JPH03163105A - 光重合性の層転移材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （技術分野） 本発明はグレーテイング及びエッチング水性浴中におい
て秀れた接着性を示丁５ｌｅ重合性の層転移材料、こと
にアルカリ現像水溶液で現像され得る、プリント回路作
製用フォトレジストフイルムに関するものである。

（技術的背景、従来技術） プリント回路板は、光重合可能の層転移材料を、加熱、
加圧下に、暫定基板上から金属基板、ことに銅被覆した
エボキシド樹脂製基板上に転移させて作製されることが
できる。感光性層は、原画を介して露光せしめられ、ネ
ガチブレジストの場合、非露光部分が現像液により洗除
される。水性アルカリ現像可能の層転移材料の場合、一
般にソーダ水溶液が現像液として使用される。清浄化さ
れた金属表面は、次いで例えばｔ鍍法により恒久的に改
質される。層転移材料と金属表面との間の接着性が良好
でない場合には、好ましくない層転移材料のプレーテイ
ング浴溶液への滲透及び金属析出をもたらす。この場合
稜縁部の鮮鋭性が失取われ、極端耽場合には隣接電路間
の短絡をもたらす。

このようは問題を解決下るために層転移材料Ｏ接着性を
改養するための種々の提案かはされている。例えばペン
ットリアゾール（西独特許出願公開２０６３５７１号，
米国特許３６４５７７２号）及びその一連の誘導体（西
独公開３６００４４２号、ヨーロッパ公開２４７５４９
号、米国特許４６８０２４９号、同４７１０２６２号、
日本国公開昭６１　−　２２３８３６号、同昭６２　−
　２７８５４１号）の使用が提案されている。しかし茂
がも、これら化合物による接着性改善は、多くの場合不
十分である。

これまで接着性改善剤として使用されて来ているトリア
ゾール化合物は、ことにアルカリ水溶液現像フォトレジ
ストフイルムに使用される場合に、著しい欠点を示丁。

丁耽わちプリント回路板はその作製の過程において、積
層と現像の間において数日乃至数週間、ことに通常の室
温より高い温度、高い湿度において保存した場合、金属
表面に現像溶Ｈに対して、板体のそれ以後の処理を不可
能耽らしめる酎注のＰＩ（以下残渣層と称する）を形或
する。この問題はアルカリ水溶液で現像される層転移材
料のすべてに潜在的に存在する。

（発明の要約） しかるに上述したこの分野の技術的課題は、接着媒介剤
としてアルカリに溶解性の三環式ヘテロ若呑算イヒ介物
な使用するどぎは−金厘而冫屓転轄材料との間の接着性
が著しく改得され、また同時に残渣層の形成が完全に阻
止さ九ることか本発明者らにより見出された。

そこで本発明の対象は、（ａ）結合剤としての、少くと
も１種類のフィルム形或重合体、（ｂ）場合により、付
加事合可熊二Ｍ結合１個のみを有丁ろ有機化合物によｒ
）部分的に代替されていてもよい、付加重合可能二軍結
合を少くとも２個有し、上記結合剤と相容性の、少くと
も１種類の有機化合物、（ｄ））光重合開始剤或は光重
合開始剤組或物、（ｄ）接着媒介剤及び（ｅ）場合によ
りさらに慣用の添加剤及び助剤を含有するｆｆ，重合性
の層転移材料であって、上記ｗ着媒介剤（ｄ）として、
アルカリ水溶液に可溶性の、三環式ヘテロ芳香族化合物
が使用されることをｔＶＦ徴と下る材料である。

これはことにアルカリ水浴液、例えばカルボン酸ナトリ
ウム水溶液で現像され得る層転移４′７Ｆ｝に関する。

（発明の構成） 大尭ｅｓｙｒｎ伸田１刊六べ才培璃繊春割（ａ）ｔＢ化
合物としては、アルカリ水溶液に可溶性のものが好まし
い。このための適当な基準は、ｌｏｏ重量部の溶液中に
ｌｘｔ部のカルボン酸ナトリウムが含有されている水溶
液に対する溶解性である。本発明による光重合性層転移
材料に使用するための化合物としてことに適当であるの
は、上述した１％カルボン酸ナトリウム溶液に対する２
５℃における溶解性が炭酸ナトリウム１重量％のもので
ある。

