JPH03165444A - 荷電粒子線用静電多重極レンズ - Google Patents
荷電粒子線用静電多重極レンズInfo
- Publication number
- JPH03165444A JPH03165444A JP1303920A JP30392089A JPH03165444A JP H03165444 A JPH03165444 A JP H03165444A JP 1303920 A JP1303920 A JP 1303920A JP 30392089 A JP30392089 A JP 30392089A JP H03165444 A JPH03165444 A JP H03165444A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrostatic
- charged particle
- electrodes
- axis
- field
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/02—Details
- H01J49/22—Electrostatic deflection
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/02—Details
- H01J49/06—Electron- or ion-optical arrangements
- H01J49/067—Ion lenses, apertures, skimmers
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明は、質量分析装置等の荷電粒子線に用いられる静
電多重極レンズに関するものである。
電多重極レンズに関するものである。
[従来の技術〕
荷電粒子線を収束させたり、荷電粒子線が持つ収差を補
正するための手段として、静電4極レンズ、6極レンズ
、8極レンズなどの静電多重極レンズが知られている。
正するための手段として、静電4極レンズ、6極レンズ
、8極レンズなどの静電多重極レンズが知られている。
第7図は従来の静電8極レンズの電極配置例を示す断面
図であり、8本の円筒電極は半径rの円に外接しつつ4
5@の等角度間隔で配置され、十Vと−Vの電圧が交互
に印加される。
図であり、8本の円筒電極は半径rの円に外接しつつ4
5@の等角度間隔で配置され、十Vと−Vの電圧が交互
に印加される。
[考案が解決しようとする課題]
この様に同心円上に電極を等間隔で並べた構造では、例
えば破線で示すように、y方向に比べX方向に広く荷電
粒子線通路を確保することが必要な場合、X方向の幅に
合わせて同心円の径を選んでいるが、X方向に関しては
空間的に非常に無駄が多く、レンズの小形化は困難であ
った。
えば破線で示すように、y方向に比べX方向に広く荷電
粒子線通路を確保することが必要な場合、X方向の幅に
合わせて同心円の径を選んでいるが、X方向に関しては
空間的に非常に無駄が多く、レンズの小形化は困難であ
った。
本発明はこの点に鑑みてなされたもので、X方向に広く
荷電粒子線通路を確保する場合であっても、X方向に関
する無駄を無くすことができ、しかも構成が簡単化され
小形化が可能な静電多重極レンズを提供することを目的
としている。
荷電粒子線通路を確保する場合であっても、X方向に関
する無駄を無くすことができ、しかも構成が簡単化され
小形化が可能な静電多重極レンズを提供することを目的
としている。
[課題を解決するための手段]
この目的を達成するため、本発明の静電多重極レンズは
、x −Y −Z直交座標系においてZ軸に沿って荷電
粒子線が進行すると仮定した時、z軸で交差する平面y
=±(tan(tan(■/n)) xによって挟まれ
且つX軸を含む領域に静電1正極場を発生させる荷電粒
子線用静電多重極レンズであって、上記平面あるいは該
平面近傍における前記静電1正極場の等電位面に沿って
配置され且つ該2軸付近で切除されている板状電極と、
