定数を内部に収容
するに適した相対向する縦方向の区画筋を一体成
型で構成した弗素樹脂製のバスケツトに係るもの
である。

従来、半導体製造工業では、前記シリコンウエ
ハの一定数をバスケツトの内部に縦に並列するよ
うに挿着した状態で、エツチングから洗浄および
乾燥その他の表面処理を自動機構にかけて行う
が、従来のバスケツトは自動機構にかける都合
上、その設定位置に対応する形状として、両側壁
と両端壁の各間隔をはじめ、ウエハの挿入数に合
う両側壁の内部リブおよび一方の端壁に設けた横
棒と各フランジの幅等が規正されるほか、横棒の
ある端壁と、末端に挿入したウエハとの間隙が挾
少で底部に抜孔を作れないため、ウエハ面への処
理液の流動接触とその通り抜けが悪るく、また乾
燥にも時間を要する等作業性に欠ける支障を有し
ていた。

そこで本考案の目的としては、この種ウエハ用
バスケツトの横棒を設けた端壁の内面に縦方向の
空洞部を形成し、該空洞部の底部に透孔を設け、
末端に挿入したウエハと端壁との間に相当の間隔
と底部に透液性の透孔を形成することで、末端の
ウエハに対し処理液の流動接触と空気接触性の向
上による良好な乾燥とにより該処理作業能率を増
進することに在る。

本考案の構成を図面について説明すると、全体
を弗素樹脂による一体成型で製作したバスケツト
主体Ａには両側壁１，２と両端壁３と４，４ａと
があり、両側壁１，２の内面には対向し、かつ規
定数のウエハＢを挿着するリブ５，６が縦方向に
設けられ、その下部は該ウエハＢを支えるのに適
するよう内方へ向け僅かに屈曲している。

然して一方の端壁４と４ａのほぼ中央部には、
横方向に連結する横棒７と、この横棒７の内方の
上下両縁に拡げたフランジ８，９が設けられ、両
者の両方の端末は端壁４，４ａの各内縁に取付け
られている。

該端壁４，４ａの各内面には両方共に縦方向に
空洞部１０，１１が形成されて居り、その下底部
に透孔１２，１３が穿通するように設けられ、前
記空洞部１０，１１のある端部４，４ａの内面と
側壁のリブ５，６の末端に挿入されたウエハＢと
には相当の間隙を存するように形成する。

本考案は以上の構成により、半導体ウエハ処理
用のバスケツトとして使用するが、バスケツトＡ
の内部で、一方の端壁３の方は従来相当の間隙を
有しているので処理上の支障はないが、もう一方
の端壁４，４ａの方は、バスケツトＡの全体構成
と収容するウエハの数量が規正されているため、
末端に挿入するウエハＢの表面の接合部分に対す
る間隙が狭く、かつ底部に透孔等を作り得なかつ
たが、本考案においては、両方の端壁４，４ａの
内面に縦方向の空洞部１０，１１を作り、その下
部に続いて透孔１２，１３を形成できたので、バ
スケツトＡの内端に挿入したウエハＢと端壁４，
４ａとは空洞部１０，１１を介して相対向するの
で、それだけ間隙を拡げるばかりでなく透孔１
２，１３により、空洞部１０，１１は内外連通す
ることになり、処理液の流動接触と、乾燥性を良
好にし、その処理能率を増進する効果を奏するも
のである。

【図面の簡単な説明】

図面は本考案の実施態様を示し、第１図はバス
ケツト主体の平面図、第２図は第１図の右端面
図、第３図は端壁の１部を内方よりみた斜面図、
第４図は端壁の他の１部を外方よりみた斜面図で
ある。 符号の説明、１，２……側壁、３……他の端
壁、４，４ａ……本案の端壁、５，６……リブ、
７……横棒、８，９……フランジ、１０，１１…
…空洞部、１２，１３……透孔。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 両側壁１，２の下部に続き、かつ内方へ後退し
   た底部の内面に、ウエハＢを挿通する均等ピツチ
   のリブ５，６を並列状に形成してなるバスケツト
   主体Ａにおいて、 該主体Ａの一方の横棒７とフランジ８，９を設
   けた端壁４，４ａの各内面に、縦方向の空洞部１
   ０，１１を形成し、該空洞部１０，１１の底部に
   それぞれ透孔１２，１３を穿設してなる半導体ウ
   エハ処理用バスケツト。