ことに好ましいのは、上述条件下において少くとも０．
１重量％、特に少くとも０．２重量％の溶解性を示す化
合物である。

接着媒介剤（１）として適当な三環式ヘテロ芳香族化合
物は、以下の一般式（Ｉ）の構造を有するものが好まし
い。

式中のＸはＯＨ或はＮを、 ＹはＯ， Ｓ或はｌｉＲ”を 意味し、このＲ１はＨ，アルキル、例えばメチル、エチ
ル、プロビル、プチル、シクロヘキシルのようなｌから
６個の炭素原子を有するもの、或はフエニルのようなア
リー゛ルを意味Ｔる。

これらの化合物は、Ｈｅｌｖ．　Ｏｈｉｍ．　Ａａｔ＆
７０　　（１９８７　）の２１１８　−　２９頁におけ
る製造法により合成され得る。

本発明による接着媒介剤（＋１）としてことに好ましい
のは以下の式（１）及び（１）で表わされる化合物であ
る。

（１）　　　　　　　　　　　　　　　　　　（ＩＩ）
接着媒介剤として使用される三環式ヘテロ芳香族化合物
（Ａ）は、本発明による層転移材料中において、その全
量に対して一般的に０．０１から５ｘ量％の割合、好ま
しくは０．１から２重量％、ことに０．２からｌｌｌｆ
％の割合で含有される。またこれら化合物の混合物を使
用することも可能であり、場合により好ましい。

本発明による層転移材料の他の組成分につぎ以下に逐次
説明する。

（＆）　　結合剤として適当耽フイルム形或重合体（＆
）は、水に不溶性であるが、アルカリ水溶液には可溶性
であるか，或は少くとも分散可能のものであり、ことに
カルボキシル基或は無水カルボン酸基を含有する共重合
体、例えばスチレン／無水マレイン酸共重合体，スチレ
ン／マレイン酸半エステル共重合体、アルキル（メタ）
アクリラート／（メタ）アクリル酸共重合体、スチレン
、アルキル（メタ）アクリラート及び（メタ）アクリル
酸ならびに場合によりさらに他の七ノマー（ことに西独
特許出願公開２０２７４６７号、２２０５１４６号、２
７３６０５８号及びヨーロッパ特許出願公開４９５０４
号各公報参照）から成る共重合体戚はアクリル酸及び／
或はメタクリル酸、親水性コモノマー及びＮービニルア
ミドから構成される、例えば西独特許出願公開３４４７
３５６号公報に記載されている共重合体である。この共
東合体は、例えばＮ−ビニルホルムアミド，Ｎ−ビニル
アセトアミド、Ｎ−ビニルーＮ−メチルアセトアミドの
ようなビニルアミド、例えばＮ−ビニルピロリドン及び
／Ｋはｗ−ビニルカブロラクタムのようなＮ−ビニルラ
クタムを１０から５０重量％、アクリル酸及び／或はメ
タクリル酸を５から３０″Ｍ量％ならびに疏水性コモノ
マーを３０から８０　！量外重合含有し、アルカリ水溶
液に不溶性の富合体としたものである。

上述した疏水性フモノマーとしては，例えばスチレン、
側ａｔ或は核においてアルキル或はハロゲンで置換され
たスチレン、例えばα−メチルスチレン、ｐ−メチルス
チレンなど、ビニルアセタート、ならびにアクリル酸及
びメタクリル酸のエステル、ことに直鎖或は分校の、こ
とに１から４個の炭素原子を有するモノアルコールの，
アクリラ一ト、メタクリラートが挙げられるが、ことに
メチルメタクリラートが好ましい。共重合体は１個或は
複数個の疏水性コモノマーを共重合体全ｆｔｒｖｔ対し
て３０から８０重食％，ことに４０から７０重１％重合
含有下ることかでさる。