前記領域に発生すべき前記静電1正極場の第2の等電位
面に近似的に沿うような表面形状を有し且つ該領域のX
軸上に夫々配置される棒状電極と、前記板状電極及び棒
状電極に夫々の等電位面に応じた電位を与える手段とか
ら構成されることを特徴としている。
、x −Y −Z直交座標系においてZ軸に沿って荷電
粒子線が進行すると仮定した時、z軸で交差する平面y
=±(tan(tan(■/n)) xによって挟まれ
且つX軸を含む領域に静電1正極場を発生させる荷電粒
子線用静電多重極レンズであって、上記平面あるいは該
平面近傍における前記静電1正極場の等電位面に沿って
配置され且つ該2軸付近で切除されている板状電極と、
前記領域に発生すべき前記静電1正極場の第2の等電位
面に近似的に沿うような表面形状を有し且つ該領域のX
軸上に夫々配置される棒状電極と、前記板状電極及び棒
状電極に夫々の等電位面に応じた電位を与える手段とか
ら構成されることを特徴としている。
[作用]
本発明の基本的な考え方を以下に説明する。まず、x−
y−z直交座標系においてZ軸に沿って荷電粒子線が進
行すると仮定する。さらに、この荷電粒子線の通路をX
方向に拡張し、そのX方向に広がった通路全体にわたっ
て静電8正極場を発生させる場合について検討する。本
発明の基本的な概念によれば、第1図(a)に示すよう
に、2軸で交差する2つの平面y=±(tan(tan
(x/8)) xに沿って平板接地電極1.1′が配置
される。そして、この平板接地電極1,1′で挟まれ且
つX軸を含む領域A +z、 A−Xに、静電8正極場
を発生させるための棒状電極2,2′が2軸に平行な状
態でそれぞれ配置される。
y−z直交座標系においてZ軸に沿って荷電粒子線が進
行すると仮定する。さらに、この荷電粒子線の通路をX
方向に拡張し、そのX方向に広がった通路全体にわたっ
て静電8正極場を発生させる場合について検討する。本
発明の基本的な概念によれば、第1図(a)に示すよう
に、2軸で交差する2つの平面y=±(tan(tan
(x/8)) xに沿って平板接地電極1.1′が配置
される。そして、この平板接地電極1,1′で挟まれ且
つX軸を含む領域A +z、 A−Xに、静電8正極場
を発生させるための棒状電極2,2′が2軸に平行な状
態でそれぞれ配置される。
ところで、静電8正極場においては、x−y平面上の任
意の位置を極座標で(r、 θ)で表わしたとき、そ
の位置におけるポテンシャルVは次式%式% (1) ここで、voは場の強度に関わる係数である。
意の位置を極座標で(r、 θ)で表わしたとき、そ
の位置におけるポテンシャルVは次式%式% (1) ここで、voは場の強度に関わる係数である。
上記棒状電極2,2′の2軸に対する面は、(1)式で
表わされるポテンシャルがυである等電位面、すなわち I)−Vo r ’ COS 4θ (2)を満足
する点(r、 θ)を結んだ面を近似する曲面で構成
されており、各電極2.2′にはポテンシャルυが与え
られている。
表わされるポテンシャルがυである等電位面、すなわち I)−Vo r ’ COS 4θ (2)を満足
する点(r、 θ)を結んだ面を近似する曲面で構成
されており、各電極2.2′にはポテンシャルυが与え
られている。
(1)式から、静電8正極場においては、θ=±(ta
nπ/8の直線(x−y座標で表わすとy=±(tan
(tan(x/8)) x )上ではポテンシャルが零
であることがわかる。
nπ/8の直線(x−y座標で表わすとy=±(tan
(tan(x/8)) x )上ではポテンシャルが零
であることがわかる。
電極2.2′及び平板接地電極1.1′で囲まれる領域
AやX、 A−X内に発生する電場を考えると、この領
域の周囲は、平板接地電極1.1′によってy■±(t
an(x/8)) Xに沿ってポテンシャルが零に設定
され(1)式が満たされると共に、電極2゜2′の表面
によって(2)式が満たされている。
AやX、 A−X内に発生する電場を考えると、この領
域の周囲は、平板接地電極1.1′によってy■±(t
an(x/8)) Xに沿ってポテンシャルが零に設定