感光性層転移材料中に結合剤として含有されイ共重合体
の例としてことに好ましいのは、Ｎ−ヒニルアクタム／
（メタ）アクリル酸／メチルメタクリラート共重合体或
はＮ−ビニルラクタム／（メタ）アクリル酸／スチレン
共１合体であって、典型的耽実施例では、コモ／マーと
してＮ−ビ：ルカプロラクタム及び／或はＮ−ビニルピ
ロリドン２５か５３５ｉ量％、（メタ）アクリル酸５か
も１ξ１ｆ＃％、及び疏水性コモノマ−５５から６５重
ｔ％から構或される。

さらに他の適当耽重合体結合剤（＆）の例としては、例
えばスチレン１０かも４０％、メタクリル酸２Ｃかも３
０％，メチルメタクリラート５かも５０％、エチルアク
リラートＯかも５０％で構或される、スチレン／（メタ
）アクリル酸／メチルメタクリ２ート／エチルアクリラ
ート共重合体が挙げられろ。

使用されるべき共重合体（ｄ）のためのコモノマ一は，
上述した種類及びｔ割合範囲で生成共重合体がフイルム
を形或し、所定条件下に溶解性乃至分散件に関する要件
を充足するように選択される。

その溶液重合のためには、例えば低級アルコール、ケト
ン、エステル耽ど、丁耽わちメタノール、アセトン、メ
チルエチルケトン、エチルアセタート耽どが溶媒として
適当である。重合開始剤としては、例えばアゾビスイソ
ブチルニトリル、ペンゾイルペルオキシド茂どのよう耽
慣用のラジカル重合開始剤が挙げられる。

結合剤として使用されるフイルム形或共重合体（ａ）は
、党重合性層転移材料中にその全量に対して４０から９
０ｉ１ｆｔ％、ことに５０から７０憲量％の割合で使用
される。

（ｂ）付加重合可能二重結合を少くとも２個有する有機
化合物（ｂ）としては、慣用の光重合可能モ／マー　好
１１，＜は沸点１００℃以上、分子量１０００以上のも
のが使用され得る。

これら光重合性七ノマーの例としては、ことに（メタ）
アクリル酸誘導体、特に（メタ）アクリル酸エステルが
挙げられる。具体的にはエチレンクリフール、ジエチレ
ングリコール、トリエチレングリコール或は分子量約５
００マでのポリエチレングリフール、１．２−プロパン
ジオール、ｌ，３ープロパンジオール、分子量約５００
マでのポリプロビレングリコール、１，４−ブタンジオ
ール、１，ｌ１−トリメチロールプロパン、２，２−ジ
メチルプロパンジオール、グリセリン或はペンタエリト
リットのジ及びトリ（メタ）アク＋７−）−　｝、例え
ばグルフーストリ（メタ）アクリラート或はグルコース
テトラ（メタ）アクリラートである。結合剤と相容性の
、付加重合可能二重結合を少くとも２個有する有機化合
物（ｂ）は、その全量に対して約３０重ｔ％までは、場
合により付加重合可能二寛結合を１個だけ含有する有機
化合物により部分的に代替され得る。このような有機化
合物としては、上述したジオール及びボリオールのモノ
アクリラート及びモ／メタクリラート、例えばエチレン
グリコールモノ（メタ）アクリラート、ジ、トリモ／Ｌ
＋子Ｌ４−Ｉ−キ１ｙソＮＩＩ−１＊ｔｚ／ｒａＡＮ−
ｒクリラート、ブロバンジオールモ／（メタ）アクリラ
ート及びブタンジオールモノ（メタ）アクリラート、な
らびにモノアルカノール、ことに１から２０個の炭素原
子な有するモノアルカノールの（メタ）アクリラートが
塁げられる。上述したようは好１しいアクリラート及び
メタクリ２−トのほかに、アリル化合物及び他のビニル
化合物、例えばＮ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカプ
ロラクタム、ビニルアセタート、ビニルグロビオナート
、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）ア
クリルアミド、エチレングリコールのビスエーテル、Ｎ
−メチロー／Ｉ／（メタ）アクリルアミド、ビニル力ル
バマート及びビスアクリルアミド醋酸も、光重合性モノ
マーとして挙げられる。

本発明による感光注記録層のためのエチレン性不飽和の
光重合可能化合物は、２個或はそれ以上のアクリロイル
及び／或はメタクリロイル基を有するウレタンアクリラ
ート乃至メタクリラートである。このようはウレタン（
メタ）アクリラートルと有機ジイソシアナートとを約１
：２の当量割合ＯＨ　：　ｗｏｏで反応させ、次いで得
られた反応生成物の遊離イソシアナート基を、適当なア
クリローイル及び／或はメタクリロイル化合物、例えば
ヒドロキシアルキＮ（メタ）アクリラートと反応させる
ことにより得られる。脂肪族ジオール或はボリオールと
しては、ジ或はトリ（メタ）アクリラートについて上述
したジ及びポリヒドロキシ化合物が使用される。有機ジ
イソシアナートの例としては、ヘキサメチレンジイソシ
アナート、トルイレンジイソシアナート、インホロンジ
イソシアナートが、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリ
ラートのｆＩ＋としては、ヒドロキシエチル（メタ）ア
クリラート，プロパンジオールモノ（メタ）アクリラー
ト、ブタンジオールモノ（メタ）アクリラートが挙げら
れる。２個或はそれ以上のアクリロイル及び／或はメタ
クリロイル基を有するモノマーとして同様に好ましいの
は、例えばジもしくはポリグリシジル化合物とアクリル
酸及び／或はメタクリル酸との反応により得られる化合
物である。

このジ及びポリグリシジル化合物としては、ことに多価
フェノール、例えばビスフェノールＡｆｆｉはその置換
生成物のジ及びポリグリシジルエーテルが適当である。

またアクリロイル及び／或はメタクリロイル基含有七ノ
マーとしては、例えばビスフェノールＡ−ビスグリシジ
ルエーテルとアクリル酸及び／或はメタクリル酸とを約
ｌ：２のモル割合で反応させて得られる生或物が適当で
ある。

場合により、付加軍合可能二重結合１個のみを有する有
機化合物により部分的に代替されていてもよい。付加重
合可能二重結合を少くとも２個有する化合物（１））は
、結合剤として使用されるフイルム形成重合体（＆）と
相容性のものであるのが好ましい。この光宣合性モノマ
ーは、５Ｉｅ１Ｋ合性層転移材料の全量に対して、一般
的に１０から６０′Ｍ量％、ことに２０から４０７ＩＬ
８％の割合で使用される。

＜ｏ＞　光重合性層転移材料のための光重合開始剤乃至
剤組成物（ｄ））としては、感′光性、光重合可能の記
録材料に慣用されている、それ自体公知の開始剤乃至剤
組或物が使用され得る。例えばペンゾイン、ペンゾイン
エーテル，ことにぺ冫ゾインアルキルエーテル、置換ペ
ンゾイン、置換べ冫ゾインのアルキルエーテル、例えば
α−メチルペンゾインアルキルエーテル或はα−ヒドロ
キシメチルペンゾインアルキルエーテル、ベンジル、べ
冫ジルケタール、ことにペンジルメチルケタール、ペン
ジルメチルエチルケタール或はペンジルメチルペンジル
ケタール，開始剤として周知であり有効なアシルホスフ
インオキシド化合物、例えハ．２，４．６　−　｝リメ
チルベンゾイルジアリールホスフインオキシド、ペンゾ
フエノン、その誘導体，４．４’ージメチルアミノペン
ゾフエノン、ミヒラーケトン誘導体、アントラキノン及
びその誘導体、アリール置換イミダゾール及びその誘導
体、例えば２，４．５　−　｝リアリールイミダゾール
ニ量体、チオキサントン誘導体、開始剤として有効なア
クリジン誘導体及び７エナシン誘導体などである。開始
剤組成物の例としては、上述の各開始剤と増朦剤或は活
性化剤、例えば３級アミンとの混合組放物が挙げられる
。