され(1)式が満たされると共に、電極2゜2′の表面
によって(2)式が満たされている。
二の様に、領域の周囲が静電8正極場の条件(1)式を
満たすと、電場の性質から、その内部の領域には(1)
式を満たす8正極場が発生する。
満たすと、電場の性質から、その内部の領域には(1)
式を満たす8正極場が発生する。
尚、このように領域の周囲が静電8正極場の条件(1)
式を満たせば、その内部の領域に(1)式を満たす8正
極場が発生するのであるから、電極1,1′は必ずしも
ポテンシャルが零のy−w±(jan(t/8)) x
に沿って配置される必要はない。例えば、第1図(a)
において破線あるいは一点鎖線で表わされているように
、零に近い適宜なポテンシャルの等電位面に沿って電極
1,1′を配置しても、電極1,1′と棒状電極2,2
′で囲まれる領域A +X、 A−X内に(1)式を満
たす8正極場を発生させることができる。ただし、その
場合には、電極1.1′は平面ではなく、その等電位面
に沿うべき曲面を与える必要がある。その曲面も、ポテ
ンシャルが零に近ければ、平面に近似しても良い。
式を満たせば、その内部の領域に(1)式を満たす8正
極場が発生するのであるから、電極1,1′は必ずしも
ポテンシャルが零のy−w±(jan(t/8)) x
に沿って配置される必要はない。例えば、第1図(a)
において破線あるいは一点鎖線で表わされているように
、零に近い適宜なポテンシャルの等電位面に沿って電極
1,1′を配置しても、電極1,1′と棒状電極2,2
′で囲まれる領域A +X、 A−X内に(1)式を満
たす8正極場を発生させることができる。ただし、その
場合には、電極1.1′は平面ではなく、その等電位面
に沿うべき曲面を与える必要がある。その曲面も、ポテ
ンシャルが零に近ければ、平面に近似しても良い。
しかし、第1図(a)の構成では、Z軸部分にも電極1
.1′が存在しており、荷電粒子線が2軸部分を通過で
きないためこのままでは使用できない。そこで、2軸近
傍で電極1,1′を取り除き、荷電粒子線が通過できる
ようにしたのが第1図(b)である。この様にすれば、
電極が取り除かれた2軸近傍では、若干圧しい8正極場
から外れた場が発生するが、全体的にみると、8正極場
を領域A+8゜A−エ内に近似的に発生させることが可
能である。しかも、このZ軸近傍は最も電場の強度が小
さい部分であり、そこで多少基の乱れがあったとしても
通過する荷電粒子線に与える影響は少なく、実用上問題
ない程度である。
.1′が存在しており、荷電粒子線が2軸部分を通過で
きないためこのままでは使用できない。そこで、2軸近
傍で電極1,1′を取り除き、荷電粒子線が通過できる
ようにしたのが第1図(b)である。この様にすれば、
電極が取り除かれた2軸近傍では、若干圧しい8正極場
から外れた場が発生するが、全体的にみると、8正極場
を領域A+8゜A−エ内に近似的に発生させることが可
能である。しかも、このZ軸近傍は最も電場の強度が小
さい部分であり、そこで多少基の乱れがあったとしても
通過する荷電粒子線に与える影響は少なく、実用上問題
ない程度である。
尚、第1図(c)に示すように、2軸とX軸に平行な1
対の接地電極3,3′を設ければ、接地電極3.3′
によるシールド効果により、y軸方向からの周囲の電場
の漏れ込みによる2軸近傍の場の乱れを防ぐことができ
る。
対の接地電極3,3′を設ければ、接地電極3.3′
によるシールド効果により、y軸方向からの周囲の電場
の漏れ込みによる2軸近傍の場の乱れを防ぐことができ
る。
又、上記第1図(a)〜(c)では、電極2゜2′に両
方ともポテンシャルかりである等電位面を近似した曲面
を与えたため、2つの電極は2軸を挟んで対称に配置さ
れ、等しいポテンシャルυが与えられたが、一方の電極
を異なったポテンシャルυ′の等電位面に近似しても良
い。その場合には、2つの棒状電極は各ポテンシャルの
等電位面が存在する位置へ配置され、ポテンシャルも夫
々υ、υ′が与えられる。
方ともポテンシャルかりである等電位面を近似した曲面