この組或′物としてことに好ましいのは、ペンゾフエノ
ンもしくはその誘導体と３級アミン、例えばミヒ２−ヶ
トン、トリエタノールアミンもしくはジメチルアミノ安
息香酸エチルエステルとσ）組合わせ、或はチオキサン
トン誘導体、３級アミン、ヘキサアリールビスイミダゾ
ール誘導体の組合わせである。開始剤或は開始剤組或物
（Ｑ）は、光重合性層転移材料中に０．０１から１０ｇ
ｉｉ％，ことに０．５から５１Ｋｉｌ１％の割合で含有
される。

（ｅ）　　場合により追加的に使用されるべき添加剤及
び助剤（ｅ）としては、例えば熱１合禁止剤，染料及び
／或は顔料、ホトクロム剤、感度制御剤、可塑剤、流動
性助剤、つや消しもしくはつや出し剤などが使用される
。適当な禁止剤は、例えばヒドロキノン、その誘導体，
２．６−ジーｔ−ブチルーｐ−クレゾール，ニトロフェ
ノール、Ｎ−ニトロソアミン，例えばＮ−ニトロンジフ
エニルアミン或はＮ−ニトロンシクロヘキシルヒドロキ
シルアミンである。コントラスト化剤としても層強化剤
としても作用する顔料／染料としては、ことにブリリア
ントグリーン（Ｏ．工，　４２０４０　）、ビクトリア
ビュアブルーＦＧＡ　，ビクトリアビュアブルーＢＯ（
ｄ）．工．　４２５９５　）、ビクトリアプルーＢ（ｄ
）．工．　４４０４５　）、ローダミン６　Ｇ　（　０
．工．　４５１６０　）、｝　Ｉ７　７エニルメタン染
料、ナ７タルイミド染料及び３′−フ二二Ａ／−７−ジ
メチルアミノー２．２′−スビロージ−（　２Ｈ−　１
−ペンゾビラン）が適当である。化学線露光に際して光
重合を阻害することなく可逆的もしくは非可逆的に光を
変えるホトクロム剤組戒物としては、適当た活性化剤と
ロイコ染料との混合物が好ましい。このロイコ染料とし
ては、トリフエニルメタン染料のロイフ塩基、例えばク
リスタルバイオレットロイフ塩基、マツキットグリーン
ａイコ塩基、ロイコ塩基ブルー　ロイフパ２ローズアニ
リン、ロイフパテントブルーＡもしくはＶが使用される
。さらにローダミンＢ塩基も適当である。これらホトク
ロム剤の活性化剤として、化学Ｉ／ｓｉ！光に際してハ
ロゲンラジカル分解をもたら丁有機ハロゲン化合物或は
ヘキサアリールビスイミダゾールが挙げられる。ｒｒＩ
３度調整剤としては、９−ニトロアントラセン、１０．
１０’−ビスアントロン、フエナジニウムー　フエノキ
サジニウムー　アクリジニウムーもしくはフエノチアジ
ニウムー染料、ことに穏和は還元剤、例えばチオ尿素、
アネトール、Ｎ−ニトロンシクロヘキシルヒドロキシル
アミン塩，　　１．３−ジニトロベンゼンとの混合物が
好ましい。可塑剤としては、それ自体公知慣用の低分子
量もしくは高分子量のエステル、例えばフタラートもし
くはアジバート、トルオールスルホンアミト或はトリク
レシルホスファートが使用される。これらの添加剤及び
／′ｉ＃：は助剤は、それぞれの慣用の有効量で使用さ
れるが、一般的には光重合性層転移材料総童に対して３
０ｆｉ：ｉｉ％を，ことに２０：ｌ（量％を上廻らない
量である。

光重合性層転移材料中に含有される個々の組或分の混合
量割合は、一般的に層転移材料がアルカリ水溶液で現像
可能であるのみ耽らず、さらに室温で固体状、非粘着性
であり、良好たフイルム形成特性を有するように選択さ
れる。本発明の感光性層転移材料をフォトレジストフイ
ルムとして使用するためには、さらにこの感光注記録材
料が良好ｒｚ穆層注と、加圧及び場合Ｋよつ加熱して暫
定的基板から本来的基板への層転移が行はわれ得るよう
Ｉｃ混合量割合が選択されねばなら耽い。レジストパタ
ーンを作製Ｔるためには、感光性記録材料の厚さは約１
から５０μｍ　ｉＣ　７”！：される。層転移材料のた
めの暫定的担体材料としては、合或樹脂フイルム乃至シ
ート、ことにポリエステルシ一トを使用するのが好１バ
、これは感光性記録層に対して適当な接着性を可し、こ
の感光性記録材料層を、化学線Ｎ党前或はその後におい
て，暫定基板上に積層しもしくは粘着した後にこれから
剥Ｉ！され得るような接着性を有することが必要である
。

本発明による光重合性層転移材料の担体に接する面と反
対側の面に、例えばポリエチレン或はポリプロピレンの
よったポリオレフインから成る被覆層を設けることがで
きる。

本発明による光重合性層転移材料は、それ自体公知慣用
の方法で、この層転移材料を形或する各組或分の均質な
混合物を調製し、この混合物を、場合により中間層を介
して、担体乃至基板上に施こして層を形成することによ
り製造され得る。光１合性層転移材料の各組或分は、適
当た混合装置、例えばミキサ或は押出機により純機械的
に均質に混合され、この混合物を押出処理、カレンダー
処理或は押圧処理により担体乃至基板上に必要な厚さに
積層し或は被覆され得ろ。しかしながら、光重合性層転
移材料は、これを構或する各組或分を適当な溶媒もしく
は混合溶媒に溶解させ、この溶液を戒形、浸漬，噴霧そ
の他の公知の方法によク適当な厚さで担体上に施こＴの
が好ましい。この溶媒は慣用方法で蒸散除去され、形戒
された層は乾燥される。この各組成分混合物のための、
従ってまた光重合性層転移材料な担体上に施こすための
適当耽溶媒江、例えばメタノール、アセトン、メチルエ
チルケトン、エチルアセタート耽らびにこれらの混合物
である。この光重合性層転移材料は、必要に応じてさら
にｖ覆層或は被覆フィルムによワ被覆されることができ
る。

本発明による光重合性層転移材料は、それ自体公知慣用
の方法でレジストパターンを形成するのに適当である。

このために光重合性層転移材料を慣用の化学線光源、例
えば紫外線螢光灯、高圧、中圧或は低圧水銀灯、超活性
螢光灯、キセノンパルス灯、サラにはＴＪｖレーザ、ア
ルゴンレーザなどにより画像露光処理に附する。この場
合の光源より放射されるエネルギー波長は、一般的に２
３０から４５０ｎｍ，ことに３００から４２０　２Ｌｌ
！ｌの範囲において、光重合性層転移材料中に含有され
る重合開始剤の固有吸収特性に対応して決定される。