を与えたため、2つの電極は2軸を挟んで対称に配置さ
れ、等しいポテンシャルυが与えられたが、一方の電極
を異なったポテンシャルυ′の等電位面に近似しても良
い。その場合には、2つの棒状電極は各ポテンシャルの
等電位面が存在する位置へ配置され、ポテンシャルも夫
々υ、υ′が与えられる。
更に、第1図(a)〜(c)では静電8正極場を例にと
ったため、平板接地電極1.1′をy=±(tan(t
an(r/8)) xに沿って配置したが、一般に静電
0正極場の場合には、y=±(tan(tan(■/n
)) xに沿って配置し、電極2.2′ として静電0
正極場の等電位面を近似する表面形状を与えれば良い。
ったため、平板接地電極1.1′をy=±(tan(t
an(r/8)) xに沿って配置したが、一般に静電
0正極場の場合には、y=±(tan(tan(■/n
)) xに沿って配置し、電極2.2′ として静電0
正極場の等電位面を近似する表面形状を与えれば良い。
[実施例]
以下、この様な基本思想に基づく本発明の実施例を詳説
する。
する。
第2図は本発明を実施した静電8型棒レンズを示す断面
図である。第1図(b)と同一の構成要素には同一番号
が付されている。第2図において、4.4′はZ軸を挟
みX軸に平行に対向配置される絶縁基板である。そのZ
軸に向く表面には、補正電極群L1〜LN、Ll 〜
LN′が設けられている。この補正電極群は、Z軸に平
行な直線状78tffiを適宜なピッチで配列すること
により構成され、例えばプリント基板作成技術などによ
り作成される。補正電極群の各電極へは、電極に応じて
予め定められた電圧が電源5より供給される。
図である。第1図(b)と同一の構成要素には同一番号
が付されている。第2図において、4.4′はZ軸を挟
みX軸に平行に対向配置される絶縁基板である。そのZ
軸に向く表面には、補正電極群L1〜LN、Ll 〜
LN′が設けられている。この補正電極群は、Z軸に平
行な直線状78tffiを適宜なピッチで配列すること
により構成され、例えばプリント基板作成技術などによ
り作成される。補正電極群の各電極へは、電極に応じて
予め定められた電圧が電源5より供給される。
上記第2図の実施例は、補正電極群が存在しなければ、
第1図(a)と等価な構造であり、棒状電極2,2′及
び平板接地電極1,1′で囲まれる領域A+X、A−X
内に静電8正極場が発生する。
第1図(a)と等価な構造であり、棒状電極2,2′及
び平板接地電極1,1′で囲まれる領域A+X、A−X
内に静電8正極場が発生する。
そして、先に述べたように、平板接地電極が取り除かれ
た2軸近傍では、若干圧しい8正極場から外れた場が発
生してしまう。補正電極群はこのような正しい8正極場
からの乱れを補正するために設けられており、予め計算
あるいは実測によって求められた分布及び強度を持つ補
正電場を発生する。電ri、5内には、その様な補正電
場を発生させるために各補正電極に供給すべき電圧に関
するデータが格納されており、そのデータに基づいて各
補正電極へ適切な電圧が供給される。
た2軸近傍では、若干圧しい8正極場から外れた場が発
生してしまう。補正電極群はこのような正しい8正極場
からの乱れを補正するために設けられており、予め計算
あるいは実測によって求められた分布及び強度を持つ補
正電場を発生する。電ri、5内には、その様な補正電
場を発生させるために各補正電極に供給すべき電圧に関
するデータが格納されており、そのデータに基づいて各
補正電極へ適切な電圧が供給される。
従って、2軸近傍における、平成接地電極が存在しない
ことにより発生する場の乱れは、補正電極により発生す
る補正電場によって補正されるため、電極2.2′及び
平板接地電極1.1′で囲まれる領域A、X、 iXX
全全域、正しい静電8正極場を発生させることができる
。
ことにより発生する場の乱れは、補正電極により発生す
る補正電場によって補正されるため、電極2.2′及び
平板接地電極1.1′で囲まれる領域A、X、 iXX