化学線による画像形或Ｉｉ光により、層転移材料の露光
された部分において党重合がもたらされ、これにより層
の露光部分と非露光部分間に溶解性の相違が生ずる。画
像形或ｉＩ５Ｉｅ後、層転移材料の非露光、非架橋部分
をアルカリ現像水溶液により洗除してレジストパターン
が形成される。現像は、洗浄、噴射、塗擦、ブラッシン
グ耽どにより行なわれる。現像液としては、ｐＨ値を最
適状態，例えば８から１４、ことに９から１３に調整さ
れたアルカリ反応性物質、例えばボラツクス、燐酸水素
二ナトリウム、ソーダ、アルカリ水酸化物或は有機塩基
、例えばジもしくはトリエタノールアミンを水に溶解さ
せたアルカリ水溶液が好ましい。このようなアルカリ水
溶液現像剤は、例えば水溶性のアルカリ燐酸塩、珪酸塩
、硼酸塩、ｅｔ酸塩或は安息香酸塩のような緩衝塩を含
有してもよい。現像液のその他の組或分として、表面活
性剤、ことに陰イオン表面活性剤及び場合によりさらに
水溶性ポリマー、例えばナトリウムカルボキシメチルセ
ルロース、ポリビニルアルコール、ポリナトリウムアク
リラートなどを含有することができる。本発明による層
転移材料は一般的に純アルカリ水溶液現像剤で洗除され
得るが、これはさらに少量の水溶性有機溶媒、例えば脂
肪族アルコール，ア七トン或はテトラヒドロフ２冫を含
有することもできる。

本発明による光重合性層形或材料は、金属表面に対して
秀れた接着性を示す。この高度の接着性は、水性処理浴
，ことにプリント回路板の作製において慣用のプレーテ
イング溶液中においても維持される。このために微細な
画素も原画に忠実に確実に再現され得る。良好な接着性
にもかかわらず、本発明により使用されるべきアルカリ
水溶液に可溶性の三環式ヘテロ芳香族化合物により、震
光された層転移材料の洗除時間は短縮される。本発明に
より使用されるべ゛ぎ三環式ヘテロ芳香族化合物は、さ
らに積層金属基板の保存に際して従来不可避であった残
渣層の形成が完全に阻止され得る利点をもたらす。

以下の実施例により本発明をさらに詳細かつ具体的に説
明する。ここで使用される部及びパーセントは、特に明
示されない限りすべて重量に関するものである。

実施例ｌ＆及びｌｂ フォトレジストフイルム作製のために，以下の組或分を
混合して、層形或用溶液を調製した。

（１）　１４９．８０　ｆの、スチレン（２４％）、メ
チルメタクリラート（３５％）、プチルアクリラート（
１１％）及びメタクリル酸（３０％）から構或される、
フイケンチャ−Ｋ値５１の共重合体の（メチルエチルケ
トン／イソプロパノールｌ：１の混合溶媒中）３７％溶
ｆｉ　１４９．８Ｏ　ｆ　，（２）　３８．０Ｏ　ｆの
トリメチロールプロパントリアクリラート、 ■ （８）０．０５ｆのＳｉｏｏｍｅｔ　パデントプルー８
０　１１ｔ　１３１、（４）　３．００　ｆのエチルー
（ｐ−ジメチルアミノ）ペンゾアート、 （５）　０．５Ｏ　ｆのイソプロビルチオキサントン、
（６）実施例ｌ＆においてはｏ．ｓｏ　ｔｏ式（１）の
化合物、実施例１１）Ｋｆ’＋５いては０．５Ｏ　ｆの
式（璽）の化合物。

この層形或用溶液を、２３μｍ厚さのポリエチレンテレ
フタラートのシート上に、蒸散、乾燥（９０℃、５分間
）後において、３８μｍ厚さの光重合性乾燥層が形或さ
れるように塗布した。この光重合性層を３０μｍ厚さの
ポリエチレンシ一トで被覆した。次いでポリエステル層
、光重合性層及びポリエチレン層から成る積層体を捲回
してロール状にした。実験のため、ポリエチレン被覆層
を剥離し、感光性層を有するレジストフイルムをプリン
ト回路基板のｆｉ４表面上に転＃させた（１０５℃、１
．５　１１■ ／分）。次いでこのレジスト層を、Ｒｉｓｔｏｎ　　Ｐ
σプリンタ（Ｉ．工．デュポン、デ、二−マースｆＲ）
により、テストネガチブを介して露光させた。この露光
後、ポリエステルシ一トを剥離し、レジストを１％ソー
ダ水ｆ８原で３０秒間現像した。

プリント回路板を恒久的構造とするために、慣用の前処
理、例えば清浄化及びエッチング処理した複、これを亜
鉛洛中に入れ、レジストで保護されてい耽い金属表面を
３８μｍ厚さの亜鉛層で電鍍した。次いで露光レジスト
を５０℃において３％ＫＯＨ溶液で洗除したが、この場
合レジストの完全洗除筐での所要時間は３５秒であった
。ｔＳされた回路稜縁の鮮鋭度を顕微鏡検査により以下
の尺度で評価した。

評価度　　　　　　観察結果 １　　　鮮鋭な稜縁 ２　　　レジストが５μｍ程度ｌで滲透して若干個所で
不安定稜縁 ３　　　レジストが５μ！Ｉ１程度まで滲透１−て回路
板全体で不安定稜縁 ４　　　滲透度５μｍ以上 ５　　　隣接路線間短絡 両実施例ともに稜縁鮮鋭度の評価庁はｌであった。

レジスト層検査のために、プリント回路基板上にレジス
トを積層し、２７℃、６５％の相対湿度において１０日
間保管した。次いで現像し、エッチング処理して、最早
エッチング処理できない表面部分として残ｉ層を計測し
た（％）。実施例１ａ及び２ａのレジストには、所定条
件下に全く残渣層が認められはかった。

対比例 式（ＩＩ）、（１）の本発明化合物を使用し＞−，Ｃい
点を除いて、実施例ｌと同様の処理な反凌した。

実施例１におけると同様の検査なして以下の結果を得た
。

洗除時間　　　　５０秒 稜縁鮮鋭度 評価度２ 残渣層 ｌ００ ％

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. （１）（ａ）結合剤としての、少くとも１種類のフィル
   ム形成重合体、 （ｂ）場合により、付加重合可能二重結合１個のみを有
   する有機化合物により部分的に代替されていてもよい、
   付加重合可能二重結合を少くとも２個有し、上記結合剤
   と相容性の、少くとも１種類の有機化合物、 （ｃ）光重合開始剤或は光重合開始剤組成物、 （ｄ）接着媒介剤及び （ｅ）場合によりさらに慣用の添加剤及び助剤を含有す
   る光重合性の層転移材料であつて、上記接着媒介剤 （ｄ）として、アルカリ水溶液に可溶性の、三環式ヘテ
   ロ芳香族化合物が使用されることを特徴とする材料。
2. （２）請求項（１）による層転移材料であつて、アルカ
   リ水溶液中で現像されることを特徴とする材料。
3. （３）請求項（１）による層転移材料であつて、接着媒
   介剤として使用される三環式ヘテロ芳香族化合物が、２
   ５℃において炭酸ナトリウム１重量％水溶液において少
   くとも０．０５重量％の溶解性を示すことを特徴とする
   材料。
4. （４）請求項（１）による層転移材料であつて、接着媒
   介剤（ｄ）として、一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中のＸがＯＨ或はＮ、ＹがＯ、Ｓ或はＮＲ＾１を意
   味し、このＲ＾１がＨ、アルキル或はアリールを意味す
   る）の化合物或はこれと互変異性の形態の化合物が使用
   されることを特徴とする材料。
5. （５）上記請求項のいずれかによる層転移材料であつて
   、接着媒介剤（ｄ）として、 ▲数式、化学式、表等があります▼及び／或は▲数式、
   化学式、表等があります▼ で表わされる化合物が使用されることを特徴とする材料
   。
6. （６）請求項（１）による層転移材料であつて、結合剤
   として、少くとも１種類の酸性モノマーと、少くとも１
   種類の疏水性モノマーとの共重合体が使用されることを
   特徴とする材料。
7. （７）請求項（６）による層転移材料であつて、酸性モ
   ノマーとして、アクリル酸或はメタクリル酸が使用され
   ることを特徴とする材料。
8. （８）請求項（６）或は（７）による層転移材料であつ
   て、アクリラート、メタクリラート及びスチレンより成
   る群から選択される疏水性モノマーが使用されることを
   特徴とする材料。