全全域、正しい静電8正極場を発生させることができる
。
この補正電極の数は、基板上に一列に並べるのであれば
十分多いことが望ましい。
十分多いことが望ましい。
第3図は補正電極の本数を最も少なくした静電8極レン
ズの実施例を示す。この実施例では、静電8正極場を発
生させるための電極12. 12’として大径の円柱電
極が近似的に用いられており、補正電極13〜18とし
ても小径の円柱電極が用いられている。
ズの実施例を示す。この実施例では、静電8正極場を発
生させるための電極12. 12’として大径の円柱電
極が近似的に用いられており、補正電極13〜18とし
ても小径の円柱電極が用いられている。
各補正電極は、Z軸を中心とする半径r。の円筒面に外
接し、θ−45@、90’、135”225’ 、27
0’ 、3’15’の位置に配置されている。又、各電
極には、第3図に示されているように±V3 (1υl
>1V31)のポテンシャルが夫々与えられている。
接し、θ−45@、90’、135”225’ 、27
0’ 、3’15’の位置に配置されている。又、各電
極には、第3図に示されているように±V3 (1υl
>1V31)のポテンシャルが夫々与えられている。
この様な構成においても、Z軸付近の場の乱れが、補正
電極によって形成される補正電場によって補正されるた
め、電極12.12’及び平板接地電極1,1′で囲ま
れる領域A、、、iX内全域に、正しい静電8型棒場を
発生させることができる。
電極によって形成される補正電場によって補正されるた
め、電極12.12’及び平板接地電極1,1′で囲ま
れる領域A、、、iX内全域に、正しい静電8型棒場を
発生させることができる。
第4図は静電6電極レンズに本発明を適用した実施例を
示し、レンズは大径電極22.22’小径補正電極23
,24,25,26、及び平板接地電極1,1′から構
成される。
示し、レンズは大径電極22.22’小径補正電極23
,24,25,26、及び平板接地電極1,1′から構
成される。
6型棒場では、電位零の等電位面はθ−mπ/6(ここ
で、mは1. 3. 5. 7. 9. 11)となり
、平板接地電極1,1′は、それぞれy=±(tan(
tan(x/6)) xに沿って配置される。
で、mは1. 3. 5. 7. 9. 11)となり
、平板接地電極1,1′は、それぞれy=±(tan(
tan(x/6)) xに沿って配置される。
尚、小径補正電極23,24,25.26に代えて、第
2図で用いられたような補正電極群を用いても良いこと
は言うまでもない。
2図で用いられたような補正電極群を用いても良いこと
は言うまでもない。
第5図は静電4重態レンズに本発明を適用した実施例を
示し、レンズは大径電極32.32’小径補正電極33
,34、及び平板接地電極1゜1′から構成され、る。
示し、レンズは大径電極32.32’小径補正電極33
,34、及び平板接地電極1゜1′から構成され、る。
4型棒場では、電位零の等電位面はθ−mπ/4(ここ
で、mは1,3,5.7)となり、平板接地電極1,1
′ は、それぞれy=±(tan(jan(z/4))
Xに沿りて配置される。
で、mは1,3,5.7)となり、平板接地電極1,1
′ は、それぞれy=±(tan(jan(z/4))
Xに沿りて配置される。
第6図は静電12重型棒ンズに本発明を適用した実施例
を示し、レンズは大径電極42.42’小径補正電極4
3〜52、及び平板接地電極1゜1′から構成される。
を示し、レンズは大径電極42.42’小径補正電極4
3〜52、及び平板接地電極1゜1′から構成される。
大径電極42.42’及び小径電極43〜52は、2輔
を中心として30゜間隔で配置されている。
を中心として30゜間隔で配置されている。
12重型棒では、電位零の等電位面はθ−mπ/12(
ここで、mは1,3,5,7.9,11゜13.15.
17,19,21.23)となり、平板接地型t!!i
i1. 1’は、それぞれy=±(tan(tan(t
/12))に沿って配置される。
ここで、mは1,3,5,7.9,11゜13.15.
17,19,21.23)となり、平板接地型t!!i
i1. 1’は、それぞれy=±(tan(tan(t
/12))に沿って配置される。
本発明は上述した実施例に限定されることなく、変形が
可能である。例えば、更に多重極のレンズにも適用でき
る。又、平板接地電極は必ずしも対称に配置されなくと
も良い。
可能である。例えば、更に多重極のレンズにも適用でき
る。又、平板接地電極は必ずしも対称に配置されなくと
も良い。
[発明の効果コ
以上詳述した如く、本発明によれば、X方向に広く荷電
粒子線通路を確保する場合であっても、X方向に関する
無駄を無くすことができ、しかも構成が簡単化され小形
化が可能な静電多重極レンズを提供することの出来る静
電多重極レンズが実現される。
粒子線通路を確保する場合であっても、X方向に関する
無駄を無くすことができ、しかも構成が簡単化され小形
化が可能な静電多重極レンズを提供することの出来る静
電多重極レンズが実現される。
第1図は本発明の基本的な考え方を説明するための図、
第2図及び第3図は静電8相極レンズに本発明を適用し
た実施例を夫々示す図、第4図は静電6電極レンズに本
発明を適用した実施例を示す図、第5図は静電4重態レ
ンズに本発明を適用した実施例を示す図、第6図は静電
12重型棒ンズに本発明を適用した実施例を示す図、第
7図は従来の静電8極レンズの電極配置例を示す図であ
る。
第2図及び第3図は静電8相極レンズに本発明を適用し
た実施例を夫々示す図、第4図は静電6電極レンズに本
発明を適用した実施例を示す図、第5図は静電4重態レ
ンズに本発明を適用した実施例を示す図、第6図は静電
12重型棒ンズに本発明を適用した実施例を示す図、第
7図は従来の静電8極レンズの電極配置例を示す図であ
る。
Claims (2)
- (1)x−y−z直交座標系においてz軸に沿って荷電
粒子線が進行すると仮定した時、z軸で交差する平面y
=±(tan(■/n))xによって挟まれ且つx軸を
含む領域に静電n重極場を発生させる荷電粒子線用静電
多重極レンズであって、上記平面あるいは該平面近傍に
おける前記静電n重極場の等電位面に沿って配置され且
つ該z軸付近で切除されている板状電極と、前記領域に
発生すべき前記静電n重極場の第2の等電位面に近似的
に沿うような表面形状を有し且つ該領域のx軸上に夫々
配置される棒状電極と、前記板状電極及び棒状電極に夫
々の等電位面に応じた電位を与える手段とから構成され
ることを特徴とする荷電粒子線用静電多重極レンズ。 - (2)平面y=±(tan(■/n))xにより挟まれ
且つy軸を含む2つの領域に補正電極を配置し、該補正
電極に適宜な電位を印加することにより静電n重極場を
補正するようにしたことを特徴とする請求項1記載の荷
電粒子線用静電多重極レンズ。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1303920A JPH0673295B2 (ja) | 1989-11-22 | 1989-11-22 | 荷電粒子線用静電多重極レンズ |
| GB9025085A GB2238904B (en) | 1989-11-22 | 1990-11-19 | Electrostatic multipole lens for charged-particle beam |
| US07/616,626 US5051593A (en) | 1989-11-22 | 1990-11-21 | Electrostatic multipole lens for charged-particle beam |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1303920A JPH0673295B2 (ja) | 1989-11-22 | 1989-11-22 | 荷電粒子線用静電多重極レンズ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03165444A true JPH03165444A (ja) | 1991-07-17 |
| JPH0673295B2 JPH0673295B2 (ja) | 1994-09-14 |
Family
ID=17926870
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1303920A Expired - Fee Related JPH0673295B2 (ja) | 1989-11-22 | 1989-11-22 | 荷電粒子線用静電多重極レンズ |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5051593A (ja) |
| JP (1) | JPH0673295B2 (ja) |
| GB (1) | GB2238904B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002015699A (ja) * | 2000-06-28 | 2002-01-18 | Shimadzu Corp | イオンガイドおよびこれを用いた質量分析装置 |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2851213B2 (ja) * | 1992-09-28 | 1999-01-27 | 株式会社東芝 | 走査電子顕微鏡 |
| US5742062A (en) * | 1995-02-13 | 1998-04-21 | Ims Mikrofabrikations Systeme Gmbh | Arrangement for masked beam lithography by means of electrically charged particles |
| DE19517507C1 (de) * | 1995-05-12 | 1996-08-08 | Bruker Franzen Analytik Gmbh | Hochfrequenz-Ionenleitsystem |
| JP2001118536A (ja) * | 1999-10-19 | 2001-04-27 | Nikon Corp | 荷電粒子ビーム制御素子および荷電粒子ビーム装置 |
| US7045797B2 (en) * | 2002-08-05 | 2006-05-16 | The University Of British Columbia | Axial ejection with improved geometry for generating a two-dimensional substantially quadrupole field |
| US6897438B2 (en) * | 2002-08-05 | 2005-05-24 | University Of British Columbia | Geometry for generating a two-dimensional substantially quadrupole field |
| CA2539221A1 (en) * | 2003-09-25 | 2005-03-31 | Mds Inc., Doing Business As Mds Sciex | Method and apparatus for providing two-dimensional substantially quadrupole fields having selected hexapole components |
| JP4328192B2 (ja) * | 2003-12-12 | 2009-09-09 | 日本電子株式会社 | 荷電粒子光学系における多極場発生装置および収差補正装置 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1298738B (de) * | 1963-05-02 | 1969-07-03 | Siemens Ag | Massenfilter mit erhoehter Trennschaerfe und Empfindlichkeit |
| US3501630A (en) * | 1969-03-17 | 1970-03-17 | Bell & Howell Co | Mass filter with removable auxiliary electrode |
| US3629573A (en) * | 1970-08-20 | 1971-12-21 | Bendix Corp | Monopole/quadrupole mass spectrometer |
| GB1367638A (en) * | 1970-11-12 | 1974-09-18 | Ball G W | Mass spectrometers |
| US3725700A (en) * | 1971-02-08 | 1973-04-03 | Hewlett Packard Co | Multipole mass filter with artifact-reducing electrode structure |
-
1989
- 1989-11-22 JP JP1303920A patent/JPH0673295B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1990
- 1990-11-19 GB GB9025085A patent/GB2238904B/en not_active Expired - Fee Related
- 1990-11-21 US US07/616,626 patent/US5051593A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002015699A (ja) * | 2000-06-28 | 2002-01-18 | Shimadzu Corp | イオンガイドおよびこれを用いた質量分析装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5051593A (en) | 1991-09-24 |
| JPH0673295B2 (ja) | 1994-09-14 |
| GB9025085D0 (en) | 1991-01-02 |
| GB2238904B (en) | 1994-04-20 |
| GB2238904A (en) | 1991-06-12 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CA1187543A (en) | Multiple sextupole system for the correction of third and higher order aberration | |
| JPH03165444A (ja) | 荷電粒子線用静電多重極レンズ | |
| GB2061609A (en) | Compensation for spherical aberration using a sextupale | |
| US4823003A (en) | Charged particle optical systems having therein means for correcting aberrations | |
| JPS62188153A (ja) | 閉じた境界によつて四重極静電場を作る方法と構造 | |
| JPS5868848A (ja) | カラー受像管用電子銃構体 | |
| JPH0516648B2 (ja) | ||
| CN115295382B (zh) | 一种自适应离子束校正偏转板 | |
| KR100225724B1 (ko) | 음극선관 | |
| JPS5987743A (ja) | 四重極質量分析計 | |
| JPH0765766A (ja) | 静電偏向器 | |
| JPH0328775B2 (ja) | ||
| SU632262A1 (ru) | Электроннооптическое устройство с коррекцией аберрации | |
| SU920892A1 (ru) | Электроннооптическое устройство со скорректированной сферической аберрацией | |
| JP7586954B2 (ja) | イオンミラー | |
| US3629576A (en) | Accelerator tube electrode for focusing a beam of charged particles | |
| SU1048533A1 (ru) | Устройство дл коррекции аберраций | |
| SU693478A1 (ru) | Электронно-оптическа система | |
| SU1078493A1 (ru) | Скрещенна электронна линза | |
| JPH0290500A (ja) | Rfノックアウト装置 | |
| JPS60154442A (ja) | 複数荷電ビ−ム用光学鏡体 | |
| JP2856518B2 (ja) | E×b型エネルギーフィルタ | |
| JPS6188445A (ja) | 質量分析装置 | |
| JPH0353736B2 (ja) | ||
| US20110001056A1 (en) | Component for manipulating a stream of charged particles |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |